JPH0444713B2 - - Google Patents
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Landscapes
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Description
本発明は放射線増感スクリーンの製造法に関す
るものである。さらに詳しくは、本発明は、支持
体と、この支持体上に設けられた結合剤と蛍光体
との組成比が１：１〜１：25（重量比、ただし
１：25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層と
から実質的に構成されている放射線増感スクリー
ンの製造法に関するものである。 放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊
検査を目的とする工業用放射線撮影などの種々の
分野における放射線撮影において、撮影系の感度
を向上させるために、Ｘ線写真フイルム等の放射
線感応性写真フイルムの片面あるいは両面に密着
させるように重ね合わせて使用するものである。
この放射線増感スクリーンは、基本構造として、
支持体と、その片面に形成された蛍光体含有樹脂
層とからなるものである。なお、この蛍光体含有
樹脂層の支持体とは反対側の表面（支持体に面し
ていない側の表面）には一般に、透明な保護膜が
設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるい
は物理的な衝撃から保護している。 蛍光体含有樹脂層は、蛍光体粒子を分散状態で
含有支持する結合剤からなるものである。そして
この蛍光体含有樹脂層の支持体上の付設は、一般
に以下に説明するような常圧下での塗布方法を利
用して行なわれている。すなわち、蛍光体粒子お
よび結合剤を適当な溶剤中で混合分散して塗布液
を調製し、この塗布液をドクターブレード、ロー
ルコーター、ナイフコーターなどの塗布手段を用
いて常圧下にて放射線増感スクリーンの支持体上
に直接塗布した後、塗膜から溶媒を除去すること
によつて、あるいはあらかじめ塗布液をガラス板
などの仮支持体の上に常圧下にて塗布し、次いで
塗膜から溶媒を除去して蛍光体含有樹脂薄膜を形
成させ、これを仮支持体から剥離して放射線増感
スクリーンの支持体上に接合することによつて、
蛍光体含有樹脂層の支持体上への付設が行なわれ
ている。 蛍光体含有樹脂層中の蛍光体粒子は、Ｘ線等の
放射線によつて励起された時に高輝度の発光を示
す性質を有するものである。従つて、被写体を通
過した放射線の量に応じて蛍光体は高輝度の発光
を示し、放射線増感スクリーンの蛍光体含有樹脂
層の表面に接するようにして重ね合わされて置か
れた放射線写真フイルムは、この蛍光体の発光に
よつても感光するため、比較的少ない放射線量で
写真フイルムの充分な感光を達成することができ
る。 上記のような基本構造を有する放射線増感スク
リーンについては、感度が高いこと、および画質
（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるもの
であることが望まれる。このうち、画像の鮮鋭度
について、被写体のより正確でかつ詳細な情報を
得るという点から、得られる画像の鮮鋭度の少し
でも向上した放射線増感スクリーンの開発が望ま
れている。 本発明は、鮮鋭度の向上した画像を与える放射
線増感スクリーンの製造法を提供することをその
目的とするものである。 本発明は、下記の放射線増感スクリーンの製造
法にある。 (1) 支持体と、この支持体上に設けられた常圧下
での塗布により形成された結合剤と蛍光体との
組成比が１：１〜１：25（重量比、ただし１：
25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層とか
ら実質的に構成されているシートを300〜700
Kg／cm2の圧力、そして50℃以上、結合剤の融点
以下の温度にて圧縮処理することにより、上記
蛍光体含有樹脂層の空隙率を圧縮処理以前の空
隙率の85％以下とすることを特徴とする製造
法。 (2) 常圧下での塗布により形成された結合剤と蛍
光体との組成比が１：１〜１：25（重量比、た
だし１：25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹
脂層を300〜700Kg／cm2の圧力、そして50℃以
上、結合剤の融点以下の温度にて圧縮処理する
ことにより、上記蛍光体含有樹脂層の空隙率を
圧縮処理以前の空隙率の85％以下としたのち、
上記蛍光体含有樹脂層を支持体上に付設するこ
とを特徴とする製造法。 次に本発明を詳しく説明する。 本発明は、結合剤と蛍光体との組成比が１：１
〜１：25（重量比、ただし１：25は含まない）の
範囲にある放射線増感スクリーンの蛍光体含有樹
脂層の空隙率を、通常の常圧下での塗布方法によ
り形成される当該組成比の蛍光体含有樹脂層の空
隙率よりも一定のレベル以下に減少させることに
より、放射線増感スクリーンの鮮鋭度の顕著な向
上、すなわち放射線増感スクリーンの使用時にお
いて放射線写真フイルムに形成記録される画像の
鮮鋭度の顕著な向上を実現するものである。 すなわち、通常の常圧下での塗布方法により支
持体上に蛍光体と結合剤とからなる蛍光体含有樹
脂層（以下、単に蛍光体層と略す）を形成する
際、蛍光体層には空気が混入しやすく空隙が生ず
る。この空隙は、特に蛍光体粒子の回りに生じや
すい。さらに、結合剤に対し蛍光体の含有量が増
大するにつれて蛍光体粒子が密になつて蛍光体粒
子間には空隙が多量生じやすくなる。 ところで、被写体を透過したＸ線などの放射線
が放射線増感スクリーンの蛍光体層に入射する
と、蛍光体層中の蛍光体粒子は、その透過像に応
じた放射線エネルギーを吸収して励起状態にな
り、その放射線とは異なる波長を有する可視領域
乃至近紫外領域の光を瞬時に発する。この蛍光体
粒子から発せられた光が写真フイルムを感光し、
画像形成に寄与する。一般には、蛍光体層中に含
まれる蛍光体の量が増大すれば発光量が増大し、
従つて感度が向上する。一方、鮮鋭度は蛍光体層
の厚さに依存する。すなわち、蛍光体層が厚くな
ればなる程蛍光体粒子から発せられた光は蛍光体
層中でより拡散し、光像はぼけた状態で写真フイ
ルムに記録されることになり、得られる画像の鮮
鋭度は低下する。従つて、蛍光体層を薄くすれば
鮮鋭度の向上した画像が得られることになる。 本発明者の検討によれば、結合剤と蛍光体との
組成比が１：１〜１：25（重量比、ただし１：25
は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層とから実
質的に構成されている放射線増感スクリーンにお
いて、蛍光体層の空隙率を、通常の常圧下での塗
布方法により形成される当該組成比の蛍光体含有
樹脂層の空隙率の85％以下とすることにより、蛍
光体層中の蛍光体の密度を従来の放射線増感スク
リーンにおける蛍光体の密度よりも高くし、その
結果として蛍光体層の厚さを薄くして、画像の鮮
鋭度を顕著に向上させることができることが判明
した。 また、本発明により製造される放射線増感スク
リーンは、従来の放射線増感スクリーンの蛍光体
層における蛍光体の密度よりも高密度の蛍光体層
を有するものであるから、たとえば、本発明によ
り製造される放射線増感スクリーンの蛍光体層が
従来の放射線増感スクリーンの蛍光体層と同一の
層厚であれば、本発明により製造される放射線増
感スクリーンの蛍光体層の法がより多く蛍光体粒
子を含有することができ、従つて本発明により製
造される放射線増感スクリーンによれば、鮮鋭度
を低下させることなく感度の向上が可能となる。
すなわち、同一鮮鋭度の比較において、本発明に
より製造される放射線増感スクリーンは従来の放
射線増感スクリーンよりも高感度である。また逆
に、同一感度の比較において、本発明により製造
される放射線増感スクリーンは従来の放射線増感
スクリーンよりも高鮮鋭度である。 さらに、保護膜あるいは蛍光体層を着色するこ
とによつて、従来の放射線増感スクリーンと同一
感度、同一鮮鋭度とした本発明により製造される
放射線増感スクリーンは、従来の放射線増感スク
リーンよりも画像の粒状性が良い。 以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
により製造される放射線増感スクリーンは、たと
えば、次に述べるような方法により製造すること
ができる。 本発明の放射線増感スクリーンにおいて、蛍光
体含有樹脂層は、基本的には蛍光体粒子を分散状
態で含有支持する結合剤からなる層である。 蛍光体粒子についてはすでに各種のものが知ら
れている。本発明において使用するのが好ましい
