JPH0134456B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被覆フイルムに関するものである。 従来、磁性物質をポリエステルフイルムの表面
に蒸着せしめた蒸着型ビデオテープが使用されて
いる。 しかし、この蒸着型ビデオテープは、磁性層の
厚さが非常に薄いため、使用するベースフイルム
の表面形態が、そのまま真空蒸着した強磁性金属
薄膜（以下、単に蒸着膜という）と同一の表面形
態となる。そのためベースフイルムの表面粗さが
粗いと蒸着ビデオテープの電磁変換特性が著しく
悪くなる。この電磁変換特性の面から考えると、
平滑な全くの鏡面からなるベースフイルムが好ま
しいが、そのようなベースフイルム上に形成され
た蒸着膜は、蒸着面がそのまま鏡面を保つので、
すべり性が非常に悪く、蒸着面に保護層を設ける
ようなことをしない限り、蒸着工程以降のテープ
化プロセスにおいて大量のすり傷が発生し、全く
実用性はなくなる。 また蒸着ビデオテープ実際使用時の重大な問題
は蒸着面の走行性である。従来の磁性体粉末を有
機バインダーに混入させてベースフイルムに塗布
してなる塗布型ビデオテープの場合には、バイン
ダー中に滑剤をいれて、磁性面の走行性を向上さ
せることができるが、蒸着ビデオテープの場合、
蒸着面の走行性は保護膜層を設けない限り一般に
不利である。保護膜層を均一に蒸着面上に設ける
ことは困難であるので、この保護膜層を設けない
蒸着テープの場合、蒸着面の走行性向上、特に実
際に使用される時の過酷な条件下、すなわち高温
高湿条件下での走行性向上が計れないなどの欠点
がある。 本発明の目的は、平滑性、耐すりきず性、通常
環境のみならず高温高湿条件下においても走行性
の優れた蒸着膜を形成することが可能なベースフ
イルムを提供することにある。 本発明は、上記目的を達成するため次の構成を
有する。すなわち、ポリエステルフイルムと、該
ポリエステルフイルムの少なくとも片面に密着さ
れた高さ500Å以下の水溶性高分子を主体とする
不連続皮膜と、該不連続皮膜の不連続部のフイル
ム面に密着された微細粒子とからなり、該微細粒
子の高さが不連続皮膜の高さより20〜500Å高い
被覆フイルムを特徴とするものである。 本発明のポリエステルフイルムとは、周知の方
法で形成したポリエステルフイルム、すなわち、
ポリエステルを溶融してシートまたは円筒状に押
出し、これを少なくとも一方向に延伸して形成し
たフイルムで、そのフイルムの機械特性としては
通常のバランスタイプ、一軸方向に強力化された
タイプ、二軸方向に強力化されたタイプのいずれ
かであることが望ましい。また、ポリエステルフ
イルムの表面は平滑であることが望ましく、具体
的にはフイルム表面の粗さは、触針式表面粗さ計
のカツトオフ値0.08mmで、Ra値が0.015μ以下、よ
り好ましくは0.010μ〜0.002μの範囲内にあること
が望ましい。 なお、Ra値とは、触針式表面粗さ計から得ら
れる断面曲線から適当なカツトオフ値を用いて、
うねりを除いた粗さ曲線において、中心線（中心
線より上の部分と下の部分の面積が等しくなるよ
うにして求められる）からの粗さ曲線の高さ（低
さ）の絶対値の算術平均である（DIN 4768によ
る）。 上記フイルムを形成するポリエステルは、線状
ポリエステルを主体とするものであればどのよう
なものでもよい。たとえば、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、
ポリ―１，４―シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタリン
ジカルボキシレート、ポリエチレン―ｐ―オキシ
ベンゾエートなどがその代表例である。 また上記のポリエステルは、ホモポリエステル
であつても、コポリエステルであつてもよい。コ
ポリエステルの場合、共重合する成分としては、
例えば、ジエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレン
グリコール、ｐ―キシリレングリコール、１，４
―シクロヘキサンジメタノールなどのジオール成
