JPH1187594A - 半導体装置及び半導体装置用リードフレーム - Google Patents

半導体装置及び半導体装置用リードフレーム

Info

Publication number
JPH1187594A
JPH1187594A JP23862697A JP23862697A JPH1187594A JP H1187594 A JPH1187594 A JP H1187594A JP 23862697 A JP23862697 A JP 23862697A JP 23862697 A JP23862697 A JP 23862697A JP H1187594 A JPH1187594 A JP H1187594A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
hole
heat sink
insulating film
fixed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23862697A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2944588B2 (ja
Inventor
Yoichi Tsunoda
洋一 角田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP9238626A priority Critical patent/JP2944588B2/ja
Publication of JPH1187594A publication Critical patent/JPH1187594A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2944588B2 publication Critical patent/JP2944588B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4899Auxiliary members for wire connectors, e.g. flow-barriers, reinforcing structures, spacers, alignment aids

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】高放熱性を要求される半導体装置において、長
ワイヤ組立が実現かつ2倍の放熱性を得ることができる
半導体装置及び半導体装置用リードフレームを提供す
る。 【解決手段】表面及び裏面の必要部分を絶縁テープもし
くは絶縁物にてコーテイング処理し、かつワイヤ組み立
て時のワイヤ通路部に相当する部分の一部に貫通口を設
けた放熱板を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置及び半導
体装置用リードフレームに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の技術を図8及び図9を参照して説
明する。図8において、フレーム部1から多数のリード
13がデバイスホール内に突出し、リード13はそのイ
ンナーリード3とアウターリード2の境においてタイバ
ー5によって互いに連結している。
【0003】インナーリード3の先端部分は、絶縁テー
プあるいは絶縁物質の絶縁材15により放熱板14に固
着され、半導体素子7の裏面はマウント材9により放熱
板14に固着されている。
【0004】そして半導体素子7の表面側に形成された
それぞれの電極16がボンディングワイヤ6によって対
応するリード13のインナーリード3の部分に接続され
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の第1の
問題点は、組立上、長ワイヤ組立が不可能でありボンデ
ィングワイヤ長が例えば3.2mm未満に制限されるこ
とである。
【0006】その理由は、リードフレームのボンディン
グ部のインナーリード下面に絶縁テープもしくは絶縁物
を介して放熱板が貼り付けられているため、ボンディン
グ時に超音波振動エネルギーが有効に作用しない。した
がって、ワイヤ変形を生じるためである。
【0007】第2の問題点は、放熱特性が片方側のみの
一放熱板にて制限されることである。
【0008】その理由は、従来、半導体素子裏面をリー
ドフレームに固定しており、表面側はワイヤが放熱板貼
り付けを阻害していたため、半導体素子表面側には放熱
板貼り付けが不可能であったためである。
【0009】本発明は高熱放散型半導体装置およびその
半導体装置用リードフレームにおいて、長ワイヤ組立化
を実現し、リードフレームの標準化によるコストダウン
を実現するとともに、半導体装置においては半導体装置
の表裏面に放熱板取り付けを可能とすることで従来の半
導体装置の2倍の熱放散性を可能にする半導体装置を提
供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、表面に
複数の電極を設けた半導体素子と、中央部の下面が前記
半導体素子の表面に固着され、貫通口が前記電極上の位
置に形成され、かつ前記貫通口から端辺に至る上面上に
絶縁膜を設けた第1の放熱板と、先端の部分が前記第1
の放熱板の周辺部の下面に固着された複数のリードと、
前記複数の電極のそれぞれに接続され、前記貫通口を通
過し、前記絶縁膜上を延在して対応する前記リードのイ
ンナーリードの部分に接続するボンディングワイヤとを
有する半導体装置にある。
【0011】あるいは本発明の特徴は、表面に複数の電
極を設けた半導体素子と、中央部の下面が前記半導体素
子の表面に固着され、第1の貫通口が前記電極上の位置
に形成され、前記第1の貫通口の外側に第2の貫通口が
形成され、かつ前記第1の貫通口と前記第2の貫通口と
の間の上面上に絶縁膜を設けた第1の放熱板と、先端か
ら所定距離離れた部分が前記第1の放熱板の周辺部の下
面に固着された複数のリードと、前記複数の電極のそれ
ぞれに接続され、前記第1の貫通口を通過し、前記絶縁
膜上を延在し、前記第2の貫通口を通過して対応する前
記リードの前記第2の貫通口下に位置する前記インナー
リードの部分に接続するボンディングワイヤとを有する
半導体装置にある。この場合、前記インナーリードの1
接続部分上に1個の小貫通口が形成され、この小貫通口
の集合が前記第2の貫通口とすることができる。
【0012】さらに上記いずれの半導体装置において
も、前記半導体素子の裏面に第2の放熱板を固着するこ
とができる。また、前記絶縁膜は絶縁テープであること
ができる。あるいは、前記絶縁膜はコーテイィングされ
た樹脂膜、好ましくはポリイミド膜であることができ
る。もしくは、前記絶縁膜はコーテイィングされたアル
ミナ膜であることができる。
【0013】本発明の他の特徴は、前記第1の放熱板が
前記複数のリードに固着して前記半導体装置を製造する
ために用いる半導体装置用リードフレームにある。
【0014】このように本発明では、放熱板に絶縁テー
プもしくは絶縁物にて絶縁処理を施し、かつ組立時のワ
イヤ通過用の貫通口を設けることで、半導体装置組立時
に放熱板でのワイヤ支持が可能となり、長ワイヤ組立が
可能となる他、半導体素子表面を本発明のリードフレー
ムにて固定し、ワイヤ組立を行うことで、半導体素子裏
面への放熱板固定を追加することができ、半導体装置の
放熱特性を2倍に引き上げることが可能となる。