放射線増感用蛍光体粒子の例としては、次のよう
な物質からなる粒子を挙げることができる。 タングステン酸塩系蛍光体（CaWO4，
MgWO4，CaWO4：Pb等）、テルビウム賦活希土
類酸硫化物系蛍光体［Y2O2Ｓ：Tb，Gd2O2Ｓ：
Tb，La2O2Ｓ：Tb，（Ｙ，Gd）2O2Ｓ：Tb、（Ｙ，
Gd）2O2Ｓ：Tb，Tm等］、テルビウム賦活希土類
酸燐酸塩系蛍光体（YPO4：Tb，GdPO4：Tb，
LaPO4：Tb等）、テルビウム賦活希土類オキシハ
ロゲン化物系蛍光体（LaOBr：Tb，LaOBr：
Tb，Tm、LaOC：Tb、LaOC：Tb，Tm、
GdOBr：Tb、GdOCl：Tb等）、ツリウム賦活希
土類オキシハロゲン化物系蛍光体（LaOBr：
Tm、LaOCl：Tm等）、硫酸バリウム系蛍光体
［BaSO4：Pb、BaSO4：Eu2+、（Ba，Sr）SO4：
Eu2+等］、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類
金属燐酸塩系蛍光体［Ba3（PO4）2：Eu2+、（Ba，
Sr）3（PO4）2：Eu2+等］、２価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体
［BaFC：Eu2+、BaFBr：Eu2+、BaFC：
Eu2+，Tb、BaFBr：Eu2+，Tb、BaF2・BaC
２・KC：Eu2+、BaF2・BaC2・xBaSO4・KC
：Eu2+、（Ba，Mg）F2・BaC2・KC：
Eu2+等］、沃化物系蛍光体（CsI：Na，CsI：Ｔ
、NaI、KI：Ｔ等）、硫化物系蛍光体
［ZnS：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：
Cu、（Zn，Cd）Ｓ：Cu、Ａ等］、燐酸ハフニウ
ム系蛍光体（HfP2O7：Cu等）。ただし、本発明
に用いる蛍光体粒子は、これらのものに限られる
ものではなく、放射線の照射により可視乃至近紫
外領域の発光を示す蛍光体の粒子であればいかな
るものであつてもよい。 また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチ
ルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、およびニトロセルロー
スと線状ポリエステルとの混合物である。 蛍光体層は、たとえば、次のような塗布方法に
より支持体上に形成することができる。 まず上記の蛍光体粒子と結合剤とを適当な溶剤
に加え、これを充分に混合して、結合剤溶液中に
蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製する。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエータル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒
子との混合比は、目的とする放射線増感スクリー
ンの特性、蛍光体粒子の種類などによつて異なる
が、１：１乃至１：25（重量比、ただし１：25は
含まない）の範囲から選ばれ、そして特に１：８
乃至１：22（重量比）の範囲から選ぶことが好ま
しい。 なお、塗布液には、上記塗布液中における蛍光
体粒子の分散性を向上させるための分散剤、ま
た、形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体
粒子との間の結合力を向上させるための可塑剤な
どの種々の添加剤が混合されていてもよい。その
ような目的に用いられる分散剤の例としては、フ
タル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面
活性剤などを挙げることができる。そして可塑剤
の例としては、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレ
ジル、燐酸ジフエニルなどの燐酸エステル；フタ
ル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどの
フタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリル
エチル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなど
のグリコール酸エステル；そして、トリエチレン
グリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエ
チレングリコールとコハク酸とのポリエステルな
どのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸と
のポリエステルなどを挙げることができる。 上記のようにして調製された蛍光体粒子と結合
剤を含有する塗布液を、次に、支持体の表面に均
一に塗布することにより塗布液の塗膜を形成す
る。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえ
ば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフ
コーターなどを用いることにより行なうことがで
きる。 ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
増感スクリーンの特性、蛍光体粒子の種類、結合
剤と蛍光体粒子との混合比などによつて異なる
が、通常は20μm乃至１mmとする。ただし、この
層厚は、50乃至500μmとするのが好ましい。 なお、蛍光含有樹脂層は、必ずしも上記のよう
に支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要
はなく、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プ
ラスチツクシートなどのシート（仮支持体）上に
塗布液を塗布し乾燥することにより蛍光体層を形
成したのち、これを、支持体上に押圧するか、あ
るいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層
とを接合してもよい。 また、蛍光体含有樹脂層は、得られる放射線増
感スクリーンの粒状性を向上させる目的で着色剤
によつて着色されていてもよい。 本発明において使用する支持体は、放射線増感
スクリーンの製造のための材料として知られてい
る各種の材料から任意に選ぶことができる。その
ような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、
ポリカーボネートなどのプラスチツク物質のフイ
ルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔など
の金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグ
メント紙、ポリビニルアルコールなどをサイジン
グした紙などを挙げることができる。ただし、放
射線増感スクリーンとしての特性を考慮した場
合、本発明において特に好ましい支持体の材料は
プラスチツクフイルムである。このプラスチツク
フイルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質が練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チ
タンなどの光反射性物質が練り込まれていてもよ
い。前者は高鮮鋭度タイプの放射線増感用スクリ
ーンに適した支持体であり、後者は高感度タイプ
の放射線増感用スクリーンに適した支持体であ
る。 公知の放射線増感スクリーンにおいて、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線増感スクリーンとしての感度もしくは画質を向
上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持
体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接
着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなど
の光反射性物質からなる光反射層、もしくはカー
ボンブラツクなどの光吸収性物質からなる光吸収
層を設けることも行なわれている。また物質の非
破壊検査を目的とする工業用放射線撮影に用いる
放射線増感スクリーンにおいては、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面に、散乱放射線の除去な
どを目的として、鉛箔、鉛合金箔、錫箔などの金
