JPS581073B2 - チツカケイソシツシヨウケツタイノセイゾウホウホウ - Google Patents

チツカケイソシツシヨウケツタイノセイゾウホウホウ

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JPS581073B2
JPS581073B2 JP75513A JP51375A JPS581073B2 JP S581073 B2 JPS581073 B2 JP S581073B2 JP 75513 A JP75513 A JP 75513A JP 51375 A JP51375 A JP 51375A JP S581073 B2 JPS581073 B2 JP S581073B2
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JP
Japan
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silicon
silicon nitride
iron
sintered body
powder
Prior art date
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Expired
Application number
JP75513A
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English (en)
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JPS5176312A (ja
Inventor
沖和夫
小出一成
杉浦謙次
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Coorstek KK
Original Assignee
Toshiba Ceramics Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Ceramics Co Ltd filed Critical Toshiba Ceramics Co Ltd
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Publication of JPS5176312A publication Critical patent/JPS5176312A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、窒化珪素質焼結体の製造方法に関し、とく
に肉厚で微細な気孔を有する窒化珪素質焼結体の製造方
法に係るものである。
一般に、窒化珪素質焼結体は、金属珪素または珪素鉄の
成形体を高温度の窒素ガス雰囲気の中で窒化焼成して造
られるが、その際に上記成形体の内部まで十分に窒化す
るようにしなければならない。
このため、従来の方法においては、原料として比較的粒
度の大きい金属珪素粉または珪素鉄粉を用いるとともに
、成形法にも工夫をこらし、得られた成形体全体に比較
的大きな気孔が均一に分布するようにし、これを140
0〜1500℃の窒素雰囲気中で焼成し、内部まで十分
窒化焼成するようにしている。
しかしながら、このような方法により得た窒化珪素質焼
結体はその製造過程から当然気孔径が大きくなり、微細
な気孔とならないため、耐蝕性その他機械的強度が劣る
という問題があった。
このようなことから、微細な金属珪素粉または珪素鉄粉
を高圧成形して緻密な成形体を造り、これを窒素雰囲気
中で非常にゆっくり昇温しながら窒化焼成して微細な気
孔を有する窒化珪素質焼成体を製造する方法が考えられ
たが、しかしこの方法は窒化焼成にきわめて時間が費る
ため製造能率が著しく低下し、かつこの方法によっても
肉厚な焼結体を得ることはきわめて難しいという問題が
あった。
この発明は上記問題にかんがみなされたもので、金属珪
素または珪素鉄に後述する金属酸化物を添加することに
よって、肉厚な成形体の内部まで迅速かつ十分窒化し、
かつ微細な気孔を有する窒化珪素質焼結体を得ようとす
るものである。
以下、この発明を詳細に説明する。
まず主原料の金属珪素粉または珪素鉄粉にアルミナ(k
l203)t酸化イットリウム(Y203),酸化セリ
ウム(CeO。
),酸化ランタン(La203)の1種または2種以上
0.5〜30重景%添加混合し、常法にしたがってこれ
に通常の有機バインダー、たとえばPVA溶液、CMC
溶液等を添加混1合した後金型成形法、ラバープレス法
等で加圧成形する。
次いで、この成形体を窒素雰囲気中で窒化焼成して窒化
珪素質焼結体を造る。
この場合、窒化焼成温度は通常、1400〜1500℃
程度の温度で処理ずればよい。
なお、金属珪素または珪素鉄に添加する Al2O3,Y2O3,CeO2,La2O3の1種ま
たは2種以上の酸化物の量は0.5〜30重量%が適当
であり、0.5重量%以下では所期の効果が期待できず
、また30重量%以上では窒化珪素質焼結体自体の物性
が低下するばかりか、経済的にも不利である。
しかして、この発明はAl2O3,Y2O3,CoO2
,La2O3の1種または2種以上を添加した金属珪素
または珪素鉄の成形体を窒化焼成するため、肉厚で微細
な気孔を有する窒化珪素質焼成体となる。
この理由は明らかではないが、本発明者の実験によれば
、上述した酸化物を添加することにより、この酸化物が
一種の触媒となり、窒化焼成時に金属珪素または珪素鉄
が活性な高温型のβ−窒化珪素質となり、これによって
肉厚な成形体内部の金属珪素または珪素鉄を迅速に窒化
焼成でき、また窒化焼成時に金属珪素または珪素鉄の粒
子間に介在した上記酸化物により適度の気孔を形成し、
成形体内部への窒素の浸透を容易にして窒化を促進する
のではないかと考えられる。
しかも、上記酸化イットリウム等の酸化物によって、生
成した窒化珪素質のバインダーの役目をして気孔を微細
化するのではないかと考えられる。
したがって、この発明によれば成形体内部まで迅速に窒
化して内厚な製品を能率よく製造できるとともに、気孔
を微細化して耐蝕性の著しく優れた窒化珪素質焼結体を
提供できるものである。
以下、この発明の実施例を説明する。
実施例 1〜2 まず、150メッシュパスの珪素鉄粉を用意し、この珪
素鉄粉97重量部と平均粒径1.7μのアルミナ粉3重
量部との原料粉、または上記珪素鉄粉90重量部と平均
粒径1.7μの酸化イットリウム粉Y2O31O重量部
との原料粉を乾式でよく混合し、これらの原料粉にそれ
ぞれ3%のP.V.A溶液を5重量部添加して混練した
後、3 5 0kg/cm2の圧力で金型成形して10
mmφ×50mmの棒状の成形体を造った。
つづいて、これら成形体を1450℃の窒素雰囲気中で
2時間窒化焼成して窒化珪素鉄焼結体を得た。
得られた2つの窒化珪素鉄焼結体の気孔率、気孔分布お
よび平均気孔径を測定したところ下表のような結果を得
た。
表中、実施例1は珪素鉄粉にアルミナを、実施例2は珪
素鉄粉に酸化イットリウムを添加したものから造った窒
化珪素鉄焼結体である。
また、比較例は150メッシュパスの珪素鉄粉のみを上
記実施例1〜2と同様な方法で成形、窒化焼成して得た
窒化珪素鉄焼結体である。
上記から明らかなように、実施例1,2および比較例と
も気孔率には大差がないが、本発明の窒化珪素鉄焼結体
(実施例1,2)は従来のもの(比較例)に比して気孔
が微細化されていることがわかる。
また、上記実施例1,2と比較例の窒化珪素鉄焼結体を
溶鋼による浸蝕試験を行なった。
この試験方法は4 0口X 200mmにした各試験片
を1700℃の溶鋼に0.5時間浸漬して、侵蝕度合を
調べるもので、侵蝕量の評価は侵蝕試験後の各試験片に
おける切断面の面積比から求めた。
その結果、比較例の窒化珪素鉄焼結体における切断面溶
損面積比は32.7%であるのに対し、実施例1のもの
は12.4%,実施例2のものは9.1%ときわめて小
さく、気孔の微細化による耐蝕性の向上が認められる。
一方、実施例1,2の棒状の窒化珪素鉄焼結体を半分に
切断したところ、内部までほぼ窒化されているのに対し
、比較例のものは内部に3mmφの未窒化状態の珪素鉄
が残存していた。
なお、アルミナ、酸化イットリウムの他、酸化セリウム
、酸化ランタンを添加した原料粉を用いても上記実施例
と同様な効果が得られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 金属珪素粉または珪素鉄粉にアルミナ、酸化イット
    リウム、酸化セリウム、酸化ランタンの1種または2種
    以上を0.5〜30重量%添加し、これを常法により成
    形した後窒化焼成することを特徴とする窒化珪素質焼結
    体の製造方法。
JP75513A 1974-12-27 1974-12-27 チツカケイソシツシヨウケツタイノセイゾウホウホウ Expired JPS581073B2 (ja)

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JPS5176312A JPS5176312A (ja) 1976-07-01
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JPS60180963A (ja) * 1984-02-28 1985-09-14 日本軽金属株式会社 金属との組付けに適するセラミツクスの製造方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4838448A (ja) * 1971-09-18 1973-06-06
JPS4921091A (ja) * 1972-06-16 1974-02-25
JPS5082109A (ja) * 1973-10-05 1975-07-03

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS4921091A (ja) * 1972-06-16 1974-02-25
JPS5082109A (ja) * 1973-10-05 1975-07-03

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