JP2003209132A - リードフレーム組立体及びそれを使用した半導体装置 - Google Patents
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- H01L2224/4911—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
- H01L2224/49113—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
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Abstract
械的な接続強度を向上でき且つリード端子の本数を削減
できるリードフレーム組立体及び半導体装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明のリードフレーム組立体は、支持
板(2)と、支持板(2)の縁部(2b)側に並列に配置された複
数本のリード端子(3)と、支持板(2)の主面(2a)に固着さ
れた電力用及び小信号用半導体素子(5,6)と、各半導体
素子(5,6)の電極と各リード端子(3)とを電気的に接続す
る材質の異なる第1及び第2のリード細線(7,8)とを備
え、各リード端子(3)のパッド部(4)に異なる金属から成
る第1及び第2のメッキ面(4a,4b)を形成し、少なくと
も一本のリード端子(3)のパッド部(4)に第1及び第2の
リード細線(7,8)を共通に接続している。また、支持板
(2)、半導体素子(5,6)、各リード細線(7,8)及び各リー
ド端子(3)のパッド部(4)を樹脂封止体(11)により被覆
し、個別化すれば、本発明の半導体装置が得られる。
Description
ド細線とリード端子との機械的な接続強度を向上でき且
つリード端子の本数を削減できるリードフレーム組立体
及びそのリードフレーム組立体を使用した半導体装置に
属する。
大きい電力用半導体素子及び電流容量の小さい小信号用
半導体素子を搭載し、これらの半導体素子とリードフレ
ームのリード端子との間をリード細線(ワイヤ)によっ
て電気的に接続したリードフレーム組立体は公知であ
る。例えば、図2に示す従来のリードフレーム組立体
は、支持板(2)と、支持板(2)の縁部(2b)側に並列に配置
された複数本のリード端子(3)と、支持板(2)の主面(2a)
に固着された電力用半導体素子(5)及び小信号用半導体
素子(6)と、各半導体素子(5,6)の電極とリード端子(3)
とを電気的に接続する材質の異なる2種類のリード細線
(7,8)とを備えている。支持板(2)及び各リード端子(3)
は、連結細条(9)によりその長手方向に複数個連結さ
れ、リードフレーム(1)を構成する。リードフレーム(1)
は、周知のプレス加工によって一体的に形成され、銅(C
u)を母材としてその表面がニッケル(Ni)メッキされてい
る。リード端子(3)は、連結細条(9)の長手方向に等間隔
で並行して延出する幅狭の導出部(10)と、導出部(10)の
支持板(2)側の先端部に形成された幅広のパッド部(4)と
を有し、各導出部(10)のうちの左端の一本は支持板(2)
の縁部(2b)に連結されている。支持板(2)は、主面(2a)
に固着された電力用半導体素子(5)の動作時に発生する
熱を効率良く放出するため、リード端子(3)及び連結細
条(9)よりも肉厚に形成されている。電力用半導体素子
(5)は、背面に電極が形成され、この電極が導電性を有
する接着剤又は半田により支持板(2)の主面(2a)の左側
に固着される。したがって、電力用半導体素子(5)の背
面電極の電位が支持板(2)の電位と同一となるため、支
持板(2)に連結された左端のリード端子(3)から電力用半
導体素子(5)の背面電極の出力を取り出すことができ
る。小信号用半導体素子(6)は、接着剤又は半田により
支持板(2)の主面(2a)の右側に固着される。
の二点鎖線に示すように支持板(2)、各半導体素子(5,
6)、各リード細線(7,8)及び各リード端子(3)のパッド部
(4)が周知のトランスファモールド等によってエポキシ
等の熱硬化性樹脂から成る樹脂封止体(11)で被覆され、
各リード端子(3)の導出部(10)をリードフレーム(1)を構
成する連結細条(9)から切り離して個別化することによ
り、ハイブリッドIC(集積回路)等の半導体装置とな
る。
ドフレーム組立体では、電力用半導体素子(5)の電極と