属箔を設けることも行なわれている。本発明にお
いて用いられる支持体についても、これらの各種
の層を設けることができる。 さらに、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目
的で、支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光
体層側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収
層、あるいは金属箔などが設けられている場合に
は、その表面を意味する）に、凹凸を形成するこ
とができ、それらの構成は所望の放射線増感スク
リーンの目的、用途などに応じて任意に選択する
ことができる。 上記のようにして支持体上に形成された蛍光体
含有樹脂層の空隙率は、次の（Ｉ）式により理論
的に求めることができる。 Vair／Ｖ＝（ａ＋ｂ）ρxρyV−Ａ（aρy＋bρx）／
Ｖ［（ａ＋ｂ）ρxρy−aρyρair−bρxρair］……（
Ｉ） （ただし、 Ｖ：蛍光体層の全体積 Vair：蛍光体層中の空気体積 Ａ：蛍光体の全重量 ρx：蛍光体の密度 ρy：結合剤の密度 ρair：空気の密度 ａ：蛍光体の重量 ｂ：結合剤の重量） さらに（Ｉ）式において、ρairは〜０であるか
ら（Ｉ）式は近似的に次の（）式で表わすこと
ができる。 Vair／Ｖ＝（ａ＋ｂ）ρxρyV−Ａ（aρy＋bρx）／
Ｖ［（ａ＋ｂ）ρxρy］……（） （ただし、Ｖ，Vair，Ａ，ρx，ρy，ａ、およ
びｂの定義は（Ｉ）式と同じである） 本発明において、蛍光体含有樹脂層の空隙率は
（）式により計算して求めた。 一例として、テルビウム賦活酸硫化ガドリニウ
ム蛍光体および結合剤として線状ポリエステルと
ニトロセルロースとの混合物とならなる蛍光体含
有樹脂層の支持体上への形成は、上記に述べた通
常の常圧下での塗布方法により、そして具体的に
は例えば次のようにして行なわれる。 線状ポリエステルとニトロセルロースとの混合
物とテルビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光体
（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子とを組成比１：20（重量
比）となるようにメチルエチルケトン中でプロペ
ラミキサーを用いて充分に混合し、粘度が30PS
（25℃）の塗布液を調製する。この塗布液をドク
ターブレードを用いてポリエチレンテレフタレー
ト（支持体）上に均一に塗布したのち、乾燥器内
に入れ、器内の温度を20℃から100℃に徐々に上
昇させて塗膜の乾燥を行なうことにより、支持体
上に蛍光体含有樹脂層を形成する。 このようにして形成された結合剤と蛍光体との
組成比１：20の蛍光体含有樹脂層の空隙率は25.8
％であつた。また、結合剤および、蛍光体の使用
量を変えること以外は上記と同様にして形成され
た結合剤と蛍光体との組成比が１：10の蛍光体含
有樹脂層の空隙率は、10.7％であつた。 上記の蛍光体含有樹脂層は、通常の常圧下での
塗布方法により形成される蛍光体層の代表的な一
例であり、用いる結合剤、蛍光体粒子、溶剤の種
類を変えても、得られる蛍光体層の空隙率は大き
く変化することはない。また、（）式の空隙率
の計算において、塗布液に添加される添加剤は微
量であるため無視することができる。さらに、蛍
光体層の空隙率は通常実施されている塗布操作の
範囲内であれば、塗布条件の変化にもあまり影響
を受けない。 従つて、蛍光体含有樹脂層の空隙率を変化させ
る最大の因子は、前記（）式からも明らかなよ
うに結合剤と蛍光体との組成比［（）式の定義
からｂ：ａ、重量比］である。蛍光体含有樹脂層
において結合剤に対する蛍光体粒子の比率が増大
するほど、結合剤中に分散する蛍光体粒子間の平
均距離は短くなりその間に空隙が生じやすくな
る。従つて、蛍光体含有樹脂層の空隙率は蛍光体
の量が増えるにつれて増加する蛍光にある。 本発明により製造される放射線増感スクリーン
の製造においては、次に、蛍光体層中に混入して
いる空気の一部を除去などして空隙を減少させ
る。この空隙の減少は、たとえば、蛍光体層を圧
縮処理することにより行なわれる。 蛍光体層の圧縮処理は、50℃〜蛍光体層の融点
付近の範囲の温度で加熱しながら行なわれる。圧
縮時間は、30秒〜５分の範囲にあることが好まし
い。好ましい温度は、使用する結合剤などにより
異なるが、50〜120℃である。 本発明の圧縮処理のために使用される圧縮装置
の例としては、カレンダーロール、ホツトプレス
など一般に知られているものを挙げることができ
る。たとえば、カレンダーロールによる圧縮処理
は、支持体と蛍光体層からなるシートを、一定の
温度に加熱したローラーの間を一定の速度で通過
させることにより行なわれる。ホツトプレスによ
る圧縮処理は、一定の温度に加熱した二枚の金属
板の間に上記シートを固定した後、両側から一定
時間、一定の圧力をかけることにより行なわれ
る。ただし、本発明に用いられる圧縮装置は、こ
れらのものに限られるものではなく、上記のよう
なシートを加熱しながら圧縮することのできるも
のであればいかなるものであつてもよい。 なお、たとえば、仮支持体上に形成した蛍光体
含有樹脂薄膜を圧縮処理する場合には、その薄膜
を放射線増感スクリーンの支持体上に付設する前
に行なうことも可能である。その場合には、蛍光
体含有樹脂薄膜単独、あるいは蛍光体含有樹脂薄
膜と仮支持体との複合シートなどの形態にて圧縮
処理し、次に、圧縮処理した蛍光体含有樹脂薄膜
を放射線増感スクリーンの支持体上に付設する。 なお、通常の放射線増感スクリーンにおいて
は、支持体に接する側とは反対側の蛍光体層の表
面に、蛍光体層を物理的および化学的に保護する
ための透明な保護膜が設けられている。このよう
な透明保護膜は、本発明により製造される放射線
増感スクリーンについても設置することが好まし
い。 透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミド
などから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層の表
面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よつても形成することができる。このようにして
形成する透明保護膜の膜厚は、約３乃至20μmと
するのが望ましい。 なお、透明保護膜は、得られる放射線増感スク
リーンの粒状性を向上させる目的で着色剤によつ
て着色されていてもよい。 以上記載した方法によつて代表される方法によ
り製造される放射線増感スクリーンの蛍光体含有
樹脂層（結合剤と蛍光体との組成比は１：１〜
１：25の範囲、ただし１：25は含まない）の空隙
率は、通常の常圧下での塗布方法により形成され
る当該組成比の蛍光体含有樹脂層の空隙率の85％
以下とされ、また、そのようにして得た蛍光体含
有樹脂層の空隙率（絶対値）は一般に28％を越え
ることはない。 上記のように放射線増感スクリーンにおける蛍
光体含有樹脂層の空隙率を減少させることにより
蛍光体層における蛍光体の密度は高くなり、従つ
て蛍光体使用量が一定である場合蛍光体層は薄く
なり、得られる画像の鮮鋭度が著しく向上する。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 ［実施例 １］ 線状ポリエステル樹脂と硝化度11.5％のニトロ
セルロースとの混合物（結合剤）と放射線増感用
のテレビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光体
（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子とを１：20の重量組成比
で混合し、メチルエチルケトンを添加した後プロ
ペラミキサーを用いて充分に攪拌混合して、蛍光
体粒子が均一に分散し、かつ粘度が30PS（25℃）
の塗布液を調製した。次に、二酸化チタンを練り
込んだポリエチレンテレフタレートシート（支持
体、厚み：250μm）をガラス板上に水平に置き、
この支持体の上に塗布液をドクターブレードを用
いて均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形
成された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の
内部の温度を250℃から100℃に徐々に上昇させ
て、塗膜の乾燥を行なつた。このようにして、支
持体とこの支持体上に設けられた層厚が約120μm
の蛍光層とからなるシートを得た。 次いで、支持体とこの支持体の片面に形成され
た蛍光体層とからなるシートを、カレンダーロー