分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフ
タル酸、２，６―ナフタリンジカルボン酸、５―
ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボン
酸成分、トリメリツト酸、ピロメリツト酸などの
多官能ジカルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安
息香酸などが挙げられる。なお、共重合の場合、
共重合する成分は20モル％以下とする。 さらに、上記のポリエステルは、他にポリエス
テルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘
導体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアル
キレングリコールなどの少なくとも一つを５重量
％を超えない程度に混合してもよい。また、その
フイルム中に延伸した際に、フイルム表面突起の
原因となる重合残査からなる内在粒子あるいは外
部から加えられた不活性粒子等が含まれていても
よく、その含有量は、それらのポリマーを二軸延
伸した場合、厚さ30μ以下で、１枚当りのヘイズ
５％以下であれば良い。 本発明の水溶性高分子とは、分子量が１万〜
200万、好ましくは10万〜100万のものが使用され
る。分子量が１万を下まわると、以下に述べる皮
膜が柔らかくなり、構造保持が難しくなり、耐久
性が悪くなる。分子量が200万を上まわると、皮
膜がかたくなりすぎ、もろくなり、やはり耐久性
が悪くなる。かかる水溶性高分子としては、ポリ
ビニルアルコール、トラガントゴム、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース等が適用できる。 本発明の不連続皮膜とは、形状が網状および／
または点在したものであり、第１図の符号２で示
したもので、その高さは500Å以下、フイルム面
上に占める割合いは10〜90％、好ましくは30〜80
％のものである。 本発明における不連続皮膜の不連続部のフイル
ム面に密着した微細粒子とは、径が50〜10000Å、
好ましくは100〜5000Åの粒子である。径とは本
発明フイルムを電子顕微鏡で観察することによつ
て求められる微細粒子の最大長さを言う。微細粒
子の形態としては球形、楕円球形、長方体形、立
方体形等である。粒子の高さは全粒子の個数中20
％以上、好ましくは50％以上の粒子が、不連続皮
膜の高さよりも20〜500Å高いことが必要である。
粒子個数は10⁴〜10⁸ケ／mm²、好ましくは10⁵〜10⁷
ケ／mm²であることが望ましい。個数が10⁴ケ／mm²
未満であるとこの表面に磁性体を蒸着してなる蒸
着膜面の走行性は向上しない傾向がある。個数が
10⁸ケ／mm²をこえると、該磁性面の電磁変換特性
のうち、特にＳ／Ｎ比が悪化する傾向がある粒子
種としては有機化合物粒子が好ましい。例えばポ
リスチレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリエ
ステル、ポリアクリル酸エステル、ポリエポキシ
樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリア
クリル酸ソーダ、ポリビニルメチルエーテル、フ
ツ素系樹脂等からなる微細粒子である。微細粒子
は複数種類のものを使用しても良い。微細粒子の
高さは不連続皮膜の高さより20〜500Å、好まし
くは30〜200Å高い必要がある。20Åより低いと、
それらの微細粒子は、この不連続皮膜形成面側に
設ける蒸着膜面の走行性向上に寄与しない。500
Åを上まわると該蒸着膜面の電磁変換特性が悪化
する。すなわち、Ｓ／Ｎ比が低くなり、ドロツプ
アウトが増大する。 不連続皮膜のすべり性を向上させ耐すりきず特
性を向上させる目的でシリコーンあるいはフツ素
化合物あるいはその両者を皮膜構造成分として含
ませることが好ましい。 使用可能なシリコーンは、分子量が３万〜30万
