JPS58182599A - 放射線増感スクリ−ンおよびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線増感スクリーンおよびその製造法に関
するものである。さらに詳しくは、支持体と、この支持
体上に設けられた放射線増感用蛍光体粒子を分散状態で
含有支持する結合剤からなる放射線増感用蛍光体層とか
ら実質的に構成されている放射線増感スクリーン、およ
びその製造法に関するものである。

放射線増感スクリーンは、医療診断を目的′とするＸ線
撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊検査を目的と
する工業用放射線撮影などの種々の分野における放射線
撮影において、撮影系の感度を向丘させるために、放射
線感応性写真フィルムの片面あるいは両面に密着させる
ように重ね合わせて使用するものである。この放射線増
感スクリーンは、基本構造として、支持体と、その片面
に設けられた放射線増感用蛍光体層とからなるものであ
る。なお、この放射線増感用蛍光体層の支持体とは反対
側の表面（支持体に面していない側の表面）には一般に
、透明な保１１膜が設けられていて、蛍光体層を化学的
な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。

放射線増感用蛍光体層は、放射線増感用蛍光体粒子を分
散状態で含有支持する結合剤からなるものであり、この
蛍光体粒子は、Ｘ線等の放射線によって励起された時に
高輝度の発光を示す性質を有するものである。従って、
被写体を通過した放射線の量に応じて蛍光体は高輝度の
発光を示し、放射線増感スクリーンの放射線増感用蛍光
体層の表面に接するようにして重ね合わされて置かれた
放射線感応性写真フィルムは、この蛍光体の発光によっ
ても感光するため、比較的少ない放射線閂で写真フィル
ムの充分な感光を達成することができる。

上記のような基本構造を有する放射線増感スクリーンに
ついては、感度が高いこと、および画質（鮮鋭度、粒状
性等）の良好な画像を与えるものであることが望まれる
。従って、従来より放射線増感スクリーンの感度あるい
は画質を向上させるための各種の改良がなされている。

このうち、放射線増感スクリーンの鮮鋭度を向」−させ
る技術としては、たとえば、米国特許第４．２０７，１
２５号に記載された発明、および、該特許の原出願の分
割出願について特許された米国特許第４，２６３，０６
１号に記載された発明がある。

前者の特許は、アルミニウムシート支持体の表面を水蒸
気で処理してその表面にベーマイトの微小な細長い突起
を多数形成させるような方法により支持体の表面に微小
な細長い突起を形成した支持体を放射線増感スクリーン
の支持体として用い、この微小な細長い突起の存在によ
り、放射線増感スクリーンの鮮鋭度を向上させた発明を
開示するものである。

後者の特許は、アルミニウムシート支持体の表面を水蒸
気で処理してその表面にベーマイトの葉状の微小な細長
い突起を多数形成させ、その後、結合剤中に放射線増感
用蛍光体粒子を分散してなる塗布液を該支持体に塗布し
乾燥することによって蛍光体層を形成することからなる
高鮮鋭度放射線増感スクリーンの製造方法を開示するも
のである。

また、放射線増感スクリーンはその使用時において、曲
げ等の機械的刺激が与えられた場合でも、支持体と放射
線増感用蛍光体層か簡単に分離することがないように充
分な機械的強度を持つ必要がある。さらに、放射線増感
スクリーン自体は放射線による照射によっても殆ど変質
することがないため、長期間にわたって繰り返し使用さ
れるが、そのような繰り返しの使用に耐えるためには、
写真フィルムを交換する操作などの際に与えられる機械
的衝撃によって支持体と放射線増感用蛍光体層とが分離
するような障害が発生しないことが必要である。

本発明は、鮮鋭度の向上した画像を与える放射線増感ス
クリーンおよびその製造法を提供することをその目的と
するものである。

ごらに、本発明は、機械的強度、特に放射線増感用蛍光
体層の支持体に対する密着強度の向上した放射線増感ス
クリーンおよびその製造法を提供することもその目的と
するものである。

