JPS58155940A - 複合フイルム - Google Patents

複合フイルム

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JPS58155940A
JPS58155940A JP57038763A JP3876382A JPS58155940A JP S58155940 A JPS58155940 A JP S58155940A JP 57038763 A JP57038763 A JP 57038763A JP 3876382 A JP3876382 A JP 3876382A JP S58155940 A JPS58155940 A JP S58155940A
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film
magnetic
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composite film
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雅章 小野
安紀 三浦
正彦 茂木
和男 岡部
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Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複合フィルムに関し、さらに詳しくは高密度磁
気記録用複合フィルムに関する。
支持体であるプラスチックベースフィルムの表面に磁性
物質を真空蒸着、スパッタリング、メッキ法等で薄膜状
に形成してなるビデオ用高密度磁気テープでは磁気膜厚
が従来の塗布型ビデオテープの磁性体コーティング層厚
みに比べはるかに薄く、使用するベースフィルムの表面
形態がそのまま磁性体薄膜表面となる。このビデオ用高
密度磁気テープの電磁変換特性を向上させるためには。
使用するベースフィルム表面の表面粗さを非常に低くし
なければならない。しかし全くの平滑な鏡面を有するベ
ースフィルム上に薄膜を形成させたものは薄膜面がその
ままの鏡面を保つので、テープ化プロセス、ビデオテー
プレコーダー内での実際走行でのドラム、ヘッド等との
接触ではりつけ現象をおこしたり、薄膜面に\すり傷が
大量に発生して全く実用性がなくなってしまうのが通例
である。
また磁性薄膜非形成面も金属ロール、ガイド棒との接触
死石面として易滑で耐久性の良いことが製膜プロセスお
よびビデオテープレコーダー内での実際走行の観点から
必須である。これを満足させるためには、走行フィルム
表面の表面粗度を大にするのが一般的であるが、ベース
フィルムをロール状に巻いた時、テープ化プロセスおよ
び磁気テープをリール状に巻いた時のいずれにおいても
走行面表面の薄膜形成面への転写により薄膜形成面の表
面平滑性がそこなわれない程度に、走行面表面粗度を抑
えることが必要である。
本発明の目的は、電磁変換特性に優れた磁性薄膜が形成
でき、金属ガイド棒との接触走行において易滑で耐久性
に優れ、しかも磁性薄膜面へ表面形状の転写の影響を与
えない走行面を有する複合フィルムを提供することであ
る。
上記目的を達成するため1本発明は次の構成。
すなわち、熱可塑性樹脂からなる層Aと、微粒子高さ5
0〜1000Aの不連続皮膜4Fkを有し、該層Bの外
面は陥没部中または複数個の陥没部が隣接する位置に1
個まだは複数個の突起部を有する凹凸部が複1数個形成
されてなり且該層Bの外面の粗さは Ra値で0005
〜O,Q4Qμであることを特徴とする複合フィルムで
ある。
本発明の熱可塑性樹脂は、ポリエステル、ポリアミド、
ポリカーボネート、ポリプロピレン等周知の熱可塑性高
分子から形成させたものであるが。
好ましい高分子として機械的特性、熱的特性の両者を満
足するものとしては、ポリエステルがある。
ここでポリエステルは線状ポリエステルを主体とするも
のであればどのようなものでも良い、たとえばポリエチ
レンテレフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレー
ト、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレフ
タレート、ポリエチL/7−2.6−ナフタリンジカル
ポキシレート、ポリエチレン−p−オキシベンゾエート
などがその代表例としてあげることができる。もちろん
、これらのポリエステルは、ホモポリエステルであって
も。
コラポリエステルであっても良い。コラポリエステルの
場合、共重合する成分としては1例えばジエチレングリ
