JPS58100436A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- H01L2924/15787—Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
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- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は低融点ガラスを用いて半導体ペレットを搭載す
る半導体装置の製造方法に関するものである。
る半導体装置の製造方法に関するものである。
ガラス封止層の半導体装置では低融点ガラスによる半導
体ベレットの搭載方法が知られている。
体ベレットの搭載方法が知られている。
この方法は第1図に示すように、パッケージ1のペレッ
ト取“何面la上に予め低融点ガラス2v加熱して軟化
させた状態で設けておき、この低融点ガラス2の上方か
ら半導体ペレット3を押圧することにより、低融点ガラ
ス2を接着剤としてベレン)3v取付面1aに溶着する
方法である。
ト取“何面la上に予め低融点ガラス2v加熱して軟化
させた状態で設けておき、この低融点ガラス2の上方か
ら半導体ペレット3を押圧することにより、低融点ガラ
ス2を接着剤としてベレン)3v取付面1aに溶着する
方法である。
しかしながらこの方法では、低融点ガラス2を軟化状態
にした時にペレッF取付面1aの側壁に低融点ガラス2
が濡れ上りガラス層の表面が凹状になる。このため、こ
のようなガラス上にペレット3を押し付けろと、最初に
ペレットの周辺部がガラスに接触することになり、ペレ
ット30下側とガラスとの間に空気が閉じ込められてボ
イド(空気層)4ができ晶くなる。このようなボイド4
が存在すると、断熱作用によってペレットの放熱性が低
下したりペレットの溶着強度が低下すゐのみならず熱衝
撃等のストレスな受けたときにボイド4の周辺にペレッ
トを破壊する工つな応力集中が生じたりペレットが剥離
するような問題が生ずる。特に、近年のメモリ等の半導
体ペレットは高集積化と共にペレット寸法も大型化して
おり、このような不^合は顕著である。
にした時にペレッF取付面1aの側壁に低融点ガラス2
が濡れ上りガラス層の表面が凹状になる。このため、こ
のようなガラス上にペレット3を押し付けろと、最初に
ペレットの周辺部がガラスに接触することになり、ペレ
ット30下側とガラスとの間に空気が閉じ込められてボ
イド(空気層)4ができ晶くなる。このようなボイド4
が存在すると、断熱作用によってペレットの放熱性が低
下したりペレットの溶着強度が低下すゐのみならず熱衝
撃等のストレスな受けたときにボイド4の周辺にペレッ
トを破壊する工つな応力集中が生じたりペレットが剥離
するような問題が生ずる。特に、近年のメモリ等の半導
体ペレットは高集積化と共にペレット寸法も大型化して
おり、このような不^合は顕著である。
したがって、本発明の目的は低融点ガラスYプリフォー
ムしてペレットと取付面との間に介在させた上で、ガラ
スV加熱溶融することにより、ベレットと取付面との間
にボイドを発生させることはなく、ベレットの搭載強度
の向上や放熱性の向上1連成することができる半導体装
置の製造方法を提供することにある。
ムしてペレットと取付面との間に介在させた上で、ガラ
スV加熱溶融することにより、ベレットと取付面との間
にボイドを発生させることはなく、ベレットの搭載強度
の向上や放熱性の向上1連成することができる半導体装
置の製造方法を提供することにある。
以下1図示の実施例により本発明を説明する。
第2図は本発明方法を説明するための半導体装置!示し
ており、1はその上面中央にペレッ)3a付面l鳳とし
ての凹部を形成したパッケージベースであり、セラミッ
ク材等にて形成している。また、このベースlの上面周
辺部には封止ガラス5を用いて外部導出リード6を固着
している。そして、このベース1に半導体ベレット3を
搭載するに際しては、少なくとも上面が平坦になるよう
にプリフォームした常温固型の低融点ガラス2A’l−
取付m11上に置き、更にその上に半導体ペレット3′
4を載置する。しかる後にベース1v加熱すると低融点
ガラス2人は直ちに溶融し、ベレット3を取付1ijl
lに溶着する。このとき、ベレット3は若干の力をもっ
て下方に押し付けることが肝要である。
ており、1はその上面中央にペレッ)3a付面l鳳とし
ての凹部を形成したパッケージベースであり、セラミッ
ク材等にて形成している。また、このベースlの上面周
辺部には封止ガラス5を用いて外部導出リード6を固着
している。そして、このベース1に半導体ベレット3を
搭載するに際しては、少なくとも上面が平坦になるよう
にプリフォームした常温固型の低融点ガラス2A’l−
取付m11上に置き、更にその上に半導体ペレット3′
4を載置する。しかる後にベース1v加熱すると低融点