のものであり、好ましくは、鎖状成分として ただし、R₁：CH₃，C₆H₅，Ｈ R₂：CH₃，C₆H₅，Ｈまたは官能性基（例えば、
エポキシ基、アミノ基、水酸基） ｎ：100〜7000でR₁，R₂によつて上記分子量を
満足させる整数 を有するシリコーン化合物であり、末端にエポキ
シ基、アミノ基、水酸基、その他の官能性末端基
を有する。本発明においてシリコーン化合物は必
ずしもホモポリマーである必要はなく、コポリマ
ーあるいは、数種のホモポリマーの混合体であつ
ても良い。 シリコーンの分子量は３万〜30万のものが好ま
しい。分子量が３万を下まわると皮膜は柔らかく
なりすぎ、また、構造が変形しやすくなる。一
方、30万を超えると逆に皮膜がもろくなる。 使用可能なフツ素系化合物としては、フツ素系
界面活性剤、フツ素含有炭化水素化合物等があげ
られるが、原子数割合で10〜60％、好ましくは20
〜50％の含有フツ素分率のものが望ましい。フツ
素含有率が低いと、すべり性の効果が見られなく
なる。 また水溶性高分子、シリコーンあるいはフツ素
化合物またはその両者の結合を強めるため、およ
びその皮膜とポリエステルフイルムとの接着力を
強めるためには不連続皮膜構成成分にシランカツ
プリング剤を加えることが望ましい。 シランカツプリング剤としては、その分子中に
２個以上の異なつた反応基をもつ有機けい素単量
体であり、反応基の一つはメトキシ基、エトキシ
基、シラノール基などであり、もう一つの反応基
は、ビニル基、エポキシ基、メタアクリル基、ア
ミノ基、メルカプト基などである。反応基は水溶
性高分子側鎖、末端基およびポリエステルと結合
するものを選ぶが、シランカツプリング剤として
ビニルトリクロルシラン、ビニルトリコトキシシ
ラン、ビニルトリス（β―メトキシエトキシ）シ
ラン、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ―メタアクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、Ｎ―β（アミノエチル）γ―アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ―クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ―メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ―アミノプロピルトリ
エトキシシラン等が適用できる。 不連続皮膜構成成分としての水溶性高分子
〔Ａ〕シリコーンあるいはフツ素系化合物あるい
はその混合体〔Ｂ〕、シランカツプリング剤
〔Ｃ〕、および不連続皮膜の不連続部に存在する微
細粒子〔Ｄ〕の使用割合は〔Ａ〕：〔Ｂ〕：〔Ｃ〕：
〔Ｄ〕＝20：０〜20：０〜20：１〜10である。
〔Ｂ〕，〔Ｃ〕はすべり性、耐すりきず性向上、お
よび成分間の結合力向上のために使用が好ましい
が必須成分ではない。〔Ｂ〕が上限を超えると蒸
着膜の付着強度が不良となる。〔Ｃ〕が上限を超
えると不連続皮膜構造が固くなりすぎ、皮膜がも
ろくなり好ましくない。 〔Ｃ〕を使用すると〔Ｄ〕がフイルム面に強固
に結びつけられる。微細粒子は、主として不連続
皮膜の不連続部のフイルム面に密着しているが、
〔Ｄ〕が上記下限を下まわると密着数が少なくな
り、この不連続皮膜上に形成する蒸着膜面の走行
性向上に寄与しなくなる。上限をこえると微細粒
子のフイルム表面からの脱落が激しくなる。また
電磁変換特性も悪化し、好ましくない。 以下、図面にもとづいて本発明の被覆フイルム
を説明する。 第１図はポリエステルフイルムの表面を部分的
に覆つた不連続皮膜と、その皮膜の不連続部のフ
イルム面に密着された微細粒子を示す平面図であ
る。拡大倍率１万倍以上で電子顕微鏡観察をする
ことにより、その様子がわかる。 第２図は不連続皮膜および微細粒子が密着され
た第１図のフイルムの概略の断面図である。微細
粒子の高さが不連続皮膜の高さより高い状態を示
す。なお第１図および第２図において、１はポリ
エステルフイルム、２は不連続皮膜、３は微細粒
子である。 本発明の不連続皮膜の高さ（厚さ）は、第３図