上記の目的は、支持体と、この支持体上に設けられた放
射線増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤
からなる放射線増感用蛍光体層とから実質的に構成され
ている放射線増感スクリーンにおいて、支持体の蛍光体
層側の表面に、平均深さが１ミクロン以上、最大深さが
１ミクロンより大きく、かつ１００ミクロン以下、そし
て開口部の口径の平均が１ミクロン以上の多数の凹みが
設けられていることを特徴とする本発明の放射線増感ス
クリーンにより達成することができる。

また、上記の目的は、支持体の表面に高硬度の固体粉末
を高速度で吹き付けることにより、平均深さか１ミクロ
ン以上、最大深さが１ミクロンより大きく、かつ１００
ミクロン以下、そして開口部の口径の平均が１ミクロン
以上の多数の凹みを支持体表面に設け、ついで、支持体
の凹みが設けられた表面に、放射線増感用蛍光体粒子を
分散状態で含有支持する結合剤からなる放射線増感用蛍
光体層を設けることを特徴とする放射線増感スクリーン
の製造法により達成することができる。

次に本発明の詳細な説明する。

本発明は、放射線増感スクリーンの支持体の表面のうち
、放射線増感用蛍光体層が設けられる側の表面に特定の
大きさを有する多数の凹みを設けることにより、放射線
増感スクリーンに対して、放射線感応性写真フィルムに
形成される画像の鮮鋭度の顕著な向上に寄与する機能を
付与するとともに、支持体と放射線増感用蛍光体層との
強固な結合を実現するものである。

すなわち、被写体を透過したＸ線などの放射線が放射線
増感スクリーンの放射線増感用蛍光体層（以下、単に蛍
光体層と略す）に入射すると、蛍光体層に含有支持され
ている蛍光体粒子は、その放射線のエネルギーを吸収し
て励起状態になり。

その放射線とは異なる波長を有する可視領域もしくは近
紫外領域の光を瞬時に発する。この発光番こは特に方向
性はなく、全方向に向けてなされるが、その一部は写真
フィルムに直接入射して画像形成に寄与する。またそれ
と同時に、発光の一部ｔ±、蛍光体層と支持体との境界
面にて反射されたのちに、反射光として写真フィルムに
入射して画像形成に寄与する。ここで、蛍光体層と支持
体との境界面が凹凸のない平面からなる場合には、その
反射は鏡面反射となり、反射光は写真フ４）レム番こ直
接入射する光よりも大きな角度で写真フィルムに入射す
るのでボケ、すなわち不鮮明な画像生成の原因となり、
写真フィルムに形成される画像の鮮鋭度を著しく低下さ
せることになる。

本発明者の検討によれば、このような反射先番こよる放
射線感応性写真フィルムの画像の鮮鋭度の低下は、蛍光
体層に接する支持体の表面（境界面）に、特定の範囲に
含まれる大きさ、すなわち、平均深さが１ミクロン以上
、最大深さが１ミクロンより大きく、かつ１００ミクロ
ン以下、そして開口部の口径の平均が１ミクロン以上か
らなる凹みを多数形成することにより顕著に防ぐことが
可能であることがわかった。

そしてさらに、支持体の表面（境界面）に１−記の特定
の範囲の大きさからなる凹みを多数形成することにより
支持体と蛍光体層との結合は非常に強固になり、そのよ
うな支持体を用いて製造した放射線増感スクリーンは高
い蛍光体層／支持体密着強度を示し、漁常の取扱いにお
いては、放射線増感スクリーンの蛍光体層と支持体との
分離の危険性は全くなくなることもわかった。