【0015】すなわち半導体装置の放熱性は半導体素子
に電力が印加された際に発熱を供うが、この熱を放熱板
にて放散する。この放熱板の面積を広く取ることで熱放
散性は向上する。また、この放熱板を利用し、ワイヤを
支持することで従来、制限があったワイヤの長さが大幅
に長尺化し、かつその後の封止工程を含めた後工程での
ワイヤ変形も含め、ワイヤ変形を防止することが可能と
なる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を説
明する。
【0017】図1は本発明の第1の実施の形態の半導体
装置用リードフレームを示す平面図であり、図2は図1
のリードフレームを用いて製造された本発明の第1の実
施の形態の半導体装置を示す断面図であり、図3は図1
のリードフレームを用いて製造された本発明の第1の実
施の形態の他の半導体装置を示す断面図である。
【0018】まず図1を参照して、フレーム部1から多
数のリード13がデバイスホール内に突出し、リード1
3はそのインナーリード3とアウターリード2の境にお
いてタイバー5によって互いに連結している。またそれ
ぞれのインナーリード3の先端部分は放熱板(第1の放
熱板)4に固定されてる。さらに放熱板4には4個の貫
通口が形成されて全体の貫通口10を構成している。こ
の貫通口10は幅Wが、例えば1〜3mmでありこれを
通して半導体素子の電極にボンディングワイヤがボンデ
ィング結線される。
【0019】次に図2を参照して、150〜200μm
の厚さのインナーリード3の先端の部分にそれと同じ厚
さもしくはそれ以上の厚さを有する放熱板4の周辺部の
下面が絶縁材15、例えば厚さ50〜100μmの絶縁
テープもしくは他の絶縁物によって固着固定されてい
る。
【0020】さらに、アルミや銅等の金属板からなる放
熱板4の貫通口10から端辺4Tに至る上面(表面)に
は、絶縁テープもしくは絶縁物の表面処理による絶縁膜
8が形成されている。絶縁膜8を形成するための絶縁物
の表面処理としてはポリイミド膜等の樹脂膜のコーティ
ング又はアルミナ等のコーティングを用いることができ
る。
【0021】また、放熱板4の中央部の下面(裏面)が
絶縁テープあるいは絶縁物質によるマウント材9により
半導体素子7の表面側に固着固定されている。
【0022】そして、ボンディングワイヤ6が貫通口1
0下に位置する半導体素子の表面側の電極16のそれぞ
れと貫通口10を通して接続される。このボンディング
ワイヤ6は貫通口10を通して引き出され、放熱板上の
絶縁膜8上をこの絶縁膜8に支持されながら延在し、対
応するリードのインナーリード3の接続箇所にボンディ
ング接続されている。
【0023】このように、予め放熱板4に施されていた
貫通口10を通して半導体素子7とリードフレームのイ
ンナーリード3がワイヤ6にて結線され、かつボンディ
ングワイヤ6が絶縁膜8によって絶縁されながら放熱板
4にて支持されるため、長ワイヤでの組立が実現でき
る。
【0024】また図3に示すように、絶縁物質によるマ
ウント材9により半導体素子7の裏面側にもアルミや銅
等の金属板からなる裏面放熱板(第2の放熱板)14を
固着固定することにより、半導体装置の放熱性をさらに
向上させることができる。
【0025】次に図4乃至図7を参照して本発明の第2
の実施の形態を説明する。
【0026】尚、図4乃至図7において図1乃至図3と
同一もしくは類似の箇所は同じ符号を付してあるから重
複する説明は省略する。
【0027】図4は第2の実施の形態の半導体装置用リ
ードフレームを示す平面図である。図1の貫通口10と
同様の第1の貫通口11が形成され、さらにその外側に
4個の貫通口が形成されて全体の第2の貫通口12を構
成しており、この第2の貫通口12の下にインナーリー
ド3のワイヤボンディング接続箇所が位置している。
【0028】また第1の貫通口と前記第2の貫通口との
間の放熱板(第1の放熱板)4の上面上に絶縁膜8が形
成されている。
【0029】図6を参照して、図4のリードフレームを
用いた半導体装置では、ボンディングワイヤ6が半導体
素子の表面側の電極16のそれぞれと第1の貫通口11
を通して接続され、この第1の貫通口11を通して引き
出され、放熱板上の絶縁膜8上をこの絶縁膜8に支持さ
れながら延在し、第2の貫通口12を通して対応するリ
ードの第2の貫通口12下に位置するインナーリードの
部分にボンディング接続されている。
【0030】このようにワイヤボンド領域に相当するエ
リアに第2の貫通口12を設けることで、放熱板4をさ
らに拡大させ、放熱性を向上させることが可能である。
【0031】図5は図4の第2の貫通口12を変更させ
たリードフレームである。図4では4個の貫通口により
第2の貫通口12を構成しているが、図5では1本のイ
ンナーリードの1接続部分上にそれぞれ1個の小貫通口
12Sが形成され、この小貫通口12Sの集合が第2の
貫通口12となっている。
【0032】このようにインナーリード3のワイヤボン
ド領域に相当するエリアのみに限定的に貫通口12Sを
設けることで、放熱板面積を広く確保でき放熱性をさら
に向上させることができる。
【0033】図5のリードフレームを用いた半導体装置
も図6のようになる。
【0034】また図7に示すように、第1の実施の形態
と同様に、絶縁物質によるマウント材9により半導体素
子7の裏面側にもアルミや銅等の金属板からなる裏面放
熱板(第2の放熱板)14を固着固定することにより、
さらに高い放熱特性が得られる。
【0035】
【発明の効果】本発明の第1の効果は、半導体装置にお
いて長いボンディングワイヤによる組立が可能であるこ
とである。
【0036】その理由は、絶縁膜で電気的な絶縁を維持
しながら放熱板を利用してボンディングワイヤを支持す
ることができるため、組立時のワイヤ長の制限は不要と
なるためである。
【0037】第2の効果は、半導体装置の放熱特性が2
倍に向上できることである。
【0038】その理由は、半導体素子の表面及び裏面の
双方に放熱板を取り付けた構造の半導体装置を構成する
ことが可能であるからである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のリードフレームを
示す平面図である。
【図2】図1のリードフレームを用いた本発明の第1の
実施の形態の半導体装置を示す断面図である。
【図3】図1のリードフレームを用いた本発明の第1の
実施の形態の他の半導体装置を示す断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態のリードフレームを
示す平面図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態の他のリードフレー
ムを示す平面図である。
【図6】図4、図5ののリードフレームを用いた本発明
の第2の実施の形態の半導体装置を示す断面図である。
【図7】図4、図5ののリードフレームを用いた本発明
の第2の実施の形態の他の半導体装置を示す断面図であ
る。
【図8】従来技術のリードフレームを示す平面図であ
る。
【図9】従来技術の半導体装置を示す断面図である。
【符号の説明】
1 フレーム部 2 アウターリード 3 インナーリード 4 放熱板(第1の放熱板) 5 タイバー 6 ボンディングワイヤ 7 半導体素子 8 絶縁膜 9 マウント材 10 貫通口 11 第1の貫通口 12 第2の貫通口 12S 小貫通口 14 裏面放熱板(第2の放熱板) 15 絶縁材 16 電極