のｈで示されるもので、そのｈ、すなわち高さの
測定は、触針式表面粗さ計により、カツトオフ値
0.08mmを用い、縦倍率50万倍の条件で、表面皮膜
形成面を測定した時の表面粗さ曲線において、微
細粒子によるピーク部分を除いた、山と谷との平
均的な高さ間隔を測定した値である。微細粒子の
高さは、第３図のh_p1，h_p2，h_p3で示されるもの
で、ｈよりも大きく高さ方向にはずれた山と谷部
分の差を測定した値である。なお、第３図は実際
に測定した曲線を模式的に示したものである。 本発明の不連続皮膜の高さは500Å以下、好ま
しくは50〜300Åである。高さが500Åをこえると
この表面に蒸着膜を形成させたビデオテープの電
磁変換特性、特にＳ／Ｎ比が悪化する。 テープ特性は一般市販のVHS方式のVTRを用
い、録画、再生を繰り返して評価した。 テープ走行性の評価は常温常湿、高温高湿の２
条件下での再生を行ない、テープ走行のみだれに
よる画面のゆらぎを観察することにより行つた。
評価基準は次の通りである。 〇：走行順調で再生画面のゆらぎが全くなし ×：ところどころで走行が遅くなり、再生画面
のゆらぎが生ずる。 また耐すり傷性の評価は、やはり常温常湿およ
び高温高湿条件下で100回繰り返し走行させたあ
とのテープ薄膜上のすり傷観察により行なつた。
評価基準は次の通り。 ◎：テープ薄膜面上にほとんど全くすり傷の発
生がみられない。 〇：テープ薄膜面上にきわめて弱いすり傷の発
生が少し見られる。 ×：テープ薄膜面上に、きついすり傷が発生す
る。 なお、常温常湿とは25℃、60％RHであり、高
温高湿とは40℃、80％RH条件である。 Ｓ／Ｎ比は50％白レベル信号を各テープの最適
記録電流で記録し、再生時のビデオ復調信号に含
まれる信号と雑音の比をビデオノイズメーターを
用い、市販のVHS標準テープをφdBとして比較
測定した。 ドロツプアウトは、磁気記録テープに３段階段
波信号を最適記録電流で記録し、再生時のビデオ
ヘツドアンプ出力の減衰量が18dB、継続時間
20μsec以上のドロツプアウトを10分間ドロツプア
ウトカウンターで測定し、１分間あたりの平均を
とつた。Ｓ／Ｎ比ドロツプアウト測定は常温常湿
条件で行なつた。 本発明の被覆フイルムの不連続皮膜と、微細粒
子の密着された面側に蒸着膜を設けた場合、磁気
ヘツド・ガイド等は、その蒸着膜表面との接触面
積が極めて小さくなるにもかかわらず、強磁性体
薄膜面と磁気ヘツドとの間隔は非常に狭く保たれ
るので、この蒸着膜表面の走行性は極めて良好で
あり、しかも電磁変換特性は優れている。 つぎに、本発明の製法について説明する。通常
の方法で一方向に延伸後の平滑なポリエステルフ
イルムの少なくとも片面に、有機化合物微細粒子
あるいは有機化合物エマルジヨンを含んだ分子量
１万〜200万の水溶性高分子水溶液、更に好まし
くはシリコーンまたはフツ素系化合物あるいはそ
の混合体、およびシランカツプリング剤とを含む
塗液を塗布し、乾燥したのち直角方向延伸を行な
うか、あるいは直角方向延伸後、さらに前記一方
向に再延伸し熱処理する。有機微粒子あるいは有
機化合物エマルジヨンの有機化合物として、水溶
性高分子と相溶しないものを使用することによ
り、微細粒子が不連続部に密着された不連続皮膜
表面が形成される。さらに具体的には、前記説明
のポリエステル原料を用い、通常の製膜機により
溶融押出し、冷却後、３〜５倍に一軸延伸した縦
延伸フイルムに、その後、予熱延伸前の工程にお
いて、有機化合物微細粒子あるいは有機化合物エ
マルジヨンを含んだ分子量１万〜200万の水溶性
高分子水溶液、好ましくはシリコーンまたはフツ
素系化合物あるいはその混合体、さらに好ましく
はシランカツプリング剤とを含む塗液を、各種コ
ーテイング法によつて、少なくとも片面に塗布を
施す。 この塗液の塗布量は１ケの面につき固形分濃度
で３〜1000mg／m²が良い。つぎにこの塗液塗布縦
延伸フイルムを横延伸するが、横延伸前に皮膜を
完全に形成するため、フイルム表面塗布液中水分
を完全に蒸発乾固する必要がある。これは、二軸
延伸機のステンター予熱部で、５％／秒〜100
％／秒の水分乾燥速度となるよう熱風温度100〜
