JPS58126847A - ３，３′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 - Google Patents
３，３′−ジアミノベンゾフエノンの製造法Info
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- JPS58126847A JPS58126847A JP57008829A JP882982A JPS58126847A JP S58126847 A JPS58126847 A JP S58126847A JP 57008829 A JP57008829 A JP 57008829A JP 882982 A JP882982 A JP 882982A JP S58126847 A JPS58126847 A JP S58126847A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- diaminobenzophenone
- halogenobenzophenone
- dinitro
- reduction
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、３．５’−ジアミノベンゾフェノンの新規な
製造方法に関する。さらに詳しくは、一般’ ２ ”
ＡＭ ＩＪ ２（式中、Ｘは
ハロゲン原子を示す）で表わされるベンゾフェノン化合
物を還元触媒おまひ脱ハロゲン化水素剤の存在下に接触
還元、脱・・ロゲン化させることを特徴とする）、３′
−ジアミノベンゾフェノンの製造方法に関する。
製造方法に関する。さらに詳しくは、一般’ ２ ”
ＡＭ ＩＪ ２（式中、Ｘは
ハロゲン原子を示す）で表わされるベンゾフェノン化合
物を還元触媒おまひ脱ハロゲン化水素剤の存在下に接触
還元、脱・・ロゲン化させることを特徴とする）、３′
−ジアミノベンゾフェノンの製造方法に関する。
５、−５’−ジアミノベンゾフェノンは、耐熱性高分子
単量体、農医薬および染料中間体等に有用であり、特に
耐熱性のポリアミドやポリイミド樹脂の原料となる重要
な物質である。６，５′−７アミノベンゾフエノンは従
来、ベンゾフェノンをニトロ化して得られるろ、３′−
ジニトロベンゾフェノンを還元して製造する方法が公知
である。
単量体、農医薬および染料中間体等に有用であり、特に
耐熱性のポリアミドやポリイミド樹脂の原料となる重要
な物質である。６，５′−７アミノベンゾフエノンは従
来、ベンゾフェノンをニトロ化して得られるろ、３′−
ジニトロベンゾフェノンを還元して製造する方法が公知
である。
ψ、
方法では、ベンゾフェノンをニトロ化して得られる反応
生成物が異性体等を含む混合物であり、反応生成物から
３，３′−ジニトロベンゾフェノンを単離するには、多
量の溶剤を使用し、再結晶精製を繰り返し行なわなけれ
ばならない（Ｅ、Ｂａｒｎａｔ−１ら、Ｊ、Ｃ！ｈｅｍ
、Ｓｏｃ １２５７６７（１９２４））。
生成物が異性体等を含む混合物であり、反応生成物から
３，３′−ジニトロベンゾフェノンを単離するには、多
量の溶剤を使用し、再結晶精製を繰り返し行なわなけれ
ばならない（Ｅ、Ｂａｒｎａｔ−１ら、Ｊ、Ｃ！ｈｅｍ
、Ｓｏｃ １２５７６７（１９２４））。
このため３．３′−ジニトロベンゾフェノンの収率は大
巾に低下し、また、精製に用いた溶剤の回収および残査
の処理等の煩雑な工程を必要とするので、経済的ではな
（，３，３’−ジニトロベンゾフェノンの工業的な規模
の製造法には適さないという欠点がある。さらに、ろ、
３′−ジニトロベンゾフェノンかう５．５’−ジアミノ
ベンゾフェノンを製造するために、多量の製塩酸中大過
剰の塩化第１スズにより還元を行なっている（ Ｌ、Ｈ
・、 Ｋ Ｉ ｅｍｍら、Ｊ、Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ ２
３３５１ （１９５８））。しかしなかｒＮノ らンズ化合物が高価なことと廃金楓および廃酸処理等の
問題があり、工業的には経済性と環境保護の点から極め
て不利である。
巾に低下し、また、精製に用いた溶剤の回収および残査
の処理等の煩雑な工程を必要とするので、経済的ではな
（，３，３’−ジニトロベンゾフェノンの工業的な規模
の製造法には適さないという欠点がある。さらに、ろ、
３′−ジニトロベンゾフェノンかう５．５’−ジアミノ
ベンゾフェノンを製造するために、多量の製塩酸中大過
剰の塩化第１スズにより還元を行なっている（ Ｌ、Ｈ
・、 Ｋ Ｉ ｅｍｍら、Ｊ、Ｏｒｇ、 Ｃｈｅｍ ２
３３５１ （１９５８））。しかしなかｒＮノ らンズ化合物が高価なことと廃金楓および廃酸処理等の
問題があり、工業的には経済性と環境保護の点から極め
て不利である。
本発明者らは、上記のような欠点のない、３゜６′−ジ
アミノベンゾフェノンの製造方法について鋭意検討した
。その結果、４−ノ・ロゲノベンゾフエノンのニトロ化
によって容易に製造できる３゜３′−ジニトロ−４−ハ
ロゲノベンゾフェノンヲ原料とし、これを還元触媒およ
び脱ノ・ロゲン化水素剤の存在下で接触還元、脱−・ロ
ゲン化させることにより、高収率で３．６′−δアミノ
ベンゾフェノンｔＳ造しうることを見出し、本発明の方
法を完成した。
アミノベンゾフェノンの製造方法について鋭意検討した
。その結果、４−ノ・ロゲノベンゾフエノンのニトロ化
によって容易に製造できる３゜３′−ジニトロ−４−ハ
ロゲノベンゾフェノンヲ原料とし、これを還元触媒およ
び脱ノ・ロゲン化水素剤の存在下で接触還元、脱−・ロ
ゲン化させることにより、高収率で３．６′−δアミノ
ベンゾフェノンｔＳ造しうることを見出し、本発明の方
法を完成した。
すなわち、本発明の方法は一般式（１）％式％
（式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表わされるベンゾ
フェノン化合物を還元触媒および脱ハロゲン化水素剤の
存在下で接触還元、脱ハロゲン化させることによって、
５．３’−ジアミノベンゾフェノンを製造する方法であ
る。
フェノン化合物を還元触媒および脱ハロゲン化水素剤の
存在下で接触還元、脱ハロゲン化させることによって、
５．３’−ジアミノベンゾフェノンを製造する方法であ
る。
本発明の方法で使用する６、３′−ジニトロ−４−ハロ
ゲノベンゾフェノンは、４−ハロゲノベンゾフェノンの
ニトロ化により容易に製造される。
ゲノベンゾフェノンは、４−ハロゲノベンゾフェノンの
ニトロ化により容易に製造される。
例えば、４−クロロベンゾフェノンを硝酸ナトリウムと
濃硫酸によってニトロ化すると、３．５’−ジニトロ−
４−クロロベンゾフェノンが９６〜９８チの収率で得ら
れる（ Ｇ、Ｓ、Ｍｉｒｏｎｏｖら、Ｊ。
濃硫酸によってニトロ化すると、３．５’−ジニトロ−
４−クロロベンゾフェノンが９６〜９８チの収率で得ら
れる（ Ｇ、Ｓ、Ｍｉｒｏｎｏｖら、Ｊ。
ｏｒｇ、 ｃｈｅｍ ｏｆ ＵＳＳＲ４１５３８（１９
７２） ）。
７２） ）。
しかしながら、３．３’−ジニトロ−４−ハロゲノベン
ゾフェノンよ＃）ｓ、３’−ジアミノベンゾフェノンを
製造する方法については全く知られておらず、本願発明
は６，６′−シアぜノベンゾフェノンを工業的に製造し
うる新規な方法である。
ゾフェノンよ＃）ｓ、３’−ジアミノベンゾフェノンを
製造する方法については全く知られておらず、本願発明
は６，６′−シアぜノベンゾフェノンを工業的に製造し
うる新規な方法である。
本発明の方法に使用する原料は、前記一般式（１）で表
わされる６、３′−ジニトロ−４−ハロゲノベンゾフェ
ノンであって、一般式（１）において、Ｘがか２ 示すハロゲン原子に塩素、弗素、沃素、臭素のいずれの
ものも用いられる。例えば、３．３’−ジニトロ−４−
クロロベンゾフェノン、３．３’−ジニトロ−４−ブロ
モベンゾフェノン、６，６′−ジニトロ−４−フルオロ
ベンゾフェノン、６，３′−ジニトロ−４−ヨードベン
ゾフェノンが、Ｓｆｆられる。
わされる６、３′−ジニトロ−４−ハロゲノベンゾフェ
ノンであって、一般式（１）において、Ｘがか２ 示すハロゲン原子に塩素、弗素、沃素、臭素のいずれの
ものも用いられる。例えば、３．３’−ジニトロ−４−
クロロベンゾフェノン、３．３’−ジニトロ−４−ブロ
モベンゾフェノン、６，６′−ジニトロ−４−フルオロ
ベンゾフェノン、６，３′−ジニトロ−４−ヨードベン
ゾフェノンが、Ｓｆｆられる。
なかでも、ハロゲンが塩素原子であるものが工業的
鱒に有利に使用される。
本発明の方法で使用される還元触媒としては、一般に接
触還元に使用されている金属触媒、例えば、ニッケル、
パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、
銅等を使用することができる。
触還元に使用されている金属触媒、例えば、ニッケル、
パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、
銅等を使用することができる。
工業的にはパラジウム触媒を使用するのが好ましい。こ
れらの触媒は、金属の状態でも使用することができるが
、通常はカーボン、硫酸バリウム、シリカゲル、アルミ
ナ等の担体表面に付着させて用いたり、また、ニッケル
、コバルト、銅等はラネー触媒として／用いてもよい。
れらの触媒は、金属の状態でも使用することができるが
、通常はカーボン、硫酸バリウム、シリカゲル、アルミ
ナ等の担体表面に付着させて用いたり、また、ニッケル
、コバルト、銅等はラネー触媒として／用いてもよい。
触媒の使用量は、原料の３．３′−ジニトロ−４−ハロ
ゲノベンゾフェノンに対して、金属として０．０１〜１
０重量％の範囲であり、通常、金属の状態で使用する場
合は２〜８重量％、担体に付着させた場合では０１〜５
重量％の範囲である。
ゲノベンゾフェノンに対して、金属として０．０１〜１
０重量％の範囲であり、通常、金属の状態で使用する場
合は２〜８重量％、担体に付着させた場合では０１〜５
重量％の範囲である。
本発明の方法に使用される脱ハロゲン化水素剤としては
、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水酸
化物、炭酸塩、重炭酸塩、あるいはアンモニアまたは通
常の有機アミン類等である。
、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水酸
化物、炭酸塩、重炭酸塩、あるいはアンモニアまたは通
常の有機アミン類等である。
例えば、炭酸カルシウム、水酸化ナトリウム、酸化マグ
ネシウム、重炭酸ア／モン、酸化カルシウム、水酸化リ
チウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、トリーローブチル
アミン、トリエタノールアミン、ピリジンおよびＮ−メ
チルモルポリンがあけられる。これら脱ハロゲン化水素
剤は必要により２種υ上を混合してもよい。脱ハロゲン
化水素剤の使用量は原料のｓ、ｆ−ジニトロ−４−ハロ
ゲノベンゾフェノンに対して、通常、０．５〜３倍モル
、好ましくは１〜１．５倍モル使用する。
ネシウム、重炭酸ア／モン、酸化カルシウム、水酸化リ
チウム、水酸化バリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、トリーローブチル
アミン、トリエタノールアミン、ピリジンおよびＮ−メ
チルモルポリンがあけられる。これら脱ハロゲン化水素
剤は必要により２種υ上を混合してもよい。脱ハロゲン
化水素剤の使用量は原料のｓ、ｆ−ジニトロ−４−ハロ
ゲノベンゾフェノンに対して、通常、０．５〜３倍モル
、好ましくは１〜１．５倍モル使用する。
本発明の方法は、通常、反応溶媒を使用する。
反応溶媒としては、反応に不活性なものであれは、特に
限定されるものでなく、例えば、メタノール、エタノー
ル、イングロビルアルコール等のアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類
、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチル
セロソルブ等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素
、１，２−ジクロロエタン、１．１．２−）ジクロロエ
タン、テトラクロロエタン等ノハロゲン化炭素類および
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアばド、ジメチルスルホキシド
等が使用出来る。なお、水と混和しない反応溶媒を使用
した際に、反応の進行が遅い場合は四級アンモニウム塩
、四級ホスホニウム塩のような一般に使用されている相
間移動触媒を加えることによ゛つて速めることが出来る
。
限定されるものでなく、例えば、メタノール、エタノー
ル、イングロビルアルコール等のアルコール類、エチレ
ングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類
、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチル
セロソルブ等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン
等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエ
ステル類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素
、１，２−ジクロロエタン、１．１．２−）ジクロロエ
タン、テトラクロロエタン等ノハロゲン化炭素類および
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアばド、ジメチルスルホキシド
等が使用出来る。なお、水と混和しない反応溶媒を使用
した際に、反応の進行が遅い場合は四級アンモニウム塩
、四級ホスホニウム塩のような一般に使用されている相
間移動触媒を加えることによ゛つて速めることが出来る
。
溶媒の使用量は、原料の３．！ｌ’ｌジートロー４−ハ
ロゲノベンゾフェノンを懸濁させるか、あるいは完全に
溶解させるに足る量で十分であり、特に限定されないが
、通常、原料に対して０５〜１０重量倍で十分である。
ロゲノベンゾフェノンを懸濁させるか、あるいは完全に
溶解させるに足る量で十分であり、特に限定されないが
、通常、原料に対して０５〜１０重量倍で十分である。
反応温度は、特に限定はない。一般的には２０〜２００
℃の範囲、特に２０〜１００℃が好ましい。
℃の範囲、特に２０〜１００℃が好ましい。
まだ、反応圧力は、通常、常圧〜５０Ｋｇ／ｃｒＩｉ−
Ｇ程度である。
Ｇ程度である。
本発明の方法の一般的な実施態様として、■３゜３′−
ジニトロ−４−ハロゲノベンゾフェノンヲ溶媒に溶解ま
たは懸濁した状態下に、還元触媒を添加し、ついで攪拌
下、所定の温度で水素を導入してニトロ基の還元を行な
わしめた後、脱ハロゲン化水素剤を加え、引き続き脱ハ
ロゲン化反応を行なうか、■還元触媒の添加時に脱ハロ
ゲン化水素剤を加えついで攪拌下、所定の温度で水素を
導入してニトロ基の還元と脱ハロゲン化反応を同時に行
なう等の方法があげられる。いずれの場合も反応は円滑
に進行し、目的物の３．ダージアミノベンゾフエノンが
製造出来る。しかしながら原料で’する５、！ｌジニト
ロー４−ハロゲノベンゾフェノンの４位のハロゲン原子
は求核性を有するために、条件によっては脱ハロゲン化
水素剤との副反応を起し、目的物の収率を低下させる場
合があるので、■の方法が好ましい。
ジニトロ−４−ハロゲノベンゾフェノンヲ溶媒に溶解ま
たは懸濁した状態下に、還元触媒を添加し、ついで攪拌
下、所定の温度で水素を導入してニトロ基の還元を行な
わしめた後、脱ハロゲン化水素剤を加え、引き続き脱ハ
ロゲン化反応を行なうか、■還元触媒の添加時に脱ハロ
ゲン化水素剤を加えついで攪拌下、所定の温度で水素を
導入してニトロ基の還元と脱ハロゲン化反応を同時に行
なう等の方法があげられる。いずれの場合も反応は円滑
に進行し、目的物の３．ダージアミノベンゾフエノンが
製造出来る。しかしながら原料で’する５、！ｌジニト
ロー４−ハロゲノベンゾフェノンの４位のハロゲン原子
は求核性を有するために、条件によっては脱ハロゲン化
水素剤との副反応を起し、目的物の収率を低下させる場
合があるので、■の方法が好ましい。
反応の進行は理論量の水素吸収量によるか、あるいは薄
層クロマトグラフィーにより追跡することが出来る。上
記の方法によって得られた反応液を熱ロカ、または抽出
等によって触媒および無機塩を除いたのち、必要に応じ
て濃縮を行ない６，６′−ジアミノベンゾフェノンを結
晶と１して析出させる。または触媒および無機塩を除い
た反応液に塩化水素ガスを吹き込み、３，３’−ジアミ
ノベンゾフェノンの塩酸塩として単離することも出来る
。
層クロマトグラフィーにより追跡することが出来る。上
記の方法によって得られた反応液を熱ロカ、または抽出
等によって触媒および無機塩を除いたのち、必要に応じ
て濃縮を行ない６，６′−ジアミノベンゾフェノンを結
晶と１して析出させる。または触媒および無機塩を除い
た反応液に塩化水素ガスを吹き込み、３，３’−ジアミ
ノベンゾフェノンの塩酸塩として単離することも出来る
。
本発明の方法は、３．５’−ジアミノベンゾフェノンを
高収率で安価に製造しうる方法であり、従来法にともな
う廃棄物による環境汚染の問題もなく、また、単離した
製品の純度も高く、煩雑な精製工程を必要としない等、
工業的な製造方法として好適である。
高収率で安価に製造しうる方法であり、従来法にともな
う廃棄物による環境汚染の問題もなく、また、単離した
製品の純度も高く、煩雑な精製工程を必要としない等、
工業的な製造方法として好適である。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。
実施例１
温度計、攪拌器を備えたガラス製密閉容器に、３．３’
−ジニトロ−４−ブロモベンゾフェノン１０５３Ｆ （
０６モル）、５％パラジウム／活性炭触媒（日本エンゲ
ルハルト社）５１およびジオキサ：／ ３００ ｍｌを
装入し、７０〜８０℃の温度において、かきまぜながら
水素を導入すると約８時間で４０５１ （１，８１モル
）の水素を吸収した。次に、４０％苛性ソーダー水溶液
３３ ｆ （０３３モル）を加えて、引き続き７０〜８
０℃の温度でかき捷ぜながら水素を導入すると、６時間
で７．２１ （０３２モル）吸収した。
−ジニトロ−４−ブロモベンゾフェノン１０５３Ｆ （
０６モル）、５％パラジウム／活性炭触媒（日本エンゲ
ルハルト社）５１およびジオキサ：／ ３００ ｍｌを
装入し、７０〜８０℃の温度において、かきまぜながら
水素を導入すると約８時間で４０５１ （１，８１モル
）の水素を吸収した。次に、４０％苛性ソーダー水溶液
３３ ｆ （０３３モル）を加えて、引き続き７０〜８
０℃の温度でかき捷ぜながら水素を導入すると、６時間
で７．２１ （０３２モル）吸収した。
同温度で反応溶液を口過して触媒を除去し、放冷すると
６，３′−シアばノベンゾフエノンが黄色針状結晶とし
て析出した。結晶を日別、５０％ジオキサ／水溶液ｓｏ
ｍｅで洗浄後、乾燥した。収量５９．２１ｉ’ （収率
９３％）融点１４９−１５０℃実施例２〜７ 原料の６，６フージニトロー４−ハロゲノベンゾフェノ
ンの種類、触媒の種類と使用量、溶媒の種類と使用量、
脱ハロゲン化水素剤の種類と使用量、反応温度および圧
力を衣−１のように変えたほかは実施例１と同様に反応
を行ない目的物を得た。
６，３′−シアばノベンゾフエノンが黄色針状結晶とし
て析出した。結晶を日別、５０％ジオキサ／水溶液ｓｏ
ｍｅで洗浄後、乾燥した。収量５９．２１ｉ’ （収率
９３％）融点１４９−１５０℃実施例２〜７ 原料の６，６フージニトロー４−ハロゲノベンゾフェノ
ンの種類、触媒の種類と使用量、溶媒の種類と使用量、
脱ハロゲン化水素剤の種類と使用量、反応温度および圧
力を衣−１のように変えたほかは実施例１と同様に反応
を行ない目的物を得た。
結果を表−１に示した。
実施例８
温度計、攪拌器を備えたガラス製密閉容器に３゜３’−
ジニトロ−４−クロロベンゾフェノン４６ｖ（０１５モ
ル）、パラジウムブラック触媒ＩＪおよびベンゼン３ｏ
ｏｍｇを装入し、６５〜７０℃の温度においてかきまぜ
ながら水素を導入すると、約６時間で２０．２ ｔ （
０，９モル）の水素を吸収した。
ジニトロ−４−クロロベンゾフェノン４６ｖ（０１５モ
ル）、パラジウムブラック触媒ＩＪおよびベンゼン３ｏ
ｏｍｇを装入し、６５〜７０℃の温度においてかきまぜ
ながら水素を導入すると、約６時間で２０．２ ｔ （
０，９モル）の水素を吸収した。
次に、３５％炭酸カリウム水溶液７９ｙ（０，２モル）
およびトリオクチルメチルアンモニウムクロリド９０チ
水溶液（東京化成試薬）６２を加えて、引き続き６５〜
７０℃の温度でかきまぜながら水素を導入し、約６時間
で３．４１ （０，１５モル）吸収した。同温度で反応
溶液を口過し、触媒を除去したのち、口液の有機層を分
液する。
およびトリオクチルメチルアンモニウムクロリド９０チ
水溶液（東京化成試薬）６２を加えて、引き続き６５〜
７０℃の温度でかきまぜながら水素を導入し、約６時間
で３．４１ （０，１５モル）吸収した。同温度で反応
溶液を口過し、触媒を除去したのち、口液の有機層を分
液する。
その有機層に硫酸マグネシウムを加え脱水したのち、乾
燥塩化水素ガスを十分飽和となるまで吹き込んだ。析出
した結晶を日別、ベンゼン５０１１１１で洗浄後、乾燥
してろ、ダージアミノベンゾフェノン塩酸塩の結晶を得
た。
燥塩化水素ガスを十分飽和となるまで吹き込んだ。析出
した結晶を日別、ベンゼン５０１１１１で洗浄後、乾燥
してろ、ダージアミノベンゾフェノン塩酸塩の結晶を得
た。
収量３１．９９ （収率８５６チ）
２０％含水イソプロパツールより再結晶して淡黄色針状
結晶の純品を得た。融点２６７℃（分解）元素分析 ＣＨＮ Ｃ１ 計算値（％） ５４．７ ４．９ ９．！３ ２４．
９測定値←） ５４．０ ５．２ ９，６２４．７実
施例９ ３．３’−ジニトロ−４−クロロベンゾフェノン４６Ｓ
’（０，１５モル）、酸化カルシウム１１．２ｆ（０２
モル）、５％パラジウム／アルミナ触媒（日本エンゲル
ハルト社）１２および１，２−ジクロロエタン２５０ｍ
１をオートクレーブに装入する。
結晶の純品を得た。融点２６７℃（分解）元素分析 ＣＨＮ Ｃ１ 計算値（％） ５４．７ ４．９ ９．！３ ２４．
９測定値←） ５４．０ ５．２ ９，６２４．７実
施例９ ３．３’−ジニトロ−４−クロロベンゾフェノン４６Ｓ
’（０，１５モル）、酸化カルシウム１１．２ｆ（０２
モル）、５％パラジウム／アルミナ触媒（日本エンゲル
ハルト社）１２および１，２−ジクロロエタン２５０ｍ
１をオートクレーブに装入する。
３０〜３５℃の温熟範囲において、かき捷ぜながら水素
を導入して、圧力を常時１０ Ｋｇ ／ ７・Ｇに保ち
つつ、７時間反応を行なった。反応終了後、反応混合物
を７０℃に昇温し、熱ロヵして触媒および無機塩を除去
した。放冷することにより６゜６′−ジアミノベンゾフ
ェノンが黄色針状結晶とし啼 テ得うれた。結晶を日別、１，２−ジクロロエタン２０
ｍ１で洗浄後、乾燥した。
を導入して、圧力を常時１０ Ｋｇ ／ ７・Ｇに保ち
つつ、７時間反応を行なった。反応終了後、反応混合物
を７０℃に昇温し、熱ロヵして触媒および無機塩を除去
した。放冷することにより６゜６′−ジアミノベンゾフ
ェノンが黄色針状結晶とし啼 テ得うれた。結晶を日別、１，２−ジクロロエタン２０
ｍ１で洗浄後、乾燥した。
収量２４．８９ （収率７８％）、融点１４９−１５０
℃エタノールから再結晶して黄色針状結晶の純品を得た
。融点１５０−１５１℃ 元素分析 ＨＮ
℃エタノールから再結晶して黄色針状結晶の純品を得た
。融点１５０−１５１℃ 元素分析 ＨＮ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）一般式（１） （式中、Ｘは）・ロゲン原子を示す）で表わされるベン
ゾフェノン化合物を還元触媒および脱ノ・ロゲン化水素
剤の存在下に接触還元、脱ノ・ロゲン化させることを特
徴とするろ、３′−ジアミノベンゾフェノンの製造法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57008829A JPS58126847A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | ３，３′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 |
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| JP57008829A JPS58126847A (ja) | 1982-01-25 | 1982-01-25 | ３，３′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 |
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|---|---|
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Family
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Family Applications (1)
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| JP57008829A Granted JPS58126847A (ja) | 1982-01-12 | 1982-01-25 | ３，３′−ジアミノベンゾフエノンの製造法 |
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| JP (1) | JPS58126847A (ja) |
-
1982
- 1982-01-25 JP JP57008829A patent/JPS58126847A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH0415218B2 (ja) | 1992-03-17 |
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