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に複数の電極を設けた半導体素子
    と、中央部の下面が前記半導体素子の表面に固着され、
    貫通口が前記電極上の位置に形成され、かつ前記貫通口
    から端辺に至る上面上に絶縁膜を設けた第1の放熱板
    と、先端の部分が前記第1の放熱板の周辺部の下面に固
    着された複数のリードと、前記複数の電極のそれぞれに
    接続され、前記貫通口を通過し、前記絶縁膜上を延在し
    て対応する前記リードのインナーリードの部分に接続す
    るボンディングワイヤとを有することを特徴とする半導
    体装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体素子の裏面に第2の放熱板を
    固着したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 表面に複数の電極を設けた半導体素子
    と、中央部の下面が前記半導体素子の表面に固着され、
    第1の貫通口が前記電極上の位置に形成され、前記第1
    の貫通口の外側に第2の貫通口が形成され、かつ前記第
    1の貫通口と前記第2の貫通口との間の上面上に絶縁膜
    を設けた第1の放熱板と、先端から所定距離離れた部分
    が前記第1の放熱板の周辺部の下面に固着された複数の
    リードと、前記複数の電極のそれぞれに接続され、前記
    第1の貫通口を通過し、前記絶縁膜上を延在し、前記第
    2の貫通口を通過して対応する前記リードの前記第2の
    貫通口下に位置する前記インナーリードの部分に接続す
    るボンディングワイヤとを有することを特徴とする半導
    体装置。
  4. 【請求項4】 それぞれの前記インナーリードの接続部
    分にそれぞれ小貫通口が形成され、この小貫通口の集合
    が前記第2の貫通口であることを特徴とする請求項3記
    載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記半導体素子の裏面に第2の放熱板を
    固着したことを特徴とする請求項3又は請求項4記載の
    半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記絶縁膜は絶縁テープであることを特
    徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の半導
    体装置。
  7. 【請求項7】 前記絶縁膜はコーテイィングされた樹脂
    膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいず
    れかに記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記樹脂膜はポリイミド膜であることを
    特徴とする請求項7記載の半導体装置。
  9. 【請求項9】 前記絶縁膜はコーテイィングされたアル
    ミナ膜であることを特徴とする請求項1乃至請求項5の
    いずれかに記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記第1の放熱板が前記複数のリード
    に固着して、前記請求項1乃至請求項9のいずれかに記
    載の半導体装置を製造するために用いる半導体装置用リ
    ードフレーム。
JP9238626A 1997-09-03 1997-09-03 半導体装置及び半導体装置用リードフレーム Expired - Fee Related JP2944588B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9238626A JP2944588B2 (ja) 1997-09-03 1997-09-03 半導体装置及び半導体装置用リードフレーム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9238626A JP2944588B2 (ja) 1997-09-03 1997-09-03 半導体装置及び半導体装置用リードフレーム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1187594A true JPH1187594A (ja) 1999-03-30
JP2944588B2 JP2944588B2 (ja) 1999-09-06