150℃で予熱することによつてなされる。予熱後
90〜120℃の延伸温度で2.5〜4.5倍に横延伸する。
乾燥完結、皮膜完全形成後の横延伸によつてフイ
ルム表面に不連続皮膜とだその不連続皮膜の不連
続部のフイルム面に微細粒子が密着して形成さ
れ、これがフイルムのすべりに寄与する。さら
に、この横延伸フイルムを180〜220℃で熱処理、
あるいは1.1〜1.8倍に、再延伸後180〜220℃で熱
処理すると、平滑なポリエステルフイルムの表面
に、微細粒子が不連続部に存在する。高さ500Å
以下の不連続皮膜が形成された面を少なくとも片
面にもつ二軸延伸ポリエステルフイルムが得られ
る。 以上述べたように、本発明はポリエステルフイ
ルムの表面に水溶性高分子を主体とする不連続皮
膜を密着させ、かつ微細粒子をその不連続部に密
着せしめたことにより、該皮膜上に形成する蒸着
膜は表面の走行性能が飛躍的に向上する。 しかも、この不連続皮膜の高さは500Å以下で
あるので、蒸着テープの電磁変換特性を損うこと
はない。また形成微細粒子の高さは不連続皮膜の
高さより500Å以下の高さなのでドロツプアウト
が増加するということはない。 本発明の被覆フイルムは、各種の用途に適用で
きるが好ましくは、磁気記録媒体用のベースフイ
ルム、より好ましくは強磁性金属薄膜形成用のベ
ースフイルムとするのが望ましい。 次に、本発明の被覆フイルムの製造例およびそ
のフイルムを磁気テープに適用した例を実施例に
基づいて説明する。 実施例 １ 重合触媒残査等にもとづく内部粒子をできる限
り含まない実質的に無配向、非結晶のポリエチレ
ンテレフタレート原料を約20℃に維持された回転
ドラム上に溶融押出しし、つぎに3.4倍の機械方
向への延伸を施し、その後メタリングバーコータ
ーを用いて下記水溶液エマルジヨンを固形分濃度
で20mg／m²両面塗布した。 水溶液エマルジヨンとしてはメチルセルロース
0.20wt％、ポリアクリル酸エステルエマルジヨン
（固形分濃度40％）0.10wt％の割合のものを調合
した。乾燥、予熱、延伸温度は115℃で水分乾燥
速度は15％／秒とした。 横延伸倍率3.4倍、熱処理温度200℃で、両面に
高さ260Åの不連続皮膜が形成され、不連続皮膜
の高さより50Å高い微細粒子が該不連続皮膜不連
続部に４×10⁶ケ／mm²の割合で密着された厚さ12μ
のポリエチレンテレフタレートフイルムを得た。 このポリエステルフイルム表面に真空蒸着によ
りコバルト―ニツケル合金薄膜を1500Åの膜厚で
形成した。続いて所定幅にフイルムの機械方向に
切断し、磁気テープとした。この特性を表１に示
す。 実施例 ２ 実施例１のベースフイルム製造において、使用
水溶液エマルジヨン中にエポキシ化ポリジメチル
シロキサンエマルジヨン（固形分濃度20％）を
0.40％、およびシランカツプリング剤Ｎ―β（ア
ミノエチル）γ―アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン0.05％の割合で加えた水溶液を用い、他
は実施例１と同様にして両面に高さ280Åの不連
続皮膜が形成され、該不連続皮膜の高さより30Å
高い微細粒子が該不連続部に４×10⁶ケ／mm²の割
合で密着された厚さ12μのポリエチレンテレフタ
レートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 実施例 ３ 実施例２のベースフイルム製造において、使用
水溶液エマルジヨン中のエポキシ化ポリジメチル
シロキサンエマルジヨンをパーフルオロアルキル
フツ素化エマルジヨン（固形分濃度10％）0.30％
におきかえ、他は実施例２と同様にして高さ270
Åの不連続皮膜が形成され、不連続皮膜の高さよ
り40Å高い微細粒子が該不連続皮膜不連続部に４
×10⁶ケ／mm²の割合で密着された厚さ12μのポリエ
チレンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 実施例 ４ 実施例２のポリエステルフイルム製造において
使用水溶液エマルジヨン中のポリアクリル酸エス