以上述べたような好ましい特性を持った本発明の放射線
増感用スクリーンは、たとえば、次に述べるような方法
により製造することができる。

本発明において使用する支持体は、放射線増感スクリー
ンの製造のための材料として知られている各種の材料か
ら任意に選ぶことができる。そのような材料の例として
は、セルロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセ
テート、ポリカーボネートなどのプラスチック物質のフ
ィルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔などの金
属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコート紙、二
酸化チタンなどの顔料を含有するピグメント紙、ポリビ
ニルアルコールなどをサイジングしだ紙などを挙げるこ
とができる。すなわち、本発明で規定した表面構造を形
成することが可能である限り、支持体の材料に特に限定
はない、ただし、本発明で規定した表面構造の形成、お
よびその他、放射線増感スクリーンとしての特性を考慮
した場合、本発明において特に奸才しい支持体の材料は
プラスチックフィルムである。このプラスチックフィル
ムにはカーボンブラックなどの光吸収性物質が練り込ま
れていてもよく、あるいは二酸化チタンなどの光反射性
物質が練り込まれていてもよい、前者は高鮮鋭度タイプ
の放射線増感用スクリーンに適した支持体であり、後者
は高感度タイプの放射線増感用スクリーンに適した支持
体である。

公知の放射線増感スクリーンにおいて、支持体と蛍光体
層の結合を強化するため、あるいは放射線増感スクリー
ンとしての感度もしくは画質を向上させるために、蛍光
体層が設けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分
子物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸
化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしく
はカーボンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収
層を設けることも行なわれている。また物質の非破壊検
査を目的とする工業用放射線撮影に用いる放射線増感ス
クリーンにおいては、蛍光体層か設けられる側の支持体
表面に、散乱放射線の除去などを目的として、鉛箔、鉛
合金箔、錫箔などの金属箔を設けることも行なわれてい
る。本発明において用いられる支持体についても、これ
らの各種の層を設、けることかでき、それらの構成は所
望の放射線増感スクリーンの目的、用途などに応じて任
意に選択することができる。

本発明における特徴的な要件である支持体表面の形態は
、任意の方法により形成することができる。ただし、実
用的に有利な方法としては、支持体の表面に高硬度の固
体粉末を高速度で吹き付けることにより支持体表面を前
記の特徴的な形態とする方法を挙げることができる。こ
の方法は、一般にサンドブラスト法と呼ばれる方法であ
り、たとえば砕砂などのような硬質の固体粉末を支持体
の蛍光体層が設けられる側の表面（支持体のその側の表
面に接着性付与層、光反射層、光吸収層、あるいは金属
箔などが設けられている場合には、その表面）に高速度
で吹き付けることにより、支持体表面を本発明で規定し
たような大きさを持つ粗面とすることが容易に実現する
。

本発明の放射線増感スクリーンの支持体は、前述のよう
に、支持体の蛍光体層側の表面に、平均深さが１ミクロ
ン以上、最大深さが１ミクロンよす大きく、かつ１００
ミクロン以下、そして開口部の口径の平均が１ミクロン
以上の多数の凹みが設けられていることを特徴とするも
のである。支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光体
層側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収層、ある
いは金属箔などが設けられている場合には、その表面を
意味する）に、上記のような特定の範囲に含まれる大き
さからなる凹みを多数設けることにより、蛍光体粒子か
ら発せられた光のうち支持体の表面（支持体表面と蛍光
体層との境界面）に向った光は、その表面で乱反射し、
その結果その大部分は蛍光体層中で吸収されて写真フィ
ルムの感光層に入射しなくなる。このため、ボケがなく
なり、写真フィルムに形成される画像の鮮鋭度が顕著に
向上する。

また、支持体の表面（境界面）に上記の特定の範囲の大
きさからなる凹、みを多数形成することにより支持体と
蛍光体層との結合は非常に強固になる。従って、そのよ
うな支持体を用いて製造した放射線増感スクリーンは高
い蛍光体層／支持体密着強度を示し、通常の取扱いにお
いては蛍光体層と支持体との分離が起こることは全くな
い。

これに対して、支持体に設けられる多数の凹みが、本発
明で規定した範囲より小さい場合番ごは、本発明の放射
線増感用スクリーンにより達成される顕著な鮮鋭度向上
効果を得ることはできない。

この理由は、支持体に設けられた凹みが全体的に小ごな
ものとなった場合、蛍光体粒子から発せられて支持体の
表面に向った光は、なおもその大部分が支持体表面で鏡
面反射するためであると推定ごれる。

