JPH0130727B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、重い荷重を、場合によつては高くて
細長い物体を摺動路の上を組立移送するのに適
し、かつ高い流体圧力および調整技術的安定性を
有する、水平移送のための流体クツシヨン支持装
置に関する。

〔従来の技術〕

流体クツシヨンにより支持される移送手段を用
いて荷重を水平移送することは、周知である。

この場合、根本的な利点は、摺動可能性を容易
にする、下地と移送手段の間の摩擦がわずかなこ
とにある。下地と流体クツシヨン支持装置の間の
間隔は１mmより小さくなければならない。この条
件は、完全に平滑で高い精度で調節された摺動路
でしか得られない。

それにもかかわらず、周知の流体クツシヨン支
持装置では、流動媒体の著しい漏れ損失、従つて
比較的高いエネルギー損失および環境汚染が生ず
る。

この欠点は、例えば第３図と第４図に示す従来
の装置の流体圧力室の縁領域に配置された密閉ピ
ストンにより緩和される。密閉ピストンは、分離
された空気制御系を介して使用され、かつその都
度の調整範囲について均等な圧力で摺動面に対し
気密に作用する。

第３図と第４図において、平らな担持板３４に
は、その全周に沿つた溝３９に上下に摺動可能に
嵌まつているリング状の密閉ピストン４６と、
各々がリング状の溝３９に嵌まつている４個のリ
ング状密閉ピストン４０とが設けられている。各
密閉ピストン４０の中央には、支持クツシヨン４
１が形成されている。担持板３４の中央には制御
板４２があり、担持板３４の下の全体の圧力構成
を調整できる。この装置は、担持板３４全体の下
の流体室が圧力源３７に、かつ担持板３４の周縁
の密閉ピストン４６の溝と各密閉ピストン４０の
溝内の室すなわち制御圧室が圧力源３７に接続さ
れ、各支持クツシヨン４１が圧力源３２に接続さ
れている。使用に際しては、密閉ピストン４０，
４６を予め圧力源により負荷する。移送物品を載
せた後、担持板３４の下と支持クツシヨン４１の
下に圧力源により圧力を構成する。密閉ピストン
４０により、支持物品のマスに相応して浮動状態
まで圧力クツシヨンが形成される。構成された圧
力は、導管３５とマノメータ３６を介して検知で
きる。過剰圧力が漏れることになる浮動状態に達
すると同時に、移送物品を安定化するために個々
の支持クツシヨン４１の下の圧力を圧力源３２を
介して調整する。安定性が達成されると、わずか
な力で任意の方向へ水平に移動を開始できる。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、この周知の装置では、個々の支
持クツシヨン４１の圧力ならびに所属の密閉ピス
トン４０の上の制御圧室の圧力が外から別個に調
整される。圧力系をこのように別個に制御するに
は、流体圧室と制御圧室内のその都度の圧力を連
続的に監視して比較することが必要になる。この
ような別個の制御では、制御圧力、従つて弾性的
な密閉ピストンの押圧力を浮動高さに依存して絶
えず減少させること、それによつて作用流体との
圧力差により密閉間〓が増大し、流体室内の作用
流体が外部に逃げて作用流体圧力と密閉圧力が平
衡し、その結果密封間〓を小さくすることを、あ
まり細かい度合いではできない。これでは、すべ
り面の表面の粗さによりまたは重心の高い移送荷
重の重心の変位により生ずる密閉間〓の変化を決
して平衡させることができない。

本発明のねらいは、周知の解決に比較して、流
体損失と環境汚染をわずかにするかたわら、エネ
ルギー消費をわずかしか必要としない、重い荷重
および／または高くて細長い物体を水平に移送す
るための流体クツシヨン支持装置であつて、建築
現場に使用するのにも適した装置を創造すること
である。