ルを用いて620Kg／cm2の圧力、および100℃の温度
で圧縮した。 そして、圧縮処理をした蛍光体層の上にポリエ
チレンテレフタレートの透明フイルム（厚み：
12μm、ポリエステル系接着剤が付与されている
もの）を接着剤層側を下に向けて置いて接着する
ことにより、透明保護膜を形成し、支持体、蛍光
体層、および透明保護膜から構成された放射線増
感スクリーンを製造した。 ［実施例 ２］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ３］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ４］ 実施例１で構製造れた支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、620Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ５］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ６］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［比較例 １］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを圧縮しないこと以外は、実施例１の方法と
同様な処理を行なうことにより、支持体、蛍光体
層、および透明保護膜から構成された放射線増感
スクリーンを製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーンの蛍光体層の体積および重量の測定値
と、使用した蛍光体の密度（7.5g／cm3）および結
合剤の密度（1.258g／cm3）とから、（）式によ
り蛍光体含有樹脂層の空隙率をそれぞれ計算して
求めた。 各々の蛍光体含有樹脂層について得られた結果
を第１表に示す。
るものである。さらに詳しくは、本発明は、支持
体と、この支持体上に設けられた結合剤と蛍光体
との組成比が１：１〜１：25（重量比、ただし
１：25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層と
から実質的に構成されている放射線増感スクリー
ンの製造法に関するものである。 放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊
検査を目的とする工業用放射線撮影などの種々の
分野における放射線撮影において、撮影系の感度
を向上させるために、Ｘ線写真フイルム等の放射
線感応性写真フイルムの片面あるいは両面に密着
させるように重ね合わせて使用するものである。
この放射線増感スクリーンは、基本構造として、
支持体と、その片面に形成された蛍光体含有樹脂
層とからなるものである。なお、この蛍光体含有
樹脂層の支持体とは反対側の表面（支持体に面し
ていない側の表面）には一般に、透明な保護膜が
設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるい
は物理的な衝撃から保護している。 蛍光体含有樹脂層は、蛍光体粒子を分散状態で
含有支持する結合剤からなるものである。そして
この蛍光体含有樹脂層の支持体上の付設は、一般
に以下に説明するような常圧下での塗布方法を利
用して行なわれている。すなわち、蛍光体粒子お
よび結合剤を適当な溶剤中で混合分散して塗布液
を調製し、この塗布液をドクターブレード、ロー
ルコーター、ナイフコーターなどの塗布手段を用
いて常圧下にて放射線増感スクリーンの支持体上
に直接塗布した後、塗膜から溶媒を除去すること
によつて、あるいはあらかじめ塗布液をガラス板
などの仮支持体の上に常圧下にて塗布し、次いで
塗膜から溶媒を除去して蛍光体含有樹脂薄膜を形
成させ、これを仮支持体から剥離して放射線増感
スクリーンの支持体上に接合することによつて、
蛍光体含有樹脂層の支持体上への付設が行なわれ
ている。 蛍光体含有樹脂層中の蛍光体粒子は、Ｘ線等の
放射線によつて励起された時に高輝度の発光を示
す性質を有するものである。従つて、被写体を通
過した放射線の量に応じて蛍光体は高輝度の発光
を示し、放射線増感スクリーンの蛍光体含有樹脂
層の表面に接するようにして重ね合わされて置か
れた放射線写真フイルムは、この蛍光体の発光に
よつても感光するため、比較的少ない放射線量で
写真フイルムの充分な感光を達成することができ
る。 上記のような基本構造を有する放射線増感スク
リーンについては、感度が高いこと、および画質
（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるもの
であることが望まれる。このうち、画像の鮮鋭度
について、被写体のより正確でかつ詳細な情報を
得るという点から、得られる画像の鮮鋭度の少し
でも向上した放射線増感スクリーンの開発が望ま
れている。 本発明は、鮮鋭度の向上した画像を与える放射
線増感スクリーンの製造法を提供することをその
目的とするものである。 本発明は、下記の放射線増感スクリーンの製造
法にある。 (1) 支持体と、この支持体上に設けられた常圧下
での塗布により形成された結合剤と蛍光体との
組成比が１：１〜１：25（重量比、ただし１：
25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層とか
ら実質的に構成されているシートを300〜700
Kg／cm2の圧力、そして50℃以上、結合剤の融点
以下の温度にて圧縮処理することにより、上記
蛍光体含有樹脂層の空隙率を圧縮処理以前の空
隙率の85％以下とすることを特徴とする製造
法。 (2) 常圧下での塗布により形成された結合剤と蛍
光体との組成比が１：１〜１：25（重量比、た
だし１：25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹
脂層を300〜700Kg／cm2の圧力、そして50℃以
上、結合剤の融点以下の温度にて圧縮処理する
ことにより、上記蛍光体含有樹脂層の空隙率を
圧縮処理以前の空隙率の85％以下としたのち、
上記蛍光体含有樹脂層を支持体上に付設するこ
とを特徴とする製造法。 次に本発明を詳しく説明する。 本発明は、結合剤と蛍光体との組成比が１：１
〜１：25（重量比、ただし１：25は含まない）の
範囲にある放射線増感スクリーンの蛍光体含有樹
脂層の空隙率を、通常の常圧下での塗布方法によ
り形成される当該組成比の蛍光体含有樹脂層の空
隙率よりも一定のレベル以下に減少させることに
より、放射線増感スクリーンの鮮鋭度の顕著な向
上、すなわち放射線増感スクリーンの使用時にお
いて放射線写真フイルムに形成記録される画像の
鮮鋭度の顕著な向上を実現するものである。 すなわち、通常の常圧下での塗布方法により支
持体上に蛍光体と結合剤とからなる蛍光体含有樹
脂層（以下、単に蛍光体層と略す）を形成する
際、蛍光体層には空気が混入しやすく空隙が生ず
る。この空隙は、特に蛍光体粒子の回りに生じや
すい。さらに、結合剤に対し蛍光体の含有量が増
大するにつれて蛍光体粒子が密になつて蛍光体粒
子間には空隙が多量生じやすくなる。 ところで、被写体を透過したＸ線などの放射線
が放射線増感スクリーンの蛍光体層に入射する
と、蛍光体層中の蛍光体粒子は、その透過像に応
じた放射線エネルギーを吸収して励起状態にな
り、その放射線とは異なる波長を有する可視領域
乃至近紫外領域の光を瞬時に発する。この蛍光体
粒子から発せられた光が写真フイルムを感光し、
画像形成に寄与する。一般には、蛍光体層中に含
まれる蛍光体の量が増大すれば発光量が増大し、
従つて感度が向上する。一方、鮮鋭度は蛍光体層
の厚さに依存する。すなわち、蛍光体層が厚くな
ればなる程蛍光体粒子から発せられた光は蛍光体
層中でより拡散し、光像はぼけた状態で写真フイ
ルムに記録されることになり、得られる画像の鮮
鋭度は低下する。従つて、蛍光体層を薄くすれば
鮮鋭度の向上した画像が得られることになる。 本発明者の検討によれば、結合剤と蛍光体との
組成比が１：１〜１：25（重量比、ただし１：25
は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層とから実
質的に構成されている放射線増感スクリーンにお
いて、蛍光体層の空隙率を、通常の常圧下での塗
布方法により形成される当該組成比の蛍光体含有
樹脂層の空隙率の85％以下とすることにより、蛍
光体層中の蛍光体の密度を従来の放射線増感スク
リーンにおける蛍光体の密度よりも高くし、その
結果として蛍光体層の厚さを薄くして、画像の鮮
鋭度を顕著に向上させることができることが判明
した。 また、本発明により製造される放射線増感スク
リーンは、従来の放射線増感スクリーンの蛍光体
