JPH1165115A - 感光性樹脂組成物および印刷版材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】画像再現性に優れ、また耐刷力が向上し、現像
液中に発生する沈降物が抑止される印刷版を提供する感
光性樹脂組成物の提供。 【解決手段】反応性基を有する部分鹸化ポリ酢酸ビニ
ル、塩基性窒素を有するポリアミド、反応性基を有する
化合物、光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性樹脂組成物お
よびそれを用いた印刷版材に関するものであり、特に耐
刷力が向上し印刷品質の向上した感光性樹脂凸版材を提
供する印刷版用感光性樹脂組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】感光性樹脂組成物を印刷用版材として使
用することは一般的に行われ、凸版、平版、凹版印刷の
各分野において主流となっている。

【０００３】このような印刷版材は、ネガティブ、ポジ
ティブの原画フィルムを感光性樹脂層に密着させ、活性
光線を原画フィルムを通して照射することにより、感光
性樹脂層中に溶剤に溶解する部分と溶解しない部分を形
成することでレリーフ像を形成し、印刷版材として使用
するものである。

【０００４】このような方法を利用した感光性樹脂凸版
材は、一般にポリマ、ラジカル重合性モノマ、光重合開
始剤から構成されている。現在主に使用されている感光
性樹脂凸版材は、水現像できるものがほとんどであり、
そのことからポリマに水溶解性または水膨潤性ポリマが
用いられている。

【０００５】水溶解性ポリマとして主に用いられている
のが部分鹸化ポリ酢酸ビニル重合体であり、例えば特公
昭５２−２７５６１号公報、特公昭５３−３７２１３号
公報、特開昭５０−２７６０２号公報などが挙げられ
る。

【０００６】しかし、部分鹸化ポリ酢酸ビニルは水に対
して溶解性を持つが為に水現像時にレリーフが欠けたり
する問題や、このような重合体の結晶化度が高いために
印刷中の衝撃力に対して脆く印刷中にレリーフが欠ける
などの問題が発生している。

【０００７】解決する方法として、特開平３−２７４５
５８号公報や特開平４−２８３７４９号公報にあるよう
に部分鹸化ポリ酢酸ビニルに感光性基を導入することで
上記問題を解決することが提案されている。しかしなが
ら、この方法においても印刷中の衝撃に対するレリーフ
欠けに対しては、例えば、印刷枚数が非常に多い場合や
印刷圧力が高い場合には、満足できるレベルにはなく、
さらに改良されることが望まれている。また、このよう
な変性した完全鹸化または部分鹸化ポリ酢酸ビニルを含
有する組成物を水現像した場合、変性しているが為にポ
リマの水への溶解性が低下し現像液中にポリマの沈降物
が堆積する。これによって、堆積物がレリーフを形成し
た版の表面に付着し、印刷時に印刷物の欠点となる問題
が発生している。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題を
鑑みて、反応性基が付与された部分鹸化ポリ酢酸ビニル
が配合された印刷版材の現像時および印刷時のレリーフ
強靱性を高め、さらに現像廃液中の堆積物が少なく、画
像再現性に優れた感光性樹脂組成物および樹脂凸版を提
案することを課題をする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は （Ａ）反応性基を側鎖に有する変性部分鹸化ポリ酢酸ビ
ニル （Ｂ）塩基性窒素を有するポリアミド （Ｃ）反応性基を有する化合物 （Ｄ）光重合開始剤 を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、および
それからなる感光層を基材上に塗設してなる印刷版材を
提供するものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。

【００１１】感光性樹脂組成物を構成する（Ａ）成分で
ある反応性基を側鎖に有する変性部分鹸化ポリ酢酸ビニ
ルにおける反応性基とは、ラジカル反応により架橋する
ことができる官能基のことである。一般に、このような
官能基としては、通常は非芳香族の不飽和炭素−炭素結
合、すなわち炭素−炭素二重結合または炭素−炭素三重
結合が通常使用され、ビニル基、（メタ）アクリロイル
基が挙げられる。

【００１２】このような反応性基を部分鹸化ポリ酢酸ビ
ニルの側鎖に導入する方法として、特開平３−２７４５
５８号公報や特開平４−２８３７４９号公報にある方法
により得ることができる。