また、支持体に設けられる多数の凹みが、本発明で規定
した範囲より小さい場合には、本発明の放射線増感用ス
クリーンにより達成される顕著な蛍光体層／支持体密着
強度の向上効果を得ることもできない。

一方、支持体に設けられる多数の凹みが、本発明で規定
した範囲よりも大きい場合には、蛍光体層の形成が困難
になったり、あるいノ斗蛍光体層の層厚の不均一さが顕
著となり、得られる？死を線増感用スクリーンに好まし
くない影響を与えるようになる。従って、そのような放
射線増感用スクリーンは実用−Ｌ好ましくない。

なお、本発明の放射線増感スクリーンの支持体の蛍光体
層側の表面に設けられる多数の凹みは、平均深さが１ミ
クロン以りかつ１０ミクロン以下であることが好ましく
、さらに、１ミクロン以上かつ５ミクロン以下であるこ
とか特に好ましｌ／λ。

また、多数の凹みの最大深さは、１ミクロンより大きく
、かつ５０ミクロン以下であることが好ましく、さらに
、２ミクロン以上かつ２０ミクロン以下であることが特
に好ましい。そして、それらの開口部の口径の平均は１
ミクロン以上かつ１００ミクロン以下であることが好ま
しく、さら番こ。

ｌＯミクロン以上かつ５０ミクロン以下であることが特
に好ましい。これらの好ましい範囲内番こめる多数の凹
みが設けられた支持体を用いて製造した放射線増感スク
リーンは、特に優れた鮮鋭度向上効果および蛍光体層／
支持体密着強度向４−効果を示す。

上記にて規定したような特定の大きさの範囲番こめる多
数の凹みが設けられた、支持体の表面番こ１ま次に、放
射線増感用蛍光体層を形成する。放射線増感用蛍光体層
は、基本的には放射線増感用蛍光体粒子を分散状態で含
有支持する結合剤からなる層である。

放射線増感用蛍光体粒子はすでに各種のものが知られて
いる。本発明において使用するのが好ましい放射線増感
用蛍光体粒子の例としては、次のような物質からなる粒
子を挙げることができる。

タングステン酸塩系蛍光体（ＣａＷｏ４．ＭｇＷＯ４、
ＣａＷＯ，：Ｐｂ等）、テルビウム賦活粘土類酸硫化物
系蛍光体［Ｙ　２０２　Ｓ　：　Ｔ　ｂ、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ
：Ｔｂ、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ、　Ｇ　ｄ　）　２
０２　Ｓ　：　Ｔ　ｂ、（Ｙ、Ｇｄ）２０□Ｓ：Ｔｂ、
Ｔｍｍココテルビウム賦活希土類燐酸塩系蛍光体（ＹＰ
Ｏ４：Ｔｂ、ＧｄＰＯ４：Ｔｂ、ＬａＰＯ４：Ｔｂ等）
、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体（
ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、Ｌ　ａｏ３ｒ　：　Ｔｂ　、Ｔｍ、
ＬａＯ’Ｃｊｌ　：　Ｔｂ、ＬａＯＣＭ　：Ｔｂ　、Ｔ
ｍ、Ｇｄ０Ｂｒ　：Ｔｂ、Ｇｄ０Ｃ１：Ｔｂ等）、ツリ
ウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢ
　ｌ：　Ｔｍ、Ｌａ０Ｃｌ　：　Ｔｍ等）、硫酸バリウ
ム系蛍光体［ＢａＳＯ４：　Ｐｂ、ＢａＳＯ４：　Ｅｕ
”、（Ｂａ、Ｓ　ｒ）ＳＯ２：　Ｅｕ２＋等］、２価ノ
ユーロビウム賦活アルカリ土類金属燐酸塩系蛍光体［Ｂ
ａ１（ＰＯ４）２：Ｅｕ”、（Ｂａ、５ｒ）３　（ＰＯ
ａ）２　：　Ｅｕ２＋等］、２価ノユーロピウム賦′ｆ
ｋアルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体［ＢａＦ
Ｃｕ　：Ｅｕ２＋、ＢａＦＢｒ　：Ｅｕ２＋、ＢａＦＣ
Ｍ：Ｅｕ”、Ｔｂ、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ２＋。

Ｔｂ、　　　ＢａＦ２　　争　ＢａＣ１２拳　ＫＣｌ　
　：）：ｕ２＋　　、ＢａＦ２・Ｂａ（、Ｑ、番ｘＢａ
ＳＯ４ａＫＣ文：Ｅｕ２＋、（Ｂ　ａ＋　Ｍ　ｇ　）　
Ｆ　２　囃Ｂ　ａ　Ｃｌ　２　・ＫＣｆ、：Ｅｕ２＋等
コ、沃化物系蛍光体（ＣｓＩ：Ｎａ、ＣｓＩ　：Ｔ文、
Ｎａ１．ＫＩ　：Ｔ文等）、硫化物系蛍光体［ＺｎＳ：
Ａｇ、（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ、（Ｚｎ　、Ｃｄ）Ｓ　
：　Ｃｕ、（Ｚｎ。

Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、Ａ文等］、燐酸ハフニウム系蛍光体（
Ｈｆ　Ｐ　２０　ｙ　：　Ｃｕ等）。ただし、本発明に
用いる放射線増感用蛍光体粒子は、これらのものに限ら
れるものではなく、放射線の照射により可視領域あるい
は近紫外領域の発光を示す蛍光体の粒子であればいかな
るものであってもよい。

また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン等の蛋白
質、デキストラン等のポリサッカライド、またはアラビ
アゴムのような天然高分子物質；および、ポリビニルブ
チラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチル
セルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、
ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレ
ート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステルなどよ
うな合成高分子物質などにより代表される結合剤を挙げ
ることができる。このような結合剤のなかで特に好まし
いものは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、およ
びニトロセルロースと線状ポリエステルとの混合物であ
る。

蛍光体層は、たとえば、次のような方法により支持体上
に形成することができる。

まず上記の放射線増感用蛍光体粒子と結合剤とを適当な
溶剤に加え、これを充分に混合して、結合剤溶液中に放
射線増感用蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製す
る。

塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパツール、ｎ−フタノールなどの低級ア
ルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドな
どの塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級ア
ルコールとのエステル：ジオキサン、エチレングリコー
ルモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチル
エーテルなどのエーテル；そして、それらの混合物を挙
げることができる。

塗布液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒子との混
合比は、目的とする放射線増感スクリーンの特性、蛍光
体粒子の種類などによって異なるが、一般には結合剤と
蛍光体粒子との混合比は、ｌ：ｌないし１：１００（重
量比）の範囲から選ばれ、そして特にｌ：８ないし１：
４０（重量比−）の範囲から選ぶことが好ましい。

なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体粒子の分
散性を向上させるための分散剤、また、形成後の蛍光体
層中における結合剤と蛍光体粒子との間の結合力を向上
させるための可塑剤などの種々の添加剤が混合されてい
てもよい。そのような目的に用いられる分散剤の例とし
ては、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酎、親油性界
面活性剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例
としては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸
ジフェニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジメトキシエチルなどのフタル酸エステル；グリ
コール酸エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフ
タリルブチルなどのグリコール酸エステル；そして、ト
リエチレングリコールとアジピン酸とのポリエステル、
ジェーＦ−１／ングリコールとコハク酸とのポリエステ
ルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸との
ポリエステルなどを挙げることができる。

上記のようにして調製された蛍光体粒子と結合剤を含有
する塗布液を、次に、前述のような特定の大きさからな
る多数の凹みを有する支持体の表面に均一に塗布するこ
とにより塗布液の塗膜を形成する。この塗布操作は、通
常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコ
ータ−、ナイフコーターなどを用いることにより行なう
ことができる。

ついで、形成された塗膜を徐々に加熱することにより乾
燥して、支持体上への放射線増感用蛍光体層の形成を完
了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線増感スク
リーンの特性、蛍光体粒子の種類、結合剤と蛍光体粒子
との混合比などによって異なるが、通常は２０ミクロン
ないし１ｍｍとする。ただし、この層厚は、５０ないし
５００ミクロンとするのが好ましい。

