JPH0444712B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
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- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/16—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes
- G03C5/17—X-ray, infrared, or ultraviolet ray processes using screens to intensify X-ray images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Description
本発明は放射線増感スクリーンおよびその製造
法に関するものである。さらに詳しくは、支持体
と、この支持体上に設けられた放射線増感用蛍光
体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる
放射線増感用蛍光体層とから実質的に構成されて
いる放射線増感スクリーン、およびその製造法に
関するものである。 放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊
検査を目的とする工業用放射線撮影などの種々の
分野における放射線撮影において、撮影系の感度
を向上させるために、放射線感応性写真フイルム
の片面あるいは両面に密着させるように重ね合わ
せて使用するものである。この放射線増感スクリ
ーンは、基本構造として、支持体と、その片面に
設けられた放射線増感用蛍光体層とからなるもの
である。なお、この放射線増感用蛍光体層の支持
体とは反対側の表面（支持体に面していない側の
表面）には一般に、透明な保護膜が設けられてい
て、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝
撃から保護している。 放射線増感用蛍光体層は、放射線増感用蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなるも
のであり、この蛍光体粒子は、Ｘ線等の放射線に
よつて励起された時に高輝度の発光を示す性質を
有するものである。従つて、被写体を通過した放
射線の量に応じて蛍光体は高輝度の発光を示し、
放射線増感スクリーンの放射線増感用蛍光体層の
表面に接するようにして重ね合わされて置かれた
放射線感応性写真フイルムは、この蛍光体の発光
によつても感光するため、比較的少ない放射線量
で写真フイルムの充分な感光を達成することがで
きる。 上記のような基本構造を有する放射線増感スク
リーンについては、感度が高いこと、および画質
（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるもの
であることが望まれる。従つて、従来より放射線
増感スクリーンの感度あるいは画質を向上させる
ための各種の改良がなされている。 このうち、放射線増感スクリーンの鮮鋭度を向
上させる技術としては、たとえば、米国特許第
4207125号に記載された発明、および、該特許の
原出願の分割出願について特許された米国特許第
4263061号に記載された発明がある。 前者の特許は、アルミニウムシート支持体の表
面を水蒸気で処理してその表面にベーマイトの微
小な細長い突起を多数形成させるような方法によ
り支持体の表面に微小な細長い突起を形成した支
持体を放射線増感スクリーンの支持体として用
い、この微小な細長い突起の存在により、放射線
増感スクリーンの鮮鋭度を向上させた発明を開示
するものである。 後者の特許は、アルミニウムシート支持体の表
面を水蒸気で処理してその表面にベーマイトの微
小な細長い突起を多数形成させ、その後、結合剤
中に放射線増感用蛍光体粒子を分散してなる塗布
液を該支持体に塗布し乾燥することによつて蛍光
体層を形成することからなる高鮮鋭度放射線増感
スクリーンの製造方法を開示するものである。 また、放射線増感スクリーンはその使用時にお
いて、曲げ等の機械的刺激が与えられた場合で
も、支持体と放射線増感用蛍光体層が簡単に分離
することがないように充分な機械的強度を持つ必
要がある。さらに、放射線増感スクリーン自体は
放射線による照射によつても殆ど変質することが
ないため、長期間にわたつて繰り返し使用される
が、そのような繰り返しの使用に耐えるために
は、写真フイルムを交換する操作などの際に与え
られる機械的衝撃によつて支持体と放射線増感用
蛍光体層とが分離するような障害が発生しないこ
とが必要である。 本発明は、鮮鋭度の向上した画像を与える放射
線増感スクリーンおよびその製造法を提供するこ
とをその目的とするものである。 さらに、本発明は、機械的強度、特に放射線増
感用蛍光体層の支持体に対する密着強度の向上し
た放射線増感スクリーンおよびその製造法を提供
することもその目的とするものである。 本発明は、支持体と、この支持体上に設けられ
た放射線増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持
する結合剤からなる放射線増感用蛍光体層とから
実質的に構成されている放射線増感スクリーンに
おいて、支持体の蛍光体層側の表面に、平均深さ
が１ミクロン以上、かつ５ミクロン以下、そして
開口部の口径の平均が10ミクロン以上、かつ100
ミクロン以下の多数の凹みが密に形成されて粗面
化されていることを特徴とする放射線増感スクリ
ーンにある。 上記の支持体の粗面化処理は、たとえば、支持
体の表面に高硬度の固体粉末を高速度で吹き付け
ることによつて実施することができる。そして、
粗面化された支持体は、その粗面化表面に、放射
線増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結
合剤からなる放射線増感用蛍光体層を設けること
により、特性の優れた放射線増感スクリーンを製
造することができる。 次に本発明を詳しく説明する。 本発明は、放射線増感スクリーンの支持体の表
面のうち、放射線増感用蛍光体層が設けられる側
の表面に特定の大きさを有する多数の凹みを設け
ることにより、放射線増感スクリーンに対して、
放射線感応性写真フイルムに形成される画像の鮮
鋭度の顕著な向上に寄与する機能を付与するとと
もに、支持体と放射線増感用蛍光体層との強固な
結合を実現するものである。 すなわち、被写体を透過したＸ線などの放射線
の放射線増感スクリーンの放射線増感用蛍光体層
（以下、単に蛍光体層と略す）に入射すると、蛍
光体層に含有支持されている蛍光体粒子は、その
放射線のエネルギーを吸収して励起状態になり、
その放射線とは異なる波長を有する可視領域もし
くは近紫外領域の光を瞬時に発する。この発光に
は特に方向性はなく、全方向に向けてなされる
が、その一部は写真フイルムに直接入射して画像
形成に寄与する。またそれと同時に、発光の一部
は、蛍光体層と支持体との境界面にて反射された
のちに、反射光として写真フイルムに入射して画
像形成に寄与する。ここで、蛍光体層と支持体と
の境界面が凹凸のない平面からなる場合には、そ
の反射は鏡面反射となり、反射光は写真フイルム
に直接入射する光よりも大きな角度で写真フイル
ムに入射するのでボケ、すなわち不鮮明な画像生
成の原因となり、写真フイルムに形成される画像
の鮮鋭度を著しく低下させることになる。 本発明者の検討によれば、このような反射光に
よる放射線感応性写真フイルムの画像の鮮鋭度の
低下は、蛍光体層に接する支持体の表面（境界
面）に、特定の範囲に含まれる大きさ、すなわ
ち、平均深さが１ミクロン以上、かつ５ミクロン
以下、そして開口部の口径の平均が10ミクロン以
上、かつ100ミクロン以下の凹みを多数形成する
ことにより顕著に防ぐことが可能であることがわ
かつた。 そしてさらに、支持体の表面（境界面）に上記
の特定の範囲の大きさからなる凹みを多数形成す
ることにより支持体と蛍光体層との結合は非常に
強固になり、そのような支持体を用いて製造した
放射線増感スクリーンは高い蛍光体層／支持体密
着強度を示し、通常の取扱いにおいては、放射線
増感スクリーンの蛍光体層と支持体との分離の危
険性は全くなくなることもわかつた。 以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線増感用スクリーンは、たとえば、次に述
べるような方法により製造することができる。 本発明において使用する支持体は、放射線増感
スクリーンの製造のための材料として知られてい
る各種の材料から任意に選ぶことができる。その
ような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、
ポリカーボネートなどのプラスチツク物質のフイ
ルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔など
の金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグ
メント紙、ポリビニルアルコールなどをサイジン
グした紙などを挙げることができる。すなわち、
本発明で規定した表面構造を形成することが可能
である限り、支持体の材料に特に限定はない。た
だし、本発明で規定した表面構造の形成、および
その他、放射線増感スクリーンとしての特性を考
慮した場合、本発明において特に好ましい支持体
の材料はプラスチツクフイルムである。このプラ
スチツクフイルムにはカーボンブラツクなどの光
吸収性物質が練り込まれていてもよく、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質が練り込まれて
いてもよい。前者は高鮮鋭度タイプの放射線増感
用スクリーンに適した支持体であり、後者は高感
度タイプの放射線増感用スクリーンに適した支持
体である。 公知の放射線増感スクリーンにおいて、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線増感スクリーンとしても感度もしくは画質を向
上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持
体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接
着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなど
の光反射性物質からなる光反射層、もしくはカー
ボンブラツクなどの光吸収性物質からなる光吸収
層を設けることも行なわれている。また物質の非
破壊検査を目的とする工業用放射線撮影に用いる
放射線増感スクリーンにおいては、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面に、散乱放射線の除去な
どを目的として、鉛箔、鉛合金箔、錫箔などの金
属箔を設けることも行なわれている。本発明にお
いて用いられる支持体についても、これらの各種
の層を設けることができ、それらの構成は所望の
放射線増感スクリーンの目的、用途などに応じて
任意に選択することができる。 本発明における特徴的な要件である支持体表面
の形態は、任意の方法により形成することができ
る。ただし、実用的に有利な方法としては、支持
体の表面に高硬度の固体粉末を高速度で吹き付け
ることにより支持体表面を前記の特徴的な形態と
する方法を挙げることができる。この方法は、一
般にサンドブラスト法と呼ばれる方法であり、た
とえば硅砂などのような硬質の固体粉末を支持体
の蛍光体層が設けられる側の表面（支持体のその
側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収層、
あるいは金属箔などが設けられている場合には、
その表面）に高速度で吹き付けることにより、支
持体表面を本発明で規定したような大きさを持つ
粗面とすることが容易に実現する。 本発明の放射線増感スクリーンの支持体は、前
述のように、支持体の蛍光体層側の表面に、平均
深さが１ミクロン以上、かつ５ミクロン以下、そ
して開口部の口径の平均が10ミクロン以上、かつ
100ミクロン以下の多数の凹みが設けられている
ことを特徴とするものである。支持体の蛍光体層
側の表面（支持体の蛍光体層側の表面に接着性付
与層、光反射層、光吸収層、あるいは金属箔など
が設けられている場合には、その表面を意味す
る）に、上記のような特定の範囲に含まれる大き
さからなる凹みを多数設けることにより、蛍光体
粒子から発せられた光のうち支持体の表面（支持
体表面と蛍光体層との境界面）に向つた光は、そ
の表面で乱反射し、その結果その大部分は蛍光体
層中で吸収されて写真フイルムの感光層に入射し
なくなる。このため、ボケがなくなり、写真フイ
ルムに形成される画像の鮮鋭度が顕著に向上す
る。 また、支持体の表面（境界面）に上記の特定の
範囲の大きさからなる凹みを多数形成することに
より支持体と蛍光体層との結合は非常に強固にな
る。従つて、そのような支持体を用いて製造した
放射線増感スクリーンは高い蛍光体層／支持体密
着強度を示し、通常の取扱いにおいては蛍光体層
と支持体との分離が起こることは全くない。 これに対して、支持体に設けられる多数の凹み
が、本発明で規定した範囲より小さい場合には、
本発明の放射線増感用スクリーンにより達成され
る顕著な鮮鋭度向上効果を得ることはできない。
この理由は、支持体に設けられた凹みが全体的に
小さなものとなつた場合、蛍光体粒子から発せら
れて支持体の表面に向つた光は、なおもその大部
分が支持体表面で鏡面反射するためであると推定
される。 また、支持体に設けられる多数の凹みが、本発
明で規定した範囲より小さい場合には、本発明の
放射線増感用スクリーンにより達成される顕著な
蛍光体層／支持体密着強度の向上効果を得ること
もできない。 一方、支持体に設けられる多数の凹みが、本発
明で規定した範囲よりも大きい場合には、蛍光体
層の形成が困難になつたり、あるいは蛍光体層の
層厚の不均一さが顕著となり、得られる放射線増
感用スクリーンに好ましくない影響を与えるよう
になる。従つて、そのような放射線増感用スクリ
ーンは実用上好ましくない。 なお、本発明の放射線増感スクリーンの支持体
の蛍光体層の表面に設けられる多数の凹みの最大
深さは、１ミクロンより大きく、かつ50ミクロン
以下であることが好ましく、さらに、２ミクロン
以上かつ20ミクロン以下であることが特に好まし
い。そして、それらの開口部の口径の平均は10ミ
クロン以上かつ50ミクロン以下であることが特に
好ましい。これらの好ましい範囲内にある多数の
凹みが設けられた支持体を用いて製造した放射線
増感スクリーンは、特に優れた鮮鋭度向上効果お
よび蛍光体層／支持体密着強度向上効果を示す。 上記にて規定したような特定の大きさの範囲に
ある多数の凹みが設けられた支持体の表面には次
に、放射線増感用蛍光体層を形成する。放射線増
感用蛍光体層は、基本的には放射線増感用蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる層
である。 放射線増感用蛍光体粒子はすでに各種のものが
知られている。本発明において使用するのが好ま
しい放射線増感用蛍光体粒子の例としては、次の
ような物質からなる粒子を挙げることができる。
タングステン酸塩系蛍光体（CaWO4，MgWO4，
CaWO4：Pb等）、テルビウム賦活希土類酸硫化
物系蛍光体［Y2O2Ｓ：Tb，Gd2O2Ｓ：Tb，La2
O2Ｓ：Tb，（Ｙ，Gd）2O2Ｓ：Tb、（Ｙ，Gd）2O2
Ｓ：Tb，Tm等］、テルビウム賦活希土類燐酸塩
系蛍光体（YPO4：Tb，GdPO4：Tb，LaPO4：
Tb等）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化
物系蛍光体（LaOBr：Tb，LaOBr：Tb，Tm、
LaOC：Tb、LaOC：Tb，Tm、GdOBr：
Tb、GdOCl：Tb等）、ツリウム賦活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体（LaOBr：Tm、
LaOCl：Tm等）、硫酸バリウム系蛍光体
［BaSO4：Pb、BaSO4：Eu2+、（Ba，Sr）SO4：
Eu2+等］、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類
金属燐酸塩系蛍光体［Ba3（PO4）2：Eu2+、（Ba，
Sr）3（PO4）2：Eu2+等］、２価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体
［BaFC：Eu2+、BaFBr：Eu2+、BaFC：
Eu2+，Tb、BaFBr：Eu2+，Tb、BaF2・BaC
２・KC：Eu2+、BaF2・BaC2・xBaSO4・KC
：Eu2+、（Ba，Mg）F2・BaC2・KC：
Eu2+等］、沃化物系蛍光体（CsI：Na，CsI：Ｔ
、NaI、KI：Ｔ等）、硫化物系蛍光体
［ZnS：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：
Cu、（Zn，Cd）Ｓ：Cu、Ａ等］、燐酸ハフニウ
ム系蛍光体（HfP2O7：Cu等）。ただし、本発明
に用いる放射線増感用蛍光体粒子は、これらのも
のに限られるものではなく、放射線の照射により
可視領域あるいは近紫外領域の発光を示す蛍光体
の粒子であればいかなるものであつてもよい。 また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、メチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチ
ルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルポリ
マー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチ
レート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステ
ルなどような合成高分子物質などにより代表され
る結合剤を挙げることができる。このような結合
剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロー
ス、線状ポリエステル、およびニトロセルロース
と線状ポリエステルとの混合物である。 蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。 まず上記の放射線増感用蛍光体粒子と結合剤と
を適当な溶剤に加え、これを充分に混合して、結
合剤溶液中に放射線増感用蛍光体粒子が均一に分
散した塗布液を調製する。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、Ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒
子との混合比は、目的とする放射線増感スクリー
ンの特性、蛍光体粒子の種類などによつて異なる
が、一般には結合剤と蛍光体粒子との混合比は、
１：１ないし１：100（重量比）の範囲から選ば
れ、そして特に１：８ないし１：40（重量比）の
範囲から選ぶことが好ましい。 なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
粒子の分散性を向上させるための分散剤、また、
形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体粒子
との間の結合力を向上させるための可塑剤などの
種々の添加剤が混合されていてもよい。そのよう
な目的に用いられる分散剤の例としては、フタル
酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性
剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例
としては、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジ
ル、燐酸ジフエニルなどの燐酸エステル；フタル
酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフ
タル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエ
チル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなどの
グリコール酸エステル；そして、トリエチレング
リコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチ
レングリコールとコハク酸とのポリエステルなど
のポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸との
ポリエステルなどを挙げることができる。 上記のようにして調製された蛍光体粒子と結合
剤を含有する塗布液を、次に、前述のような特定
の大きさからなる多数の凹みを有する支持体の表
面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を形
成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たと
えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイ
フコーターなどを用いることにより行なうことが
できる。 ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への放射線増感用蛍光
体層の形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的
とする放射線増感スクリーンの特性、蛍光体粒子
の種類、結合剤と蛍光体粒子との混合比などによ
つて異なるが、通常は20ミクロンないし１mmとす
る。ただし、この層厚は、50ないし500ミクロン
とするのが好ましい。 なお、放射線増感用蛍光体層は、必ずしも上記
のように支持体上に塗布液を直接塗布して形成す
る必要はなく、たとえば、別に、ガラス板、金属
板、プラスチツクシートなどのシート上に塗布液
を塗布し乾燥することにより蛍光体層を形成した
のち、これを、支持体上に押圧するか、あるいは
接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層とを接
合してもよい。 通常の放射線増感スクリーンにおいては、支持
体に接する側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍
光体層を物理的および化学的に保護するための透
明な保護膜が設けられている。このような透明保
護膜は、本発明の放射線増感スクリーンについて
も設置することが好ましい。 透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミド
などから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層の表
面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よつても形成することができる。このようにして
形成する透明保護膜の膜厚は、約３ないし20ミク
ロンとするのが望ましい。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 ［実施例 １］ 二酸化チタンを練り込んだポリエチレンテレフ
タレートシート（支持体、厚み：250ミクロン）
の片面に、1900回転／分で回転しているドラムか
ら約50重量％以上が100〜150メツシユの粉末から
なる硅砂を遠心力を利用して吹き付ける操作から
なるサンドブラスト処理を行ない、その片面を粗
面化した。この支持体の粗面化された表面には、
平均深さが２ミクロン、最大深さが７ミクロン、
そして開口部の口径の平均が20ミクロンの多数の
凹みが形成されていた。 別に、放射線増感用のテルビウム賦活ガドリニ
ウム酸硫化物蛍光体（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子と
線状ポリエステル樹脂との混合物にメチルエチル
ケトンを添加し、さらに硝化度11.5％のニトロセ
ルロースを添加して蛍光体粒子を分散状態で含有
する分散液を調製した。次に、この分散液に燐酸
トリクレジル、ｎ−ブタノール、そしてメチルエ
チルケトンを添加したのち、プロペラミキサーを
用いて充分に攪拌混合して、蛍光体粒子が均一に
分散し、かつ粘度が25〜35PS（25℃）の塗布液を
調製した。 次いで、先に粗面とした側の表面を上にしてガ
ラス板上に水平に置いた支持体の上に塗布液をド
クターブレードを用いて均一に塗布した。そして
塗布後に、塗膜が形成された支持体を乾燥器内に
入れ、この乾燥器の内部の温度を25℃から100℃
に徐々に上昇させて、塗膜の乾燥を行なつた。こ
のようにして、支持体上の層厚が約180ミクロン
の蛍光体層を形成した。 そして、この蛍光体層の上にポリエチレンテレ
フタレートの透明フイルム（厚み：12ミクロン、
ポリエステル系接着剤が付与されているもの）を
接着剤層側を下に向けて置いて接着することによ
り、透明保護膜を形成し、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。 ［比較例 １］ 支持体として二酸化チタン練り込みポリエチレ
ンテレフタレートシートに粗面化処理を施さなか
つたものを用い、実施例１の方法と同様な処理を
行なうことにより、支持体、蛍光体層、および透
明保護膜から構成された放射線増感スクリーンを
製造した。 ［比較例 ２］ 実施例１で用いた支持体と同一の二酸化チタン
練り込みポリエチレンテレフタレートシートの片
面に、約50重量％以上が約300メツシユの粉末か
らなる硅砂を吹き付け、その片面を粗面化した。
この支持体の粗面化された表面には、平均深さが
0.2ミクロン、最大深さが0.8ミクロン、そして開
口部の口径の平均が0.5ミクロンの多数の凹みが
形成されていた。 次いで、この支持体について実施例１と同様な
処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーンを、次に記載する画像鮮鋭度試験、およ
び蛍光体層の支持体に対する密着強度試験により
評価した。 (1) 画像鮮鋭度試験 放射線増感スクリーンとＸ線写真フイルムとを
カセツテ内で圧着し、解像力チヤートを介してＸ
線写真撮影を行ない、できあがつたＸ線写真の変