コール、フロピレンゲリコール、p−キシリレ/グリコ
ール、1,4−シクロヘキサンジメタノ−λなどのジオ
ール成分、アジピン酸。
セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタ
リンジカルボン酸、5−ナトリウムスルホイン7タル酸
などのジカルボン酸成分、トリメリット酸などの多官能
ジカルボン酸成分、p−オキシエトキシ安息香酸などが
挙げられる。なお共重合の場合、共重合する成分は20
モルチ以下とする。
本発明の熱可塑性樹脂からなる層Aとは、上記熱可塑性
樹脂に粒子径0,5μ以上の微粒子が含まれない層、好
ましくは微粒子が実質的に含まれない層である。また1
層Aの外面の粗さは、カットオフ値0.25−での R
a値(D工N  476Bに準する)で0.QQ6μ以
下で、その面には高さ50〜1000Aの不連続皮膜が
形成されている。この不連続皮膜の組成は1本発明の特
定の不連続皮膜が形成されるものであれば何であっても
よく、特に限定されるものではないが、好ましい代表例
としては、後述のシリコーン、シランカップリング剤。
水溶性高分子からなるものを、シリコーン:シランカッ
プリング剤:水溶性高分子−10〜50: 5〜150
 : 、10〜200 の割合に混合するのが望ましい
。不連続皮膜の形成された面(以下、A面という)は、
第1図のレプリカ法透過型電子顕微鏡写真(拡大倍率5
000倍)で代表されるような構造の不連続皮膜が全表
面積の1a〜90%にわたって形成された面である。皮
膜の高さは、触針式表面粗さ計でカットオフ値0.08
mmを用いて縦倍率50万倍で、A面を測定して得られ
る第2図のような表面粗さ曲線において、山の平均高さ
と谷の平均的深さとの間隔Hに対応する値を指し、その
囲である。この範囲内にあると皮膜によりA面はテープ
°化工程においてすり傷が発生しなくなる。
また、上記複合フィルムのA面に゛磁性層、好ましくは
強磁性体薄膜を形成することができる。すなわち、Fθ
、 Co、 Ni  あるいはそれらの合金、あるいは
それらと他の非磁性材料との合金からなる強磁性物質を
、真空蒸着、スパッタリング、メッキ法等で500〜2
000大の範囲の、膜厚で薄膜状に形成させ磁気記録媒
体とすることができる。
上記の不連続皮膜面に磁性薄膜を形成させた場合、薄膜
面も易滑となり、ビデオテープレコーダー内での実際走
行において回転ヘッドドラムと接触してはりつけ現象を
おこしたり、すシ傷が発生したりすることがなくなる。
しかも皮膜構造高さが1000A以下であるからA面上
に強磁性体薄膜を形成させて得られる磁気テープの電磁
変換特性は優れている。
本発明の熱可塑性樹脂層Bとは、上記熱可塑性樹脂に微
粒子が含有されたもので、その微粒子は熱可塑性樹脂重
合触媒残渣により形成されたもの。
例えばポリニス亨ル樹脂の場合、 Oa、 si、 M
n、Mg。
Sb、 Ge、 P、 Li、 K、 Na  などを
含む触媒残渣で構成されるポリマー不溶解組成物および
/または酸化アルミニウム、酸化ケイ素、硫酸バリウム
、炭酸カルシウム等の外部無機粒子等であるが、これら
に限定されるものではない。
また、これらの粒子径は2μ以下が好ましく。
含有量は、001〜1.0重量俤、好ましくは0.00
2〜0.5重量%が望ましい。
該層Bの外面とは1層Aと接してない側の面を指し、そ
の外面には、第3図の微分干渉顕微鏡写真(拡大1倍率
500倍)で代表されるような、フィルム面に陥没部が
形成され、その陥没部中または複数個の陥没部が隣接す
る位置に1個または複数個の突起部を有する凹凸部が複
数個形成されてなる面である。
この凹凸部を第5図〜第8図に基づいて説明する。
図において、1は複合フィルムの層BI2+2’11は
陥没部、6は突起部、4は複合フィルムの層Aである。
そして第5図は、陥没部2の中に1個の突起部3が形成
された凹凸部の断面図、第6図は、第5図のA−A断面
を示す図である。また。
第7図は、2個の陥没部2? 211の隣接する個所に
また。この凹凸部!複数個形成された面の粗さは、カッ
トオフ値0.25 mmでの Ra値で0005〜00
40μの範囲内である。ここで該層の Ra値が下限を
はずれると、この面の金属ロール、ガイド棒との走行性
が悪くなる。すなわち易滑性、耐久性が悪化する。また
 Ra値が上限をはずれると表面粗度が大となり、ベー
スフィルムをロール状ニ巻いた時、テープ化プロセスお
よび磁気テープをリール状に巻いた時のいずれにおいて
も、この表面が薄膜形成面へ転写し、薄膜形成面すなわ
ちA層表面の表面平滑性が悪くなり、好ましくない。