ガラス2人は直ちに溶融し、ベレット3を取付1ijl
lに溶着する。このとき、ベレット3は若干の力をもっ
て下方に押し付けることが肝要である。
したがって、このようにしてペレット付けを行なえば、
低融点ガラス2人は上面ヲ平坦にプリフォームしている
のでベレット3の下面との密着性は良く、ガラスが溶融
したときにもベレットとの間にボイドが生ずることはな
い。こ3により、ベレット3の放熱効果を高めると共に
溶着強度が向上し、またストレスの集中等の不具合が生
じることもない。
低融点ガラス2人は上面ヲ平坦にプリフォームしている
のでベレット3の下面との密着性は良く、ガラスが溶融
したときにもベレットとの間にボイドが生ずることはな
い。こ3により、ベレット3の放熱効果を高めると共に
溶着強度が向上し、またストレスの集中等の不具合が生
じることもない。
セラミックキャップ8v封止ガラス5AKて取付けてパ
ッケージを構成することはこれまでと同じである。
ッケージを構成することはこれまでと同じである。
以上のように本発明によれば、取付面とベレットとの間
にプリフォームした低融点ガラスを介装し、その後これ
を加熱溶融してベレットを取付面に溶着しているので、
両者間に生じ易いボイドの発生を防止し、ベレットの接
着強度や放熱特性の向上な達成することができるという
効果を奏する。
にプリフォームした低融点ガラスを介装し、その後これ
を加熱溶融してベレットを取付面に溶着しているので、
両者間に生じ易いボイドの発生を防止し、ベレットの接
着強度や放熱特性の向上な達成することができるという
効果を奏する。
第1図は従来の不具合V説明する断面図、第2Eおよび
第3Eは本発明方法via明するための断面図である。 l・・・ベース(パッケージ)、1a・・・ベレット取
付面、2.2人・・・低融点ガラス、3・・・ベレット
、4・・・ボイド、5.5A′%・・封止ガラス%6・
・・外部導出リード、7・・・ワイヤ%8・・・セラミ
ックキャップ。 第 1 図 第 2 図 第 3 図
第3Eは本発明方法via明するための断面図である。 l・・・ベース(パッケージ)、1a・・・ベレット取
付面、2.2人・・・低融点ガラス、3・・・ベレット
、4・・・ボイド、5.5A′%・・封止ガラス%6・
・・外部導出リード、7・・・ワイヤ%8・・・セラミ
ックキャップ。 第 1 図 第 2 図 第 3 図
Claims (1)
- 1、パッケージの半導体ペレット取付面上に半導体ペレ
ッ)V低融点ガラスにて取着するに際し、低融点ガラス
は予めプリフォームとして取付面と半導体ペレットとの
間に介装し、しかる後低融点ガラスV加熱溶融して半導
体ペレットをパッケージに溶着したことV特徴とする半
導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19855381A JPS58100436A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19855381A JPS58100436A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58100436A true JPS58100436A (ja) | 1983-06-15 |
Family
ID=16393082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19855381A Pending JPS58100436A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58100436A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011207655A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 接合材料およびそれを用いた部材接合方法 |
JP2011210911A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体発光素子デバイスの製造方法 |
-
1981
- 1981-12-11 JP JP19855381A patent/JPS58100436A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2011207655A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 接合材料およびそれを用いた部材接合方法 |
JP2011210911A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 半導体発光素子デバイスの製造方法 |
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