なお、放射線増感用蛍光体層は、必ずしも上記のように
支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要はなく、
たとえば、別に、ガラス板、金属板、プラスチックシー
トなどのシート上に塗布液を塗布し乾燥することにより
蛍光体層を形成したのち、これを、支持体上に押圧する
か、あるいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層
とを接合してもよい。

通常の放射線増感スクリーンにおいては、支持体に接す
る側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍光体層を物理的
および化学的に保護するための透明な保護膜が設けられ
ている。このような透明保護膜は、本発明の放射線増感
スクリーンについても設置することが好ましい。

透明像−護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニトロセ
ルロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリメチル
メタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホ
ルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビ
ニル・酢酸ビニルコポリマーなどの合成高分子物質のよ
うな透明な高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した
溶液を蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミドなどから別に
形成した透明な薄膜を蛍光体層の表面に適当な接着剤を
用いて接着するなどの方法によっても形成することがで
きる。このようにして形成する透明保護膜の膜厚は、約
３ないし２０ミクロンとするのが望ましい。

次に本発明の実施例および比較例を記載する。

ただし、これらの各側は本発明を制限するものではない
。

［実施例１］ 二酸化チタンを練り込んだポリエチレンテレフタレート
シート（支持体、厚み：２５０ミクロン）の片面に、１
９００回転／分で回転しているドラムから約５０重量％
以上がＺｏｏ−１５０メツシユの粉末からなる砕砂を遠
心力を利用して吹き付ける操作からなるサンドブラスト
処理を行ない、その片面を粗面化した。この支持体の粗
面化された表面には、平均深さが２ミクロン、最大深さ
が７ミクロン、そして開口部の口径の平均が２０ミクロ
ンの多数の凹みが形成されていた。

別に、放射線増感用のテルビウム賦活がトリニウム酸硫
化物蛍光体（Ｇｄ２０□Ｓ：Ｔｂ）の粒子と線状ポリエ
ステル樹脂との混合物にメチルエチルケトンを添加し、
さらに硝化度１１．５％のニトロセルロースを添加して
蛍光体粒子を分散状態で含有する分散液を調製した０次
に、この分散液に燐酸トリクレジル、ｎ−ブタノール、
そしてメチルエチルケトンを添加したのち、プロペラミ
キサーを用いて充分に攪拌混合して、蛍光体粒子が均一
に分散し、かつ粘度が２５〜３５ＰＳ（２５℃）の塗布
液を調製した。

次いで、先に粗面とした側の表面を上にしてカラス板上
に水平に置いた支持体の上に塗布液をドクターブレード
を用いて均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形成
された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の内部の温
度を２５℃から１００°Ｃに徐々に上昇させて、塗膜の
乾燥を行なった、このようにして、支持体上に層厚が約
１８０ミクロンの蛍光体層を形成した。

そして、この蛍光体層の上にポリエチレンテレフタレー
トの透明フィルム（厚み７１２ミクロン、ポリエステル
系接着剤が付与されているもの）を接着剤層側を下に向
けて置いて接着することにより、透明保護膜を形成し、
支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成された放
射線増感スクリーンを製造した。

［比較例１コ 支持体として二酸化チタン練り込みポリエチレンテレフ
タレートシートに粗面化処理を施さなかったものを用い
、実施例１の方法と同様な処理を行なうことにより、支
持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成された放射
線増感スクリーンを製造した。

［比較例２］ 実施例１で用いた支持体と同一の二酸化チタン練り込み
ポリエチレンテレフタレートシートの片面に、約５０重
量％以上が約３００メツシユの粉末からなる砕砂を吹き
付け、その片面を粗面化した。この支持体の粗面化され
た表面には、平均深さが０．２ミクロン、最大深さが０
．８ミクロン、そして開口部の口径の平均が０．５ミク
ロンの多数の凹みが形成されていた。