【００１３】すなわち、部分鹸化ポリ酢酸ビニルと酸無
水物とを反応させ、部分鹸化ポリ酢酸ビニルの水酸基を
起点としてカルボキシル基をポリマ側鎖に導入し、その
カルボキシル基に不飽和エポキシ化合物を反応させるこ
とにより反応性基を導入したり、酢酸ビニルと不飽和カ
ルボン酸を共重合させ得られたポリマを部分鹸化し、こ
のポリマの持つカルボキシル基と不飽和エポキシ化合物
を反応させることにより反応基を導入する方法がある。
なかでも前者の方法で得られた部分鹸化ポリ酢酸ビニル
が本発明の効果が顕著に現れることから好ましく使用さ
れる。

【００１４】このような反応性基は、化合物（Ａ）中、
０．０８〜０．７２モル／ｋｇが好ましく、さらに好ま
しくは０．１２〜０．３６モル／ｋｇである。０．７２
モル／ｋｇより大きいと、水溶解性が悪くなり、水現像
性が満足するレベルを得られないことが多い。０．０８
モル／ｋｇより小さいと、反応性基が反応することで改
善される現像時のレリーフ欠けなどの効果が発現しなく
なることが多い。

【００１５】このようにして得られた反応性基を有する
部分鹸化ポリ酢酸ビニル（Ａ）は、少なくとも次の
（Ｉ）、（II）、（III ）の構造単位を有する。

【化１】

【００１６】反応性基を有する部分鹸化ポリ酢酸ビニル
（Ａ）に水現像性が必要なことから、構造（Ｉ）の単位
が６０〜９９モル％が好ましく、さらに好ましくは７０
〜９５モル％である。（Ｉ）の構造単位が６０モル％未
満であると水溶解性が低下し十分な水現像性を得ること
ができず、９９モル％より大きいと常温水に対する溶解
性が低下して十分な水現像性を得ることができない。

【００１７】また、（Ａ）成分であるポリマの平均重合
度は３００〜２０００の範囲が好ましく、５００〜１０
００がより好ましい。平均重合度が３００未満であると
ポリマの耐水性が低下し、十分な耐水性を得ることがで
きない。平均重合度が２０００を越えるとポリマの水溶
解性が著しく低下し、十分な水現像性が得られない。

【００１８】本発明の（Ｂ）成分は、（Ａ）成分の現像
液中での溶解性や分散性を高め、現像液中に堆積物を発
生させない働きを持つものである。さらに（Ａ）成分の
配合によって生じることの多かった現像時のレリーフ欠
けや印刷時のレリーフ欠けの問題を改良できるものであ
る。

【００１９】そこで（Ｂ）成分として塩基性窒素を有す
るポリアミドが使用される。ポリアミド中にある塩基性
窒素が、（Ａ）成分にある水酸基やカルボキシル基と安
定なコンプレックスを形成することで、現像液中に
（Ａ）成分が安定に存在することができると考えられ
る。

【００２０】塩基性窒素を有するポリアミドは、主鎖ま
たは側鎖の一部分に塩基性窒素を含有する重合体であ
る。塩基性窒素とは、アミド基でないアミノ基を構成す
る窒素原子である。そのようなポリアミドとしては、３
級アミノ基を主鎖中に有するポリアミドを挙げることが
できる。

【００２１】塩基性窒素を有するポリアミドは、塩基性
窒素を有する単量体を単独もしくは他の単量体とを用い
て縮重合、重付加反応などを行いポリアミドを得ること
ができる。

【００２２】塩基性窒素としては、ピペラジンやＮ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基が好ましく、より好ましくはピペ
ラジンである。