走行面としての層Bの外面の易滑性、耐久性をさらに増
したい場合には層Bの外面に滑剤を主体とした成分から
なる被覆層を形成させることが望ましい。
ここに滑剤とは、つぎのごときものが代表例として挙げ
られる。
(f)  シリコーン(以下(a)という)(a)とは
分子量が6万〜50万のものであり、好ましくけ鎖状成
分として。
1 R7 ただしR,: OH,、O,H,、H R,: OH,、C,H,、Hまたは官能性基(例 “
えはエポキシ基、アミノ基、水酸基) n ; IDo 〜7000でRlR,によッテ上記分
子量を満足させる整数 を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキシ基、
アミノ基、水酸基その他の官能性末端基を有するもので
ある。本発明においてシリコーン化合物は必ずしもホモ
ポリマーである必要はなく。
コウボリマーあるいは数種のホモポリマーの混合体であ
っても良い。シリコーンの分子量は5万〜30万のもの
が好ましい。分子量が3万を下まわると被覆層は柔らか
くなりすぎる。一方、30万をこえると逆に被覆層がも
ろくなる。
←)界面活性剤(以下(b)という) (b)としては、アニオン、カチオン、ノニオン系のい
ずれも使用可能であるが、ノニオン系が好ましい。これ
は構成成分間の均一化を増進させるために用いるもので
あり、(b)が少なすぎると構成混合成分の均一性が減
少し、また多すぎると被覆層の耐久性の低下がおこシ好
ましくない。
e→ シランカップリング剤(以下(c)という)(C
)は構成成分とプラスチックベースフィルム間の結合性
をもたらす目的で使用されるものである。
ここで(C)とは、その分子中に2個以上の異なった反
応基をもつ有機けい素早量体であり9反応基の一つはメ
トキシ基、エトキシ基、シラノール基などであり、もう
一つの反応基はビニル基、エポキシ基、メタアクリル基
、アミノ基、メルカプト基などである。反応基はシリコ
ーン側鎖基、末端基と結合するものを選ぶが、ビ゛ニル
トリクロルシラン、ビニルトリエトキシシラ/、ビニル
トリス(β−メトキシエトキシ)シラ/、γ−グリシド
キシグロビルトリメトキシシラ/、γ−メタアクリロキ
シグロピルトリメトキシシラン、N−β(アミンエチル
)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(ア
ミノエチル)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メル
カプトグロビルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン等が使用できる。
(C)成分が少ないと構成成分とプラスチックベースフ
ィルム間の結合が不充分になり、また多すぎると被覆層
がもろくなってやはり耐久性を低下させてしまう。
に)水溶性高分子(以下(d)という)(d)は分子量
が1万〜200万、好ましくは10万〜100万のもの
である。分子量が1万を下まわると皮膜が柔らかくなり
、構造保持が困難となり耐久性が低下する。分子量が2
00万を上まわると皮膜が固くなりすぎ、もろくなり耐
久性をやはり悪化させる。かかる水溶性高分子としては
ポリビニルアルコール、トラガントゴム、アラビアゴム
、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロース。
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシルメチルセル
ロース等が挙げられる。
(ホ) ワックス(以下(e)という)(e)としては
、シナロウ、鯨ロウ、カルナウバワックス、密ロウ等の
ワックスを用いることができる。
ここで、複合フィルムの層B外面の被覆層は。
前述の滑剤の選択により、全面均一被覆形態あるいは部
分(ミミズ状)被覆形態に分けられる。全面均一被覆層
を形成する場合の滑剤としては、前述のシリコーン(a
)、界面活性剤(b)、シラ/カップリング剤(C)、
さらに好ましくはワックス(e)を混合した成分が望ま
しい。
この場合、シリコーン(a)、界面活性剤(bL7ラン
カツプリング剤(C)、ワックス(e)の成分割合(重
量比)が、 (a):(b):(c):(e)= 10
〜100:5〜20:5〜100:D〜200の範囲の
ものが好ましく、またここで(a)と(e)は滑剤成分
であり、(a)が多すぎても少なすぎても耐久性の低下
をもたらす。(e)が多すぎると耐久性がやはり下がる
また0部分(ミミズ状)被覆層を形成する場合の滑剤と
しては、前述のシリコーン(a)、シランカップリング