調伝達関数（MTF）を測定し、これを空間周波
数２サイクル／mmの値で表示した。また、併せて
相対感度も表示した。 (2) 蛍光体層の支持体に対する密着強度試験 放射線増感スクリーンを幅１cm、長さ６cmに切
断して調製した試験片の蛍光体層側の表面にポリ
エステル粘着テープを貼り付けた。このポリエス
テル粘着テープ上から試験片にナイフを用いて蛍
光体層と支持体との境界面にまで届く切り込みを
試験片の長手方向に沿つて細長いコの字形にいれ
た。そして、このように調製した試験片の支持体
部分と、ポリエステル接着テープが付設されてい
る蛍光体層の細長いコの字形の切り込み片の端部
とを引離すように引張ることにより蛍光体層の支
持体に対する密着強度を測定した。測定はテンシ
ロン（東洋ボールドウイン社製のUTM−11−
20）を用いて、引張り速度２cm／分にて両部分を
互いに逆の方向に引張ることにより行ない、蛍光
体層が１cm剥離した時に働いている力Ｆ（ｇ／cm）
により密着強度を表示した。 各々の放射線増感スクリーンについて得られた
結果を第１表に示す。
法に関するものである。さらに詳しくは、支持体
と、この支持体上に設けられた放射線増感用蛍光
体粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる
放射線増感用蛍光体層とから実質的に構成されて
いる放射線増感スクリーン、およびその製造法に
関するものである。 放射線増感スクリーンは、医療診断を目的とす
るＸ線撮影等の医療用放射線撮影、物質の非破壊
検査を目的とする工業用放射線撮影などの種々の
分野における放射線撮影において、撮影系の感度
を向上させるために、放射線感応性写真フイルム
の片面あるいは両面に密着させるように重ね合わ
せて使用するものである。この放射線増感スクリ
ーンは、基本構造として、支持体と、その片面に
設けられた放射線増感用蛍光体層とからなるもの
である。なお、この放射線増感用蛍光体層の支持
体とは反対側の表面（支持体に面していない側の
表面）には一般に、透明な保護膜が設けられてい
て、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝
撃から保護している。 放射線増感用蛍光体層は、放射線増感用蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなるも
のであり、この蛍光体粒子は、Ｘ線等の放射線に
よつて励起された時に高輝度の発光を示す性質を
有するものである。従つて、被写体を通過した放
射線の量に応じて蛍光体は高輝度の発光を示し、
放射線増感スクリーンの放射線増感用蛍光体層の
表面に接するようにして重ね合わされて置かれた
放射線感応性写真フイルムは、この蛍光体の発光
によつても感光するため、比較的少ない放射線量
で写真フイルムの充分な感光を達成することがで
きる。 上記のような基本構造を有する放射線増感スク
リーンについては、感度が高いこと、および画質
（鮮鋭度、粒状性等）の良好な画像を与えるもの
であることが望まれる。従つて、従来より放射線
増感スクリーンの感度あるいは画質を向上させる
ための各種の改良がなされている。 このうち、放射線増感スクリーンの鮮鋭度を向
上させる技術としては、たとえば、米国特許第
4207125号に記載された発明、および、該特許の
原出願の分割出願について特許された米国特許第
4263061号に記載された発明がある。 前者の特許は、アルミニウムシート支持体の表
面を水蒸気で処理してその表面にベーマイトの微
小な細長い突起を多数形成させるような方法によ
り支持体の表面に微小な細長い突起を形成した支
持体を放射線増感スクリーンの支持体として用
い、この微小な細長い突起の存在により、放射線
増感スクリーンの鮮鋭度を向上させた発明を開示
するものである。 後者の特許は、アルミニウムシート支持体の表
面を水蒸気で処理してその表面にベーマイトの微
小な細長い突起を多数形成させ、その後、結合剤
中に放射線増感用蛍光体粒子を分散してなる塗布
液を該支持体に塗布し乾燥することによつて蛍光
体層を形成することからなる高鮮鋭度放射線増感
スクリーンの製造方法を開示するものである。 また、放射線増感スクリーンはその使用時にお
いて、曲げ等の機械的刺激が与えられた場合で
も、支持体と放射線増感用蛍光体層が簡単に分離
することがないように充分な機械的強度を持つ必
要がある。さらに、放射線増感スクリーン自体は
放射線による照射によつても殆ど変質することが
ないため、長期間にわたつて繰り返し使用される
が、そのような繰り返しの使用に耐えるために
は、写真フイルムを交換する操作などの際に与え
られる機械的衝撃によつて支持体と放射線増感用
蛍光体層とが分離するような障害が発生しないこ
とが必要である。 本発明は、鮮鋭度の向上した画像を与える放射
線増感スクリーンおよびその製造法を提供するこ
とをその目的とするものである。 さらに、本発明は、機械的強度、特に放射線増
感用蛍光体層の支持体に対する密着強度の向上し
た放射線増感スクリーンおよびその製造法を提供
することもその目的とするものである。 本発明は、支持体と、この支持体上に設けられ
た放射線増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持
する結合剤からなる放射線増感用蛍光体層とから
実質的に構成されている放射線増感スクリーンに
おいて、支持体の蛍光体層側の表面に、平均深さ
が１ミクロン以上、かつ５ミクロン以下、そして
開口部の口径の平均が10ミクロン以上、かつ100
ミクロン以下の多数の凹みが密に形成されて粗面
化されていることを特徴とする放射線増感スクリ
ーンにある。 上記の支持体の粗面化処理は、たとえば、支持
体の表面に高硬度の固体粉末を高速度で吹き付け
ることによつて実施することができる。そして、
粗面化された支持体は、その粗面化表面に、放射
線増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結
合剤からなる放射線増感用蛍光体層を設けること
により、特性の優れた放射線増感スクリーンを製
造することができる。 次に本発明を詳しく説明する。 本発明は、放射線増感スクリーンの支持体の表
面のうち、放射線増感用蛍光体層が設けられる側
の表面に特定の大きさを有する多数の凹みを設け
ることにより、放射線増感スクリーンに対して、
放射線感応性写真フイルムに形成される画像の鮮
鋭度の顕著な向上に寄与する機能を付与するとと
もに、支持体と放射線増感用蛍光体層との強固な
結合を実現するものである。 すなわち、被写体を透過したＸ線などの放射線
の放射線増感スクリーンの放射線増感用蛍光体層
（以下、単に蛍光体層と略す）に入射すると、蛍
光体層に含有支持されている蛍光体粒子は、その
放射線のエネルギーを吸収して励起状態になり、
その放射線とは異なる波長を有する可視領域もし
くは近紫外領域の光を瞬時に発する。この発光に
は特に方向性はなく、全方向に向けてなされる
が、その一部は写真フイルムに直接入射して画像
形成に寄与する。またそれと同時に、発光の一部
は、蛍光体層と支持体との境界面にて反射された
のちに、反射光として写真フイルムに入射して画
像形成に寄与する。ここで、蛍光体層と支持体と
の境界面が凹凸のない平面からなる場合には、そ
の反射は鏡面反射となり、反射光は写真フイルム
に直接入射する光よりも大きな角度で写真フイル
ムに入射するのでボケ、すなわち不鮮明な画像生
成の原因となり、写真フイルムに形成される画像
の鮮鋭度を著しく低下させることになる。 本発明者の検討によれば、このような反射光に
よる放射線感応性写真フイルムの画像の鮮鋭度の
低下は、蛍光体層に接する支持体の表面（境界
面）に、特定の範囲に含まれる大きさ、すなわ
ち、平均深さが１ミクロン以上、かつ５ミクロン
以下、そして開口部の口径の平均が10ミクロン以
上、かつ100ミクロン以下の凹みを多数形成する
ことにより顕著に防ぐことが可能であることがわ
かつた。 そしてさらに、支持体の表面（境界面）に上記
の特定の範囲の大きさからなる凹みを多数形成す
ることにより支持体と蛍光体層との結合は非常に
強固になり、そのような支持体を用いて製造した
放射線増感スクリーンは高い蛍光体層／支持体密
着強度を示し、通常の取扱いにおいては、放射線
増感スクリーンの蛍光体層と支持体との分離の危
険性は全くなくなることもわかつた。 以上述べたような好ましい特性を持つた本発明
の放射線増感用スクリーンは、たとえば、次に述
べるような方法により製造することができる。 本発明において使用する支持体は、放射線増感
スクリーンの製造のための材料として知られてい
る各種の材料から任意に選ぶことができる。その
ような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、
ポリカーボネートなどのプラスチツク物質のフイ
ルム、アルミニウム箔、アルミニウム合金箔など
の金属シート、通常の紙、バライタ紙、レジンコ