【００２３】本発明で要されるポリアミドを提供するた
めの塩基性窒素を有する単量体とは具体的に挙げると
Ｎ，Ｎ’−ビス（アミノメチル）−ピペラジン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（β−アミノエチル）−ピペラジン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（γ−アミノベンジル）−ピペラジン、Ｎ−
（β−アミノエチル）ピペラジン、Ｎ−（β−アミノプ
ロピル）ピペラジン、Ｎ−（ω−アミノヘキシル）ピペ
ラジン、Ｎ−（β−アミノエチル）−２，５−ジメチル
ピペラジン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−アミノエチル）−ベン
ジルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（γ−アミノプロピル）−ア
ミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（γ−アミ
ノプロピル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル
−Ｎ，Ｎ’−ビス（γ−アミノプロピル）−テトラメチ
レンジアミンなどのジアミン類、Ｎ，Ｎ’−ビス（カル
ボキシメチル）−ピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（カルボ
キシメチル）−メチルピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（カ
ルボキシメチル）−２，６−ジメチルピペラジン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（β−カルボキシエチル）−ピペラジン、
Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）−メチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ビス（β−カルボキシエチル）−エチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−カルボキシエチル）−メチルア
ミン、Ｎ，Ｎ−ジ（β−カルボキシエチル）−イソプロ
ピルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス−
（カルボキシメチル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−
ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（β−カルボキシエチル）
−エチレンジアミンなどのジカルボン酸類あるいはこれ
らの低級アルキルエステル、酸ハロゲン化物、Ｎ−（ア
ミノメチル）−Ｎ’−（カルボキシメチル）−ピペラジ
ン、Ｎ−（アミノメチル）−Ｎ’−（β−カルボキシエ
チル）−ピペラジン、Ｎ−（β−アミノエチル）−Ｎ’
−（β−カルボキシエチル）−ピペラジン、Ｎ−カルボ
キシメチルピペラジン、Ｎ−（β−カルボキシエチル）
ピペラジン、Ｎ−（γ−カルボキシヘキシル）ピペラジ
ン、Ｎ−（ω−カルボキシヘキシル）ピペラジン、Ｎ−
（アミノメチル）−Ｎ−（カルボキシメチル）−メチル
アミン、Ｎ−（β−アミノエチル）−Ｎ−（β−カルボ
キシエチル）−メチルアミン、Ｎ−（アミノメチル）−
Ｎ−（β−カルボキシエチル）−イソプロピルアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−（アミノメチル）−Ｎ’−
（カルボキシメチル）−エチレンジアミンなどのω−ア
ミノ酸などがある。またこれらの単量体のほかにジアミ
ン、ジカルボン酸、ω−アミノ酸、ラクタムなどと併用
して重合することによって本発明のポリアミドができ
る。

【００２４】これら塩基性窒素を含有する単量体成分は
全ポリアミド構成成分、すなわちアミノカルボン酸単位
（原料としてラクタムの場合を含む）、ジカルボン酸単
位およびジアミン構造単位の和に対して、１０〜１００
モル％、さらに１０〜８０モル％であることが好まし
い。１０モル％未満であると水溶性が低く（Ａ）成分と
の相溶性が低下することが多い。

【００２５】本発明の（Ｃ）成分である反応性基を有す
る化合物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分との相溶性が良好
なものであれば特に限定されるものではない。

【００２６】反応性基を有する化合物は、ラジカル重合
により重合可能な化合物である。

【００２７】一般的に使用される反応性基を有する化合
物としては、従来公知の化合物が全て含まれる。具体例
としては、次のようなものが挙げられるが、これに限定
されるものではない。

【００２８】２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−クロロ
−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、β−
ヒドロキシ−β’−（メタ）アクリロイルオキシエチル
フタレートなどの水酸基を有する（メタ）アクリレー
ト、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アク
リレート、プロピル（メタ）アクリレート、、ブチル
（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレー
ト、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリ
ル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレ
ート等のアルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシ
ル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）ア
クリレート、クロロエチル（メタ）アクリレート、クロ
ロプロピル（メタ）アクリレート等のハロゲン化アルキ
ル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アク
リレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブト
キシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキ
ル（メタ）アクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレートなど
のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート、エトキシ
ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシ
トリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキ
シジプロピレングレコール（メタ）アクリレートなどの
アルコキシアルキレングリコール（メタ）アクリレー
ト、（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アク
リルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリル
アミドのような（メタ）アクリルアミド類、２、２−ジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２，２−ジ
エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、2ーヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、3ークロロー2ーヒ
ドロキシプロピル（メタ）アクリレート、などのエチレ
ン性不飽和結合を１個だけ有する化合物、ジエチレング
リコールジ（メタ）アクリレートのようなポリエチレン
グリコールのジ（メタ）アクリレート、ジプロピレング
リコールジ（メタ）アクリレートのようなポリプロピレ
ングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメリロール
プロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メ
タ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエ
ーテルに不飽和カルボン酸や不飽和アルコールなどのエ
チレン性不飽和結合と活性水素を持つ化合物を付加反応
させて得られる多価（メタ）アクリレート、グリシジル
（メタ）アクリレートなどの不飽和エポキシ化合物とカ
ルボン酸やアミンのような活性水素を有する化合物を付
加反応させて得られる多価（メタ）アクリレート、メチ
レンビス（メタ）アクリルアミドなどの多価（メタ）ア
クリルアミド、ジビニルベンゼンなどの多価ビニル化合
物、などの２つ以上のエチレン性不飽和結合を有する化
合物、などが挙げられる。