剤(C)、水溶性高分子(d)、さらに好ましくはワッ
クス(e)を混合した成分が望ましい。
この場合、シリコ−2(a) 、シランカップリング剤
(C)、水溶性高分子(d)、ワックス(6)の成分割
合(重量比)は(a) : (c) : (d) : 
(e)’= 10〜100:5〜1’00:10〜20
0:O〜200の範囲のものが好ましく。
構成成分(a)と(e)は滑性成分であり、(a)が多
すぎても少なすぎても耐久性の低下をもたらす。(e)
が多すぎると耐久性がやはり低下する。構成成分(d)
は部分(ミミズ状)被覆構造の構造形成剤であり。
(d)成分が少なすぎると構造が保持されにくくなる。
多すぎると耐久性が低下する。(C)は前記したことと
同様に構成成分とプラスチックベースフィルム間の結合
性をもたらすものである。(C)成分が少ないと結合が
不充分で耐久性が低下する。多すぎると構成成分がもろ
くなり、また耐久性が低下する。
この部分(ミミズ状)被覆層の表面構造は、第2図に示
す微分干渉法顕微鏡写真(拡大倍率500倍)の通りで
ある(以下1部分(ミミズ)被覆層の形成された面を単
にB面という)。
なお1層A9層Bは、1軸延伸、好ましくは2軸延伸さ
れているのが望ましい。
次に本発明の複合フィルムの製法について述べる。本発
明の複合フィルムは・溶融、戊形、二軸延伸、熱固定か
らなる通常のプラスチックフィルム製造工程において共
押出し技術を使用して製造することができる。層A用の
内在粒子を可能な限シ除いた原料と9層B用の積極的に
内在粒子を含有する原料とを用い、共押出しにより複合
フィルムを得る過程あるいは製膜後においてフィルムの
層Aの外面に前記溶液、エマルジョンの塗布を行なうこ
とにより50〜1oooXの高さの不連続皮膜とするこ
とができる。また層Bは原料中の内在粒子の種類、量を
適当に選び、製膜工程中に陥没部形成工程を設けること
により、その外面に陥没部中まだは複数個の陥没部の隣
接点に突起部を有する凹凸部を形成させることができる
。陥没部形成工程としては、最初の延伸過程で、フィル
ム面垂直方向に10鞄/(2)以上の荷重を加える方法
が有用である。ただし1本発明はこの方法に限定される
ものではない。表面Bの易滑性、耐久性を更に増したい
場合は、複合フィルム製膜過程あるいは製膜後に層Bの
外面に滑剤成分主体の溶液あるいはエマルジョンを塗布
すればよ°い。
本発明の複合フィルムを用いて磁気記録媒体を製造する
には上記製法で製造した複合フィルムの50〜1000
Aの高さの不連続皮膜形成面上に。
Fe、 Co、 Ni  あるいはそれらの合金、ある
いはそれらと他の非磁性材料との合金からなる強磁性物
質を、真空蒸着、スパッタリング、メッキ法等で500
〜2000Aの範囲の膜厚で薄膜状に形成させ所定の幅
に切断すればよい。
上述のごとき本発明の複合フィルムを用いた磁気記録媒
体は、磁性面は易滑で電磁変換特性が優れており、非磁
性面も易滑で走行性が良好であるなどの優れた効果が得
られる。
次に実施例について説明する。
実施例1 層A用として重合触媒残渣等にもとづく内部粒子をでき
る限り含まないポリエチレンテレフタレート原料および
1層B用として重合触媒残渣からの粒径1.5μの内部
粒子を02重量%含むポリエチレンテレフタレート原料
を厚み比1:1の割合で溶融共押出しし、荷重15鞄/
■の加圧を行ないながら延伸倍率27倍の縦延伸を施し
、その後メチルセルロース0.20 %水溶液を層Aの
外面に固形分濃度で20 m g、/ m’塗布を、し
た。その後ステンターを通し115℃で乾燥、予熱、横
延伸をした。
横延伸倍率は57倍とした。次に200℃の熱処理を施
し、高さが25OAの不連続皮膜◆☆が面積分率で50
チ形成されたA面と、陥没部中または陥没部が隣接した
位置に突起部を有する凹凸部が形成され、カットオフ値
0.25 mmでのRa値が0、o14μの面を有する
厚さ12μの二軸延伸ポリエステル複合フィルムを得た
このポリエステルフィルムのA面に真空蒸着によりコバ
ルト−鉄合金薄膜を150OAの膜厚で形成した。続い
て所定の幅に長手方向に切断し磁気テープとした。この
特性を表1に示す。
実施例2 実施例1において、延伸倍率2.7倍の縦延伸後の層A
の外面にメチルセルロース0.20 %水溶液を固形分
濃度で23 m g / m’塗希したあと9層Bの外
面に下記水性エマルジョンBの塗布をした。
■ エポキシ化ポリジメチルシロキサンエマルジョン:
0.40wtチ @ シランカップリングl?IcN−β(アミノエチル
)γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン〕:0.