ート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有するピグ
メント紙、ポリビニルアルコールなどをサイジン
グした紙などを挙げることができる。すなわち、
本発明で規定した表面構造を形成することが可能
である限り、支持体の材料に特に限定はない。た
だし、本発明で規定した表面構造の形成、および
その他、放射線増感スクリーンとしての特性を考
慮した場合、本発明において特に好ましい支持体
の材料はプラスチツクフイルムである。このプラ
スチツクフイルムにはカーボンブラツクなどの光
吸収性物質が練り込まれていてもよく、あるいは
二酸化チタンなどの光反射性物質が練り込まれて
いてもよい。前者は高鮮鋭度タイプの放射線増感
用スクリーンに適した支持体であり、後者は高感
度タイプの放射線増感用スクリーンに適した支持
体である。 公知の放射線増感スクリーンにおいて、支持体
と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射
線増感スクリーンとしても感度もしくは画質を向
上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持
体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接
着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなど
の光反射性物質からなる光反射層、もしくはカー
ボンブラツクなどの光吸収性物質からなる光吸収
層を設けることも行なわれている。また物質の非
破壊検査を目的とする工業用放射線撮影に用いる
放射線増感スクリーンにおいては、蛍光体層が設
けられる側の支持体表面に、散乱放射線の除去な
どを目的として、鉛箔、鉛合金箔、錫箔などの金
属箔を設けることも行なわれている。本発明にお
いて用いられる支持体についても、これらの各種
の層を設けることができ、それらの構成は所望の
放射線増感スクリーンの目的、用途などに応じて
任意に選択することができる。 本発明における特徴的な要件である支持体表面
の形態は、任意の方法により形成することができ
る。ただし、実用的に有利な方法としては、支持
体の表面に高硬度の固体粉末を高速度で吹き付け
ることにより支持体表面を前記の特徴的な形態と
する方法を挙げることができる。この方法は、一
般にサンドブラスト法と呼ばれる方法であり、た
とえば硅砂などのような硬質の固体粉末を支持体
の蛍光体層が設けられる側の表面（支持体のその
側の表面に接着性付与層、光反射層、光吸収層、
あるいは金属箔などが設けられている場合には、
その表面）に高速度で吹き付けることにより、支
持体表面を本発明で規定したような大きさを持つ
粗面とすることが容易に実現する。 本発明の放射線増感スクリーンの支持体は、前
述のように、支持体の蛍光体層側の表面に、平均
深さが１ミクロン以上、かつ５ミクロン以下、そ
して開口部の口径の平均が10ミクロン以上、かつ
100ミクロン以下の多数の凹みが設けられている
ことを特徴とするものである。支持体の蛍光体層
側の表面（支持体の蛍光体層側の表面に接着性付
与層、光反射層、光吸収層、あるいは金属箔など
が設けられている場合には、その表面を意味す
る）に、上記のような特定の範囲に含まれる大き
さからなる凹みを多数設けることにより、蛍光体
粒子から発せられた光のうち支持体の表面（支持
体表面と蛍光体層との境界面）に向つた光は、そ
の表面で乱反射し、その結果その大部分は蛍光体
層中で吸収されて写真フイルムの感光層に入射し
なくなる。このため、ボケがなくなり、写真フイ
ルムに形成される画像の鮮鋭度が顕著に向上す
る。 また、支持体の表面（境界面）に上記の特定の
範囲の大きさからなる凹みを多数形成することに
より支持体と蛍光体層との結合は非常に強固にな
る。従つて、そのような支持体を用いて製造した
放射線増感スクリーンは高い蛍光体層／支持体密
着強度を示し、通常の取扱いにおいては蛍光体層
と支持体との分離が起こることは全くない。 これに対して、支持体に設けられる多数の凹み
が、本発明で規定した範囲より小さい場合には、
本発明の放射線増感用スクリーンにより達成され
る顕著な鮮鋭度向上効果を得ることはできない。
この理由は、支持体に設けられた凹みが全体的に
小さなものとなつた場合、蛍光体粒子から発せら
れて支持体の表面に向つた光は、なおもその大部
分が支持体表面で鏡面反射するためであると推定
される。 また、支持体に設けられる多数の凹みが、本発
明で規定した範囲より小さい場合には、本発明の
放射線増感用スクリーンにより達成される顕著な
蛍光体層／支持体密着強度の向上効果を得ること
もできない。 一方、支持体に設けられる多数の凹みが、本発
明で規定した範囲よりも大きい場合には、蛍光体
層の形成が困難になつたり、あるいは蛍光体層の
層厚の不均一さが顕著となり、得られる放射線増
感用スクリーンに好ましくない影響を与えるよう
になる。従つて、そのような放射線増感用スクリ
ーンは実用上好ましくない。 なお、本発明の放射線増感スクリーンの支持体
の蛍光体層の表面に設けられる多数の凹みの最大
深さは、１ミクロンより大きく、かつ50ミクロン
以下であることが好ましく、さらに、２ミクロン
以上かつ20ミクロン以下であることが特に好まし
い。そして、それらの開口部の口径の平均は10ミ
クロン以上かつ50ミクロン以下であることが特に
好ましい。これらの好ましい範囲内にある多数の
凹みが設けられた支持体を用いて製造した放射線
増感スクリーンは、特に優れた鮮鋭度向上効果お
よび蛍光体層／支持体密着強度向上効果を示す。 上記にて規定したような特定の大きさの範囲に
ある多数の凹みが設けられた支持体の表面には次
に、放射線増感用蛍光体層を形成する。放射線増
感用蛍光体層は、基本的には放射線増感用蛍光体
粒子を分散状態で含有支持する結合剤からなる層
である。 放射線増感用蛍光体粒子はすでに各種のものが
知られている。本発明において使用するのが好ま
しい放射線増感用蛍光体粒子の例としては、次の
ような物質からなる粒子を挙げることができる。
タングステン酸塩系蛍光体（CaWO4，MgWO4，
CaWO4：Pb等）、テルビウム賦活希土類酸硫化
物系蛍光体［Y2O2Ｓ：Tb，Gd2O2Ｓ：Tb，La2
O2Ｓ：Tb，（Ｙ，Gd）2O2Ｓ：Tb、（Ｙ，Gd）2O2
Ｓ：Tb，Tm等］、テルビウム賦活希土類燐酸塩
系蛍光体（YPO4：Tb，GdPO4：Tb，LaPO4：
Tb等）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化
物系蛍光体（LaOBr：Tb，LaOBr：Tb，Tm、
LaOC：Tb、LaOC：Tb，Tm、GdOBr：
Tb、GdOCl：Tb等）、ツリウム賦活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体（LaOBr：Tm、
LaOCl：Tm等）、硫酸バリウム系蛍光体
［BaSO4：Pb、BaSO4：Eu2+、（Ba，Sr）SO4：
Eu2+等］、２価のユーロピウム賦活アルカリ土類
金属燐酸塩系蛍光体［Ba3（PO4）2：Eu2+、（Ba，
Sr）3（PO4）2：Eu2+等］、２価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体
［BaFC：Eu2+、BaFBr：Eu2+、BaFC：
Eu2+，Tb、BaFBr：Eu2+，Tb、BaF2・BaC
２・KC：Eu2+、BaF2・BaC2・xBaSO4・KC
：Eu2+、（Ba，Mg）F2・BaC2・KC：
Eu2+等］、沃化物系蛍光体（CsI：Na，CsI：Ｔ
、NaI、KI：Ｔ等）、硫化物系蛍光体
［ZnS：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：Ag、（Zn，Cd）Ｓ：
Cu、（Zn，Cd）Ｓ：Cu、Ａ等］、燐酸ハフニウ
ム系蛍光体（HfP2O7：Cu等）。ただし、本発明
に用いる放射線増感用蛍光体粒子は、これらのも
のに限られるものではなく、放射線の照射により
可視領域あるいは近紫外領域の発光を示す蛍光体
の粒子であればいかなるものであつてもよい。 また蛍光体層の結合剤の例としては、ゼラチン
等の蛋白質、デキストラン等のポリサツカライ
ド、またはアラビアゴムのような天然高分子物
質；および、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビ
ニル、ニトロセルロース、メチルセルロース、塩
化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチ
ルメタクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルポリ
マー、ポリウレタン、セルロースアセテートブチ
レート、ポリビニルアルコール、線状ポリエステ
ルなどような合成高分子物質などにより代表され
る結合剤を挙げることができる。このような結合
剤のなかで特に好ましいものは、ニトロセルロー
ス、線状ポリエステル、およびニトロセルロース
と線状ポリエステルとの混合物である。 蛍光体層は、たとえば、次のような方法により
支持体上に形成することができる。 まず上記の放射線増感用蛍光体粒子と結合剤と
を適当な溶剤に加え、これを充分に混合して、結
合剤溶液中に放射線増感用蛍光体粒子が均一に分
散した塗布液を調製する。 塗布液調製用の溶剤の例としては、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロパノール、Ｎ−ブタノ
ールなどの低級アルコール；メチレンクロライ
ド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化
水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸
エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アル
コールとのエステル；ジオキサン、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノメチルエーテルなどのエーテル；そして、そ
れらの混合物を挙げることができる。 塗布液における結合剤と放射線増感用蛍光体粒
子との混合比は、目的とする放射線増感スクリー
ンの特性、蛍光体粒子の種類などによつて異なる
が、一般には結合剤と蛍光体粒子との混合比は、
１：１ないし１：100（重量比）の範囲から選ば
れ、そして特に１：８ないし１：40（重量比）の
範囲から選ぶことが好ましい。 なお、塗布液には、該塗布液中における蛍光体
粒子の分散性を向上させるための分散剤、また、
形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体粒子
との間の結合力を向上させるための可塑剤などの
種々の添加剤が混合されていてもよい。そのよう
な目的に用いられる分散剤の例としては、フタル
酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性
剤などを挙げることができる。そして可塑剤の例
としては、燐酸トリフエニル、燐酸トリクレジ
ル、燐酸ジフエニルなどの燐酸エステル；フタル
酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルなどのフ
タル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエ
チル、グリコール酸ブチルフタリルブチルなどの
グリコール酸エステル；そして、トリエチレング
リコールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチ
レングリコールとコハク酸とのポリエステルなど
のポリエチレングリコールと脂肪族二塩基酸との
ポリエステルなどを挙げることができる。 上記のようにして調製された蛍光体粒子と結合
剤を含有する塗布液を、次に、前述のような特定
の大きさからなる多数の凹みを有する支持体の表
面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を形
成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たと
えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイ
フコーターなどを用いることにより行なうことが
できる。 ついで、形成された塗膜を徐々に加熱すること
により乾燥して、支持体上への放射線増感用蛍光
体層の形成を完了する。蛍光体層の層厚は、目的
とする放射線増感スクリーンの特性、蛍光体粒子
の種類、結合剤と蛍光体粒子との混合比などによ
つて異なるが、通常は20ミクロンないし１mmとす
る。ただし、この層厚は、50ないし500ミクロン
とするのが好ましい。 なお、放射線増感用蛍光体層は、必ずしも上記
のように支持体上に塗布液を直接塗布して形成す
る必要はなく、たとえば、別に、ガラス板、金属
板、プラスチツクシートなどのシート上に塗布液
を塗布し乾燥することにより蛍光体層を形成した
のち、これを、支持体上に押圧するか、あるいは
接着剤を用いるなどして支持体と蛍光体層とを接
合してもよい。 通常の放射線増感スクリーンにおいては、支持
体に接する側とは反対側の蛍光体層の表面に、蛍
光体層を物理的および化学的に保護するための透
明な保護膜が設けられている。このような透明保
護膜は、本発明の放射線増感スクリーンについて
も設置することが好ましい。 透明保護膜は、たとえば、酢酸セルロース、ニ
トロセルロースなどのセルロース誘導体；あるい
はポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネー
ト、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコ
ポリマーなどの合成高分子物質のような透明な高
分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を
蛍光体層の表面に塗布する方法により形成するこ
とができる。あるいはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレン、塩化ビニリデン、ポリアミド
などから別に形成した透明な薄膜を蛍光体層の表
面に適当な接着剤を用いて接着するなどの方法に
よつても形成することができる。このようにして
形成する透明保護膜の膜厚は、約３ないし20ミク
ロンとするのが望ましい。 次に本発明の実施例および比較例を記載する。
ただし、これらの各例は本発明を制限するもので
はない。 ［実施例 １］ 二酸化チタンを練り込んだポリエチレンテレフ
タレートシート（支持体、厚み：250ミクロン）
の片面に、1900回転／分で回転しているドラムか
ら約50重量％以上が100〜150メツシユの粉末から
なる硅砂を遠心力を利用して吹き付ける操作から
なるサンドブラスト処理を行ない、その片面を粗
面化した。この支持体の粗面化された表面には、
平均深さが２ミクロン、最大深さが７ミクロン、
そして開口部の口径の平均が20ミクロンの多数の
凹みが形成されていた。 別に、放射線増感用のテルビウム賦活ガドリニ
ウム酸硫化物蛍光体（Gd2O2Ｓ：Tb）の粒子と
線状ポリエステル樹脂との混合物にメチルエチル
ケトンを添加し、さらに硝化度11.5％のニトロセ
ルロースを添加して蛍光体粒子を分散状態で含有
する分散液を調製した。次に、この分散液に燐酸
トリクレジル、ｎ−ブタノール、そしてメチルエ
チルケトンを添加したのち、プロペラミキサーを
用いて充分に攪拌混合して、蛍光体粒子が均一に
分散し、かつ粘度が25〜35PS（25℃）の塗布液を
調製した。 次いで、先に粗面とした側の表面を上にしてガ
ラス板上に水平に置いた支持体の上に塗布液をド
クターブレードを用いて均一に塗布した。そして
塗布後に、塗膜が形成された支持体を乾燥器内に
入れ、この乾燥器の内部の温度を25℃から100℃
に徐々に上昇させて、塗膜の乾燥を行なつた。こ
のようにして、支持体上の層厚が約180ミクロン
の蛍光体層を形成した。 そして、この蛍光体層の上にポリエチレンテレ
フタレートの透明フイルム（厚み：12ミクロン、
ポリエステル系接着剤が付与されているもの）を
接着剤層側を下に向けて置いて接着することによ
り、透明保護膜を形成し、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。 ［比較例 １］ 支持体として二酸化チタン練り込みポリエチレ
ンテレフタレートシートに粗面化処理を施さなか
つたものを用い、実施例１の方法と同様な処理を
行なうことにより、支持体、蛍光体層、および透
明保護膜から構成された放射線増感スクリーンを
製造した。 ［比較例 ２］ 実施例１で用いた支持体と同一の二酸化チタン
練り込みポリエチレンテレフタレートシートの片
面に、約50重量％以上が約300メツシユの粉末か
らなる硅砂を吹き付け、その片面を粗面化した。
この支持体の粗面化された表面には、平均深さが
0.2ミクロン、最大深さが0.8ミクロン、そして開
口部の口径の平均が0.5ミクロンの多数の凹みが
形成されていた。 次いで、この支持体について実施例１と同様な
処理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、お
よび透明保護膜から構成された放射線増感スクリ
ーンを製造した。 上記のようにして製造した各々の放射線増感ス
クリーンを、次に記載する画像鮮鋭度試験、およ
び蛍光体層の支持体に対する密着強度試験により
評価した。 (1) 画像鮮鋭度試験 放射線増感スクリーンとＸ線写真フイルムとを
カセツテ内で圧着し、解像力チヤートを介してＸ
