JPH02113330U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02113330U JPH02113330U JP2029389U JP2029389U JPH02113330U JP H02113330 U JPH02113330 U JP H02113330U JP 2029389 U JP2029389 U JP 2029389U JP 2029389 U JP2029389 U JP 2029389U JP H02113330 U JPH02113330 U JP H02113330U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tray
- dry etching
- etching apparatus
- plate type
- parallel plate
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の実施例を示す平行平板型ドラ
イエツチング装置のトレイの平面図、第２図は第
１図のＢ−Ｂ線断面図、第３図は従来の平行平板
型ドライエツチング装置の構成図、第４図は第３
図のＡ部拡大図である。 ２０……下部電極、２１……デイスク、２２，
２５……皿ビス、２３……Ａｌトレイ、２４……
テフロンリング、２６……ウエハ。
イエツチング装置のトレイの平面図、第２図は第
１図のＢ−Ｂ線断面図、第３図は従来の平行平板
型ドライエツチング装置の構成図、第４図は第３
図のＡ部拡大図である。 ２０……下部電極、２１……デイスク、２２，
２５……皿ビス、２３……Ａｌトレイ、２４……
テフロンリング、２６……ウエハ。
Claims (1)
- 半導体ウエハが載置される周辺部のトレイの部
分にテフロンリングを設けるようにしたことを特
徴とする平行平板型ドライエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2029389U JPH02113330U (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2029389U JPH02113330U (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02113330U true JPH02113330U (ja) | 1990-09-11 |
Family
ID=31236539
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2029389U Pending JPH02113330U (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02113330U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006066417A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Ulvac Japan Ltd | 静電チャックおよび基板搬送用トレー |
| KR100964775B1 (ko) * | 2005-10-12 | 2010-06-21 | 파나소닉 주식회사 | 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리방법 |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP2029389U patent/JPH02113330U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006066417A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Ulvac Japan Ltd | 静電チャックおよび基板搬送用トレー |
| KR100964775B1 (ko) * | 2005-10-12 | 2010-06-21 | 파나소닉 주식회사 | 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리방법 |