JPH09236698A - 放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル - Google Patents
放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネルInfo
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- JPH09236698A JPH09236698A JP8044694A JP4469496A JPH09236698A JP H09236698 A JPH09236698 A JP H09236698A JP 8044694 A JP8044694 A JP 8044694A JP 4469496 A JP4469496 A JP 4469496A JP H09236698 A JPH09236698 A JP H09236698A
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- phosphor
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/02—Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 鮮鋭性、粒状性に優れた放射線増感スクリー
ン及び放射線画像変換パネルの提供。 【解決手段】 支持体上に蛍光体粒子を結合剤中に分散
含有する蛍光層を有する放射線増感スクリーン及び放射
線画像変換パネルにおいて、前記結合剤が親水性極性基
を有する樹脂を含有することを特徴とする放射線増感ス
クリーン及び放射線画像変換パネル。
ン及び放射線画像変換パネルの提供。 【解決手段】 支持体上に蛍光体粒子を結合剤中に分散
含有する蛍光層を有する放射線増感スクリーン及び放射
線画像変換パネルにおいて、前記結合剤が親水性極性基
を有する樹脂を含有することを特徴とする放射線増感ス
クリーン及び放射線画像変換パネル。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、鮮鋭性と、粒状性
に優れた高画質の放射線増感スクリーン及び放射線画像
変換パネルに関するものである。
に優れた高画質の放射線増感スクリーン及び放射線画像
変換パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】医療診断用放射線像および各種物体の非
破壊での放射線像を得、これを診断、放射線探傷検査な
どに用いる手法として、主にハロゲン化銀等の写真感光
材料と放射線増感スクリーンの組み合わせである放射線
写真法や、放射線エネルギーを吸収した後、可視光や赤
外線などの電磁波で励起することにより蓄積していた放
射線エネルギーを蛍光の形で放出する蛍光体（以下、輝
尽性蛍光体）を用いた放射線画像変換法が挙げられる。
破壊での放射線像を得、これを診断、放射線探傷検査な
どに用いる手法として、主にハロゲン化銀等の写真感光
材料と放射線増感スクリーンの組み合わせである放射線
写真法や、放射線エネルギーを吸収した後、可視光や赤
外線などの電磁波で励起することにより蓄積していた放
射線エネルギーを蛍光の形で放出する蛍光体（以下、輝
尽性蛍光体）を用いた放射線画像変換法が挙げられる。
【０００３】放射線写真法は、被写体を透過した、或い
は被写体から発せられた放射線を放射線増感スクリーン
の蛍光体に照射して励起することにより可視光に変換せ
しめてハロゲン化銀写真感光材料に放射線画像を形成せ
しめて診断、検査するものである。これらの放射線画像
は、支持体の両面または片面にハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真感光材料（以下、感光材料と言
う）に放射線増感スクリーンを両面または片面に密着せ
しめ、被写体を介して放射線を照射して像様露光し放射
線画像が形成される。
は被写体から発せられた放射線を放射線増感スクリーン
の蛍光体に照射して励起することにより可視光に変換せ
しめてハロゲン化銀写真感光材料に放射線画像を形成せ
しめて診断、検査するものである。これらの放射線画像
は、支持体の両面または片面にハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真感光材料（以下、感光材料と言
う）に放射線増感スクリーンを両面または片面に密着せ
しめ、被写体を介して放射線を照射して像様露光し放射
線画像が形成される。
【０００４】蛍光体は発光輝度が高く、比較的少ない放
射線量で放射線画像を形成せしめるため、被検体の放射
線被曝線量を低減できるが、画像の鮮鋭性や粒状性は蛍
光体粒子の大小、蛍光体の分散性、蛍光体層中の蛍光体
の均一性等に左右されることが知られている。
射線量で放射線画像を形成せしめるため、被検体の放射
線被曝線量を低減できるが、画像の鮮鋭性や粒状性は蛍
光体粒子の大小、蛍光体の分散性、蛍光体層中の蛍光体
の均一性等に左右されることが知られている。
【０００５】一方、輝尽性蛍光体を使用した放射線画像
変換法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線画像変換パネ
ル（輝尽性蛍光体パネルとも称する）を利用するもの
で、被写体を透過した、或いは被写体から発せられた放
射線を前記パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後、
輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（輝尽励
起光）で時系列的に励起することにより、前記輝尽性蛍
光体に蓄積されている放射線エネルギーを光（輝尽発
光）として放出させ、この輝尽発光を電気的に読み取り
電気信号を得、得られた電気信号に基づいて被写体、或
いは被検体の放射線画像を可視像として再生するもので
ある。一方、読み取りを終えた前記パネルは、残存する
画像の消去が行われた後、次の撮影に備えられる、即
ち、放射線画像変換パネルは繰り返し使用される。
変換法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線画像変換パネ
ル（輝尽性蛍光体パネルとも称する）を利用するもの
で、被写体を透過した、或いは被写体から発せられた放
射線を前記パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後、
輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（輝尽励
起光）で時系列的に励起することにより、前記輝尽性蛍
光体に蓄積されている放射線エネルギーを光（輝尽発
光）として放出させ、この輝尽発光を電気的に読み取り
電気信号を得、得られた電気信号に基づいて被写体、或
いは被検体の放射線画像を可視像として再生するもので
ある。一方、読み取りを終えた前記パネルは、残存する
画像の消去が行われた後、次の撮影に備えられる、即
ち、放射線画像変換パネルは繰り返し使用される。
【０００６】放射線画像変換パネルも、放射線増感スク
リーン同様に蛍光体の粒径、蛍光体の分散性、蛍光体層
中の蛍光体の均一性等に左右される。
リーン同様に蛍光体の粒径、蛍光体の分散性、蛍光体層
中の蛍光体の均一性等に左右される。
【０００７】従来、蛍光体は粒子径が１〜３０μｍと大
きく、易分散性であるためどのような樹脂でもある程度
の分散性が得られると考えられていたため、蛍光体分散
用樹脂についてはほとんど検討されてない。例えば特開
昭６１−２７７０９８号には３種の樹脂を混合すること
によって分散性を向上させる技術が開示されているが、
樹脂そのものの蛍光体に対する分散力を向上させるもの
ではなく、分散均一性という点ではほとんど効果がな
い。
きく、易分散性であるためどのような樹脂でもある程度
の分散性が得られると考えられていたため、蛍光体分散
用樹脂についてはほとんど検討されてない。例えば特開
昭６１−２７７０９８号には３種の樹脂を混合すること
によって分散性を向上させる技術が開示されているが、
樹脂そのものの蛍光体に対する分散力を向上させるもの
ではなく、分散均一性という点ではほとんど効果がな
い。
【０００８】発明者らは、従来ほとんど検討されていな
かった蛍光体の分散性を検討したところ、結合剤の蛍光
体への分散力を向上せしめることによって鮮鋭性、粒状
性が向上することを見出し本発明に至った。
かった蛍光体の分散性を検討したところ、結合剤の蛍光
体への分散力を向上せしめることによって鮮鋭性、粒状
性が向上することを見出し本発明に至った。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、樹脂
の蛍光体に対する分散力を向上させ、鮮鋭性、粒状性に
優れた放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル
を提供することである。
の蛍光体に対する分散力を向上させ、鮮鋭性、粒状性に
優れた放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル
を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題は、 １．支持体上に蛍光体粒子を結合剤中に分散含有する蛍
光体層を有する放射線増感スクリーンにおいて、該結合
剤が親水性極性基を有する樹脂を含有することを特徴と
する放射線増感スクリーン、 ２．前記樹脂が−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、