【００２９】これら（Ｃ）成分の含有量は（Ａ）成分１
００重量部に対して１０〜２００重量部であることが好
ましい。１０重量部より少ないと画像再現性が不足する
ことが多い。２００重量部より多いとできたレリーフが
脆いものになりやすい。

【００３０】また、感光性樹脂組成物中に（Ｄ）成分で
ある光重合開始剤を加えるのが一般的である。光重合開
始剤としては、光によって重合性の炭素−炭素不飽和基
を重合させることができるものであれば全て使用でき
る。なかでも、光吸収によって、自己分解や水素引き抜
きによってラジカルを生成する機能を有するものが好ま
しく用いられる。例えば、ベンゾインアルキルエーテル
類、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、ベンジル
類、アセトフェノン類、ジアセチル類などある。光重合
開始剤の配合量としては、（Ａ）成分１００重量部に対
して０．１〜２０重量部の範囲が好ましい。

【００３１】本発明の感光性樹脂組成物に相溶性、柔軟
性を高めるための相溶助剤としてエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリ
セリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタ
ンなどの多価アルコール類を添加することも可能であ
る。これらの多価アルコールは、感光性樹脂組成物全体
に対して、３０重量％以下であることか好ましい。

【００３２】本発明の感光性樹脂組成物の熱安定性を上
げる為に、従来公知の重合禁止剤を添加することができ
る。好ましい重合禁止剤としては、フェノール類、ハイ
ドロキノン類、カテコール類などが挙げられる。これら
の配合量は、全感光性樹脂組成物に対して、０．００１
〜５重量％の範囲で使用することが一般的である。

【００３３】また、他の成分として、染料、顔料、界面
活性剤、消泡剤、紫外線吸収剤、香料などを添加するこ
とができる。

【００３４】本発明の感光性樹脂組成物を製造する方法
としては、（Ａ）成分の反応性基を持つ部分鹸化ポリ酢
酸ビニルと（Ｂ）成分であるポリアミドを水／アルコー
ルの混合溶媒に加熱溶解した後に、（Ｃ）成分である反
応性基を有する化合物、（Ｄ）成分である光重合開始剤
やその他の成分を添加し、十分攪拌することで感光性樹
脂組成物溶液を得ることができる。この溶液から溶剤を
蒸留除去した後、接着剤を塗布した基板上に、溶融押し
出しし、粘着防止層を塗布したカバーフィルムを感光層
上に密着させることで印刷版用感光性樹脂版を得ること
ができる。また、乾式製膜により感光性樹脂シートを作
成し、基板とカバーフィルムを感光性樹脂シートに挟み
込み印刷版用感光性樹脂版を得ることができる。基板と
してはスチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属
やポリエステルなどのプラスチックシート、スチレン−
ブタジエンゴムなどの合成ゴムシートが使用される。感
光層の厚みは０．０１〜１０mmの厚さに形成することが
好ましい。

【００３５】このようにして得られた感光性樹脂版に印
刷用のレリーフ像を形成するためには、まず、カバーフ
ィルムを剥離した感光層上にネガティブまたはポジティ
ブの原画フィルムを密着させ通常３００〜４００ｎｍの
波長を照射できる高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ、キセノン灯、カーボンアーク灯、ケミカ
ル灯により紫外線照射し、光重合によって光硬化を行わ
せる。

【００３６】次に、未重合部分を中性水使用のスプレー
式現像装置やブラシ式洗い出し機により溶出させること
により基板上にレリーフ像を形成することができる。こ
れを必要であれば、乾燥後大気中、ないし真空中で活性
光線処理して印刷版材を得ることができる。