層における蛍光体の密度よりも高密度の蛍光体層
を有するものであるから、たとえば、本発明によ
り製造される放射線増感スクリーンの蛍光体層が
従来の放射線増感スクリーンの蛍光体層と同一の
層厚であれば、本発明により製造される放射線増
感スクリーンの蛍光体層の法がより多く蛍光体粒
子を含有することができ、従つて本発明により製
造される放射線増感スクリーンによれば、鮮鋭度
を低下させることなく感度の向上が可能となる。
すなわち、同一鮮鋭度の比較において、本発明に
より製造される放射線増感スクリーンは従来の放
射線増感スクリーンよりも高感度である。また逆
に、同一感度の比較において、本発明により製造
される放射線増感スクリーンは従来の放射線増感
スクリーンよりも高鮮鋭度である。 さらに、保護膜あるいは蛍光体層を着色するこ
とによつて、従来の放射線増感スクリーンと同一
感度、同一鮮鋭度とした本発明により製造される
放射線増感スクリーンは、従来の放射線増感スク
リーンよりも画像の粒状性が良い。 以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
により製造される放射線増感スクリーンは、たと
えば、次に述べるような方法により製造すること
ができる。 本発明の放射線増感スクリーンにおいて、蛍光
体含有樹脂層は、基本的には蛍光体粒子を分散状
態で含有支持する結合剤からなる層である。 蛍光体粒子についてはすでに各種のものが知ら
れている。本発明において使用するのが好ましい
放射線増感用蛍光体粒子の例としては、次のよう
な物質からなる粒子を挙げることができる。 タングステン酸塩系蛍光体（CaWO4，
MgWO4，CaWO4：Pb等）、テルビウム賦活希土
類酸硫化物系蛍光体［Y2O2Ｓ：Tb，Gd2O2Ｓ：
Tb，La2O2Ｓ：Tb，（Ｙ，Gd）2O2Ｓ：Tb、（Ｙ，
Gd）2O2Ｓ：Tb，Tm等］、テルビウム賦活希土類
酸燐酸塩系蛍光体（YPO4：Tb，GdPO4：Tb，
LaPO4：Tb等）、テルビウム賦活希土類オキシハ
ロゲン化物系蛍光体（LaOBr：Tb，LaOBr：
Tb，Tm、LaOC：Tb、LaOC：Tb，Tm、
GdOBr：Tb、GdOCl：Tb等）、ツリウム賦活希
土類オキシハロゲン化物系蛍光体（LaOBr：
Tm、LaOCl：Tm等）、硫酸バリウム系蛍光体
［BaSO4：Pb、BaSO4：Eu2+、（Ba，Sr）SO4：
Eu2+等］、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類
金属燐酸塩系蛍光体［Ba3（PO4）2：Eu2+、（Ba，
Sr）3（PO4）2：Eu2+等］、２価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体
［BaFC：Eu2+、BaFBr：Eu2+、BaFC：
Eu2+，Tb、BaFBr：Eu2+，Tb、BaF2・BaC
２・KC：Eu2+、BaF2・BaC2・xBaSO4・KC
：Eu2+、（Ba，Mg）F2・BaC2・KC：
Eu2+等］、沃化物系蛍光体（CsI：Na，CsI：Ｔ
、NaI、KI：Ｔ等）、硫化物系蛍光体
［ZnS：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：
Cu、（Zn，Cd）Ｓ：Cu、Ａ等］、燐酸ハフニウ
ム系蛍光体（HfP2O7：Cu等）。ただし、本発明
に用いる蛍光体粒子は、これらのものに限られる
ものではなく、放射線の照射により可視乃至近紫
外領域の発光を示す蛍光体の粒子であればいかな
るものであつてもよい。 また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチ
ルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマー、ポリウレタン、セルロースアセテートブ
チレート、ポリビニルアルコール、線状ポリエス
テルなどような合成高分子物質などにより代表さ
れる結合剤を挙げることができる。このような結
合剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロ
ース、線状ポリエステル、およびニトロセルロー
スと線状ポリエステルとの混合物である。 蛍光体層は、たとえば、次のような塗布方法に
より支持体上に形成することができる。 まず上記の蛍光体粒子と結合剤とを適当な溶剤
に加え、これを充分に混合して、結合剤溶液中に
蛍光体粒子が均一に分散した塗布液を調製する。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエータル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒
子との混合比は、目的とする放射線増感スクリー
ンの特性、蛍光体粒子の種類などによつて異なる
が、１：１乃至１：25（重量比、ただし１：25は
含まない）の範囲から選ばれ、そして特に１：８
乃至１：22（重量比）の範囲から選ぶことが好ま
しい。 なお、塗布液には、上記塗布液中における蛍光
体粒子の分散性を向上させるための分散剤、ま
た、形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体
粒子との間の結合力を向上させるための可塑剤な
どの種々の添加剤が混合されていてもよい。その
ような目的に用いられる分散剤の例としては、フ
タル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面
活性剤などを挙げることができる。そして可塑剤
の例としては、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレ
ジル、燐酸ジフエニルなどの燐酸エステル；フタ
ル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどの
フタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリル
エチル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなど
のグリコール酸エステル；そして、トリエチレン
グリコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエ
チレングリコールとコハク酸とのポリエステルな
どのポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸と
のポリエステルなどを挙げることができる。 上記のようにして調製された蛍光体粒子と結合
剤を含有する塗布液を、次に、支持体の表面に均
一に塗布することにより塗布液の塗膜を形成す
る。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえ
ば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフ
コーターなどを用いることにより行なうことがで
きる。 ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への蛍光体層の形成を
完了する。蛍光体層の層厚は、目的とする放射線
増感スクリーンの特性、蛍光体粒子の種類、結合
剤と蛍光体粒子との混合比などによつて異なる
が、通常は20μm乃至１mmとする。ただし、この
層厚は、50乃至500μmとするのが好ましい。 なお、蛍光含有樹脂層は、必ずしも上記のよう
に支持体上に塗布液を直接塗布して形成する必要
はなく、たとえば、別に、ガラス板、金属板、プ
ラスチツクシートなどのシート（仮支持体）上に
塗布液を塗布し乾燥することにより蛍光体層を形
成したのち、これを、支持体上に押圧するか、あ
るいは接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層
とを接合してもよい。 また、蛍光体含有樹脂層は、得られる放射線増
感スクリーンの粒状性を向上させる目的で着色剤
によつて着色されていてもよい。 本発明において使用する支持体は、放射線増感
スクリーンの製造のための材料として知られてい
る各種の材料から任意に選ぶことができる。その
ような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、
ポリカーボネートなどのプラスチツク物質のフイ
ルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔など
の金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグ
メント紙、ポリビニルアルコールなどをサイジン