−ＰＯ（ＯＭ）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ）2（但し、Ｍは水
素原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属原子）から
なる群から選ばれた親水性極性基を有することを特徴と
する１項記載の放射線増感スクリーン、 ３．上記蛍光体層の結合剤に用いられる親水性極性基含
有量が全結合剤に対して０．０１ｍｇ／ｇ以上１００ｍ
ｇ／ｇ以下であることを特徴とする前記１又は２項記載
の放射線増感スクリーン、 ４．前記蛍光体層中の親水性極性基を有する樹脂がポリ
ウレタン系、ポリエステル系、塩化ビニル系、ポリビニ
ルブチラール系、ニトロセルロース系から選ばれた樹脂
であることを特徴とする前記１、２又は３項記載の放射
線増感スクリーン、 ５．支持体上に輝尽性蛍光体粒子を結合剤中に分散含有
する輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにお
いて、該結合剤が親水性極性基を有する樹脂を含有する
ことを特徴とする放射線画像変換パネル、 ６．前記樹脂が−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、
−ＰＯ（ＯＭ）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ）2（但し、Ｍは水
素原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属原子）から
なる群から選ばれた親水性極性基を有することを特徴と
する前記５項記載の放射線画像変換パネル、 ７．上記輝尽性蛍光体の結合剤に用いられる親水性極性
基含有量が全結合剤に対して０．０１ｍｇ／ｇ以上１０
０ｍｇ／ｇ以下であることを特徴とする前記５又は６項
記載の放射線画像変換パネル、 ８．前記輝尽性蛍光体層中の親水性極性基を有する樹脂
がポリウレタン系、ポリエステル系、塩化ビニル系、ポ
リビニルブチラール系、ニトロセルロース系から選ばれ
た樹脂であることを特徴とする前記５、６又は７項記載
の放射線画像変換パネル、により達成される。
光体層を有する放射線増感スクリーンにおいて、該結合
剤が親水性極性基を有する樹脂を含有することを特徴と
する放射線増感スクリーン、 ２．前記樹脂が−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、
−ＰＯ（ＯＭ）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ）2（但し、Ｍは水
素原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属原子）から
なる群から選ばれた親水性極性基を有することを特徴と
する１項記載の放射線増感スクリーン、 ３．上記蛍光体層の結合剤に用いられる親水性極性基含
有量が全結合剤に対して０．０１ｍｇ／ｇ以上１００ｍ
ｇ／ｇ以下であることを特徴とする前記１又は２項記載
の放射線増感スクリーン、 ４．前記蛍光体層中の親水性極性基を有する樹脂がポリ
ウレタン系、ポリエステル系、塩化ビニル系、ポリビニ
ルブチラール系、ニトロセルロース系から選ばれた樹脂
であることを特徴とする前記１、２又は３項記載の放射
線増感スクリーン、 ５．支持体上に輝尽性蛍光体粒子を結合剤中に分散含有
する輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにお
いて、該結合剤が親水性極性基を有する樹脂を含有する
ことを特徴とする放射線画像変換パネル、 ６．前記樹脂が−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、
−ＰＯ（ＯＭ）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ）2（但し、Ｍは水
素原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属原子）から
なる群から選ばれた親水性極性基を有することを特徴と
する前記５項記載の放射線画像変換パネル、 ７．上記輝尽性蛍光体の結合剤に用いられる親水性極性
基含有量が全結合剤に対して０．０１ｍｇ／ｇ以上１０
０ｍｇ／ｇ以下であることを特徴とする前記５又は６項
記載の放射線画像変換パネル、 ８．前記輝尽性蛍光体層中の親水性極性基を有する樹脂
がポリウレタン系、ポリエステル系、塩化ビニル系、ポ
リビニルブチラール系、ニトロセルロース系から選ばれ
た樹脂であることを特徴とする前記５、６又は７項記載
の放射線画像変換パネル、により達成される。
【００１１】以下、本発明を詳述する。
【００１２】本発明における親水性極性基を有する樹脂
とは、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＰＯ
（ＯＭ′）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ′）2（但し、Ｍは水素
原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属原子）からな
る親水性極性基（陰性官能基）を１種以上有する樹脂で
あり、極性基が蛍光体表面に吸着することによって蛍光
体粒子の分散性を良くし、かつ蛍光体粒子の凝集を防止
して塗布安定性、鮮鋭性、粒状性を向上させる。
とは、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＰＯ
（ＯＭ′）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ′）2（但し、Ｍは水素
原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属原子）からな
る親水性極性基（陰性官能基）を１種以上有する樹脂で
あり、極性基が蛍光体表面に吸着することによって蛍光
体粒子の分散性を良くし、かつ蛍光体粒子の凝集を防止
して塗布安定性、鮮鋭性、粒状性を向上させる。
【００１３】次に、本発明に好ましく用いられる親水性
極性基を有する樹脂の一例であるポリウレタンについて
述べる。ポリウレタンは、一般に利用される方法である
ポリオールとポリイソシアネートとの反応を用いること
で合成することができる。ポリオール成分として一般に
は、ポリオールと多塩基酸との反応によって得られるポ
リエステルポリオールが使用されている。この公知の方
法を利用して多塩基酸の一部として上記の親水性極性基
を有する多塩基酸を使用して、親水性極性基を有するポ
リエステルポリオールを合成することができる。
極性基を有する樹脂の一例であるポリウレタンについて
述べる。ポリウレタンは、一般に利用される方法である
ポリオールとポリイソシアネートとの反応を用いること
で合成することができる。ポリオール成分として一般に
は、ポリオールと多塩基酸との反応によって得られるポ
リエステルポリオールが使用されている。この公知の方
法を利用して多塩基酸の一部として上記の親水性極性基
を有する多塩基酸を使用して、親水性極性基を有するポ
リエステルポリオールを合成することができる。
【００１４】多塩基酸の例としては、フタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セ
バチン酸、マレイン酸等を挙げることができる。
タル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セ
バチン酸、マレイン酸等を挙げることができる。
【００１５】親水性極性基を有する多塩基酸の例として
は、５−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル
酸、４−スルホイソフタル酸、３−スルホイソフタル
酸、５−スルホイソフタル酸ジアルキル、２−スルホイ
ソフタル酸ジアルキル、４−スルホイソフタル酸ジアル
キル、３−スルホフタル酸ジアルキル及びこれらのナト
リウム塩、カリウム塩を挙げることができる。
は、５−スルホイソフタル酸、２−スルホイソフタル
酸、４−スルホイソフタル酸、３−スルホイソフタル
酸、５−スルホイソフタル酸ジアルキル、２−スルホイ
ソフタル酸ジアルキル、４−スルホイソフタル酸ジアル
キル、３−スルホフタル酸ジアルキル及びこれらのナト
リウム塩、カリウム塩を挙げることができる。
【００１６】ポリオールの例としては、トリメチロール
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオベンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。
プロパン、ヘキサントリオール、グリセリン、トリメチ
ロールエタン、ネオベンチルグリコール、ペンタエリス
リトール、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオー
ル、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコー
ル、シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができ
る。
【００１７】また、他の親水性極性基を導入したポリエ
ステルポリオールに関しても、公知の方法で合成するこ
とができる。
ステルポリオールに関しても、公知の方法で合成するこ
とができる。
【００１８】次に、上記の基を有するポリエステルポリ
オールを原料として利用すれば、親水性極性基を有する
ポリウレタンを合成することができる。