本発明により解決しなければならない技術的課
題は、密閉ピストンの制御圧力を浮動高さに依存
して絶えず減少させ、その結果前述したように密
閉間〓を最小にすることにより、流動媒体を低い
損失で使用しならびに密閉要素と摺動路の間の摩
擦を減少した状態で重い荷重および／または高く
て細長い物体を水平に移送するための流体クツシ
ヨン支持装置を開発することにある。この支持装
置は安定した高さに制御可能であり、かつ建築現
場の条件の下でも水平に調節されてない摺動路で
使用できなければならない。また、密閉作用を高
めるために15メガパスカル（14.8気圧）までの流
体圧力を使用することができる。

〔課題を解決するための手段〕

この課題を解決するには、本発明により、密閉
ピストンが、角のある形に成形された密閉要素で
あり、この密閉要素の下方の水平な密閉シヤンク
が中心に指向し、かつ密閉要素の垂直な密閉シヤ
ンクが制御圧室に指向しており、密閉ピストンの
ための制御圧室が通路および圧力調整装置を介し
て支持プラツトホームの下の流体室と共に直接圧
力に依存して作用可能に配置され、その際密閉ピ
ストンの下方の水平なシヤンクがフイーラを介し
て、流体室への流体の流れを調整する取り入れ弁
と、高さに依存して接触しており、他方では圧力
調整装置のフイーラが制御圧室に突出し、かつ密
閉ピストンの挿入された垂直なシヤンクと接触し
ているように構成すればよい。

また、中心に指向する密閉ピストンの下方の水
平なシヤンクが貫通孔を有し、かつ半径方向に補
強されて同様に穿孔された補剛要素としての底板
と結合されている。

流体出口のための穿孔された板を用いて密閉ピ
ストンの底側を補剛または補強したことにより、
摺動面と支持プラツトホームの間の流体クツシヨ
ンを増大することができる。

この特徴は、摺動路を水平調整しないで移送す
るような場合に有利になる。

〔発明の効果〕

本発明では、密閉ピストンのための制御圧室が
通路および圧力調整装置を介して支持プラツトホ
ームの下の流体室と共に直接圧力に依存して作用
可能に配置され、圧力調整装置のフイーラが制御
圧室に突出しかつ密閉ピストンの挿入された垂直
なシヤンクと接触しているので、作用液体圧力が
増加して支持プラツトホームの高さが増大する
と、密閉ピストンと接触している圧力調整装置の
フイーラにより制御圧室内の制御圧力が減少して
密閉押圧力が減少し、その結果密閉間〓が増大し
て作用流体圧力が外部へ逃げるので作用流体圧力
が減少し、従つて密閉間〓が減少し、作用流体圧
力と制御圧力が平衡する。このようにして、密閉
ピストンの上の制御圧室内の圧力は、圧力調整装
置により常に浮動高さに依存して調整され、かつ
浮動高さに依存する支持プラツトホームの下の流
体室の流体によつて変えられ、従来のように外部
から作用流体圧力と制御圧力を別々に制御する必
要がない。すべり面にレベル差があるときに、前
述した流体室と制御圧室内の圧力の相互作用から
密閉ピストンとすべり面の間に最小間〓が生じ、
それと共にわずかな流体損失またはエネルギー消
費が生ずる。また、密閉ピストンの下方の水平な
シヤンクがフイーラを介して、流体室への流体の
流れを調整する取り入れ室と高さに依存している
ことにより、支持プラツトホームの重心高さまた
は流体室の高さが決められる。

この圧力調整により、支持プラツトホームが置
かれた場合に、密閉ピストンと摺動路の間に最も
高い密閉圧力が生じる。その密閉圧力は、前述し
たように、支持プラツトホームの浮動高さが増加
すると、常に減少し、かつ予定された浮動高さ
で、支持プラツトホームの下の作用流体圧力と密
閉ピストンの押圧力の間で平衡することになる。
それにより、移送相の間摩擦値が実質的に減少
し、特に流体圧力が高い場合に有利である。

〔実施例〕

以下、本発明を実施例について図面により説明
する。

支持プラツトホーム１３には、圧力調整装置３
と取り入れ弁１が、支持プラツトホーム１３の下
方に縁側に配置された可撓性の密閉要素と共に制
御圧室１６と流体室１５を囲むように配置されて
おり、このとき圧力調整装置３のフイーラ１０が
制御圧室１６に突出しかつ密閉要素の密閉ピスト
ン１４と接触しており、また取り入れ弁１のフイ
ーラ１９が流体室１５に突出し、かつ流体室１５
の方へ向いている密閉要素の密閉シヤンク１１と
接触している。

可撓性の密閉ピストン１４が許容できないほど
拡がるのを避けるために、環状の本体の底側が、
繊維補強された底板２０で内張りされている。底
板２０には、すべり面１８へまたは密封間〓１７
へ流体が出ることができる孔１２が設けられてい
る。流体室１５と制御圧室１６の間の圧力関係
は、圧力調整装置３により生ずる。圧力調整装置
３は通路２で流体室１５に連結され、かつ通路８
で制御圧室１６に連結されている。

休止相では、密閉要素の密閉ピストン１４が、
支持プラツトホーム１３により区画されたピスト
ン案内部内に完全に入つている。その結果、圧力
調整装置３のフイーラ１０が上方に向かつて押圧
されて圧力調整装置３でばね４が最大に圧縮さ
れ、かつばね受け５により下方の弁ばね６を弛緩
させる。そして弁ばね６に固定された弁板７によ
り、制御圧室１６内の流体、従つて圧力が移行す
るのに自由な通路２，８の開口が与えられ、この
位置で流体が通路２から自由に通路８へ移行でき
る。

休止相では、流体室１５内の圧力が制御圧室１
６内の密閉ピストン１４の上方の圧力に相当す
る。

ポンプまたはコンプレツサにより発生した作用
流体の流れが取り入れ弁１を介して流体室１５へ
導かれ、流体室１５が作用流体で満たされる。作
用流体の圧力が増大すると共に、作用流体が通路
２と８を経て制御圧室１６内のフイーラ１０を密
閉ピストン１４に押圧し、弁板７が通路２と８の
開口に向かつていつそう移動し、ついには作用流
体の最大圧力のときに、これらの開口を閉じるこ
とができる。密閉間〓１７の密閉作用は完全であ
り、この密閉作用により、圧力の増加の下に、そ
の都度加えられた荷重を有する支持プラツトホー
ム１３の高さを増加させることができる。支持プ
ラツトホーム１３の予め考慮した浮動高さに達す
ると共に取り入れ弁１が閉じられる。通路２と８
の閉じられた状態で、さらに流体室１５内の作用
流体圧力が増大し、従つて支持プラツトホーム１
３の高さが増大すると、制御圧室１６内の圧力が
密閉ピストン１４の繰り出し高さに対応して減少
することになる。制御圧室１６に対する流体室１
５内の過剰圧力の程度により、密閉ピストンとす
べり面の間の密閉間〓の高さが決まる。支持プラ
ツトホームの高さが増加して制御圧室１６内の圧
力が減少し、流体作用圧力との間に圧力差が生ず
ると、密閉ピストン１４とすべり面１８の間の密
閉間〓が増大し、作用流体が孔１２を介して外方
へ流れ出て圧力の解放が行われる。これによつ
て、密閉間〓が減少して、密閉ピストン１４の押
圧力と作用流体圧力が平衡し、最小間〓になる。

移送すべき負荷に対応して、ばね４，６の一定
の予圧力を、移送過程を始める前に調整できる。
従つて、種々の負荷範囲のために流体室１５と制
御圧室１６内の圧力を独立して微調整できる。

制御圧力室１６内の圧力は、流体室１５内の圧
力に同じかまたはそれより小さい。制御圧室１６
に配置された流体絞り９は、損傷のときまたは移
送過程の終了のときに事情によつては生ずる過剰
圧力を運び去るための弁の機能を有する。本発明
による解決には、これは重要ではない。

取り入れ弁１が圧力調整装置３に依存する依存
度は、フイーラ１９が取り入れ弁１を密閉ピスト
ン１４の突出高さに依存して調整することにより
与えられる。フイーラ１９は水平な密閉シヤンク
１１．１により動かされ、従つて流体供給が調整
される。同時に、圧力調整装置３のフイーラ１０
が密閉ピストン１４の垂直なシヤンク１１．２に
より動かされ、従つて制御圧室１６内の圧力が調
整される。それ故、すべり面１８に対する密閉ピ
ストン１４の押圧力が浮動高さに依存して絶えず
独立して適合され、かつ密閉間〓が小さくなり、
従つて流体損失が小さくなる。制御圧室１６内の
圧力が流体室１５内の圧力に依存する依存度は、
すでに述べたように、圧力調整装置３のばね４と
６の予圧力の変化により、所望の負荷範囲に対応
して外から作用する可能性として調整することが
できる。移送中の摩擦は、密封間〓が閉じられる
と、流体室１５内の圧力が増加し、かつ相応して
制御圧室１６でもばね４と６の予圧力が増加する
ことになる。圧力増大の結果として、密封間〓が
広がり、かつ摩擦が減少する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による流体クツシヨン支持装置
の垂直断面図、第２図は第１図の細部Ａの拡大断
面図、第３図は従来の流体クツシヨン支持装置の
平面図、第４図は第３図の装置の線Ｂ−Ｂに沿つ
て切断した断面図である。 １……取り入れ弁、２，８……通路、３……圧
力調整装置、１０……フイーラ、１１．１……水
平な密閉シヤンク、１１．２……垂直な密閉シヤ
ンク、１３……支持プラツトホーム、１４……密
閉ピストン、１５……流体室、１６……制御圧
室、１９……フイーラ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 支持プラツトホームの下に配置された流体室
   を有し、この流体室の縁側が、制御圧室内に無段
   階に高さ調整可能な密閉ピストンとしての可撓性
   密閉要素により区画されている、水平移送のため
   の流体クツシヨン支持装置において、密閉ピスト
   ン１４が、角のある形に成形された密閉要素であ
   り、この密閉要素の下方の水平な密閉シヤンク１
   １．１が中心に指向し、かつ密閉要素の垂直な密
   閉シヤンク１１．２が制御圧室１６に指向してお
   り、密閉ピストン１４のための制御圧室１６が通
   路２；８および圧力調整装置３を介して支持プラ
   ツトホーム１３の下の流体室１５と共に直接圧力
   に依存して作用可能に配置され、その際密閉ピス
   トン１４の下方の水平なシヤンク１１．１がフイ
   ーラ１９を介して、流体室１５への流体の流れを
   調整する取り入れ弁１と、高さに依存して接触し
   ており、他方では圧力調整装置３のフイーラ１０
   が制御圧室１６に突出し、かつ密閉ピストン１４
   の挿入された垂直なシヤンク１１．２と接触して
   いることを特徴とする、水平移送のための流体ク
   ツシヨン支持装置。 ２ 密閉ピストン１４の下方の水平なシヤンク１
   １．１が貫通孔１２を有する、特許請求の範囲第
   １項に記載の流体クツシヨン支持装置。 ３ 密閉ピストン１４の下方の水平なシヤンク１
   １．１が、半径方向に補強されて穿孔された補剛
   体としての底板２０と結合されている、特許請求
   の範囲第２項に記載の流体クツシヨン支持装置。 ４ フイーラ１０の軸の上に差し込まれかつ弁ば
   ね６を有する弁盤７が、一貫して制御圧室１６と
   流体室１５の間の媒体交換のために通路８と２を
   介して配置されている、特許請求の範囲第１項に
   記載の流体クツシヨン支持装置。