050wt% θ アルキルフェノール系非イオン界面活性剤:0.2
0wtチ 他は実施例1と同様にして層Bの外面に易滑成分被覆層
の形成された磁気テープを得た。特性を表1に示す。
実施例3 実施例2の水性エマルジョンBに、カルナウノくワック
スを0.8ewt%加え、他は実施例2と同様にして磁
気テープを得た。特性を表1に示す。
実施例4 実施例2において、水性エマルジョンBのかわりに下記
エマルジョン水溶液Bの塗布をした。
■ エポキシ化ポリジメチルシロキサンエマルジョy:
0.4Qwt% @ シランカップリング剤〔N−β(アミンエチル)γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン] : 0.
050wt% θ メチルセルロース:0.20wtチ他は実施例2と
同様にして、滑剤成分からなるミミズ状皮膜の形成され
た磁気テープを得た。特性を表1に示す。
実施例5 実施例4のエマルジョン水溶液Bに、カルナウバワック
スを0.80wt%加えた他は、実施例4と同様にして
磁気テープを得た。特性を表1に示す。
実施例6 実施例1において、縦延伸後のメチルセルロース水溶液
を塗布する前の層Aの外面に帯電むらパターンを与え1
次に20w、tlのポリスチレン−ベンゼン溶液を20
 m g /lri’塗布し、90℃で溶媒を除去させ
ると、高さ500λの不連続皮膜が面積分率で60チ形
成された。この不連続皮膜形成表面に、実施例1と同様
にして磁性層を真空蒸着し。
磁気テープを得た。特性を表1に示す。
比較例1 実施例1において、縦延伸後のメチルセルロース水溶液
の塗布は行なわず、他は実施例1と同様にして磁気テー
プとした。特性を表1に示す。
比較例2 実施例1において9層Bの原料中に9粒径3μの810
!  粒子を0.03wt%加え、他は実施例1と同様
にして高さが2501の不連続皮膜構造が面積分率で5
0優形成されたA面と、陥没部中にまたは陥没部が隣接
するところに突起部を有する凹凸部が形成されたカット
オフ値025−での Ra値が0.050μの面とから
なる厚さ12μの二軸延伸ポリエステル複合フィルムを
得た。同様にこのフィルムのA面に真空蒸着によりコバ
ルト−鉄合金薄膜を1soouの膜厚で形成し、所定幅
に長手方向に切断し磁気テープとした。特性を表1に示
す。
比較例3 実施例1において層B用Q原料の5/6を層A用の原料
におきかえ1層Bの内部粒子量を減少させたこと以外は
実施例1と同様にして、高さが250λの不連続皮膜が
面積分率で50チ形成されたA面と、陥没部中に、また
は陥没部が隣接する所に突起部を有する凹凸部が形成さ
れたカットオフ値0.25mmでの Ra値が0.QQ
4pの面とからなる厚さ12μの二軸延伸ポリエステル
複合フィルムを得た。
このベースフィルムを用いて同様にして磁気テープを得
た。特性を表1に示す。
テープ特性は一般市販のVH8方式のビデオテープレコ
ーダーを用いて録画・再生を繰り返して評価した。
テープの走行特性(耐すり傷物性、易滑性、耐久性)は
100回繰り返し再生走行させたあとのテープ磁性薄膜
上および走行面側表面上のすり傷を観察することにより
評価した。
テープのS/N比は50チ白レベル信号を各テープの最
適記録電流で記録し、再生時のビデオ復調信号に含まれ
る信号と雑音の比をビデオノイズメーターを用い、市販
のVH8標準テープを零dBとして比較評価した。
ドロップアウトは磁気記録テープに3段階段波信号を最
適記録電流で記録し、再生時のビデオヘッドアンプ出力
の減衰量が18dB、継続時間20μsec以上のドロ
ップアウトを100分間ドロラフアウトカウンターで測
定し、1分間あたりの平均をとった。
表   1 耐すり傷物性 ◎:全くすり傷の発生なし。
○:きわめて弱いすり傷の発生が少し見られる。
X:すり傷が多く発生する。
表1の特性結果から明らか6ように0本発明の熱可塑性
樹脂からなる層Aと、微粒子が含有された熱可塑性樹脂
からなる層Bとが積層された複合フィルムにおいて、該
層Aの外面に50〜1000Aの高さの不連続皮膜を有
し、該層Bの表面粗さが Ra値で0005〜0.Q4
Qμである複合フィルムのへ面上に強磁性体薄膜を形成
させた磁気記録媒体7は、実際使用において、テープ走
行性が良好で。
電磁変換特性が極めてすぐれ、小型ビデオテープレコー
ダー用あるいは携帯型ビデオテープレコーダー用ビデオ
テープとして最適である。さらに。
表面Bに滑剤を主体とした被覆N4章形成させた磁気記
録媒体は、非磁性面の走行特性がより一層向上している
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の層Aの外面に形成された不連続皮膜表