グした紙などを挙げることができる。ただし、放
射線増感スクリーンとしての特性を考慮した場
合、本発明において特に好ましい支持体の材料は
プラスチツクフイルムである。このプラスチツク
フイルムにはカーボンブラツクなどの光吸収性物
質が練り込まれていてもよく、あるいは二酸化チ
タンなどの光反射性物質が練り込まれていてもよ
い。前者は高鮮鋭度タイプの放射線増感用スクリ
ーンに適した支持体であり、後者は高感度タイプ
の放射線増感用スクリーンに適した支持体であ
る。 公知の放射線増感スクリーンにおいて、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線増感スクリーンとしての感度もしくは画質を向
上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持
体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接
着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなど
の光反射性物質からなる光反射層、もしくはカー
ボンブラツクなどの光吸収性物質からなる光吸収
層を設けることも行なわれている。また物質の非
破壊検査を目的とする工業用放射線撮影に用いる
放射線増感スクリーンにおいては、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面に、散乱放射線の除去な
どを目的として、鉛箔、鉛合金箔、錫箔などの金
属箔を設けることも行なわれている。本発明にお
いて用いられる支持体についても、これらの各種
の層を設けることができる。 さらに、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目
的で、支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光
体層側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収
層、あるいは金属箔などが設けられている場合に
は、その表面を意味する）に、凹凸を形成するこ
とができ、それらの構成は所望の放射線増感スク
リーンの目的、用途などに応じて任意に選択する
ことができる。 上記のようにして支持体上に形成された蛍光体
含有樹脂層の空隙率は、次の（Ｉ）式により理論
的に求めることができる。 Vair／Ｖ＝（ａ＋ｂ）ρxρyV−Ａ（aρy＋bρx）／
Ｖ［（ａ＋ｂ）ρxρy−aρyρair−bρxρair］……（
Ｉ） （ただし、 Ｖ：蛍光体層の全体積 Vair：蛍光体層中の空気体積 Ａ：蛍光体の全重量 ρx：蛍光体の密度 ρy：結合剤の密度 ρair：空気の密度 ａ：蛍光体の重量 ｂ：結合剤の重量） さらに（Ｉ）式において、ρairは〜０であるか
ら（Ｉ）式は近似的に次の（）式で表わすこと
ができる。 Vair／Ｖ＝（ａ＋ｂ）ρxρyV−Ａ（aρy＋bρx）／
Ｖ［（ａ＋ｂ）ρxρy］……（） （ただし、Ｖ，Vair，Ａ，ρx，ρy，ａ、およ
びｂの定義は（Ｉ）式と同じである） 本発明において、蛍光体含有樹脂層の空隙率は
（）式により計算して求めた。 一例として、テルビウム賦活酸硫化ガドリニウ
ム蛍光体および結合剤として線状ポリエステルと
ニトロセルロースとの混合物とならなる蛍光体含
有樹脂層の支持体上への形成は、上記に述べた通
常の常圧下での塗布方法により、そして具体的に
は例えば次のようにして行なわれる。 線状ポリエステルとニトロセルロースとの混合
物とテルビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光体
（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子とを組成比１：20（重量
比）となるようにメチルエチルケトン中でプロペ
ラミキサーを用いて充分に混合し、粘度が30PS
（25℃）の塗布液を調製する。この塗布液をドク
ターブレードを用いてポリエチレンテレフタレー
ト（支持体）上に均一に塗布したのち、乾燥器内
に入れ、器内の温度を20℃から100℃に徐々に上
昇させて塗膜の乾燥を行なうことにより、支持体
上に蛍光体含有樹脂層を形成する。 このようにして形成された結合剤と蛍光体との
組成比１：20の蛍光体含有樹脂層の空隙率は25.8
％であつた。また、結合剤および、蛍光体の使用
量を変えること以外は上記と同様にして形成され
た結合剤と蛍光体との組成比が１：10の蛍光体含
有樹脂層の空隙率は、10.7％であつた。 上記の蛍光体含有樹脂層は、通常の常圧下での
塗布方法により形成される蛍光体層の代表的な一
例であり、用いる結合剤、蛍光体粒子、溶剤の種
類を変えても、得られる蛍光体層の空隙率は大き
く変化することはない。また、（）式の空隙率
の計算において、塗布液に添加される添加剤は微
量であるため無視することができる。さらに、蛍
光体層の空隙率は通常実施されている塗布操作の
範囲内であれば、塗布条件の変化にもあまり影響
を受けない。 従つて、蛍光体含有樹脂層の空隙率を変化させ
る最大の因子は、前記（）式からも明らかなよ
うに結合剤と蛍光体との組成比［（）式の定義
からｂ：ａ、重量比］である。蛍光体含有樹脂層
において結合剤に対する蛍光体粒子の比率が増大
するほど、結合剤中に分散する蛍光体粒子間の平
均距離は短くなりその間に空隙が生じやすくな
る。従つて、蛍光体含有樹脂層の空隙率は蛍光体
の量が増えるにつれて増加する蛍光にある。 本発明により製造される放射線増感スクリーン
の製造においては、次に、蛍光体層中に混入して
いる空気の一部を除去などして空隙を減少させ
る。この空隙の減少は、たとえば、蛍光体層を圧
縮処理することにより行なわれる。 蛍光体層の圧縮処理は、50℃〜蛍光体層の融点
付近の範囲の温度で加熱しながら行なわれる。圧
縮時間は、30秒〜５分の範囲にあることが好まし
い。好ましい温度は、使用する結合剤などにより
異なるが、50〜120℃である。 本発明の圧縮処理のために使用される圧縮装置
の例としては、カレンダーロール、ホツトプレス
など一般に知られているものを挙げることができ
る。たとえば、カレンダーロールによる圧縮処理
は、支持体と蛍光体層からなるシートを、一定の
温度に加熱したローラーの間を一定の速度で通過
させることにより行なわれる。ホツトプレスによ
る圧縮処理は、一定の温度に加熱した二枚の金属
板の間に上記シートを固定した後、両側から一定
時間、一定の圧力をかけることにより行なわれ
る。ただし、本発明に用いられる圧縮装置は、こ
れらのものに限られるものではなく、上記のよう
なシートを加熱しながら圧縮することのできるも
のであればいかなるものであつてもよい。 なお、たとえば、仮支持体上に形成した蛍光体
含有樹脂薄膜を圧縮処理する場合には、その薄膜
を放射線増感スクリーンの支持体上に付設する前
に行なうことも可能である。その場合には、蛍光
体含有樹脂薄膜単独、あるいは蛍光体含有樹脂薄
膜と仮支持体との複合シートなどの形態にて圧縮
処理し、次に、圧縮処理した蛍光体含有樹脂薄膜
を放射線増感スクリーンの支持体上に付設する。 なお、通常の放射線増感スクリーンにおいて
は、支持体に接する側とは反対側の蛍光体層の表
面に、蛍光体層を物理的および化学的に保護する
ための透明な保護膜が設けられている。このよう
な透明保護膜は、本発明により製造される放射線
増感スクリーンについても設置することが好まし
い。 透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミド
などから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層の表
面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よつても形成することができる。このようにして
形成する透明保護膜の膜厚は、約３乃至20μmと
するのが望ましい。 なお、透明保護膜は、得られる放射線増感スク
リーンの粒状性を向上させる目的で着色剤によつ
て着色されていてもよい。 以上記載した方法によつて代表される方法によ
り製造される放射線増感スクリーンの蛍光体含有
樹脂層（結合剤と蛍光体との組成比は１：１〜
１：25の範囲、ただし１：25は含まない）の空隙
率は、通常の常圧下での塗布方法により形成され
る当該組成比の蛍光体含有樹脂層の空隙率の85％
以下とされ、また、そのようにして得た蛍光体含
有樹脂層の空隙率（絶対値）は一般に28％を越え
ることはない。 上記のように放射線増感スクリーンにおける蛍
光体含有樹脂層の空隙率を減少させることにより
蛍光体層における蛍光体の密度は高くなり、従つ
て蛍光体使用量が一定である場合蛍光体層は薄く