【００３７】本発明の感光性樹脂組成物は、凸版印刷用
に用いることが最も適しているが、平版印刷用、凹版印
刷用、孔版印刷用、フォトレジストとして使用すること
も可能である。

【００３８】

【実施例】以下、本発明を実施例で詳細に説明する。

【００３９】反応性基を有する部分鹸化ポリ酢酸ビニル
を次のようにして合成した。

【００４０】（合成例１）重合度６５０、鹸化度７５モ
ル％の部分鹸化ポリ酢酸ビニルをＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（以下ＤＭＦと略）中に膨潤させ無水コハク酸
１モル％を添加し反応させカルボキシル基を付加させ
た。このポリマを精製し未反応の無水コハク酸を除去
し、酸価を測定したところ酸価は７であった。このポリ
マ１００重量部をエタノール／水＝３０／７０（重量
比）の混合溶媒２００重量部に８０℃で溶解した。ここ
にグリシジルメタクリレートを６重量部添加して部分鹸
化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導入した。電位差滴定
法による分析結果からポリマ中のカルボキシル基がグリ
シジルメタクリレートのエポキシ基と反応しポリマ側鎖
中にメタクロイル基が導入されたこを確認した。

【００４１】よって、反応性基はカルボキシル基変性の
部分鹸化ポリ酢酸ビニルの酸価の値から０．１３モル／
ｋｇであることがわかった。

【００４２】（合成例２）重合度６５０、鹸化度８０モ
ル％の部分鹸化ポリ酢酸ビニルをＤＭＦ中に膨潤させ無
水フタル酸１．５モル％を添加し反応させカルボキシル
基を付加させた。このポリマを精製し未反応の無水フタ
ル酸を除去し、酸価を測定したところ酸価は１２であっ
た。このポリマ１００重量部をエタノール／水＝３０／
７０（重量比）の混合溶媒２００重量部に８０℃で溶解
した。ここにグリシジルメタクリレートを６重量部添加
して部分鹸化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導入した。
電位差滴定法による分析結果からポリマ中のカルボキシ
ル基がグリシジルメタクリレートのエポキシ基と反応し
ポリマ側鎖中にメタクロイル基が導入されたこを確認し
た。

【００４３】よって、反応性基はカルボキシル基変性の
部分鹸化ポリ酢酸ビニルの酸価の値から０．２１モル／
ｋｇであることがわかった。

【００４４】（合成例３）重合度１０００、鹸化度８０
モル％の部分鹸化ポリ酢酸ビニルをアセトン中に膨潤さ
せ無水マレイン酸１．５モル％を添加し反応させカルボ
キシル基を付加させた。このポリマを精製し未反応の無
水マレイン酸を除去し、酸価を測定したところ酸価は１
１であった。このポリマ１００重量部をエタノール／水
＝３０／７０（重量比）の混合溶媒２００重量部に８０
℃で溶解した。ここにグリシジルメタクリレートを６重
量部添加して部分鹸化ポリ酢酸ビニル中に反応性基を導
入した。電位差滴定法による分析結果からポリマ中のカ
ルボキシル基がグリシジルメタクリレートのエポキシ基
と反応しポリマ側鎖中にメタクロイル基が導入されたこ
を確認した。

【００４５】よって、反応性基はカルボキシル基変性の
部分鹸化ポリ酢酸ビニルの酸価の値から０．２０モル／
ｋｇであることがわかった。

【００４６】ポリアミドとして表１のものを使用した。

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】実施例１ 合成例１のポリマ１００重量部をエタノール／水＝３０
／７０（重量比）の混合溶媒２００重量部に８０℃で溶
解した。この溶液中に表１のポリアミド１を１０部添加
し溶解した。その後、反応性基を有する化合物としてプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテル１モルとアク
リル酸２モルの付加反応によって得られた不飽和エポキ
シエステル化合物２０部、グリシジルメタクリレート１
モルとアクリル酸の付加反応物３０部を添加し、さらに
グリセリン２５部を添加し、光重合開始剤としてジメチ
ルベンジルケタール３．０部、熱重合禁止剤としてハイ
ドロキノンモノメチルエーテル０．０５部を加え十分攪
拌した。感光性樹脂溶液の状況を目視で観察したところ
透明な原液となっていることを確認した。