リード端子(3)のパッド部(4)とを接続するリード細線
(7)に比較的大きな電流が流れるため、このリード細線
(7)には電流容量の大きなものを使用する必要がある。
一方、小信号用半導体素子(6)の電極とリード端子(3)の
パッド部(4)とを接続するリード細線(8)には比較的大き
な電流は流れないため、このリード細線(8)は電流容量
の小さなものでもよい。一般的に、電流容量の大きなリ
ード細線(7)はアルミニウム(Al)を主成分とする金属で
形成され、電流容量の小さなリード細線(8)は金(Au)を
主成分とする金属で形成される。ところで、各リード細
線(7,8)とリード端子(3)のパッド部(4)とをボンディン
グにより固着する際に、各リード細線(7,8)とリード端
子(3)のパッド部(4)との間に金属間化合物が形成され、
この金属間化合物を介して各リード細線(7,8)とリード
端子(3)のパッド部(4)とが電気的に接続される。この金
属間化合物の種類によって、各リード細線(7,8)とリー
ド端子(3)との機械的な接続強度が左右される。ところ
が、リードフレーム(1)を構成する各リード端子(3)は、
全て同一の金属材料(図2では表面がニッケル(Ni)メッ
キされた銅(Cu))で形成されるため、リード端子(3)に
材質の異なる各リード細線(7,8)をボンディングする
と、特定の金属(図2ではアルミニウム(Al)を主成分と
する金属)で形成されたリード細線(7)では十分大きな
接続強度が得られるが、他種の金属(図2では金(Au)を
主成分とする金属)で形成されたリード細線(8)では十
分な接続強度が得られない場合があった。
体では、銀(Ag)を主成分とする金属を含むメッキ液を一
部のリード端子(3)のパッド部(4)の表面に塗布又は噴霧
することにより、ハッチング部分に示すように金(Au)を
主成分とする金属から成るリード細線(8)が接続される
リード端子(3)のパッド部(4)を銀(Ag)メッキしている。
しかしながら、銀(Ag)メッキされたリード端子(3)のパ
ッド部(4)にアルミニウム(Al)を主成分とする金属から
成るリード細線(7)をボンディングすると十分な接続強
度が得られないため、リード端子(3)のパッド部(4)にメ
ッキする金属の種類を各リード細線(7,8)の材質毎に対
応させる必要が生じ、リード端子(3)の本数が増加する
欠点があった。また、リード端子(3)のパッド部(4)にメ
ッキされた金属の種類により接続可能なリード細線(7,
8)の材質が限定されるため、材質の異なる各リード細線
(7,8)をリード端子(3)に自在に接続できない欠点があっ
た。
ード細線とリード端子との機械的な接続強度を向上でき
且つリード端子の本数を削減できるリードフレーム組立
体及びそれを使用した半導体装置を提供することにあ
る。
ーム組立体は、支持板(2)と、支持板(2)の縁部(2b)側に
並列に配置された複数本のリード端子(3)と、支持板(2)
の主面(2a)に固着された半導体素子(5,6)と、半導体素
子(5,6)の電極とリード端子(3)とを電気的に接続する材
質の異なる複数のリード細線(7,8)とを備え、リード端
子(3)は各リード細線(7,8)を接続するパッド部(4)に異
なる金属の複数のメッキ面(4a,4b)を有し、少なくとも
一本のリード端子(3)の前記パッド部(4)に材質の異なる
各リード細線(7,8)を共通に接続している。リード端子
(3)のパッド部(4)に異なる金属の複数のメッキ面(4a,4
b)を形成したので、材質の異なる各リード細線(7,8)と
リード端子(3)との機械的な接続強度を向上できる。ま
た、材質の異なる複数のリード細線(7,8)を一本のリー
ド端子(3)に共通に接続できるので、リード端子(3)の本
数を削減して半導体素子(5,6)の実装密度を増加するこ
とができる。
導体素子(5,6)の電極とリード端子(3)との間で複数のリ
ード細線(7,8)を交差させずに接続したので、各リード
細線(7,8)が垂下してもそれら同士が接触せず、各リー
ド細線(7,8)の電気的短絡を防止できる。本発明の実施
の形態のリードフレーム組立体では、各リード細線(7,
8)は、アルミニウム(Al)を主成分とする金属により形成
された第1のリード細線(7)と、金(Au)を主成分とする
金属により形成された第2のリード細線(8)とを備え、
パッド部(4)は、ニッケル(Ni)を主成分とする金属によ
り形成された第1のメッキ面(4a)と、銀(Ag)を主成分と