線写真撮影を行ない、できあがつたＸ線写真の変
調伝達関数（MTF）を測定し、これを空間周波
数２サイクル／mmの値で表示した。また、併せて
相対感度も表示した。 (2) 蛍光体層の支持体に対する密着強度試験 放射線増感スクリーンを幅１cm、長さ６cmに切
断して調製した試験片の蛍光体層側の表面にポリ
エステル粘着テープを貼り付けた。このポリエス
テル粘着テープ上から試験片にナイフを用いて蛍
光体層と支持体との境界面にまで届く切り込みを
試験片の長手方向に沿つて細長いコの字形にいれ
た。そして、このように調製した試験片の支持体
部分と、ポリエステル接着テープが付設されてい
る蛍光体層の細長いコの字形の切り込み片の端部
とを引離すように引張ることにより蛍光体層の支
持体に対する密着強度を測定した。測定はテンシ
ロン（東洋ボールドウイン社製のUTM−11−
20）を用いて、引張り速度２cm／分にて両部分を
互いに逆の方向に引張ることにより行ない、蛍光
体層が１cm剥離した時に働いている力Ｆ（ｇ／cm）
により密着強度を表示した。 各々の放射線増感スクリーンについて得られた
結果を第１表に示す。
【表】
［実施例 ２］
支持体として二酸化チタンを練り込んだポリエ
チレンテレフタレートシートの代りに、カーボン
ブラツクを練り込んだ同じ厚さのポリエチレンテ
レフタレートシートを用いること以外は実施例１
の方法と同様にして粗面化を行ない、平均深さが
２ミクロン、最大深さが７ミクロン、そして開口
部の口径の平均が20ミクロンの多数の凹みが形成
された粗面を得た。次いで、この支持体について
実施例１と同様な処理を行ない、支持体、蛍光体
層、および透明保護膜から構成された放射線増感
スクリーンを製造した。 ［比較例 ３］ 支持体としてカーボンブラツク練り込みポリエ
チレンテレフタレートシートに粗面化処理を施さ
なかつたものを用い、実施例２の方法と同様な処
理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線増感スクリー
ンを製造した。 実施例２および比較例３において製造した各々
の放射線増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試
験、および蛍光体層の支持体に対する密着強度試
験により評価した。結果を第２表に示す。
チレンテレフタレートシートの代りに、カーボン
ブラツクを練り込んだ同じ厚さのポリエチレンテ
レフタレートシートを用いること以外は実施例１
の方法と同様にして粗面化を行ない、平均深さが
２ミクロン、最大深さが７ミクロン、そして開口
部の口径の平均が20ミクロンの多数の凹みが形成
された粗面を得た。次いで、この支持体について
実施例１と同様な処理を行ない、支持体、蛍光体
層、および透明保護膜から構成された放射線増感
スクリーンを製造した。 ［比較例 ３］ 支持体としてカーボンブラツク練り込みポリエ
チレンテレフタレートシートに粗面化処理を施さ
なかつたものを用い、実施例２の方法と同様な処
理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線増感スクリー
ンを製造した。 実施例２および比較例３において製造した各々
の放射線増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試
験、および蛍光体層の支持体に対する密着強度試
験により評価した。結果を第２表に示す。
【表】
［実施例 ３］
実施例２において、放射線増感用蛍光体粒子と
してテルビウム賦活ガドリニウム酸硫化物蛍光体
粒子の代りにユーロピウム賦活バリウム弗化臭化
物蛍光体（BaFBr：Eu2+）の粒子を用いること
以外は実施例２の方法と同様な処理を行なうこと
により、支持体、蛍光体層、および透明保護膜か
ら構成された放射線増感スクリーンを製造した。 ［比較例 ４］ 支持体としてカーボンブラツク練り込みポリエ
チレンテレフタレートシートに粗面化処理を施さ
なかつたものを用い、実施例３の方法と同様な処
理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線増感スクリー
ンを製造した。 実施例３および比較例４において製造した各々
の放射線増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試
験、および蛍光体層の支持体に対する密着強度試
験により評価した。結果を第３表に示す。
してテルビウム賦活ガドリニウム酸硫化物蛍光体
粒子の代りにユーロピウム賦活バリウム弗化臭化
物蛍光体（BaFBr：Eu2+）の粒子を用いること
以外は実施例２の方法と同様な処理を行なうこと
により、支持体、蛍光体層、および透明保護膜か
ら構成された放射線増感スクリーンを製造した。 ［比較例 ４］ 支持体としてカーボンブラツク練り込みポリエ
チレンテレフタレートシートに粗面化処理を施さ
なかつたものを用い、実施例３の方法と同様な処
理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線増感スクリー
ンを製造した。 実施例３および比較例４において製造した各々
の放射線増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試
験、および蛍光体層の支持体に対する密着強度試
験により評価した。結果を第３表に示す。
【表】
［実施例 ４］
実施例２において、放射線増感用蛍光体粒子と
して、テルビウム賦活ガドリニウム酸硫化物蛍光
体粒子の代りにタングステン酸カルシウム蛍光体
（CaWO4）の粒子を用いること以外は実施例２の
方法と同様な処理を行なうことにより、支持体、
蛍光体層、および透明保護膜から構成された放射
線増感スクリーンを製造した。 ［比較例 ５］ 支持体としてカーボンブラツク練り込みポリエ
チレンテレフタレートシートに粗面化処理を施さ
なかつたものを用い、実施例４の方法と同様な処
理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線増感スクリー
ンを製造した。 実施例４および比較例５において製造した各々
の放射線増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試
験、および蛍光体層の支持体に対する密着強度試
験により評価した。結果を第４表に示す。
して、テルビウム賦活ガドリニウム酸硫化物蛍光
体粒子の代りにタングステン酸カルシウム蛍光体
（CaWO4）の粒子を用いること以外は実施例２の
方法と同様な処理を行なうことにより、支持体、
蛍光体層、および透明保護膜から構成された放射
線増感スクリーンを製造した。 ［比較例 ５］ 支持体としてカーボンブラツク練り込みポリエ
チレンテレフタレートシートに粗面化処理を施さ
なかつたものを用い、実施例４の方法と同様な処
理を行なうことにより、支持体、蛍光体層、およ
び透明保護膜から構成された放射線増感スクリー
ンを製造した。 実施例４および比較例５において製造した各々
の放射線増感スクリーンを、前記の画像鮮鋭度試
験、および蛍光体層の支持体に対する密着強度試
験により評価した。結果を第４表に示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 支持体と、この支持体上に設けられた放射線
増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合
剤からなる放射線増感用蛍光体層とから実質的に
構成されている放射線増感スクリーンにおいて、
支持体の蛍光体層側の表面に、平均深さが１ミク
ロン以上、かつ５ミクロン以下、そして開口部の
口径の平均が10ミクロン以上、かつ100ミクロン
以下の多数の凹みが密に形成されて粗面化されて
いることを特徴とする放射線増感スクリーン。 ２ 多数の凹みの開口部の口径の平均が10ミクロ
ン以上かつ50ミクロン以下である請求項第１項記
載の放射線増感スクリーン。 ３ 支持体がプラスチツクフイルムより形成され
ている請求項第１項記載の放射線増感スクリー
ン。 ４ 支持体の表面の凹みが、高硬度の固体粉末を
該表面に対して高速度で吹き付けることにより形
成されたものである請求項第１項記載の放射線増
感スクリーン。 ５ 支持体の表面に高硬度の固体粉末を高速度で
吹き付けることにより、該支持体表面上に、平均
深さが１ミクロン以上、かつ５ミクロン以下、そ
して開口部の口径の平均が10ミクロン以上、かつ
100ミクロン以下の多数の凹みを密に形成して粗
面化し、ついで、支持体の粗面化表面に、放射線
増感用蛍光体粒子を分散状態で含有支持する結合
剤からなる放射線増感用蛍光体層を設けることを
特徴とする放射線増感スクリーンの製造法。 ６ 支持体がプラスチツクフイルムより形成され
ている請求項第５項記載の放射線増感スクリーン