次いで、この支持体について実施例１と同様な処理を行
なう・ことにより、支持体、蛍光体層、および透明保護
膜から構成された放射線増感スクリーンを製造した。

上記のようにして製造した各々の放射線増感スクリーン
を、次に記載する画像鮮鋭度試験、および蛍光体層の支
持体に対する密着強度試験により評価した。

（１）画像鮮鋭度試験 放射線増感スクリーンとＸ線写真フィルムとをカセツテ
内で圧着し、解像力チャートを介してＸ線写真撮影を行
ない、できあがったＸ線写真の変調伝達関数（ＭＴＦ）
を測定し、これを空間周波数２サイクル／　ｍ　ｍの値
で表示した。また、併せて相対感度も表示した。

（２）蛍光体層の支持体に対する密着強度試験放射線増
感スクリーンを幅１ｃｍ、長さ６ｃｍに切断して調製し
た試験片の蛍光体層側の表面にポリエステル粘着テープ
を貼り付けた。このポリエステル粘着テープ上から試験
片にナイフを用いて蛍光体層と支持体との境界面にまで
届く切り込みを試験片の長手方向に沿って細長いコの字
形にいれた。そして、このように調製した試験片の支持
体部分と、ポリエステル接着テープが付設されている蛍
光体層の細長いコの字形の切り込み片の端部とを引離す
ように引張ることにより蛍光体層の支持体に対する密着
強度を測定した。測定はテンシロン（東洋ボールドウィ
ン社製のＵＴＭ−１１−２０）を用いて、引張り速度２
ｃｍ／分にて両部会を互いに逆の方向に引張ることによ
り行ない、蛍光体層が１ｃｍ剥離した時に働いている力
Ｆ　（ｇ／Ｃｍ）により密着強度を表示した。

各々の放射線増感スクリーンについて得られた結果を第
１表に示す。

第１表 実施例１　比較例１　　比較例２ 画像鮮鋭度　０．２７　０，２３　　　０゜２４密着強
度　　　３００　　１００　　　　１２０相対感度　　
　〜９５　　　ｔｏｏ　　９５〜１００［実施例２］ 支持体として二酸化チタンを練り込んだポリエチレンテ
レフタレートシートの代りに、カーボンブラックを練り
込んだ同じ厚さのポリエチレンテレフタレートシートを
用いること以外は実施例１の方法と同様にして粗面化を
行ない、平均深さが２ミクロン、最大深さが７ミクロン
、そして開口部の口径の平均が２０ミクロンの多数の凹
みが形成された粗面を得た。次いで、この支持体につい
て実施例１と同様な処理を行ない、支持体、蛍光体層、
および透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。

［比較例３］ 支持体としてカーボンブラック練り込みポリエチレンテ
レフタレートシートに粗面化処理を施さなかったものを
用い、実施例２の方法と同様な処理を行なうことにより
、支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成された
放射線増感スクリーンを製造した。

実施例２および比較例３において製造した各々の放射線
増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試験、および蛍光
体層の支持体に対する密着強度試験により評価した。結
果を第２表に示す。

第２表 実施例２　　比較例３ 画像鮮鋭度　　　０．３４　　０．２８密着強度　　　
　　３５０　　　１４０相対感度　　９５〜ｌＯＯｌｏ
Ｏ ［実施例３］ 実施例２において、放射線増感用蛍光体粒子としてテル
ビウム賦活ガドリニウム酸硫化物蛍光体粒子の代りにユ
ーロピウム賦活バリウム弗化臭化物蛍光体（ＢａＦＢｒ
：Ｅｕ”）の粒子を用いること以外は実施例２の方法と
同様な処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリーンを
製造した。

［比較例４］ 支持体としてカーボンブラック練り込みポリエチレンテ
レフタレートシートに粗面化処理を施さなかったものを
用い、実施例３の方法と同様な処理を行なうことにより
、支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成された
放射線増感スクリーンを製造した。

実施例３および比較例４において製造した各々の放射線
増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試験、および蛍光
体層の支持体に対する密着強度試験により評価した。結
果を第３表に示す。

