JPH0299964U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0299964U JPH0299964U JP14329289U JP14329289U JPH0299964U JP H0299964 U JPH0299964 U JP H0299964U JP 14329289 U JP14329289 U JP 14329289U JP 14329289 U JP14329289 U JP 14329289U JP H0299964 U JPH0299964 U JP H0299964U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer support
- small holes
- supply device
- gas supply
- plasma film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は従来のプラズマ膜堆積装置の概略断面
図、第2図は本考案の製造方法で使用するプラズ
マ堆積装置の一例を示す概略断面図である。 1……容器、2……ウエハ支持体、3……ガス
供給器、4……半導体ウエハ、5,5′……小孔
。
図、第2図は本考案の製造方法で使用するプラズ
マ堆積装置の一例を示す概略断面図である。 1……容器、2……ウエハ支持体、3……ガス
供給器、4……半導体ウエハ、5,5′……小孔
。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ウエハ支持体とこれに平行なガス供給器を
有し、上記ガス供給器のウエハ支持体に対向する
面に多数の小孔を有し、上記小孔の分布密度が周
縁部において高いプラズマ膜堆積装置。 (2) ウエハ支持体とこれに平行なガス供給器を
有し、上記ガス供給器のウエハ支持体に対向する
面に一様に分布する多数の小孔を有し、上記小孔
の孔径が周縁部において大きい実用新案登録請求
の範囲第1項記載のプラズマ膜堆積装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14329289U JPH0299964U (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14329289U JPH0299964U (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0299964U true JPH0299964U (ja) | 1990-08-09 |
Family
ID=31409983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14329289U Pending JPH0299964U (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0299964U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004190132A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-08 | Kyocera Corp | ホットワイヤcvd装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6053751A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-27 | 三菱重工業株式会社 | 冷蔵庫付自動車用空調装置 |
-
1989
- 1989-12-12 JP JP14329289U patent/JPH0299964U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6053751A (ja) * | 1983-09-05 | 1985-03-27 | 三菱重工業株式会社 | 冷蔵庫付自動車用空調装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004190132A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-08 | Kyocera Corp | ホットワイヤcvd装置 |
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