オールを原料として利用すれば、親水性極性基を有する
ポリウレタンを合成することができる。
【００１９】ポリイソシアネート成分の例としてはジフ
ェニルメタン−４，４−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）、イソホロジイソシアネート（ＩＰＤＩ）な
どが挙げられる。
ェニルメタン−４，４−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、
ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、トリレ
ンジイソシアネート（ＴＤＩ）、１，５−ナフタレンジ
イソシアネート（ＮＤＩ）、トリジンジイソシアネート
（ＴＯＤＩ）、リジンイソシアネートメチルエステル
（ＬＤＩ）、イソホロジイソシアネート（ＩＰＤＩ）な
どが挙げられる。
【００２０】また、ポリウレタンの合成の他の方法とし
て、ＯＨ基を有するポリウレタンと親水性極性基及び塩
素原子を含有する下記の化合物との反応により付加して
合成することができる。なお、Ｍ及びＭ′は水素原子、
アルカル金属原子又はアルキル基である。
て、ＯＨ基を有するポリウレタンと親水性極性基及び塩
素原子を含有する下記の化合物との反応により付加して
合成することができる。なお、Ｍ及びＭ′は水素原子、
アルカル金属原子又はアルキル基である。
【００２１】ＣｌＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｍ ＣｌＣＨ2ＣＨ2ＯＳＯ3Ｍ ＣｌＣＨ2ＰＯ（ＯＭ′）2 ＣｌＣＨ2ＣＯＯＭ また、これらの他、−ＳＯ3Ｎａ基を有するポリウレタ
ンＵＲ８３００（東洋紡績〔株〕製）、ＣＯＯＨ基を有
するポリウレタンＴＩＭ−６００１（三洋化成〔株〕
製）などが市販品として容易に入手できる。
ンＵＲ８３００（東洋紡績〔株〕製）、ＣＯＯＨ基を有
するポリウレタンＴＩＭ−６００１（三洋化成〔株〕
製）などが市販品として容易に入手できる。
【００２２】なお、親水性極性基を有する結合剤には上
記の樹脂の他に下記の樹脂を使用することができる。例
えば、重量平均分子量が５，０００〜２００，０００の
もので、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共量合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブ
チラール、セルロース誘導体（ニトロセルロース等）、
スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹
脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なかでもポ
リエステル、塩化ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ
ール、ニトロセルロースを使用することが好ましい。
記の樹脂の他に下記の樹脂を使用することができる。例
えば、重量平均分子量が５，０００〜２００，０００の
もので、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
共量合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アク
リロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブ
チラール、セルロース誘導体（ニトロセルロース等）、
スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴム系樹
脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリル系樹
脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なかでもポ
リエステル、塩化ビニル系共重合体、ポリビニルブチラ
ール、ニトロセルロースを使用することが好ましい。
【００２３】好ましく使用される塩化ビニル系樹指とし
ては、例えば塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体
等、ＯＨ基を含有する共重合体に下記のような親水性極
性基及び塩素原子を含有する化合物との反応により付加
して合成することができる。
ては、例えば塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体
等、ＯＨ基を含有する共重合体に下記のような親水性極
性基及び塩素原子を含有する化合物との反応により付加
して合成することができる。
【００２４】ＣｌＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｍ ＣｌＣＨ2ＣＨ2ＯＳＯ3Ｍ ＣｌＣＨ2ＰＯ（ＯＭ′）2 ＣｌＣＨ2ＣＯＯＭ これらの中からＣｌＣＨ2ＣＨ2ＳＯ3Ｎａを例として示
すと、 −（ＣＨ2Ｃ（ＯＨ）Ｈ）−＋Ｃｌ−（ＣＨ2）2−ＳＯ3
Ｎａ →−（ＣＨ2Ｃ（Ｈ）−Ｏ−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｎａ＋Ｈ
Ｃｌ のようになる。
すと、 −（ＣＨ2Ｃ（ＯＨ）Ｈ）−＋Ｃｌ−（ＣＨ2）2−ＳＯ3
Ｎａ →−（ＣＨ2Ｃ（Ｈ）−Ｏ−（ＣＨ2）2−ＳＯ3Ｎａ＋Ｈ
Ｃｌ のようになる。
【００２５】また、すべて共重合性のモノマーとして共
重合させる方法がある。即ち、親水性極性基を含む繰り
返し単位が導入される不飽和結合を有する反応性モノマ
ーを所定量オートクレーブ等の反応容器に注人し、一般
的な重合開始剤、例えばＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサ
イド）、ＡＩＢＮ（アゾピスイソブチロニトリル）等の
ラジカル重合開始剤やレドックス重合開始剤、アニオン
重合開始剤、カチオン重合開始剤等の重合開始剤を使用
して重合できる。例えば、スルホン酸若しくはその塩を
導入するための反応性モノマーの具体例としては、ビニ
ルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタクリルスルホン
酸、ｐ−スチレンスルホン酸等の不飽和炭化水素スルホ
ン酸及びこれらの塩が挙げられる。
重合させる方法がある。即ち、親水性極性基を含む繰り
返し単位が導入される不飽和結合を有する反応性モノマ
ーを所定量オートクレーブ等の反応容器に注人し、一般
的な重合開始剤、例えばＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサ
イド）、ＡＩＢＮ（アゾピスイソブチロニトリル）等の
ラジカル重合開始剤やレドックス重合開始剤、アニオン
重合開始剤、カチオン重合開始剤等の重合開始剤を使用
して重合できる。例えば、スルホン酸若しくはその塩を
導入するための反応性モノマーの具体例としては、ビニ
ルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタクリルスルホン
酸、ｐ−スチレンスルホン酸等の不飽和炭化水素スルホ
ン酸及びこれらの塩が挙げられる。
【００２６】更に、２−アクリルアミド−２−メチルプ
ロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸スルホエチルエ
ステル、（メタ）アクリル酸スルホプロピルエステル等
のアクリル酸又はメタクリル酸のスルホアルキルエステ
ル類及びこれらの塩、或いはアクリル酸−２−スルホン
酸エチル等を挙げることができる。
ロパンスルホン酸、（メタ）アクリル酸スルホエチルエ
ステル、（メタ）アクリル酸スルホプロピルエステル等
のアクリル酸又はメタクリル酸のスルホアルキルエステ
ル類及びこれらの塩、或いはアクリル酸−２−スルホン
酸エチル等を挙げることができる。
【００２７】カルボン酸若しくはその塩を導入（−ＣＯ
ＯＭの導入）するときには、（メタ）アクリル酸、マレ
イン酸等をリン酸若しくはその塩を導入する時には（メ
タ）アクリル酸−２−リン酸エステルを用いればよい。
ＯＭの導入）するときには、（メタ）アクリル酸、マレ
イン酸等をリン酸若しくはその塩を導入する時には（メ
タ）アクリル酸−２−リン酸エステルを用いればよい。
【００２８】これらの市販品としては、例えば−ＳＯ3
Ｋ基を有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体のＭＲ１
１０（日本ゼオン株製）、−ＳＯ3Ｎａ基を有するポリ
エステルとしてはバイロン２８０（東洋紡績〔株〕製）
等が挙げられる。
Ｋ基を有する塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体のＭＲ１
１０（日本ゼオン株製）、−ＳＯ3Ｎａ基を有するポリ
エステルとしてはバイロン２８０（東洋紡績〔株〕製）
等が挙げられる。
【００２９】また、結合剤として親水性極性基を持たな
い樹脂を含有せしめることもできる。
い樹脂を含有せしめることもできる。
【００３０】混合できる樹脂の種類としては、例えば、
重量平均分子量が５，０００〜２００，０００のもの
で、ポリウレタン塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴ
ム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なか
でもポリウレタンポリエステル、塩化ビニル系共重合
体、ポリビニルブチラール、ニトロセルロースを使用す
ることが好ましい。
重量平均分子量が５，０００〜２００，０００のもの