する金属により形成された第2のメッキ面(4b)とを備
え、第1のリード細線(7)は第1のメッキ面(4a)に接続
され、第2のリード細線(8)は第2のメッキ面(4b)に接
続されている。これにより、各リード細線(7,8)とリー
ド端子(3)のパッド部(4)との間に金属間化合物が良好に
生成されるので、材質の異なる各リード細線(7,8)とリ
ード端子(3)との機械的な接続強度を向上できる。ま
た、支持板(2)及びリード端子(3)は、銅(Cu)を主成分と
する金属により形成され且つそれらの表面がニッケル(N
i)を主成分とする金属によりメッキされ、パッド部(4)
の第2のメッキ面(4b)は、支持板(2)の縁部(2b)寄りに
形成されている。これにより、半導体素子(6)の電極と
リード端子(3)のパッド部(4)とを第2のリード細線(8)
により最短距離で接続できるので、第2のリード細線
(8)の垂下による短絡事故を防止できる。更に、本発明
のリードフレーム組立体を使用した半導体装置は、支持
板(2)、半導体素子(5,6)、各リード細線(7,8)及び各リ
ード端子(3)のパッド部(4)を樹脂封止体(11)により被覆
し、個別化することによって得られる。
ム組立体及びそれを使用した半導体装置の実施の形態を
図1に基づいて説明する。但し、図1では図2に示す箇
所と実質的に同一の部分には同一の符号を付し、その説
明を省略する。本発明のリードフレーム組立体では、図
1に示すように、複数本のリード端子(3)のパッド部(4)
に異なる金属の複数のメッキ面(4a,4b)を有し、少なく
とも一本のリード端子(3)のパッド部(4)に材質の異なる
各リード細線(7,8)を共通に接続した点で図2に示す従
来のリードフレーム組立体と相違する。図1に示す実施
の形態では、各リード端子(3)のパッド部(4)の導出部(1
0)側の半分の領域にニッケル(Ni)を主成分とする金属か
ら成る第1のメッキ面(4a)が形成され、パッド部(4)の
支持板(2)の縁部(2b)寄りの半分の領域(ハッチング部
分)に銀(Ag)を主成分とする金属から成る第2のメッキ
面(4b)が形成されている。第2のメッキ面(4b)は、ニッ
ケル(Ni)メッキされた各リード端子(3)のパッド部(4)の
支持板(2)の縁部(2b)寄りの半分の領域に銀(Ag)を主成
分とする金属を含むメッキ液を筆等で擦り付けるか又は
前記のメッキ液をスプレー等で噴霧することにより形成
することができる。
電極には、アルミニウム(Al)から成り且つ比較的電流容
量の大きい第1のリード細線(7)が接続されている。一
方、小信号用半導体素子(6)の上面に形成された電極に
は、金(Au)から成り且つ比較的電流容量の小さい第2の
リード細線(8)が接続されている。電力用半導体素子(5)
に接続された2本の第1のリード細線(7)は、電力用半
導体素子(5)に対向する位置に配置されたリード端子(3)
のパッド部(4)の第1のメッキ面(4a)に接続される。一
方、小信号用半導体素子(6)に接続された5本の第2の
リード細線(8)の内の4本は、小信号用半導体素子(6)の
近傍に配置されたリード端子(3)のパッド部(4)の第2の
メッキ面(4b)に接続される。また、第2のリード細線
(8)の残りの1本は、第1のリード細線(7)が接続された
リード端子(3)のパッド部(4)の第2のメッキ面(4b)に接
続される。
ーム組立体の支持板(2)、各半導体素子(5,6)、各リード
細線(7,8)及び各リード端子(3)のパッド部(4)を周知の
トランスファモールド等によってエポキシ等の熱硬化性
樹脂から成る樹脂封止体(11)で被覆し、各リード端子
(3)の導出部(10)をリードフレーム(1)を構成する連結細
条(9)から切り離して個別化すれば、樹脂封止されたハ
イブリッドIC等の半導体装置が得られる。
半導体装置では、下記のような作用効果が得られる。 [1] アルミニウム(Al)から成る第1のリード細線(7)
がニッケル(Ni)を主成分とする金属から成る第1のメッ
キ面(4a)に接続され、金(Au)から成る第2のリード細線
(8)が銀(Ag)を主成分とする金属から成る第2のメッキ
面(4b)に接続されるので、各リード細線(7,8)とリード
端子(3)のパッド部(4)との間に金属間化合物が良好に生
成され、材質の異なる各リード細線(7,8)とリード端子
(3)との機械的な接続強度を向上できる。 [2] 材質の異なる各リード細線(7,8)を一本のリード