の製造法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57064674A JPS58182599A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 放射線増感スクリ−ンおよびその製造法 |
| EP19830103791 EP0092241B1 (en) | 1982-04-20 | 1983-04-19 | Radiation image conversion panel |
| DE8383103791T DE3380318D1 (en) | 1982-04-20 | 1983-04-19 | Radiation image conversion panel |
| CA000426199A CA1219088A (en) | 1982-04-20 | 1983-04-19 | Radiographic intensifying screen |
| US06/821,888 US4733089A (en) | 1982-04-20 | 1986-01-27 | Radiographic intensifying screen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57064674A JPS58182599A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 放射線増感スクリ−ンおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182599A JPS58182599A (ja) | 1983-10-25 |
| JPH0444712B2 true JPH0444712B2 (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=13264953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57064674A Granted JPS58182599A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 放射線増感スクリ−ンおよびその製造法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4733089A (ja) |
| JP (1) | JPS58182599A (ja) |
| CA (1) | CA1219088A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0662943B2 (ja) * | 1986-10-06 | 1994-08-17 | 日亜化学工業株式会社 | 放射線増感紙用螢光体 |
| JPS63262600A (ja) * | 1987-04-20 | 1988-10-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネルおよびその製造法 |
| US4983848A (en) * | 1989-04-12 | 1991-01-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Surfaces for X-ray intensifying screens |
| US6521329B2 (en) * | 2001-06-18 | 2003-02-18 | Eastman Kodak Company | Radiographic phosphor panel having reflective polymeric supports |
| DE10301274B4 (de) * | 2003-01-15 | 2005-03-24 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung eines Bildwandlers mit einer nadelförmigen Leuchtstoffschicht |
| US7037640B2 (en) * | 2003-07-04 | 2006-05-02 | Agfa-Gevaert | Image storage phosphor or scintillator panels coated onto flexible supports |
| EP1998338A1 (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-03 | Agfa HealthCare NV | Needle image plate or panel suitable for use in CR or DR imaging. |
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| US4204125A (en) * | 1978-03-27 | 1980-05-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High resolution X-ray intensifying screen with antireflecting substrate |
Family Cites Families (7)
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| US2882413A (en) * | 1953-12-04 | 1959-04-14 | Vingerhoets Antonius Wilhelmus | Luminescent screen |
| DE2307026C2 (de) * | 1973-02-13 | 1983-01-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Röntgenbildverstärker-Eingangsschirm |
| US3915809A (en) * | 1974-05-24 | 1975-10-28 | Gen Motors Corp | Plating adherent metal coatings onto polymethyl methacrylate materials |
| CH589306A5 (ja) * | 1975-06-27 | 1977-06-30 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
| JPS5228284A (en) * | 1975-08-28 | 1977-03-03 | Dainippon Toryo Co Ltd | Antistatic radioactive ray intensifier screen |
| US4032791A (en) * | 1976-06-16 | 1977-06-28 | Gte Sylvania Incorporated | Fluorescent screen and method of making |
| JPS58200200A (ja) * | 1982-05-18 | 1983-11-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線像変換パネルおよびその製造法 |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP57064674A patent/JPS58182599A/ja active Granted
-
1983
- 1983-04-19 CA CA000426199A patent/CA1219088A/en not_active Expired
-
1986
- 1986-01-27 US US06/821,888 patent/US4733089A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5437466A (en) * | 1977-08-29 | 1979-03-19 | Toshiba Corp | Manufacture of fluorescent screen |
| US4204125A (en) * | 1978-03-27 | 1980-05-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High resolution X-ray intensifying screen with antireflecting substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4733089A (en) | 1988-03-22 |
| CA1219088A (en) | 1987-03-10 |
| JPS58182599A (ja) | 1983-10-25 |
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