で、ポリウレタン塩化ビニル共重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、ブタジエ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリ
ビニルブチラール、セルロース誘導体（ニトロセルロー
ス等）、スチレン−ブタジエン共重合体、各種の合成ゴ
ム系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、
メラミン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコン樹脂、アクリ
ル系樹脂、尿素ホルムアミド樹脂等が挙げられる。なか
でもポリウレタンポリエステル、塩化ビニル系共重合
体、ポリビニルブチラール、ニトロセルロースを使用す
ることが好ましい。
【００３１】また、他の樹脂と混合する場合は、蛍光体
層に使用されるすべての結合剤に対して親水性極性基量
が０．０１〜１００ｍｇ／ｇとなることが好ましく、こ
の範囲がもっとも分散安定性に効果が高い。
層に使用されるすべての結合剤に対して親水性極性基量
が０．０１〜１００ｍｇ／ｇとなることが好ましく、こ
の範囲がもっとも分散安定性に効果が高い。
【００３２】なお、親水性極性基の測定にあたっては、
例えば前記のＳ原子の含有率は以下のようにして求め
た。マトリックス樹脂に、内部標準物質としてＰ含有化
合物を所定量と純度９９．９９９９％の硫黄を添加量を
振って加え、ＷＤＸ（波長分散型螢光Ｘ線）でＳとＰの
蛍光Ｘ線強度比を求めＳ原子の含有率の検量線を作り、
次に測定用試料にＰ含有化合物を所定量加えてＷＤＸの
測定を行って求めた。
例えば前記のＳ原子の含有率は以下のようにして求め
た。マトリックス樹脂に、内部標準物質としてＰ含有化
合物を所定量と純度９９．９９９９％の硫黄を添加量を
振って加え、ＷＤＸ（波長分散型螢光Ｘ線）でＳとＰの
蛍光Ｘ線強度比を求めＳ原子の含有率の検量線を作り、
次に測定用試料にＰ含有化合物を所定量加えてＷＤＸの
測定を行って求めた。
【００３３】本発明の放射線増感スクリーンに用いられ
る好ましい蛍光体としては、以下に示すものが挙げられ
る。
る好ましい蛍光体としては、以下に示すものが挙げられ
る。
【００３４】タングステン酸塩系蛍光体（ＣａＷＯ4、
ＭｇＷＯ4、ＣａＷＯ4：Ｐｂ等）、テルビウム賦活希土
類酸硫化物系蛍光体〔Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔ
ｂ、Ｌａ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ．Ｇｄ）2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、
（Ｙ．Ｇｄ）Ｏ2Ｓ：Ｔｂ．Ｔｍ等〕、テルビウム賦活
希土類燐酸塩系蛍光体（ＹＰＯ4：Ｔｂ、ＧｄＰＯ4：Ｔ
ｂ、ＬａＰＯ４：Ｔｂ等）、テルビウム賦活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＬａＯＢ
ｒ：Ｔｂ．Ｔｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ、ＬａＯＣｌ：Ｔ
ｂ．Ｔｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ．Ｔｍ．ＬａＯＢｒ：Ｔｂ
ＧｄＯＢｒ：ＴｂＧｄＯＣｌ：Ｔｂ等）、ツリウム賦
活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔ
ｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｍ等）、硫酸バリウム系蛍光体〔Ｂ
ａＳＯ４：Ｐｂ、ＢａＳＯ4：Ｅｕ2+、（Ｂａ．Ｓｒ）
ＳＯ4：Ｅｕ2+等〕、２価のユーロビウム賦活アルカリ
土類金属燐酸塩系蛍光体〔（Ｂａ2ＰＯ4）2：Ｅｕ2+、
（Ｂａ2ＰＯ4）2：Ｅｕ2+等〕、２価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体〔ＢａＦ
Ｃｌ：Ｅｕ2+、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ2+、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ
2+．Ｔｂ、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ2+．Ｔｂ、ＢａＦ2・Ｂａ
Ｃｌ・ＫＣｌ：Ｅｕ2+、（Ｂａ・Ｍｇ）Ｆ２・ＢａＣｌ
・ＫＣｌ：Ｅｕ2+等〕、沃化物系蛍光体（ＣｓＩ：Ｎ
ａ、ＣｓＩ：Ｔｌ、ＮａＩ、ＫＩ：Ｔｌ等）、硫化物系
蛍光体〔ＺｎＳ：Ａｇ（Ｚｎ．Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ、（Ｚ
ｎ．Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、（Ｚｎ．Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ．Ａｌ
等〕、燐酸ハフニウム系蛍光体（ＨｆＰ2Ｏ7：Ｃｕ
等）、タンタル酸塩系蛍光体（ＹＴａＯ4、ＹＴａＯ4：
Ｔｍ、ＹＴａＯ4：Ｎｂ、〔Ｙ，Ｓｒ〕ＴａＯ4-x：Ｎ
ｂ、ＬｕＴａＯ4、ＬｕＴａＯ4：Ｎｂ、〔Ｌｕ，Ｓｒ〕
ＴａＯ4-x：Ｎｂ、ＧｄＴａＯ4：Ｔｍ、Ｇｄ2Ｏ3・Ｔａ
2Ｏ5・Ｂ2Ｏ3：Ｔｂ等）、ただし本発明に用いられる蛍
光体はこれらに限定されるものではなく、放射線の照射
によって可視又は近紫外領域の発光を示す蛍光体であれ
ば使用できる。
ＭｇＷＯ4、ＣａＷＯ4：Ｐｂ等）、テルビウム賦活希土
類酸硫化物系蛍光体〔Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔ
ｂ、Ｌａ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、（Ｙ．Ｇｄ）2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、
（Ｙ．Ｇｄ）Ｏ2Ｓ：Ｔｂ．Ｔｍ等〕、テルビウム賦活
希土類燐酸塩系蛍光体（ＹＰＯ4：Ｔｂ、ＧｄＰＯ4：Ｔ
ｂ、ＬａＰＯ４：Ｔｂ等）、テルビウム賦活希土類オキ
シハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、ＬａＯＢ
ｒ：Ｔｂ．Ｔｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ、ＬａＯＣｌ：Ｔ
ｂ．Ｔｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｂ．Ｔｍ．ＬａＯＢｒ：Ｔｂ
ＧｄＯＢｒ：ＴｂＧｄＯＣｌ：Ｔｂ等）、ツリウム賦
活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｔ
ｍ、ＬａＯＣｌ：Ｔｍ等）、硫酸バリウム系蛍光体〔Ｂ
ａＳＯ４：Ｐｂ、ＢａＳＯ4：Ｅｕ2+、（Ｂａ．Ｓｒ）
ＳＯ4：Ｅｕ2+等〕、２価のユーロビウム賦活アルカリ
土類金属燐酸塩系蛍光体〔（Ｂａ2ＰＯ4）2：Ｅｕ2+、
（Ｂａ2ＰＯ4）2：Ｅｕ2+等〕、２価のユーロピウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体〔ＢａＦ
Ｃｌ：Ｅｕ2+、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ2+、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ
2+．Ｔｂ、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ2+．Ｔｂ、ＢａＦ2・Ｂａ
Ｃｌ・ＫＣｌ：Ｅｕ2+、（Ｂａ・Ｍｇ）Ｆ２・ＢａＣｌ
・ＫＣｌ：Ｅｕ2+等〕、沃化物系蛍光体（ＣｓＩ：Ｎ
ａ、ＣｓＩ：Ｔｌ、ＮａＩ、ＫＩ：Ｔｌ等）、硫化物系
蛍光体〔ＺｎＳ：Ａｇ（Ｚｎ．Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ、（Ｚ
ｎ．Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、（Ｚｎ．Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ．Ａｌ
等〕、燐酸ハフニウム系蛍光体（ＨｆＰ2Ｏ7：Ｃｕ
等）、タンタル酸塩系蛍光体（ＹＴａＯ4、ＹＴａＯ4：
Ｔｍ、ＹＴａＯ4：Ｎｂ、〔Ｙ，Ｓｒ〕ＴａＯ4-x：Ｎ
ｂ、ＬｕＴａＯ4、ＬｕＴａＯ4：Ｎｂ、〔Ｌｕ，Ｓｒ〕
ＴａＯ4-x：Ｎｂ、ＧｄＴａＯ4：Ｔｍ、Ｇｄ2Ｏ3・Ｔａ
2Ｏ5・Ｂ2Ｏ3：Ｔｂ等）、ただし本発明に用いられる蛍
光体はこれらに限定されるものではなく、放射線の照射
によって可視又は近紫外領域の発光を示す蛍光体であれ
ば使用できる。
【００３５】本発明の放射線画像変換パネルに用いられ
る好ましい輝尽性蛍光体としては、以下に示すものが挙
げられる。
る好ましい輝尽性蛍光体としては、以下に示すものが挙
げられる。
【００３６】アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体
（ＢａＦＢｒ：Ｅｕ、ＢａＦＩ：Ｅｕ、ＢａＦＢｒ1-x
Ｉx：Ｅｕ、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ、ＢａＦＢｒ：Ｃｅ、Ｂ
ａＢｒＩ：Ｅｕ、ＢａＢｒＣｌ：Ｅｕ、ＳｒＦＢｒ：Ｅ
ｕ、ＢａＢｒ2：Ｅｕ等）、アルカリハライド系蛍光体