なり、得られる画像の鮮鋭度が著しく向上する。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 ［実施例 １］ 線状ポリエステル樹脂と硝化度11.5％のニトロ
セルロースとの混合物（結合剤）と放射線増感用
のテレビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光体
（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子とを１：20の重量組成比
で混合し、メチルエチルケトンを添加した後プロ
ペラミキサーを用いて充分に攪拌混合して、蛍光
体粒子が均一に分散し、かつ粘度が30PS（25℃）
の塗布液を調製した。次に、二酸化チタンを練り
込んだポリエチレンテレフタレートシート（支持
体、厚み：250μm）をガラス板上に水平に置き、
この支持体の上に塗布液をドクターブレードを用
いて均一に塗布した。そして塗布後に、塗膜が形
成された支持体を乾燥器内に入れ、この乾燥器の
内部の温度を250℃から100℃に徐々に上昇させ
て、塗膜の乾燥を行なつた。このようにして、支
持体とこの支持体上に設けられた層厚が約120μm
の蛍光層とからなるシートを得た。 次いで、支持体とこの支持体の片面に形成され
た蛍光体層とからなるシートを、カレンダーロー
ルを用いて620Kg／cm2の圧力、および100℃の温度
で圧縮した。 そして、圧縮処理をした蛍光体層の上にポリエ
チレンテレフタレートの透明フイルム（厚み：
12μm、ポリエステル系接着剤が付与されている
もの）を接着剤層側を下に向けて置いて接着する
ことにより、透明保護膜を形成し、支持体、蛍光
体層、および透明保護膜から構成された放射線増
感スクリーンを製造した。 ［実施例 ２］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ３］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ４］ 実施例１で構製造れた支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、620Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ５］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ６］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例１の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［比較例 １］ 実施例１で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを圧縮しないこと以外は、実施例１の方法と
同様な処理を行なうことにより、支持体、蛍光体
層、および透明保護膜から構成された放射線増感
スクリーンを製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーンの蛍光体層の体積および重量の測定値
と、使用した蛍光体の密度（7.5g／cm3）および結
合剤の密度（1.258g／cm3）とから、（）式によ
り蛍光体含有樹脂層の空隙率をそれぞれ計算して
求めた。 各々の蛍光体含有樹脂層について得られた結果
を第１表に示す。
【表】
また、上記のようにして製造した実施例１およ
び比較例１の放射線増感スクリーンを、次に記載
する画像鮮鋭度試験により評価した。すなわち、
放射線増感スクリーンとＸ線写真フイルムとをカ
セツテ内で圧着し、解像力チヤートを介してＸ線
写真撮影を行ない、できあがつたＸ線写真の変調
伝達関数（MTF）を測定した。 得られた結果をまとめて図面にグラフの形で示
す。 図面は、 Ａ： 実施例１の放射線増感スクリーンにおける
空間周波数とMTF値との関係、および、 Ｂ： 比較例１の放射線増感スクリーンにおける
空間周波数とMTF値との関係、 をそれぞれ表わしている。 また、各々の放射線増感スクリーンについて、
得られた結果（空間周波数２サイクル／mmにおけ
るMTF値）を第２表に示す。 第２表 鮮鋭度 実施例１ 0.34 比較例１ 0.30 ［実施例 ７］ 線状ポリエステル樹脂と硝化度11.5％のニトロ
セルロースとの混合物（結合剤）と放射線増感用
のテレビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光体
（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子とを１：10の重量組成比
で混合すること以外は、実施例１の方法と同様な
処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。 ［実施例 ８］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ９］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 10］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、620Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 11］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 12］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［比較例 ２］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを圧縮しないこと以外は、実施例７の方法と
同様な処理を行なうことにより、支持体、蛍光体
層、および透明保護膜から構成された放射線増感
スクリーンを製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーンの蛍光体含有樹脂層の空隙率を、前記と
同様の方法によりそれぞれ計算して求めた。 各々の蛍光体含有樹脂層について得られた結果
を第３表に示す。
び比較例１の放射線増感スクリーンを、次に記載
する画像鮮鋭度試験により評価した。すなわち、
放射線増感スクリーンとＸ線写真フイルムとをカ
セツテ内で圧着し、解像力チヤートを介してＸ線
写真撮影を行ない、できあがつたＸ線写真の変調
伝達関数（MTF）を測定した。 得られた結果をまとめて図面にグラフの形で示
す。 図面は、 Ａ： 実施例１の放射線増感スクリーンにおける
空間周波数とMTF値との関係、および、 Ｂ： 比較例１の放射線増感スクリーンにおける
空間周波数とMTF値との関係、 をそれぞれ表わしている。 また、各々の放射線増感スクリーンについて、
得られた結果（空間周波数２サイクル／mmにおけ
るMTF値）を第２表に示す。 第２表 鮮鋭度 実施例１ 0.34 比較例１ 0.30 ［実施例 ７］ 線状ポリエステル樹脂と硝化度11.5％のニトロ
セルロースとの混合物（結合剤）と放射線増感用
のテレビウム賦活酸硫化ガドリニウム蛍光体
（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子とを１：10の重量組成比
で混合すること以外は、実施例１の方法と同様な
処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。 ［実施例 ８］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 ９］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および100℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 10］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、620Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 11］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、520Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［実施例 12］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを、420Kg／cm2の圧力および80℃の温度で圧
縮すること以外は、実施例７の方法と同様な処理
を行なうことにより、支持体、蛍光体層、および