端子(3)に共通に接続できるので、リード端子(3)の本数
を削減できる。 [3] 各リード端子(3)の全てのパッド部(4)に第1及び
第2のメッキ面(4a,4b)を形成したので、複数本のリー
ド端子(3)のそれぞれに材質の異なる各リード細線(7,8)
を自在に接続できる。したがって、各リード細線(7,8)
をリード端子(3)に結線する際の自由度が大きい利点が
ある。 [4] 平面的に見て、電力用及び小信号用半導体素子
(5,6)の電極とリード端子(3)との間で第1及び第2のリ
ード細線(7,8)を交差させずに接続したので、各リード
細線(7,8)が垂下してもそれら同士が接触せず、各リー
ド細線(7,8)の電気的短絡を防止できる。 [5] 各リード端子(3)のパッド部(4)の第2のメッキ面
(4b)が支持板(2)の縁部(2b)寄りに形成されているの
で、小信号用半導体素子(6)の電極とリード端子(3)のパ
ッド部(4)とを第2のリード細線(8)により最短距離で接
続できる。したがって、ワイヤ強度が相対的に小さい第
2のリード細線(8)の垂下による短絡事故を防止するこ
とができる。
定されず、種々の変更が可能である。例えば、前記の実
施の形態では複数本のリード端子(3)のパッド部(4)に2
つのメッキ領域(4a,4b)を形成した形態を示したが、3
つ以上のメッキ領域を形成してもよい。また、前記の実
施の形態では各リード端子(3)のパッド部(4)の導出部(1
0)側の半分の領域に第1のメッキ面(4a)を形成し、パッ
ド部(4)の支持板(2)の縁部(2b)寄りの半分の領域に第2
のメッキ面(4b)を形成した形態を示したが、各リード端
子(3)のパッド部(4)の中央から左半分(又は右半分)の
領域に第1のメッキ面(4a)を形成し、パッド部(4)の中
央から右半分(又は左半分)の領域に第2のメッキ面(4
b)を形成してもよい。更に、支持板(2)の主面(2a)に3
個以上の半導体素子が固着されたリードフレーム組立体
や、材質の異なる複数のリード細線(7,8)が接続された
半導体素子を有するリードフレーム組立体にも本発明を
適用することが可能である。
子との機械的な接続強度の不足によるリード細線の離脱
又は断線等のトラブルを防止できるので、多岐に亘る半
導体素子の構成及びリード細線の配線に対応でき、高信
頼性で適用範囲の広いリードフレーム組立体及び半導体
装置を得ることが可能である。また、材質の異なる各リ
ード細線を一本のリード端子に共通に接続できるので、
リード端子の本数の削減が可能となり、設計の簡略化や
製造コストの低減及び半導体素子の実装密度増加に大い
に寄与できる。
立体の平面図
主面、 (2b)・・縁部、 (3)・・リード端子、 (4)・
・パッド部、 (4a)・・第1のメッキ面、 (4b)・・第
2のメッキ面、 (5)・・電力用半導体素子、 (6)・・
小信号用半導体素子、 (7)・・第1のリード細線、
(8)・・第2のリード細線、 (9)・・連結細条、 (10)
・・導出部、 (11)・・樹脂封止体、
Claims (5)
- 【請求項1】 支持板と、該支持板の縁部側に並列に配
置された複数本のリード端子と、前記支持板の主面に固
着された半導体素子と、該半導体素子の電極と前記リー
ド端子とを電気的に接続する材質の異なる複数のリード
細線とを備えたリードフレーム組立体において、 前記リード端子は、前記各リード細線を接続するパッド
部に異なる金属の複数のメッキ面を有し、 少なくとも一本のリード端子の前記パッド部に前記材質
の異なる各リード細線を共通に接続したことを特徴とす
るリードフレーム組立体。 - 【請求項2】 平面的に見て、前記半導体素子の電極と
前記リード端子との間で前記複数のリード細線を交差さ
せずに接続した請求項1に記載のリードフレーム組立
体。 - 【請求項3】 前記各リード細線は、アルミニウムを主
成分とする金属により形成された第1のリード細線と、
金を主成分とする金属により形成された第2のリード細
線とを備え、 前記パッド部は、ニッケルを主成分とする金属により形
成された第1のメッキ面と、銀を主成分とする金属によ
り形成された第2のメッキ面とを備え、 前記第1のリード細線は前記第1のメッキ面に接続さ
れ、前記第2のリード細線は前記第2のメッキ面に接続
される請求項1又は2に記載のリードフレーム組立体。 - 【請求項4】 前記支持板及び前記リード端子は、銅を
主成分とする金属により形成され且つそれらの表面がニ
