JPS58142935U - 気相成長装置のノズル - Google Patents
気相成長装置のノズルInfo
- Publication number
- JPS58142935U JPS58142935U JP3920082U JP3920082U JPS58142935U JP S58142935 U JPS58142935 U JP S58142935U JP 3920082 U JP3920082 U JP 3920082U JP 3920082 U JP3920082 U JP 3920082U JP S58142935 U JPS58142935 U JP S58142935U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- vapor phase
- phase growth
- growth apparatus
- base end
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図および第2図はそれぞれ従来の気相成長装置を示
す概要縦断面図、第3図イは第2図に示した気相成長装
置のノズルの一例を示す部分拡大正面図、第3図口は第
3図イの■−■線による断面図、第4図は第3図イ1口
に示したノズルを用いた場合の反応ガスとサセプタ上の
ウェハとの接触状態を示す部分平面図、第5図は第3図
イ9口に示したノズルと本考案のノズルとを用いた場合
のサセプタの半径方向におけるエピタキシャル層の膜厚
の状態を示す曲線図、第6図イは第2図に示した気相成
長装置のノズルの他の例を示す部分 、拡大正面図、第
6図口は第6図イのVI−VI線による断面図、第7図
は第6図イ9口に示したノズルを用いた場合の反応ガス
とサセプタ上のウェハとの接触状態を示す部分平面図、
第8図は本考案によるノズルの一実施例を示す要部縦断
面図、第9図は第8図に示したノズルの下面図、第10
図および第11図は本考案によるノズルのそれぞれ異な
る他の実施例を示す縦断面図である。 10a、101)、10b□、10b2,20a、20
))。 20C・・・・・・ノズル、11・・・・・・ベルジャ
、12・・・・・・ウェハ、13・・・・・・反応室、
14.14A、14B。 14G、22・・・・・・ノズル穴、15・・・・・・
サセプタ。
す概要縦断面図、第3図イは第2図に示した気相成長装
置のノズルの一例を示す部分拡大正面図、第3図口は第
3図イの■−■線による断面図、第4図は第3図イ1口
に示したノズルを用いた場合の反応ガスとサセプタ上の
ウェハとの接触状態を示す部分平面図、第5図は第3図
イ9口に示したノズルと本考案のノズルとを用いた場合
のサセプタの半径方向におけるエピタキシャル層の膜厚
の状態を示す曲線図、第6図イは第2図に示した気相成
長装置のノズルの他の例を示す部分 、拡大正面図、第
6図口は第6図イのVI−VI線による断面図、第7図
は第6図イ9口に示したノズルを用いた場合の反応ガス
とサセプタ上のウェハとの接触状態を示す部分平面図、
第8図は本考案によるノズルの一実施例を示す要部縦断
面図、第9図は第8図に示したノズルの下面図、第10
図および第11図は本考案によるノズルのそれぞれ異な
る他の実施例を示す縦断面図である。 10a、101)、10b□、10b2,20a、20
))。 20C・・・・・・ノズル、11・・・・・・ベルジャ
、12・・・・・・ウェハ、13・・・・・・反応室、
14.14A、14B。 14G、22・・・・・・ノズル穴、15・・・・・・
サセプタ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 気相成長装置のノズルにおいて、該ノズルを元端側
から先端側に向って大径となるテーパ状にし、該テーパ
の周面にノズル穴を設けると共−に、ノズルの単位長さ
当りのノズル穴の数を元端側から先端側へいくに従って
順次増加させたことを特徴とする気相成長装置のノズル
。 2 ノズル穴の穴径が、元端側を大きくし、先端側へい
くに従って順次小さくされている実用新案登録請求の範
囲第1項記載の気相成長装置のノズル。 3 ノズルのテーパの角度が、15°〜90°である実
用新案登録請求の範囲第1または2項記載の気相成長装
置のノズル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3920082U JPS58142935U (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 気相成長装置のノズル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3920082U JPS58142935U (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 気相成長装置のノズル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58142935U true JPS58142935U (ja) | 1983-09-27 |
Family
ID=30050497
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3920082U Pending JPS58142935U (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 気相成長装置のノズル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58142935U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102560432A (zh) * | 2010-12-13 | 2012-07-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5136984A (ja) * | 1974-09-24 | 1976-03-29 | Nippon Paint Co Ltd | Gensuishindokyokusennoyomitorihoho oyobi sonosochi |
JPS544347A (en) * | 1977-06-13 | 1979-01-13 | Fuji Electric Co Ltd | Power source equipment for electronic circuit |
JPS5429743U (ja) * | 1977-07-29 | 1979-02-27 |
-
1982
- 1982-03-19 JP JP3920082U patent/JPS58142935U/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5136984A (ja) * | 1974-09-24 | 1976-03-29 | Nippon Paint Co Ltd | Gensuishindokyokusennoyomitorihoho oyobi sonosochi |
JPS544347A (en) * | 1977-06-13 | 1979-01-13 | Fuji Electric Co Ltd | Power source equipment for electronic circuit |
JPS5429743U (ja) * | 1977-07-29 | 1979-02-27 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102560432A (zh) * | 2010-12-13 | 2012-07-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备 |
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