第３表 実施例３　　比較例４ 画像鮮鋭度　　　０．３８　　０．３４密着強度　　　
　　３２０　　　１５０相対感度　　９５〜ｔｏｏ　　
　　ｉｏ。

［実施例４Ｊ 実施例２において、放射線増感用蛍光体粒子として、テ
ルビウム賦店ガドリニウム酸硫化物蛍光体粒子の代りに
タングステン酸カルシウム蛍光体（ＣａＷＯａ）の粒子
を用いること以外は実施例２の方法と同様な処理を行な
うことにより、支持体、蛍光体層、および透明保護膜か
ら構成された放射線増感スクリーンを製造した。

［比較例５〕 支持体としてカーボンブラック練り込みポリエチレンテ
レフタレートシートに粗面化処理を１１すなかったもの
を用い、実施例４の方法と同様な処理を行なうことによ
り、支持体、蛍光体層、および透明保護膜から構成され
た放射線増感スクリーンを製造した。

実施例４および比較例５において製造した各々の放射線
増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試験、および蛍光
体層の支持体に対する密着強度試験により評価した。結
果を第４表に示す。

第４表 実施例４　　比較例５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、支持体と、この支持体上に設けられた放射線増感用
   蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる放
   射線増感用蛍光体層とから実質的に構成されている放射
   線増感スクリーンにおいて、支持体の蛍光体層側の表面
   に、平均深さが１ミクロン以上、最大深さが１ミクロン
   より大きく、かつ１００ミクロン以下、そして開口部の
   口径の平均がｉミグ０フ以上の多数の凹みが設けられて
   いることを特徴とする放射線増感スクリーン。 ２６多数の凹みの平均深さが１ミクロン以上かつ１０ミ
   クロン以下、最大深さが１ミクロンより大きく、かつ５
   ０ミクロン以下、そして開口部の口径の平均が１ミクロ
   ン以上かつ１００ミクロン以丁であることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の放射線増感スクリーン。 ３゜多数の凹みの平均深さが１ミクロン以上かつ５ミク
   ロン以下、最大深さが２ミクロン以上かつ２０ミクロン
   以下、そして開口部の口径の平均が１０ミクロン以上か
   つ５０ミクロン以下であることを特徴とする特許請求の
   範囲第２項記載の放射線増感スクリーン。 ４゜支持体がプラスチックフィルムより形成されている
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項のい
   ずれかの項記載の放射線増感スクリーン。 ５゜結合剤が線状ポリエステルを主成分とするものであ
   ること特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のい
   ずれかの項記載の放射線増感スクリーン。 ６゜結合剤がニトロセルロースを主成分とするものであ
   ること特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第４項のい
   ずれかの項記載の放射線増感スクリーン。 ７゜結合剤が線状ポリエステルとニトロセルロースとの
   混合物を主成分とするものであることを特徴とする特許
   請求の範囲第１項乃至第４項の１．％ずれかの項記載の
   放射線増感スクリーン。 ８゜支持体の表面に設けられた凹みが、高硬度の固体粉
   末を該表面に対して高速度で吹き付けることにより形成
   されたものであることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項乃至第７頃のいずれかの項記載の放射線増感スクリー
   ン。 ９゜支持体の表面に高硬度の固体粉末を高速度で吹き付
   けることにより、平均深さが１ミクロン以上、最大深さ
   が１ミクロンより大きく、かつ１００ミクロン以下、そ
   して開口部の口径の平均が１ミクロン以上の多数の凹み
   を支持体表面に設け、ついで、支持体の凹みが設けられ
   た表面に、放射線増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支
   持する結合剤からなる放射線増感用蛍光体層を設けるこ
   とを特徴とする放射線増感スクリーンの製造法。 １０、多数の凹みの平均深さが１ミクロン以−トかつ１
   ０ミクロン以下、最大深さが１ミクロンより大きく、か
   つ５０ミクロン以下、そして開口部の口径の平均が１ミ
   クロン以上かつ１００ミクロン以下であることを特徴と
   する特許請求の範囲第９項記載の放射線増感スクリーン
   の製造法。 １１、支持体がプラスチ・ンクフィルムより形成されて
   いることを特徴とする特許請求の範囲第９項あるいは第
   １０項記載の放射線増感スクリーンの製造１人。