（ＲｂＢｒ：Ｔｌ、ＲｂＩ：Ｔｌ、ＣｓＩ：Ｎａ、Ｒｂ
Ｂｒ：Ｅｕ、ＲｂＩ：Ｅｕ、ＣｓＩ：Ｅｕ）等、 硫化
物系蛍光体（ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓ
ｍ、ＣａＳ：Ｅｕ，Ｓｍ等）、アルミン酸バリウム系蛍
光体（ＢａＯ・ｘＡｌ2Ｏ3：Ｅｕ等）、アルカリ土類金
属珪酸塩系蛍光体（ＭｇＯ・ｘＳｉＯ2：Ｅｕ等）、希
土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｂｉ，
Ｔｂ，Ｐｒ等）、燐酸塩系蛍光体（３Ｃａ3（ＰＯ4）2
ＣａＦ2：Ｅｕ等）、ただし、本発明に用いられる輝尽
性蛍光体はこれらに限定されるものではなく、放射線エ
ネルギーを吸収した後、可視光や赤外線などの電磁波
（輝尽励起光）で励起することにより、蓄積していた放
射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）の形で放出する蛍光
体であれば使用できる。
（ＢａＦＢｒ：Ｅｕ、ＢａＦＩ：Ｅｕ、ＢａＦＢｒ1-x
Ｉx：Ｅｕ、ＢａＦＣｌ：Ｅｕ、ＢａＦＢｒ：Ｃｅ、Ｂ
ａＢｒＩ：Ｅｕ、ＢａＢｒＣｌ：Ｅｕ、ＳｒＦＢｒ：Ｅ
ｕ、ＢａＢｒ2：Ｅｕ等）、アルカリハライド系蛍光体
（ＲｂＢｒ：Ｔｌ、ＲｂＩ：Ｔｌ、ＣｓＩ：Ｎａ、Ｒｂ
Ｂｒ：Ｅｕ、ＲｂＩ：Ｅｕ、ＣｓＩ：Ｅｕ）等、 硫化
物系蛍光体（ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓ
ｍ、ＣａＳ：Ｅｕ，Ｓｍ等）、アルミン酸バリウム系蛍
光体（ＢａＯ・ｘＡｌ2Ｏ3：Ｅｕ等）、アルカリ土類金
属珪酸塩系蛍光体（ＭｇＯ・ｘＳｉＯ2：Ｅｕ等）、希
土類オキシハロゲン化物系蛍光体（ＬａＯＢｒ：Ｂｉ，
Ｔｂ，Ｐｒ等）、燐酸塩系蛍光体（３Ｃａ3（ＰＯ4）2
ＣａＦ2：Ｅｕ等）、ただし、本発明に用いられる輝尽
性蛍光体はこれらに限定されるものではなく、放射線エ
ネルギーを吸収した後、可視光や赤外線などの電磁波
（輝尽励起光）で励起することにより、蓄積していた放
射線エネルギーを蛍光（輝尽発光）の形で放出する蛍光
体であれば使用できる。
【００３７】放射線増感スクリーン又は放射線画像変換
パネルの製造法は、第１の製造法として、 結合剤と蛍光体とからなる蛍光体塗布液（以下蛍光体
塗料、又は輝尽性蛍光体塗料）を支持体上に塗布し、蛍
光体層を形成する。
パネルの製造法は、第１の製造法として、 結合剤と蛍光体とからなる蛍光体塗布液（以下蛍光体
塗料、又は輝尽性蛍光体塗料）を支持体上に塗布し、蛍
光体層を形成する。
【００３８】また、第２の製造法として、 結合剤と蛍光体とからなる蛍光体塗料又は輝尽性蛍光
体塗料とからなるシートを形成し、支持体上に載せ、前
記結合剤の軟化温度もしくは融点以上の温度で、支持体
に接着する工程で製造する。
体塗料とからなるシートを形成し、支持体上に載せ、前
記結合剤の軟化温度もしくは融点以上の温度で、支持体
に接着する工程で製造する。
【００３９】蛍光体層支持体への形成方法としては、上
記２種が考えられるが、支持体上に均一に蛍光体層を形
成する方法であればどのような方法でもよく、吹き付け
による形成等でもよい。
記２種が考えられるが、支持体上に均一に蛍光体層を形
成する方法であればどのような方法でもよく、吹き付け
による形成等でもよい。
【００４０】第１の製造法の蛍光体層は、結合剤溶液中
に蛍光体を均一に分散せしめた蛍光体塗料を支持体上に
塗布、乾燥することにより製造できる。
に蛍光体を均一に分散せしめた蛍光体塗料を支持体上に
塗布、乾燥することにより製造できる。
【００４１】また、第２の製造法の蛍光体層となる蛍光
体シートは、蛍光体塗料又は輝尽性蛍光体を蛍光体シー
ト形成用仮支持体上に、または仮支持体上に塗布された
保護膜上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥離する
ことで製造できる。
体シートは、蛍光体塗料又は輝尽性蛍光体を蛍光体シー
ト形成用仮支持体上に、または仮支持体上に塗布された
保護膜上に塗布し、乾燥した後、仮支持体から剥離する
ことで製造できる。
【００４２】即ち、まず適当な有機溶媒中に、結合剤と
蛍光体粒子を添加し、ディスパーやボールミルを使用し
撹拌混合して結合剤中に蛍光体が均一に分散した蛍光体
塗料又は輝尽性蛍光体塗料を調製する。
蛍光体粒子を添加し、ディスパーやボールミルを使用し
撹拌混合して結合剤中に蛍光体が均一に分散した蛍光体
塗料又は輝尽性蛍光体塗料を調製する。
【００４３】蛍光体塗料又は輝尽性蛍光体塗料調製用の
溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノ
ール、ｎ−ブタノールなどの低級アルコール、メチレン
クロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭
化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン、トルエン、ベンゼン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、キシレンなどの芳香族化
合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級
脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エ
チレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコ
ールモノメチルエステルなどのエーテル及びそれらの混
合物を挙げることができる。
溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノ
ール、ｎ−ブタノールなどの低級アルコール、メチレン
クロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭
化水素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンなどのケトン、トルエン、ベンゼン、シクロ
ヘキサン、シクロヘキサノン、キシレンなどの芳香族化
合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級
脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エ
チレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコ
ールモノメチルエステルなどのエーテル及びそれらの混
合物を挙げることができる。
【００４４】なお、蛍光体塗料又輝尽性蛍光体塗料には
塗料中における蛍光体の分散性を向上させるための分散
剤、又は形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体と
の間の結合力を向上させるための可塑剤など種々の添加
剤が混合されてもよい。
塗料中における蛍光体の分散性を向上させるための分散
剤、又は形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体と
の間の結合力を向上させるための可塑剤など種々の添加
剤が混合されてもよい。
【００４５】分散剤の例としては、フタル酸、ステアリ
ン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げること
ができる。
ン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げること
ができる。
【００４６】可塑剤の例としては、燐酸トリフェニー
ル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エス
テル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルな
どのフタル酸エステル、グリコール酸エチルフタリルエ
チル、グリコール酸ブチルフタルブチルなどのグリコー
ル酸エステル、トリエチレングリコールとアジピン酸と
のポリエステル、ジエチレングリコールと琥珀酸とのポ
リエステルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩
基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。
ル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニルなどの燐酸エス
テル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチルな
どのフタル酸エステル、グリコール酸エチルフタリルエ
チル、グリコール酸ブチルフタルブチルなどのグリコー
ル酸エステル、トリエチレングリコールとアジピン酸と
のポリエステル、ジエチレングリコールと琥珀酸とのポ
リエステルなどのポリエチレングリコールと脂肪族二塩
基酸とのポリエステルなどを挙げることができる。
【００４７】上記のようにして調製された蛍光体と結合
剤とを含有する蛍光体塗料を支持体若しくはシート形成
用の仮支持体の表面に均一に塗布することにより塗料の
塗膜を形成する。
剤とを含有する蛍光体塗料を支持体若しくはシート形成
用の仮支持体の表面に均一に塗布することにより塗料の
塗膜を形成する。
【００４８】この塗布手段としては、例えばドクターブ
レード、ロールコータ、ナイフコータ、押し出しコータ
などを用いることにより行うことができる。
レード、ロールコータ、ナイフコータ、押し出しコータ