テルエマルジヨンをポリ酢酸ビニルエマルジヨン
（固形分35％）0.10wt％のものにおきかえた。他
は実施例と同様にして高さ270Åの不連続皮膜が
形成され、不連続皮膜の高さより50Å高い微細粒
子が該不連続部に３×10⁶ケ／mm²の割合で密着さ
れた厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイ
ルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して蒸着磁気テープを得た。テープ特性を表１に
示した。 実施例 ５ 実施例２のベースフイルム製造において使用水
溶液エマルジヨン中のポリアクリル酸エステルエ
マルジヨンをポリ塩化ビニルエマルジヨン（固形
分20％）0.20wt％のものにおきかえた。他は実施
例と同様にして高さ270Åの不連続皮膜が形成さ
れ、不連続皮膜の高さより60Å高い微細粒子が該
不連続部に４×10⁶ケ／mm²の割合で密着された厚
さ12μのポリエチレンテレフタレートフイルムを
得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 １ 実施例１のベースフイルム製造において、メチ
ルセルロース水溶液濃度を0.40％にした水溶液を
用い、他は実施例１と同様にして両面に高さ600
Åの不連続皮膜が形成され、不連続皮膜の高さよ
り低い微細粒子が該不連続皮膜不連続部に４×
10⁶ケ／mm²の割合で密着された厚さ12μのポリエチ
レンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 ２ 実施例１のベースフイルム製造において、メチ
ルセルロース水溶液濃度を0.10％にして、ポリア
クリル酸エステルエマルジヨン濃度を1.5wt％加
えたこと以外は同様にして両面に高さ50Åの不連
続皮膜が形成され、不連続皮膜の高さより650Å
高い微細粒子が該不連続皮膜不連続部に６×10⁷
ケ／mm²の割合で密着された厚さ12μのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムを得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 比較例 ３ 実施例１のベースフイルム製造において、ポリ
アクリル酸エステルエマルジヨンを使用せずに、
他は同様にして両面に高さ260Åの不連続皮膜が
形成され、微細粒子の密着されてない表面を持つ
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイルム
を得た。 このベースフイルムを用い、実施例１と同様に
して磁気テープを得た。テープ特性を表１に示し
た。 表１の特性結果から明らかなように、本発明の
被覆フイルムの不連続皮膜と微細粒子の密着され
た面側に蒸着膜を形有させた磁気テープは、常温
常湿、高温高湿の使用においても、ともに走行
性、耐すりきず性が良好であり、しかも平滑で電
磁変換特性がすぐれている。 【表】

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の被覆フイルムで微細粒子と不
連続皮膜の密着された面を模式的に示した平面図
である。第２図は第１図の断面を模式的に示した
断面図であり、微細粒子と不連続皮膜の密着され
た状態を示す。図中ｈが皮膜厚さである。第３図
は本発明により形成された不連続皮膜面の縦倍率
50万倍での触針式表面粗さ曲線チヤートである。
ｈが皮膜の高さ、h_p1，h_p2，h_p3が微細粒子の高さ
である。 １：ポリエステルフイルム、２：不連続皮膜、
３：微細粒子。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ ポリエステルフイルムと、該フイルムの少な
   くとも片面に密着された高さ500Å以下の、水溶
   性高分子を主体とする不連続皮膜と、該不連続皮
   膜の不連続部のフイルム面に密着された微細粒子
   とからなり、該微細粒子の高さが、不連続皮膜の
   高さより20〜500Å高いことを特徴とする被覆フ
   イルム。