面のレプリカ法透過型電子顕微鏡写真。 第2図は不連続皮膜形成面の粗さを触針式表面粗さ計で
測定した曲線(ただし、Hは皮膜の高さを示し、そのH
は1曲線の山の最高のものから10山の平均の位置と、
谷の最底のもの10個の平均の位置間の距離で表わされ
る)、第3図は本発明の層Bの外面の微分干渉法写真、
第4図は層Bの外面に形成されたミミズ状皮膜表面の微
分干渉法写真、第5図〜第8図は9層Bの外面に形成さ
れた凹凸部の断面図である。 特許出願人  東 し 株 式 会 社菖 1 面 茎 2 図 纂 3ffi 茎ヰ丞 第5図           第6図 第7N        第8図 り、4 手続補正書(fj]い 昭和  船、f!2.11 特許庁長官  若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年特許願第38763号 2、発明の名称 複合フィルム 代表取締役社長  伊 藤 昌 壽 4、補正命令の日付 昭和57年6月29日(発送日) 5、補正により増加する発明の数 なし 6、補正の対象 明細−の「図面の簡単な説明」の欄 7、補正の内容 (1、)  +111 @1占 第24負1行へ・2行
目[層′Aの外向に・・・・・・・・・・・・・・・し
lリカ沫」を[層Δの外面1こ形成された突起部の粒子
構造を示すレプリカ法、1と補正する。 (2) 同 第24頁8行目 [層Bの外面の微分]を「層Bの外面に形成された突起
部の粒子構造を示づ微分」と補正する。 (3) 同 第24頁8行〜9行目 「図は層Bの外面に・・・・・・・・・・・・・・・皮
膜表面の微分」を「図は層B外面の被覆層の表面に形成
された突起部の粒子構造を示す微分」と補正する。 (この補a−は、貴庁の出願第1課特許方式係のご指導
によるものです) 手続補正1 at(lo  n、6:、7++ 特許庁長官  若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和57年特許願第38763号 2、発明の名称 複合フィルム 4、補正命令の日付 自発 5、補正により増加する発明の数 なし 6、補正の対象 明@−の「発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 (1) 明細書 第12頁15行目 1−密」を[蜜]と補正する。 (2) 同 第14頁14行目 「2図」を「4図」と補正する。 (3) 同 第15頁5行〜8行目 [共押出しにより・・・・・・・・・・・・を行なうこ
とにより」を「これをシート状に共押出ししてシート、
またはそのシートを延伸してフィルムとし、そのシート
またはフィルムの層への外面上に前記溶液、エマルジョ
ンを塗布して乾燥し、延伸することにより・」と補正す
る。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 熱可塑性樹脂からなる層Aと、微粒子が含有された熱可
    塑性樹脂からなる層Bとが積層された複合フィルムであ
    って、かつ該層Aの外面には高さ50〜100DAの不
    連続皮膜購命を有し、該層Bの外面は陥没部中または複
    数個の陥没部が隣接する位置に1個または複数個の突起
    部を有する凹凸部が複数個形成されてなり、かつ該層B
    の外面の粗さは Ra値で0005〜0.Q4’Qμで
    あることを特徴とする複合フィルム。
JP57038763A 1982-03-10 1982-03-11 複合フイルム Granted JPS58155940A (ja)

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JP57038763A JPS58155940A (ja) 1982-03-11 1982-03-11 複合フイルム
EP83301291A EP0088634B1 (en) 1982-03-10 1983-03-09 Laminated film and magnetic recording medium made therewith
US06/473,449 US4550049A (en) 1982-03-10 1983-03-09 Laminated film and magnetic recording medium made therewith
DE8383301291T DE3368805D1 (en) 1982-03-10 1983-03-09 Laminated film and magnetic recording medium made therewith

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