JPS58183523A - 水平移送のための流体クツシヨン支持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、重い荷重を、場合によっては高くて細長い物
体を摺動路の上を組立移送するのに適しかつ高い流体圧
力および調整技術的安定性を有する、水平移送のだめの
流体クッション支持装置に関する。

流体クッションによシ支持される移送手段を用いて荷重
を水平移送することは周知である。

この場合、根本的な利点は、摺動可能性を容易にする、
下地と移送手段の間の摩擦がわずかなことにある。下地
と流体クッション支持装置の間の間隔は１ｒ１１ｍより
少なくなければならない。

この条件は、完全に平滑で高い精度で調節された摺動路
でしか得られない。

それにもかかわらず、周知の流体クッション支持装置で
は、流動媒体の著しい漏洩損失、従ｒ　　　って比較的
高いエネルギー損失および環境汚染が生ずる。

この欠点は、流体圧力室の縁領域に配置されだ密閉ピス
トンまだは弾性１ｌ１７１判製の膨張可能な密閉要素に
より緩和される。

密閉ピストンが、分離された空気制御系を介して作用さ
れ、かつその都度の調整範囲について、等価の予緊張力
で摺動面に対し密閉するように作用することはすでに知
られている。

この明らかに費用のかかる解決は、浮動高さに依存して
、作用された制御圧を連続して減少させることができな
い点で不利である。

他の周知の装置は制御のだめに多数のピストン密閉部を
用い、かつそれぞれの圧力範囲のために一定に調整され
た圧力絞り弁を用い、この圧力絞り弁は、浮動高さが構
成されたときに、全く同様に、連続する制御圧の減少を
不可能にする。

この装置では、密閉ピストンと摺動面の間の隙間゛を外
方からのみそれぞれの調整により圧力調整して多かれ少
なかれ飛躍的に制御することができる。

周知の空気クッション構造の膨張可能な全体の円環面一
密閉すべり部材が支持板の下で圧力室と直接連結してい
る。

このプラットフォームの浮動高さが、その都度のクッシ
ョン圧力に相応して生じ、変動する状態になり、制御で
きない。

本発明のねらいは、周知の解決に比較して、流体損失と
環境汚染をわずかにするかたわら、エネルギー消費をわ
ずかしか必要としない、重い荷重および／″ｉ！たけ高
くて細長い物体を水平に移送するだめの流体クッション
支持装置であって、建築現場に使用するのにも適した装
置を創造することである。

本発明によシ解決しなければならない技術的課題は、１
．５Ｍｐａまでの流体圧力での密封作用を高めることに
よシ流動媒体を低い損失で使用しならびに密閉要素と摺
動路の間の摩擦を減少した状態で重い荷重および／また
は高くて細長い物体を水平に移送するだめの流体クッシ
ョン支持装置を開発することにある。この支持装置は安
定した高さに制御可能であり、かつ建築現場の　５− 条件の下でも水平に調節されてない摺動路で使用できな
ければならない。

本発明によりこの解決を次のようにして解決する。すな
わち、支持ブラットホームの下の流体室が吉省側７９、
角のちる形で成形された繊維の、密閉ピストンとしての
密閉要素により区画され、密閉要素の下方の水平な密閉
シャンクが中心に指向し、かつ密閉要素の垂直な密閉シ
ャンクが制御圧室に無段で高さ方向調整可能に挿入され
、密閉ピストンのための制御王室が通路および圧力調整
装置を介して、支持プラットホームの下の流体室と共に
直接圧力に依存して作用可能に配置され、それによシ、
密閉ピストンの下方の水平なシャンクがツイーンを介し
て、流体室内の流体の流れを調整する取入れ弁と、高さ
に依存して接触しており、かつ他方では、圧力調整装置
のツイーンが制御圧室に突出して、密閉ピストンの挿入
された垂直なシャンクと接触しているようにする。

中心に指向する密閉ピストンの下方の水平な　６− シャンクが貫通孔を有し、かつ半径方向に補強されて同
様に穿孔されだ補剤要素としての底板と結合されている
。

流体出口のだめの穿孔された板を用いて密閉ピストンの
底側を補剤または補強したことにより、摺動面と支持プ
ラントホームの間の流体クッションを増大することがで
きる。

この特徴は、摺動路を水平調整しないで移転するような
場合に、有利になる。

密閉ピストンの上の制御室内の圧力は、常に浮動高さに
依存して、かつ異質に供給する必要もなく、圧力調整装
置により、および浮動高さに依存する支持プラットホー
ムの下の流体室の流動媒体によってのみ変えられる。こ
の圧力調整により、支持プラットホームの上に置かれた
場合に、密封ピストンと摺動路の間に最も高い密閉圧力
が生じる。その密閉圧力は、支持プラットホームの浮動
高さが増加すると、連続的に減少し、かつ予定された浮
動高さで、支持プラットホームの下の作用流体圧力と密
閉ピストンの押圧力の間で平衡することになる。それに
より、移送相の間摩擦値が実質的に減少し、特に流体圧
力が高い場合に有利である。

以下、本発明を実施例について図面により説明する。

支持プラットホーム１３には、圧力調整装置３と取入れ
弁１が、支持プラットホーム１３の下方に縁側に配置さ
れた可撓性の密閉要素と共に制御圧室１６と流体室１５
を囲むように配置されており、このとき圧力調整装置３
のツイーン１０が制御圧室１６に突出しかつ密閉要素の
密閉ピストン１４と接触しており、また取入れ弁１のツ
イーン１９が流体室１５に突出し、かつ流体室１５の方
へ向いている密閉要素の密閉シャンク１１と接触してい
る。

可撓性の密閉ピストン１４が許容できないほど拡がるの
を避けるために、環状の本体の底側か、繊維補強された
底板２０で内張すされている。底板２０には、すべり面
１８へまたは密封隙間１７へ流体が出ることができる孔
１２が設けられている。

流体室１５と制御圧室１６の間の圧力関係は圧力調整装
置３により生ずる。圧力調整装置３は通路２で流体室］
５に連結され、かつ通路８で制御圧室１６に連結されて
いる。

ポンプまたはコンプレッサにより発生した流体の流れが
取入れ弁１を介して流体室１５へ導かれ、流体室１５が
媒体で満たされる。圧力が増大すると共に、流動媒体が
通路２を介して圧力調整装置３の弁板７へ流れる。体止
相では、密閉要素の密閉ピストン１４が、支持プラット
ホヘム１３により区画されたピストン案内部の完全に内
方に存在する。その結果、上方の圧縮ばね４によシ負荷
された圧力調整装置３のツイーン１０が上方に向って押
圧され、かっばね受け５により下方の弁ばね６を弛緩さ
せる。ツイーン軸上を摺動可能な弁盤７により、この位
置で流体が自由に通路８へ移行できる。

体止相では、流体室１５内の圧力が制御王室１６内の密
閉ピストン１４の上方の圧力に相当する。

密封隙間１７の密閉作用は完全であシ、この密　９− 間作用により、圧力の増加の下に、その都度加えられた
荷重を有する支持プラットホーム１３を持ち上げること
ができる。浮動高さが増加すると共に、圧力調整装置の
ツイーン１０が、下方に向って押圧された密閉要素の密
閉ピストン１４に追従し、そしてばね受け５が弁ばね６
を弁盤７に増大するように負荷する。その際、通路８を
介して制御圧室１６内の圧力が減少する。制御室１６内
における、高さに依存した圧力の減少が、流出絞り弁９
により安定化される。

支持プラットホーム１３の予め考慮した浮動高さに到達
すると共に取入れ弁１が閉じる。この移送位置において
、流体が流体室１５から孔１２を介して外方へ越え始め
たときに密閉ピストン１４の密封隙間１７で圧力の釈放
が行われる。密閉要素と摺動面１８の間の輸送中の摩擦
が流体損失に対し許容できる割合で、取入弁１から圧力
調整装置３への調整およびこの逆の調整が行われる。

取入弁１を圧力調整装置３に対し交互の側で調整するた
めの別の可能性が、圧力調整装置３−１０＝ の加圧ばね４と弁ばね６に外から可変に予め応力を加え
ることにより与えられる。

流体室１５内の圧力が、密閉ピストン１４の上の制御王
室１６内の圧力と常に同じか、またはこれより高いので
、制御媒体の異質の供給は必要でない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による流体クッション支持装置の垂直断
面図、第２図は第１図の細部Ａの拡大断面図である。 １・・・取入れ弁　　　２；８・・・通路３・・・圧力
調整装置　１０・・・フイーラ’　　１１．１・・・水
平な密閉シャンク　１１．２・・・垂直な密閉シャンク
１４・・・密閉ピストン　１５・・・流体室１６・・・
制御圧室　　　１９・・・フイーラ１３・・−支持プラ
ットホーム ＝１１−

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）支持プラットホーム（１３）の下の流体室（１５
   ）１５ がト膚側τ、角のある形に成形された可撓性の、密閉ピ
   ストン（１４）としての密閉要素により区画され、密閉
   要素の下方の水平な密閉シャンク（１１，１）が中心に
   指向し、かつ密閉要素の垂直な密閉シャンク（１１，２
   ）が制御圧室（１６）に無段に高さ方向調整可能に挿入
   され、密閉ピストン（１４）のだめの制御圧室（１６）
   が通路（２；８）および圧力調整装置（３）を介して支
   持プラットホーム（１３）の下の流体室（１５）と共に
   直接圧力に依存して作用可能に配置され、それによシ、
   密閉ピストン（１４）の下方の水平なシャンク（１１，
   １）がツイーン（１９）を介して、流体室（１５）への
   流体の流れを調整する取入れ弁（１）と、高さに依存し
   て接触しており、他方では、圧力調整装置（３）のツイ
   ーン（１０）が制御圧室（１６）に突出し、　　□かつ
   密閉ピストン（１４）の挿入された垂直なシャンク（１
   １，２）と接触していることを特徴とする、水平移送の
   だめの流体クッション支持装置。
2. （２）密閉ピストン（１４）の下方の水平なシャンク（
   １１，１）が貫通孔（１２）を有する、特許請求の範囲
   第１項記載の流体クッション支持装置。
3. （３）密閉ピストン（１４）の下方の水平なシャンク（
   １１，１）が、半径方向に補強されて穿孔されだ補剛体
   としての底板（２０）と結合されている、特許請求の範
   囲第２項記載の流体クッンヨン支持装置。
4. （４）圧力調整装置（３）のツイーン（１０）が密閉ピ
   ストン（１４）と接触しておシ、かつツイーン（１０）
   の軸の上に差し込まれかつ弁ばね（６）を有する弁盤（
   ７）が、−貫して制御圧室（１６）と流体室（１°５）
   の間の媒体交換のために通路（８）と（２）を介して配
   置されている、特許請求の範囲第１項記載の流体クッシ
   ョン支持装置。
5. （５）制御王室（１６）への通路に流出絞り（９）が配
   置されている、特許請求の範囲第１項記載の流体クツン
   ヨン支持装置。