透明保護膜から構成された放射線増感スクリーン
を製造した。 ［比較例 ２］ 実施例７で製造された支持体とこの支持体上に
設けられた蛍光体層とからなるシートと同一のシ
ートを圧縮しないこと以外は、実施例７の方法と
同様な処理を行なうことにより、支持体、蛍光体
層、および透明保護膜から構成された放射線増感
スクリーンを製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーンの蛍光体含有樹脂層の空隙率を、前記と
同様の方法によりそれぞれ計算して求めた。 各々の蛍光体含有樹脂層について得られた結果
を第３表に示す。
【表】
【表】
また、上記のようにして製造した実施例７およ
び比較例２の放射線増感スクリーンを、前記の画
像鮮鋭度試験により評価した。 各々の放射線増感スクリーンについて、得られ
た結果（空間周波数２サイクル／mmにおける
MTF値）を第４表に示す。 第４表 鮮鋭度 実施例７ 0.30 比較例２ 0.25
び比較例２の放射線増感スクリーンを、前記の画
像鮮鋭度試験により評価した。 各々の放射線増感スクリーンについて、得られ
た結果（空間周波数２サイクル／mmにおける
MTF値）を第４表に示す。 第４表 鮮鋭度 実施例７ 0.30 比較例２ 0.25
図面は、実施例１および比較例１で製造された
放射線増感スクリーンを用いて得られたＸ線写真
の変調伝達関数（MTF）のグラフである。 図面において、Ａは、実施例１の放射線増感ス
クリーン（本発明により製造された放射線増感ス
クリーン）における空間周波数とMTF値との関
係、および、Ｂは、比較例１の放射線増感スクリ
ーン（通常の塗布方法により製造された放射線増
感スクリーン）における空間周波数とMTF値と
の関係、をそれぞれ表わしている。
放射線増感スクリーンを用いて得られたＸ線写真
の変調伝達関数（MTF）のグラフである。 図面において、Ａは、実施例１の放射線増感ス
クリーン（本発明により製造された放射線増感ス
クリーン）における空間周波数とMTF値との関
係、および、Ｂは、比較例１の放射線増感スクリ
ーン（通常の塗布方法により製造された放射線増
感スクリーン）における空間周波数とMTF値と
の関係、をそれぞれ表わしている。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体と、この支持体上に設けられた常圧下
での塗布により形成された結合剤と蛍光体との組
成比が１：１〜１：25（重量比、ただし１：25は
含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層とから実質
的に構成されているシートを300〜700Kg／cm2の圧
力、そして50℃以上、結合剤の融点以下の温度に
て圧縮処理し、該蛍光体含有樹脂層の空隙率を圧
縮処理以前の空隙率の85％以下とすることを特徴
とする放射線増感スクリーンの製造法。 ２ 上記圧縮処理を、カレンダーロールを用いて
行なう特許請求の範囲第１項記載の放射線増感ス
クリーンの製造法。 ３ 上記圧縮処理を、ホツトプレスを用いて行な
う特許請求の範囲第１項記載の放射線増感スクリ
ーンの製造法。 ４ 上記輝尽性蛍光体が、テレビウム賦活酸硫化
ガドリニウム蛍光体である特許請求の範囲第１項
記載の放射線増感スクリーンの製造法。 ５ 上記結合剤が、線状ポリエステルとニトロセ
ルロースとの混合物である特許請求の範囲第１項
記載の放射線増感スクリーンの製造法。 ６ 常圧下での塗布により形成された結合剤と蛍
光体との組成比が１：１〜１：25（重量比、ただ
し１：25は含まない）の範囲の蛍光体含有樹脂層
を、300〜700Kg／cm2の圧力、そして50℃以上、結
合剤の融点以下の温度にて圧縮処理し、該蛍光体
含有樹脂層の空隙率を圧縮処理以前の空隙率の85
％以下としたのち、該蛍光体含有樹脂層を支持体
上に付設することを特徴とする放射線増感スクリ
ーンの製造法。 ７ 上記圧縮処理を、カレンダーロールを用いて
行なう特許請求の範囲第６項記載の放射線増感ス
クリーンの製造法。 ８ 上記圧縮処理をホツトプレスを用いて行なう
特許請求の範囲第６項記載の放射線増感スクリー
ンの製造法。 ９ 上記輝尽性蛍光体が、テレビウム賦活酸硫化
ガドリニウム系蛍光体である特許請求の範囲第６
項記載の放射線増感スクリーンの製造法。 １０ 上記結合剤が、線状ポリエステルとニトロ
セルロースとの混合物である特許請求の範囲第６
項記載の放射線増感スクリーンの製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14906982A JPS5938699A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 放射線増感スクリーンの製造法 |
| DE8383108541T DE3380915D1 (de) | 1982-08-30 | 1983-08-30 | Radiographischer verstaerkungsschirm und verfahren zur herstellung desselben. |
| EP83108541A EP0102085B1 (en) | 1982-08-30 | 1983-08-30 | Radiographic intensifying screen and process for the preparation of the same |
| US07/233,608 US4952813A (en) | 1982-08-30 | 1988-06-13 | Radiographic intensifying screen and process for the preparation of the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14906982A JPS5938699A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 放射線増感スクリーンの製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3028104A Division JPH0690317B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 放射線増感スクリーン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5938699A JPS5938699A (ja) | 1984-03-02 |
| JPH0444713B2 true JPH0444713B2 (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=15467000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14906982A Granted JPS5938699A (ja) | 1982-08-30 | 1982-08-30 | 放射線増感スクリーンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5938699A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2549919B2 (ja) * | 1989-06-19 | 1996-10-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線増感スクリーン |
| JP2549921B2 (ja) * | 1989-06-19 | 1996-10-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線増感スクリーンの製造法 |
| JP2549920B2 (ja) * | 1989-06-19 | 1996-10-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線増感スクリーンの製造法 |
| JPH0690317B2 (ja) * | 1991-01-28 | 1994-11-14 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線増感スクリーン |
-
1982
- 1982-08-30 JP JP14906982A patent/JPS5938699A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5938699A (ja) | 1984-03-02 |
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