ッケルを主成分とする金属によりメッキされ、 前記パッド部の第2のメッキ面は、前記支持板の縁部寄
りに形成された請求項3に記載のリードフレーム組立
体。 - 【請求項5】 請求項1〜4の何れか1項に記載のリー
ドフレーム組立体の支持板、半導体素子、各リード細線
及び各リード端子のパッド部を樹脂封止体により被覆
し、個別化したことを特徴とする半導体装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007294530A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Sanken Electric Co Ltd | リードフレーム組立体 |
JP2009038873A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Sharp Corp | 出力制御装置、ならびに、これを用いたac/dc電源装置、回路装置、ledバックライト回路装置及びスイッチング型dc/dcコンバータ装置 |
US7843700B2 (en) | 2004-04-14 | 2010-11-30 | Denso Corporation | Semiconductor device |
WO2011039795A1 (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-07 | パナソニック株式会社 | 半導体装置とその製造方法 |
JP2014093431A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2017069584A (ja) * | 2017-01-10 | 2017-04-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5011879B2 (ja) * | 2006-08-09 | 2012-08-29 | サンケン電気株式会社 | 半導体装置及びリードフレーム組立体の製法 |
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Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8179688B2 (en) | 2004-04-14 | 2012-05-15 | Denso Corporation | Semiconductor device |
US7843700B2 (en) | 2004-04-14 | 2010-11-30 | Denso Corporation | Semiconductor device |
JP2007294530A (ja) * | 2006-04-21 | 2007-11-08 | Sanken Electric Co Ltd | リードフレーム組立体 |
JP2009038873A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Sharp Corp | 出力制御装置、ならびに、これを用いたac/dc電源装置、回路装置、ledバックライト回路装置及びスイッチング型dc/dcコンバータ装置 |
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WO2011039795A1 (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-07 | パナソニック株式会社 | 半導体装置とその製造方法 |
JP2014093431A (ja) * | 2012-11-05 | 2014-05-19 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
CN103811452A (zh) * | 2012-11-05 | 2014-05-21 | 瑞萨电子株式会社 | 半导体器件及其制造方法 |
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JP2017069584A (ja) * | 2017-01-10 | 2017-04-06 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
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