などを用いることにより行うことができる。
【００４９】支持体及び仮支持体としては、例えばガラ
ス、ウール、コットン、紙、金属などの種々の素材から
作られたものが使用され得るが、情報記録材料としての
取り扱い上可撓性のあるシート或いはロールに加工でき
るものが好ましい。この点から、例えばセルロースアセ
テートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイ
ミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポチカーボネ
ートフィルム等のプラスティクフィルム、アルミニウム
箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、一般紙及び
例えば写真用原紙、コート紙、もしくはアート紙のよう
な印刷用原紙、バライタ紙、レジンコート紙、ベルギー
特許７８４，６１５号明細書に記載されているようなポ
リサッカライド等でサイジングされた紙、二酸化チタン
などの顔料を含むピグメント紙、ポリビニルアルコール
でサイジングした紙等の加工紙が特に好ましい。
ス、ウール、コットン、紙、金属などの種々の素材から
作られたものが使用され得るが、情報記録材料としての
取り扱い上可撓性のあるシート或いはロールに加工でき
るものが好ましい。この点から、例えばセルロースアセ
テートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイ
ミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポチカーボネ
ートフィルム等のプラスティクフィルム、アルミニウム
箔、アルミニウム合金箔などの金属シート、一般紙及び
例えば写真用原紙、コート紙、もしくはアート紙のよう
な印刷用原紙、バライタ紙、レジンコート紙、ベルギー
特許７８４，６１５号明細書に記載されているようなポ
リサッカライド等でサイジングされた紙、二酸化チタン
などの顔料を含むピグメント紙、ポリビニルアルコール
でサイジングした紙等の加工紙が特に好ましい。
【００５０】第２の製造法では、仮支持体上または仮支
持体上に塗布された保護膜上に蛍光体塗料を塗布し乾燥
した後、仮支持体から剥離して蛍光体層となる蛍光体シ
ートとする。従って仮支持体の表面は、予め剥離剤を塗
布しておき、形成された蛍光体シートが仮支持体から剥
離し易い状態にしておくのが好ましい。
持体上に塗布された保護膜上に蛍光体塗料を塗布し乾燥
した後、仮支持体から剥離して蛍光体層となる蛍光体シ
ートとする。従って仮支持体の表面は、予め剥離剤を塗
布しておき、形成された蛍光体シートが仮支持体から剥
離し易い状態にしておくのが好ましい。
【００５１】支持体と蛍光体層の結合を強化するため支
持体表面にポリエステルまたはゼラチンなどの高分子物
質を塗布して接着性を付与する下塗り層を設けたり、感
度、画質（鮮鋭性、粒状性）を向上せしめるために二酸
化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしく
はカーボンブラックなどの光吸収物質からなる光吸収層
などが設けられてよい。それらの構成は目的、用途など
に応じて任意に選択することができる。
持体表面にポリエステルまたはゼラチンなどの高分子物
質を塗布して接着性を付与する下塗り層を設けたり、感
度、画質（鮮鋭性、粒状性）を向上せしめるために二酸
化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしく
はカーボンブラックなどの光吸収物質からなる光吸収層
などが設けられてよい。それらの構成は目的、用途など
に応じて任意に選択することができる。
【００５２】また、本発明の蛍光体層は圧縮してもよ
い。蛍光体層を圧縮することによって蛍光体の充填密度
を向上させ、更に鮮鋭性、粒状性を向上させることがで
きる。圧縮の方法としてはプレス機やカレンダーロール
等が挙げられる。
い。蛍光体層を圧縮することによって蛍光体の充填密度
を向上させ、更に鮮鋭性、粒状性を向上させることがで
きる。圧縮の方法としてはプレス機やカレンダーロール
等が挙げられる。
【００５３】第１の製造法の場合、蛍光体及び支持体を
そのまま圧縮する。第２の製造法の場合、前記によっ
て得られた蛍光体シートを支持体上に載せ、結合剤の軟
化温度または融点以上の温度で圧縮しながら蛍光体シー
トを支持体上に接着する。このようにして、蛍光体シー
トを支持体上に予め固定することなく圧着する方法を利
用することによりシートを薄く押し広げることができ
る。
そのまま圧縮する。第２の製造法の場合、前記によっ
て得られた蛍光体シートを支持体上に載せ、結合剤の軟
化温度または融点以上の温度で圧縮しながら蛍光体シー
トを支持体上に接着する。このようにして、蛍光体シー
トを支持体上に予め固定することなく圧着する方法を利
用することによりシートを薄く押し広げることができ
る。
【００５４】通常、放射線増感スクリーン及び放射線画
像変換パネルには、前述した支持体に接する側と反対側
の蛍光体層の表面に、蛍光体層を物理的、化学的に保護
するための透明な保護膜が設けられる。このような透明
保護膜は、本発明についても設置することが好ましい。
保護膜の膜厚は一般に２〜２０μｍの範囲にある。
像変換パネルには、前述した支持体に接する側と反対側
の蛍光体層の表面に、蛍光体層を物理的、化学的に保護
するための透明な保護膜が設けられる。このような透明
保護膜は、本発明についても設置することが好ましい。
保護膜の膜厚は一般に２〜２０μｍの範囲にある。
【００５５】透明保護層は例えば酢酸セルロース、ニト
ロセルロースなどのセルロース誘導体、或いはポリメチ
ルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボ
ネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマーなどの合成高分子物質を適当な溶剤に溶解して調
製した溶液を蛍光体層の表面に塗布する方法により形成
することができる。
ロセルロースなどのセルロース誘導体、或いはポリメチ
ルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボ
ネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポ
リマーなどの合成高分子物質を適当な溶剤に溶解して調
製した溶液を蛍光体層の表面に塗布する方法により形成
することができる。
【００５６】これらの高分子物質は、単独でも混合して
も使用できる。また、保護層を塗布で形成する場合は塗
布の直前に架橋剤を添加することが望ましい。
も使用できる。また、保護層を塗布で形成する場合は塗
布の直前に架橋剤を添加することが望ましい。
【００５７】或いはポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリアミドなどからなるプラスチックシート、及
び接着剤を用いて接着するなどの方法で形成することが
できる。
エチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリアミドなどからなるプラスチックシート、及
び接着剤を用いて接着するなどの方法で形成することが
できる。
【００５８】本発明で用いられる保護層としては、特に
有機溶媒に可溶性の弗素系樹脂を含む塗布膜により形成
されることが好ましい。弗素系樹脂とは、弗素を含むオ
レフィン（フルオロオレフィン）の重合体、もしくは弗
素を含むオレフィンを共重合体成分として含む共重合体
をいう。弗素系樹脂の塗布膜により形成された保護層は
架橋されていてもよい。弗素系樹脂による保護層は、触
手や感光材料などとの接触で脂肪分、感光材料などから
出る可塑剤などの汚れが保護層内部に染み込みにくいの
で、拭き取りなどによって容易に汚れを除去することが
できる利点がある。また、膜強度の改良等の目的で、弗
素系樹脂と他の高分子物質を混合してもよい。
有機溶媒に可溶性の弗素系樹脂を含む塗布膜により形成
されることが好ましい。弗素系樹脂とは、弗素を含むオ
レフィン（フルオロオレフィン）の重合体、もしくは弗
素を含むオレフィンを共重合体成分として含む共重合体
をいう。弗素系樹脂の塗布膜により形成された保護層は
架橋されていてもよい。弗素系樹脂による保護層は、触
手や感光材料などとの接触で脂肪分、感光材料などから
出る可塑剤などの汚れが保護層内部に染み込みにくいの
で、拭き取りなどによって容易に汚れを除去することが
できる利点がある。また、膜強度の改良等の目的で、弗
素系樹脂と他の高分子物質を混合してもよい。
【００５９】また、保護層は蛍光体層上に形成された厚
さ１０μｍ以下の透明な合成樹脂層であることが好まし
い。このような薄い保護層を用いることにより、特に放
射線増感スクリーンの場合は蛍光体からハロゲン化銀乳
剤までの距離が短くなるため、得られる放射線画像の鮮
鋭度の向上に寄与することになる。
さ１０μｍ以下の透明な合成樹脂層であることが好まし
い。このような薄い保護層を用いることにより、特に放
射線増感スクリーンの場合は蛍光体からハロゲン化銀乳
剤までの距離が短くなるため、得られる放射線画像の鮮
鋭度の向上に寄与することになる。
【００６０】
【実施例】以下、本発明を実施例にて詳細に説明する
が、本発明はこれらによって限定されるものではない。
が、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００６１】実施例１ 放射線増感スクリーンの製造 蛍光体層用塗料の処方 （単位は重量部） Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ（平均粒子径４μｍ） １００．０ 結合剤 （表１及び表２記載） ５．０ 上記処方において、表１及び表２記載の官能基を有する
結合剤（樹脂）を用いて塗料粘度が２０Ｐｓ（ポイズ）
となるようにメチルエチルケトンとトルエンを１：１で
混合した溶媒を添加し、ボールミルにて６時間混合分散
し蛍光体塗料を得た。次にガラス板上に水平にセットし
たチタン含有白色ポリエチレンテレフタレート支持体
（厚さ２５０μｍ）に上記の蛍光体塗料をナイフコータ
ーを用いて蛍光体の塗布量が６ｇ／１００ｃｍ2となる
ように塗布、乾燥し蛍光体層を得た。
結合剤（樹脂）を用いて塗料粘度が２０Ｐｓ（ポイズ）
となるようにメチルエチルケトンとトルエンを１：１で
混合した溶媒を添加し、ボールミルにて６時間混合分散
し蛍光体塗料を得た。次にガラス板上に水平にセットし
たチタン含有白色ポリエチレンテレフタレート支持体
（厚さ２５０μｍ）に上記の蛍光体塗料をナイフコータ
ーを用いて蛍光体の塗布量が６ｇ／１００ｃｍ2となる
ように塗布、乾燥し蛍光体層を得た。
【００６２】蛍光体層を形成後、厚さ９μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルムの片面にポリエステル系接
着剤を塗布し、接着剤面を蛍光層面に密着し、保護層を
設け、本発明の試料放射線増感スクリーン２〜１１、１
３〜１７、１９〜２３、２５〜４２及び比較放射線増感
スクリーン１、１２、１８、２４を得た。
レンテレフタレートフィルムの片面にポリエステル系接
着剤を塗布し、接着剤面を蛍光層面に密着し、保護層を
設け、本発明の試料放射線増感スクリーン２〜１１、１
３〜１７、１９〜２３、２５〜４２及び比較放射線増感
スクリーン１、１２、１８、２４を得た。
【００６３】放射線増感スクリーンの画像の評価 ａ）鮮鋭度 得られた放射線増感スクリーン試料をＸ線撮影用フィル
ムＳＲ−Ｇ（コニカ［株］製）を用い、フンクテストチ
ャートＳＭＳ−５８５３（コニカメディカル［株］販
売）矩形波チャートを撮影し、自動現像機ＳＲＸ−５０
２（コニカ［株］製）、処理液ＳＲ−ＤＦ（コニカ
［株］製）を用い現像温度３５℃、定着温度３３℃で４
５秒処理を行い、コントラスト法によりＭＴＦを測定し
た。ＭＴＦ値は空間周波数２．０サイクル／ｍｍの値で
示した。従ってＭＴＦ値が高いほど鮮鋭性が高いことを
示す。
ムＳＲ−Ｇ（コニカ［株］製）を用い、フンクテストチ
ャートＳＭＳ−５８５３（コニカメディカル［株］販
売）矩形波チャートを撮影し、自動現像機ＳＲＸ−５０
２（コニカ［株］製）、処理液ＳＲ−ＤＦ（コニカ
［株］製）を用い現像温度３５℃、定着温度３３℃で４
５秒処理を行い、コントラスト法によりＭＴＦを測定し
た。ＭＴＦ値は空間周波数２．０サイクル／ｍｍの値で
示した。従ってＭＴＦ値が高いほど鮮鋭性が高いことを
示す。
【００６４】ｂ）粒状度 得られた放射線増感スクリーン試料をＭＴＦ測定と同様
にＸ線撮影用フィルムＳＲ−Ｇ（コニカ［株］製）を用
い、現像処理後の光学濃度が１．０±０．１になるよう
な距離で８０ｋＶｐでＸ線を照射し、現像処理は前記Ｍ
ＴＦと同様の処理を行った。
にＸ線撮影用フィルムＳＲ−Ｇ（コニカ［株］製）を用
い、現像処理後の光学濃度が１．０±０．１になるよう
な距離で８０ｋＶｐでＸ線を照射し、現像処理は前記Ｍ
ＴＦと同様の処理を行った。
【００６５】粒状性は４８μｍのアパチュアー径で測定
したＲＭＳ粒状性で評価した。ＲＭＳ粒状性については
Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編：Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ
ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ
６１９−６２０頁（１９７７年、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ
社）に記載されている。なお、ＲＭＳ値は値が小さいほ
ど粒状性がよいことを示す。
したＲＭＳ粒状性で評価した。ＲＭＳ粒状性については
Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編：Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ
ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ
６１９−６２０頁（１９７７年、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ
社）に記載されている。なお、ＲＭＳ値は値が小さいほ
ど粒状性がよいことを示す。
【００６６】得られた結果を表１，２に示す。
【００６７】
【表１】
【００６８】
【表２】
【００６９】表１、２から明らかなように、本発明の親
水性極性基を有する樹脂を含有する結合剤を用いた放射
線増感スクリーンＮｏ．２〜１１、１３〜１７、１９〜
２３、２５〜４２は比較放射線増感スクリーンＮｏ．
１、１２、１８、２４に比して明らかに鮮鋭性、粒状性
の点で優れていることが分かる。
水性極性基を有する樹脂を含有する結合剤を用いた放射
線増感スクリーンＮｏ．２〜１１、１３〜１７、１９〜
２３、２５〜４２は比較放射線増感スクリーンＮｏ．
１、１２、１８、２４に比して明らかに鮮鋭性、粒状性
の点で優れていることが分かる。
【００７０】実施例２ （１）放射線画像変換パネルの製造 輝尽性蛍光体層用塗料の処方 （単位は重量部） ＢａＦＢｒ：Ｅｕ（平均粒径６μｍ） ２００．０ 結合剤（表３及び表４記載） １３．０ 上記処方において、表３及び表４記載の結合剤（樹脂）
を用いて、塗料粘度が２０Ｐｓ（ポイズ）となるように
メチルエチルケトンとトルエンを１：１で混合した溶媒
を添加し、ボールミルにて６時間混合分散し輝尽性蛍光
体塗料を得た。
を用いて、塗料粘度が２０Ｐｓ（ポイズ）となるように
メチルエチルケトンとトルエンを１：１で混合した溶媒
を添加し、ボールミルにて６時間混合分散し輝尽性蛍光
体塗料を得た。
【００７１】次にガラス板上に水平にセットしたチタン
含有白色ポリエチレンテレフタレート支持体（厚さ２５
０μｍ）に上記の輝尽性蛍光体塗料をナイフコーターを
用いて輝尽性蛍光体の塗布量が６ｇ／１００ｃｍ2とな
るように塗布、乾燥し蛍光体を得た。
含有白色ポリエチレンテレフタレート支持体（厚さ２５
０μｍ）に上記の輝尽性蛍光体塗料をナイフコーターを
用いて輝尽性蛍光体の塗布量が６ｇ／１００ｃｍ2とな
るように塗布、乾燥し蛍光体を得た。
【００７２】蛍光体層を形成後、厚さ９μｍのポリエチ
レンテレフタレートフィルムの片面にポリエステル系接
着剤を塗布し、接着剤面を蛍光体層面に密着し、保護層
を設け、本発明の試料放射線画像変換パネルＮｏ．２〜
１１、１３〜１７、１９〜２３、２５〜４２及び比較放
射線画像変換パネルＮｏ．１、１２、１８、２４を得
た。
レンテレフタレートフィルムの片面にポリエステル系接
着剤を塗布し、接着剤面を蛍光体層面に密着し、保護層
を設け、本発明の試料放射線画像変換パネルＮｏ．２〜
１１、１３〜１７、１９〜２３、２５〜４２及び比較放
射線画像変換パネルＮｏ．１、１２、１８、２４を得
た。
【００７３】放射線画像変換パネルの画像評価 ａ）鮮鋭性 放射線画像変換パネルにＣＴＦチャートを貼り付けた
後、管電圧８０ｋＶｐ、管電流５０ｍＡ、管球からパネ
ルまでの距離１．５ｍで照射時間０．１秒のＸ線を照射
した後、半導体レーザ光（発振波長６８０ｎｍ、ビーム
径１００μｍφ）で走査して輝尽励起し、ＣＴＦチャー
ト像を輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光を読み取
り、検出器（光電子増倍管）で光電変換して信号を得
た。この信号値より、画像の変調伝達関数（ＭＴＦ）を
調べ、画像の鮮鋭性を評価した。なお、鮮鋭性は空間周
波数が２．０サイクル／ｍｍのときのＭＴＦ値である。
後、管電圧８０ｋＶｐ、管電流５０ｍＡ、管球からパネ
ルまでの距離１．５ｍで照射時間０．１秒のＸ線を照射
した後、半導体レーザ光（発振波長６８０ｎｍ、ビーム
径１００μｍφ）で走査して輝尽励起し、ＣＴＦチャー
ト像を輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光を読み取
り、検出器（光電子増倍管）で光電変換して信号を得
た。この信号値より、画像の変調伝達関数（ＭＴＦ）を
調べ、画像の鮮鋭性を評価した。なお、鮮鋭性は空間周
波数が２．０サイクル／ｍｍのときのＭＴＦ値である。
【００７４】ｂ）粒状性 得られた放射線画像変換パネル試料を管電圧８０ｋＶ
ｐ、管電流５０ｍＡ、管球からパネルまでの距離１．５
ｍで照射時間０．１秒のＸ線を照射した後、半導体レー
ザ光（発振波長６８０ｎｍ、ビーム径１００μｍφ）で
走査して輝尽励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝
尽発光を２５μｍのピッチに相当するタイミングで読み
取り、検出器（光電子増倍管）で光電変換して得た信号
からＲＭＳ粒状性を評価した。ＲＭＳ粒状性については
Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編：Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ
ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ
６１９−６２０頁（１９７７年、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ
社）に記載されている方法を本発明の放射線画像変換パ
ネルに適用した。なお、ＲＭＳ値は値が小さいほど粒状
性が良いことを示す。
ｐ、管電流５０ｍＡ、管球からパネルまでの距離１．５
ｍで照射時間０．１秒のＸ線を照射した後、半導体レー
ザ光（発振波長６８０ｎｍ、ビーム径１００μｍφ）で
走査して輝尽励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝
尽発光を２５μｍのピッチに相当するタイミングで読み
取り、検出器（光電子増倍管）で光電変換して得た信号
からＲＭＳ粒状性を評価した。ＲＭＳ粒状性については
Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ編：Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ
ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ
６１９−６２０頁（１９７７年、Ｍａｃｍｉｌｌａｎ
社）に記載されている方法を本発明の放射線画像変換パ
ネルに適用した。なお、ＲＭＳ値は値が小さいほど粒状
性が良いことを示す。
【００７５】得られた結果を表３、表４に示す。
【００７６】
【表３】
【００７７】
【表４】
【００７８】表３、４から明らかなように、本発明の親
水性極性基を有する樹脂を含有する結合剤を用いた放射
線画像変換パネルＮｏ．２〜１１、１３〜１７、１９〜
２３、２５〜４２は比較放射線画像変換パネルＮｏ．
１、１２、１８、２４に比して明らかに鮮鋭性、粒状性
の点で優れていることが分かる。
水性極性基を有する樹脂を含有する結合剤を用いた放射
線画像変換パネルＮｏ．２〜１１、１３〜１７、１９〜
２３、２５〜４２は比較放射線画像変換パネルＮｏ．
１、１２、１８、２４に比して明らかに鮮鋭性、粒状性
の点で優れていることが分かる。
【００７９】
【発明の効果】本発明により鮮鋭性、粒状性に優れた放
射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネルが得られ
た。
射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネルが得られ
た。
Claims (8)
- 【請求項１】 支持体上に蛍光体粒子を結合剤中に分散
含有する蛍光体層を有する放射線増感スクリーンにおい
て、該結合剤が親水性極性基を有する樹脂を含有するこ
とを特徴とする放射線増感スクリーン。 - 【請求項２】 前記樹脂が−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−
ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ）2（但
し、Ｍは水素原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属
原子）からなる群から選ばれた親水性極性基を少なくと
も一種含有することを特徴とする請求項１記載の放射線
増感スクリーン。 - 【請求項３】 前記蛍光体層の結合剤に用いられる親水
性極性基含有量が全結合剤に対して０．０１ｍｇ／ｇ以
上１００ｍｇ／ｇ以下であることを特徴とする請求項１
又は２記載の放射線増感スクリーン。 - 【請求項４】 前記蛍光体層中の親水性極性基を有する
樹脂がポリウレタン系、ポリエステル系、塩化ビニル
系、ポリビニルブチラール系、ニトロセルロース系から
選ばれた樹脂であることを特徴とする請求項１、２又は
３項記載の放射線増感スクリーン。 - 【請求項５】 支持体上に輝尽性蛍光体粒子を結合剤中
に分散含有する輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換
パネルにおいて、該結合剤が親水性極性基を有する樹脂
を含有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 【請求項６】 前記樹脂が−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−
ＣＯＯＭ、−ＰＯ（ＯＭ）2及び−ＯＰＯ（ＯＭ）2（但
し、Ｍは水素原子又はＬｉ、Ｋ、Ｎａ等のアルカリ金属
原子）からなる群から選ばれた親水性極性基を少なくと
も一種含有することを特徴とする請求項５記載の放射線
画像変換パネル。 - 【請求項７】 前記輝尽性蛍光体の結合剤に用いられる
親水性極性基含有量が全結合剤に対して０．０１ｍｇ／
ｇ以上１００ｍｇ／ｇ以下であることを特徴とする請求
項５又は６記載の放射線画像変換パネル。 - 【請求項８】 前記輝尽性蛍光体層中の親水性極性基を
有する樹脂がポリウレタン系、ポリエステル系、塩化ビ
ニル系、ポリビニルブチラール系、ニトロセルロース系
から選ばれた樹脂であることを特徴とする請求項５、６
又は７記載の放射線画像変換パネル。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8044694A JPH09236698A (ja) | 1996-03-01 | 1996-03-01 | 放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル |
| US08/804,739 US5889283A (en) | 1996-03-01 | 1997-02-21 | Radiographic intensifying screen and radiographic image converting panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8044694A JPH09236698A (ja) | 1996-03-01 | 1996-03-01 | 放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09236698A true JPH09236698A (ja) | 1997-09-09 |
Family
ID=12698534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8044694A Pending JPH09236698A (ja) | 1996-03-01 | 1996-03-01 | 放射線増感スクリーン及び放射線画像変換パネル |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5889283A (ja) |
| JP (1) | JPH09236698A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6389156B1 (en) * | 1997-10-09 | 2002-05-14 | Konica Corporation | Method and apparatus for reading radiographic images |
| US6483122B1 (en) * | 1999-09-29 | 2002-11-19 | Konica Corporation | Radiation image conversion panel and stimulable phosphor |
| US6652994B2 (en) * | 2000-10-20 | 2003-11-25 | Konica Corporation | Radiation image conversion panel |
| US7038211B2 (en) * | 2002-12-03 | 2006-05-02 | Universities Research Association, Inc. | Systems and methods for detecting x-rays |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3114438A1 (de) * | 1981-04-09 | 1982-10-28 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Roentgenleuchtschirm |
| US5164224A (en) * | 1989-04-19 | 1992-11-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Radiation image storage panel radiographic intensifying screen and processes for the preparation of the same |
-
1996
- 1996-03-01 JP JP8044694A patent/JPH09236698A/ja active Pending
-
1997
- 1997-02-21 US US08/804,739 patent/US5889283A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5889283A (en) | 1999-03-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041221 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050419 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050830 |