【００５０】このようにして得られた感光性樹脂溶液を
あらかじめポリエステル系接着剤を塗布してある厚さ２
００μｍのポリエステルフィルム上に乾燥後の膜厚が９
５０μｍとなるように流延し、６０℃の熱風オーブンに
５時間入れて溶剤を除去した。

【００５１】このようにして得られた感光性樹脂シート
の感光層上に、水／エタノール＝５０／５０の溶液を薄
く塗布し、マット化された１００μｍのポリエステルフ
ィルム上にポリビニルアルコール系ポリマの粘着防止層
を持つカバーフィルムを圧着してカバーフィルムを付け
た。

【００５２】この印刷版用感光性樹脂版を１０日間暗所
に保管した後、カバーフィルムを剥離し、感度測定用グ
レースケールネガフィルムおよび画像再現性評価用ネガ
フィルム（１３３線の３％網点、２００μｍの独立点を
持つ）を真空密着させ、ケミカル灯露光機で２分間露光
した。次いで３０℃の中性水を入れたブラシ式現像装置
を使用して現像したところ４分間で未露光部分が水中に
溶出し、レリーフ像を得ることができた。現像装置中に
ある現像液を目視で観察した結果、現像液中に浮遊物や
沈澱物のないことを確認した。得られたレリーフ像を評
価した結果、グレースケールは１７ステップであり、画
線部の３％網点、２００μｍ独立点が再現していること
がわかった。

【００５３】このようにして得られた印刷版材で印刷テ
ストをしたところ画線の太りがなくシャープな仕上がり
の印刷物が得られた。また、５０万枚の印刷を行ったが
レリーフ剥がれや欠けの問題など発生しなかった。

【００５４】実施例２〜４、比較例１、２ 表３の組成により、実施例１と同様の方法で感光性樹脂
組成物溶液、印刷版用感光性樹脂版および印刷版材を得
た。感光性樹脂組成物溶液（原液）の状態、グレースケ
ール１７ステップ時の画像再現性、現像液の沈澱物の状
況、５０万枚印刷テスト結果を表４にまとめる。

【００５５】この結果から、塩基性窒素を有するポリア
ミドを、反応性基を側鎖に有する部分ケン化ポリ酢酸ビ
ニルを含有する組成物中に配合することで、現像廃液中
の沈澱物が減少し、耐刷力の向上した印刷版材となるこ
とがわかる。

【００５６】

【表３】

【００５７】

【表４】

【００５８】

【発明の効果】以上説明したとおり、本発明の構成、特
に反応性基を含有する部分鹸化ポリ酢酸ビニルと塩基性
窒素を有するポリアミドとを組み合わせた感光性樹脂組
成物とすることで、それから得られる印刷版は画像再現
性に優れ、また耐刷力が向上し、現像液中に発生する沈
降物を押さえることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０２ 7/027 ５０２ 7/027 ５０２ 7/031 7/031 7/037 7/037

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）反応性基を側鎖に有する変性部分鹸
   化ポリ酢酸ビニル （Ｂ）塩基性窒素を有するポリアミド （Ｃ）反応性基を有する化合物 （Ｄ）光重合開始剤 を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物
2. 【請求項２】（Ｂ）成分である塩基性窒素を有するポリ
   アミドがピペラジン環を持つことを特徴とする請求項１
   記載の感光性樹脂組成物。
3. 【請求項３】（Ａ）成分が部分鹸化ポリ酢酸ビニルと酸
   無水物とを反応させ、部分鹸化ポリ酢酸ビニルの水酸基
   を起点としてカルボキシル基をポリマ側鎖に導入し、そ
   のカルボキシル基に不飽和エポキシ化合物を反応させる
   ことにより反応性基を導入した変性部分鹸化ポリ酢酸ビ
   ニルである請求項１又は２記載の感光性樹脂組成物。
4. 【請求項４】（Ａ）成分１００重量部に対して、（Ｂ）
   成分が０．５〜１００重量部、（Ｃ）成分が１０〜２０
   ０重量部、（Ｄ）成分が０．１〜２０重量部である請求
   項１〜３いずれかに記載の感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】支持体上に、請求項１〜４いずれかの感光
   性樹脂組成物からなる感光層を塗設して構成される印刷
   版材。