Family

ID=17032949

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9238626A Expired - Fee Related JP2944588B2 (ja) 1997-09-03 1997-09-03 半導体装置及び半導体装置用リードフレーム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2944588B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007142226A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置とその製造方法、およびその半導体装置に用いるリードフレームの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007142226A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置とその製造方法、およびその半導体装置に用いるリードフレームの製造方法
JP4688647B2 (ja) * 2005-11-21 2011-05-25 パナソニック株式会社 半導体装置とその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2944588B2 (ja) 1999-09-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5929514A (en) Thermally enhanced lead-under-paddle I.C. leadframe
JP3540471B2 (ja) 半導体モジュール
JP2636777B2 (ja) マイクロプロセッサ用半導体モジュール
JPH02306656A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH09260550A (ja) 半導体装置
JP5477157B2 (ja) 半導体装置
JP2944588B2 (ja) 半導体装置及び半導体装置用リードフレーム
JP2003209132A (ja) リードフレーム組立体及びそれを使用した半導体装置
JPH08186200A (ja) 半導体装置
JP2564771B2 (ja) 放熱板付き半導体装置及びその製造方法
JPH06188280A (ja) 半導体装置
JP4810898B2 (ja) 半導体装置
JP2806761B2 (ja) 半導体装置
JP3714808B2 (ja) 半導体装置
JP2551349B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置
JPH06196587A (ja) 半導体装置
JPH0778903A (ja) 混成集積回路におけるバイアス電圧の供給方法
JPH07221211A (ja) 半導体装置
JPH07231065A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2550922B2 (ja) マルチチップモジュールの実装構造
JPH07202067A (ja) ヒートシンク付ピングリッドアレイ
JPH0685102A (ja) 半導体集積回路装置
JPS5844636Y2 (ja) 混成集積回路装置
JPH0714949A (ja) 半導体モジュール
JPS60206673A (ja) サ−マルヘツド

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990608

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees