JPH1160544A - ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体 - Google Patents
ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体Info
- Publication number
- JPH1160544A JPH1160544A JP16084598A JP16084598A JPH1160544A JP H1160544 A JPH1160544 A JP H1160544A JP 16084598 A JP16084598 A JP 16084598A JP 16084598 A JP16084598 A JP 16084598A JP H1160544 A JPH1160544 A JP H1160544A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substituted
- unsubstituted
- group
- same
- different
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子写真用感光体における光導電性素材
などとして有用なスチルベン化合物およびその中間体の
提供。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシ
スチルベン化合物。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａｒ1、Ａｒ2、Ａ
ｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ7は置換もしくは無置換のアリ
ーレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ
12の単結合または分岐状、環状のアルキレン基、置換も
しくは無置換のアリーレン基を表す。）
などとして有用なスチルベン化合物およびその中間体の
提供。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシ
スチルベン化合物。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａｒ1、Ａｒ2、Ａ
ｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ7は置換もしくは無置換のアリ
ーレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ
12の単結合または分岐状、環状のアルキレン基、置換も
しくは無置換のアリーレン基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真用の有機光
導電性材料として、またヒドロキシル基から誘導される
種々の材料の製造中間体としても有用なヒドロキシスチ
ルベン化合物、およびその製造中間体として有用なアミ
ノスチルベン化合物に関する。
導電性材料として、またヒドロキシル基から誘導される
種々の材料の製造中間体としても有用なヒドロキシスチ
ルベン化合物、およびその製造中間体として有用なアミ
ノスチルベン化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真方式において使用される
感光体の光導電性素材として用いられているものにセレ
ン、硫化カドミウム、酸化亜鉛などの無機物質がある。
ここにいう「電子写真方式」とは、一般に、光導電性の
感光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電せ
しめ、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に逸
散せしめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料など
の着色材と高分子物質などの結着剤とから構成される検
電微粒子（トナー）で現像し可視化して画像を形成する
ようにした画像形成法の一つである。このような電子写
真法において感光体に要求される基本的な特性として
は、 （１）暗所で適当な電位に帯電できること （２）暗所において電荷の逸散が少ないこと （３）光照射によって速やかに電荷を逸散せしめうるこ
と などが挙げられる。
感光体の光導電性素材として用いられているものにセレ
ン、硫化カドミウム、酸化亜鉛などの無機物質がある。
ここにいう「電子写真方式」とは、一般に、光導電性の
感光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電せ
しめ、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に逸
散せしめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料など
の着色材と高分子物質などの結着剤とから構成される検
電微粒子（トナー）で現像し可視化して画像を形成する
ようにした画像形成法の一つである。このような電子写
真法において感光体に要求される基本的な特性として
は、 （１）暗所で適当な電位に帯電できること （２）暗所において電荷の逸散が少ないこと （３）光照射によって速やかに電荷を逸散せしめうるこ
と などが挙げられる。
【０００３】また近年、感光体の更なる機械的強度の向
上を目的とした高分子光導電性材料（米国特許第４，８
０１，５１７号、米国特許第４，８０６，４４３号、米
国特許第４，８０６，４４４号、特開平３−２２１５２
２号、特開平４−１１６２７号）が提案されている。し
かしながら、従来の低分子あるいは高分子光導電性材料
は、これらの要求を十分に満足するものが得られていな
いのが実状である。
上を目的とした高分子光導電性材料（米国特許第４，８
０１，５１７号、米国特許第４，８０６，４４３号、米
国特許第４，８０６，４４４号、特開平３−２２１５２
２号、特開平４−１１６２７号）が提案されている。し
かしながら、従来の低分子あるいは高分子光導電性材料
は、これらの要求を十分に満足するものが得られていな
いのが実状である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
の感光体がもつ種々の欠点を解消し、基本的な電子写真
特性を全て満足する高分子光導電性材料の製造中間体と
して有用なヒドロキシスチルベン化合物とアミノスチル
ベン化合物を提供することにある。
の感光体がもつ種々の欠点を解消し、基本的な電子写真
特性を全て満足する高分子光導電性材料の製造中間体と
して有用なヒドロキシスチルベン化合物とアミノスチル
ベン化合物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載のとおりのヒ
ドロキシスチルベン化合物とその製造中間体である。す
なわち、下記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、
（Ｉ−３）、（II）、（II−１）、（II−２）および
（II−３）で表されるヒドロキシスチルベン化合物とア
ミノスチルベン化合物が提供される。
の本発明の構成は、特許請求の範囲に記載のとおりのヒ
ドロキシスチルベン化合物とその製造中間体である。す
なわち、下記一般式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、
（Ｉ−３）、（II）、（II−１）、（II−２）および
（II−３）で表されるヒドロキシスチルベン化合物とア
ミノスチルベン化合物が提供される。
【０００６】
【化９】
【０００７】
【化１０】
【０００８】
【化１１】
【０００９】
【化１２】
【００１０】
【化１３】
【００１１】
【化１４】
【００１２】
【化１５】
【００１３】
【化１６】
【００１４】（式（Ｉ）（Ｉ−１）（Ｉ−２）（Ｉ−
３）（II）（II−１）（II−２）および（II−３）中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、置換もしくは無置換の
アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5、Ｒ6は置換
もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のア
シル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ7は置換もし
くは無置換のアリーレン基を表し、それぞれ同一でも異
なっていてもよい。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、それぞれ同一でも異なっていても
よい。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−
ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単結合または分岐状、環状のアル
キレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基を表
す。） 本発明における、前記一般式で示されるスチルベン化合
物はいずれも新規物質であり、前記一般式（Ｉ）で示さ
れるヒドロキシスチルベン化合物は、前記一般式（II）
で示される化合物の脱アルキル化もしくは脱アシル化に
よって得られる。詳しくは、脱アルキル化の場合、酸性
試薬による開裂反応、塩基性試薬による開裂反応が挙げ
られ、酸性試薬としては臭化水素、ヨウ化水素、トリフ
ルオロ酢酸、ピリジンの塩酸塩、濃塩酸、ヨウ化マグネ
シウムエーテラート、塩化アルミニウム、臭化アルミニ
ウム、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素、三ヨウ化ホウ素等
が、塩基性試薬としては水酸化カリウム、リチウムジフ
ェニルホスフィド、ナトリウムチオラート等を挙げるこ
とができる。溶媒としてはジクロロメタン、ＴＨＦ、Ｄ
ＭＦ、ピリジン、ブタノール等を挙げることができ、反
応温度は用いる試薬の反応性によるが、一般的には室温
〜２００℃の間で行われる。
３）（II）（II−１）（II−２）および（II−３）中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、置換もしくは無置換の
アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5、Ｒ6は置換
もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のア
シル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ａｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ7は置換もし
くは無置換のアリーレン基を表し、それぞれ同一でも異
なっていてもよい。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換
のアリール基を表し、それぞれ同一でも異なっていても
よい。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−
ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単結合または分岐状、環状のアル
キレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基を表
す。） 本発明における、前記一般式で示されるスチルベン化合
物はいずれも新規物質であり、前記一般式（Ｉ）で示さ
れるヒドロキシスチルベン化合物は、前記一般式（II）
で示される化合物の脱アルキル化もしくは脱アシル化に
よって得られる。詳しくは、脱アルキル化の場合、酸性
試薬による開裂反応、塩基性試薬による開裂反応が挙げ
られ、酸性試薬としては臭化水素、ヨウ化水素、トリフ
ルオロ酢酸、ピリジンの塩酸塩、濃塩酸、ヨウ化マグネ
シウムエーテラート、塩化アルミニウム、臭化アルミニ
ウム、三臭化ホウ素、三塩化ホウ素、三ヨウ化ホウ素等
が、塩基性試薬としては水酸化カリウム、リチウムジフ
ェニルホスフィド、ナトリウムチオラート等を挙げるこ
とができる。溶媒としてはジクロロメタン、ＴＨＦ、Ｄ
ＭＦ、ピリジン、ブタノール等を挙げることができ、反
応温度は用いる試薬の反応性によるが、一般的には室温
〜２００℃の間で行われる。
【００１５】また、脱アシル化の場合は、酸性またはア
ルカリ性下で脱アシル化することによって製造される。
この時の酸性および塩基性試薬として例えば、塩酸、硫
酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げること
ができ、反応溶媒としてはメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノー
ル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエ
チル）エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどを挙
げることができる。
ルカリ性下で脱アシル化することによって製造される。
この時の酸性および塩基性試薬として例えば、塩酸、硫
酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げること
ができ、反応溶媒としてはメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノー
ル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエ
チル）エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンなどを挙
げることができる。
【００１６】更に、前記一般式（II）〜（II−３）で示
される化合物は、下記一般式(III)で表されるアルデヒ
ド化合物
される化合物は、下記一般式(III)で表されるアルデヒ
ド化合物
【００１７】
【化１７】
【００１８】（式中、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ7は置
換もしくは無置換のアリーレン基を表し、それぞれ同一
でも異なっていてもよい。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは
無置換のアリール基を表し、それぞれ同一でも異なって
いてもよい。Ｘは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、
−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の直鎖状または分岐
状、環状のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリー
レン基を表す。）で表されるアルデヒド化合物と下記一
般式（IV−１、IV−２）
換もしくは無置換のアリーレン基を表し、それぞれ同一
でも異なっていてもよい。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは
無置換のアリール基を表し、それぞれ同一でも異なって
いてもよい。Ｘは単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、
−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の直鎖状または分岐
状、環状のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリー
レン基を表す。）で表されるアルデヒド化合物と下記一
般式（IV−１、IV−２）
【００１９】
【化１８】
【００２０】（式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしく
は無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール
基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ5、Ｒ6は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もし
くは無置換のアシル基を表し、それぞれ同一でも異なっ
ていてもよい。Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のア
リーレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｙは−Ｐ＋（Ｒ7）3Ｚ~(ここでＲ7はフェニル基ま
たは低級アルキル基、Ｚはハロゲン原子を表す。）で表
されるホスホニウム塩、または−ＰＯ（ＯＲ8）2(ここ
でＲ8は低級アルキル基を表す。)で表されるジアルキル
亜燐酸基である。）で表されるリン化合物とを塩基性触
媒の存在下、室温から１００℃程度の温度において反応
させることによって製造される。この場合、塩基性触媒
としては、フェニルリチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム及び
ナトリウムメチラート、カリウム−ｔ−ブトキサイドな
どのアルコラートを挙げることができる。また反応溶媒
としては、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、２−メトキシエタノール、１，２−ジ
メトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジ
メチル−２−イミダゾリジノンなどを挙げることができ
る。中でも極性溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドおよびメチルスルホキシドが好適である。反応温
度は、 （１）使用する溶媒の塩基性触媒に対する安定性 （２）縮合成分（前記一般式（III）および一般式（IV
−１）、（IV−２）の化合物）の反応性 （３）前記塩基性触媒の溶媒中における縮合剤としての
反応性 によって広範囲に選択することができる。例えば極性溶
媒を用いるときは、実際には室温から１００℃、好まし
くは室温から８０℃である。しかし、反応時間の短縮又
は活性の低い縮合剤を使用するときは更に高い温度でも
よい。
は無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール
基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ5、Ｒ6は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もし
くは無置換のアシル基を表し、それぞれ同一でも異なっ
ていてもよい。Ａｒ1、Ａｒ2は置換もしくは無置換のア
リーレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ｙは−Ｐ＋（Ｒ7）3Ｚ~(ここでＲ7はフェニル基ま
たは低級アルキル基、Ｚはハロゲン原子を表す。）で表
されるホスホニウム塩、または−ＰＯ（ＯＲ8）2(ここ
でＲ8は低級アルキル基を表す。)で表されるジアルキル
亜燐酸基である。）で表されるリン化合物とを塩基性触
媒の存在下、室温から１００℃程度の温度において反応
させることによって製造される。この場合、塩基性触媒
としては、フェニルリチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム及び
ナトリウムメチラート、カリウム−ｔ−ブトキサイドな
どのアルコラートを挙げることができる。また反応溶媒
としては、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノール、２−メトキシエタノール、１，２−ジ
メトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジ
メチル−２−イミダゾリジノンなどを挙げることができ
る。中でも極性溶媒、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドおよびメチルスルホキシドが好適である。反応温
度は、 （１）使用する溶媒の塩基性触媒に対する安定性 （２）縮合成分（前記一般式（III）および一般式（IV
−１）、（IV−２）の化合物）の反応性 （３）前記塩基性触媒の溶媒中における縮合剤としての
反応性 によって広範囲に選択することができる。例えば極性溶
媒を用いるときは、実際には室温から１００℃、好まし
くは室温から８０℃である。しかし、反応時間の短縮又
は活性の低い縮合剤を使用するときは更に高い温度でも
よい。
【００２１】このようにして得られる本発明の前記一般
式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）、（I
I）、（II−１）、（II−２）（II−３）で表されるヒ
ドロキシスチルベン化合物とアミノスチルベン化合物の
好ましい例を以下の表１に例示する。
式（Ｉ）、（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）、（I
I）、（II−１）、（II−２）（II−３）で表されるヒ
ドロキシスチルベン化合物とアミノスチルベン化合物の
好ましい例を以下の表１に例示する。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】
【表３】
【００２５】
【表４】
【００２６】
【表５】
【００２７】
【表６】
【００２８】
【表７】
【００２９】
【表８】
【００３０】
【表９】
【００３１】
【表１０】
【００３２】
【表１１】
【００３３】
【表１２】
【００３４】
【表１３】
【００３５】
【表１４】
【００３６】
【表１５】
【００３７】
【表１６】
【００３８】本発明のヒドロキシスチルベン化合物とア
ミノスチルベン化合物は、電子写真用感光体における光
導電性素材として極めて有用であり、染料やルイス酸な
どの増感剤によって光学的あるいは化学的に増感され
る。また有機顔料あるいは無機顔料を電荷発生物質とす
るいわゆる機能力離型感光体における電荷移動物質とし
てとりわけ有用である。
ミノスチルベン化合物は、電子写真用感光体における光
導電性素材として極めて有用であり、染料やルイス酸な
どの増感剤によって光学的あるいは化学的に増感され
る。また有機顔料あるいは無機顔料を電荷発生物質とす
るいわゆる機能力離型感光体における電荷移動物質とし
てとりわけ有用である。
【００３９】上記増感剤として例えばメチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット等のトリアリルメタン染
料、ローズベンガル、エリスロシン、ローダミンＢ等の
キサンテン染料、メチルレンブルー等のチアジン染料、
２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４−
ジニトロ−９−フルオレノンが挙げられる。
ト、クリスタルバイオレット等のトリアリルメタン染
料、ローズベンガル、エリスロシン、ローダミンＢ等の
キサンテン染料、メチルレンブルー等のチアジン染料、
２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４−
ジニトロ−９−フルオレノンが挙げられる。
【００４０】また有機顔料としては、シーアイピグメン
トブルー２５（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１１８０）、シーアイ
ピグメントレッド４１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１２００）、
シーアイベーシックレッド３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５２１
０）等のアゾ系顔料、シーアイピグメントブルー１６
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１００）等のフタロシアニン系顔
料、シーアイバットブラウン５（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３４
１０）、シーアイバットダイ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３０３
０）等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットＢ、イン
ダンスレンスカーレットＲ等のペリレン系顔料が挙げら
れる。また、セレン、セレン−テルル、硫化カドミウ
ム、α−シリコン等の無機顔料も使用できる。
トブルー２５（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１１８０）、シーアイ
ピグメントレッド４１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１２００）、
シーアイベーシックレッド３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５２１
０）等のアゾ系顔料、シーアイピグメントブルー１６
（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７４１００）等のフタロシアニン系顔
料、シーアイバットブラウン５（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３４
１０）、シーアイバットダイ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３０３
０）等のインジゴ系顔料、アルゴスカーレットＢ、イン
ダンスレンスカーレットＲ等のペリレン系顔料が挙げら
れる。また、セレン、セレン−テルル、硫化カドミウ
ム、α−シリコン等の無機顔料も使用できる。
【００４１】また、ヒドロキシル基から誘導される種々
の材料の製造、例えばポリカーボネート樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の製造中
間体としても有用である。
の材料の製造、例えばポリカーボネート樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の製造中
間体としても有用である。
【００４２】
【発明の実施の態様】以下、本発明を実施例により詳細
に説明する。しかし、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。
に説明する。しかし、本発明はこれら実施例に限定され
るものではない。
【００４３】実施例１ 例示化合物Ｎｏ．２４の合成 下記式（１）
【００４４】
【化１９】
【００４５】で表されるアルデヒド化合物１４．３２ｇ
（２５．０ｍｍｏｌ）と４−メトキシベンジルホスホン
酸ジエチル１５．４９ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ
１００ｍｌに採り、撹拌しながらカリウム−ｔ−ブトキ
サイド６．７３ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて
投入し、室温で３時間反応させた。この内容物を氷水４
００ｍｌに注ぎ、酢酸を加えて中和し、生成した沈澱物
を瀘取、水洗、メタノール洗浄の順に操作し、乾燥後シ
リカゲルカラムクロマト処理（溶離液；トルエン／シク
ロヘキサン ３／２ｖｏｌ．）を行い、例示化合物Ｎ
ｏ．２４の淡黄色結晶１７．９９ｇ（収率９２．２％）
を得た。
（２５．０ｍｍｏｌ）と４−メトキシベンジルホスホン
酸ジエチル１５．４９ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）をＤＭＦ
１００ｍｌに採り、撹拌しながらカリウム−ｔ−ブトキ
サイド６．７３ｇ（６０．０ｍｍｏｌ）を１０分かけて
投入し、室温で３時間反応させた。この内容物を氷水４
００ｍｌに注ぎ、酢酸を加えて中和し、生成した沈澱物
を瀘取、水洗、メタノール洗浄の順に操作し、乾燥後シ
リカゲルカラムクロマト処理（溶離液；トルエン／シク
ロヘキサン ３／２ｖｏｌ．）を行い、例示化合物Ｎ
ｏ．２４の淡黄色結晶１７．９９ｇ（収率９２．２％）
を得た。
【００４６】融点は２１５．５−２１８．５℃、元素分
析値はＣ56Ｈ48Ｎ2Ｏ2として下記のとおりであった。
析値はＣ56Ｈ48Ｎ2Ｏ2として下記のとおりであった。
【００４７】 また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図１に
示す。
示す。
【００４８】実施例２〜４ 実施例１における式（１）のアルデヒド化合物と４−メ
トキシベンジルホスホン酸ジエチルの代わりに下記表２
に示す原料を用いるほかは、実施例１と同様に操作して
本発明のアミノスチルベン化合物を得た。
トキシベンジルホスホン酸ジエチルの代わりに下記表２
に示す原料を用いるほかは、実施例１と同様に操作して
本発明のアミノスチルベン化合物を得た。
【００４９】
【表１７】
【００５０】実施例５ 例示化合物Ｎｏ．１の合成 上記実施例１で得られた下記式（２）
【００５１】
【化２０】
【００５２】で表されるアミノスチルベン化合物１５．
６２ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）と９０％ナトリウムチオエ
チラート１０ｇ（１０７ｍｍｏｌ）をモレキュラーシー
ブ乾燥したＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに
加え、窒素気流下、１３０〜１３５℃で３時間撹拌し
た。この反応液を６０℃まで空冷した後、氷水３００ｍ
ｌに注ぎ、濃塩酸を加えて酸性とし、室温で１時間撹拌
した。析出した結晶を瀘取、水洗、メタノール洗浄し、
乾燥後シリカゲルカラムクロマト処理（溶離液；トルエ
ン／酢酸エチル １０／１ｖｏｌ．）を行い、例示化合
物Ｎｏ．１の黄色結晶１２．０４ｇ（収率７９．９％）
を得た。
６２ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）と９０％ナトリウムチオエ
チラート１０ｇ（１０７ｍｍｏｌ）をモレキュラーシー
ブ乾燥したＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに
加え、窒素気流下、１３０〜１３５℃で３時間撹拌し
た。この反応液を６０℃まで空冷した後、氷水３００ｍ
ｌに注ぎ、濃塩酸を加えて酸性とし、室温で１時間撹拌
した。析出した結晶を瀘取、水洗、メタノール洗浄し、
乾燥後シリカゲルカラムクロマト処理（溶離液；トルエ
ン／酢酸エチル １０／１ｖｏｌ．）を行い、例示化合
物Ｎｏ．１の黄色結晶１２．０４ｇ（収率７９．９％）
を得た。
【００５３】融点は２１３．５−２１８．０℃、元素分
析値はＣ54Ｈ44Ｎ2Ｏ2として下記のとおりであった。
析値はＣ54Ｈ44Ｎ2Ｏ2として下記のとおりであった。
【００５４】 また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を図４に
示す。
示す。
【００５５】実施例６〜７ 実施例５における式（２）のアミノスチルベン化合物の
かわりに、下記表３に示す原料を用いるほかは、実施例
５と同様に操作して本発明のヒドロキシスチルベン化合
物を得た。
かわりに、下記表３に示す原料を用いるほかは、実施例
５と同様に操作して本発明のヒドロキシスチルベン化合
物を得た。
【００５６】
【表１８】
【００５７】応用例１ ポリマー原料としての応用例 上記実施例４で得られた下記式（３）
【００５８】
【化２１】
【００５９】で表されるヒドロキシスチルベン化合物
１．３５５ｇ（１．８０ｍｍｏｌ）とビスフェノールＡ
１．０６５ｇ（４．６７ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルフェノ
ール０．０２０ｇを反応容器に入れ、アルゴンガス気流
下、ハイドロサルファイト０．０７１ｇと水酸化ナトリ
ウム１．０３５ｇを溶解させたイオン交換水５０ｍｌを
加え撹拌した。これを３℃でトリホスゲン１．１５２ｇ
を溶解させたジクロロメタン３５ｍｌを滴下した後、１
５分かけて室温へもどし、１０％水酸化ナトリウム１．
５ｍｌ、トリエチルアミン２滴の順に加え、２時間反応
させた。反応液にｔ−ブチルフェノール０．０１０ｇを
加えて、さらに２時間撹拌した。得られた反応液をメタ
ノール中に再沈澱させて下記式（４）
１．３５５ｇ（１．８０ｍｍｏｌ）とビスフェノールＡ
１．０６５ｇ（４．６７ｍｍｏｌ）、ｔ−ブチルフェノ
ール０．０２０ｇを反応容器に入れ、アルゴンガス気流
下、ハイドロサルファイト０．０７１ｇと水酸化ナトリ
ウム１．０３５ｇを溶解させたイオン交換水５０ｍｌを
加え撹拌した。これを３℃でトリホスゲン１．１５２ｇ
を溶解させたジクロロメタン３５ｍｌを滴下した後、１
５分かけて室温へもどし、１０％水酸化ナトリウム１．
５ｍｌ、トリエチルアミン２滴の順に加え、２時間反応
させた。反応液にｔ−ブチルフェノール０．０１０ｇを
加えて、さらに２時間撹拌した。得られた反応液をメタ
ノール中に再沈澱させて下記式（４）
【００６０】
【化２２】
【００６１】で表されるポリカーボネート樹脂２．４９
ｇ（収率９６．１％）を得た。
ｇ（収率９６．１％）を得た。
【００６２】得られたポリカーボネート樹脂の分子量を
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定し
たところ、ポリスチレン換算の分子量は以下のとおりで
あった。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定し
たところ、ポリスチレン換算の分子量は以下のとおりで
あった。
【００６３】 数平均分子量 ２８４００ 重量平均分子量 １２７４００ また、元素分析値はＣ26.84Ｈ21.78Ｎ0.56Ｏ3として下
記のとおりであった。
記のとおりであった。
【００６４】
【００６５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電子写真用感光体における光導電性素材として有用であ
り、また、ポリカーボネート樹脂などの製造用中間体と
しても有用なヒドロキシスチルベン化合物が提供され、
また該ヒドロキシスチルベン化合物の中間体として有用
なアミノスチルベン化合物が提供される。
電子写真用感光体における光導電性素材として有用であ
り、また、ポリカーボネート樹脂などの製造用中間体と
しても有用なヒドロキシスチルベン化合物が提供され、
また該ヒドロキシスチルベン化合物の中間体として有用
なアミノスチルベン化合物が提供される。
【図１】実施例１で得られた化合物のＩＲスペクトル、
【図２】実施例２で得られた化合物のＩＲスペクトル、
【図３】実施例３で得られた化合物のＩＲスペクトル、
【図４】実施例４で得られた化合物のＩＲスペクトル、
【図５】実施例５で得られた化合物のＩＲスペクトル、
【図６】実施例６で得られた化合物のＩＲスペクトル、
【図７】実施例７で得られた化合物のＩＲスペクトル。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 323/37 Ｃ０７Ｃ 323/37 // Ｇ０３Ｇ 5/06 ３１３ Ｇ０３Ｇ 5/06 ３１３ 5/07 １０３ 5/07 １０３ １０５ １０５ (72)発明者 永井 一清 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 河村 慎一 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 鈴鹿 進 神奈川県川崎市幸区堀川町66番地２ 保土 谷化学工業株式会社内 (72)発明者 諸岡 勝宏 神奈川県川崎市幸区堀川町66番地２ 保土 谷化学工業株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるヒドロキシ
スチルベン化合物。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａｒ1、Ａｒ2、Ａ
ｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ7は置換もしくは無置換のアリ
ーレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。Ａｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換のアリール基を
表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ
12の単結合または分岐状、環状のアルキレン基、置換も
しくは無置換のアリーレン基を表す。） - 【請求項２】 下記一般式（Ｉ−１）で表されるヒドロ
キシスチルベン化合物。 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａｒ5、Ａｒ8は置
換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一で
も異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単結合または分
岐状、環状のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリ
ーレン基を表す。） - 【請求項３】 下記一般式（Ｉ−２）で表されるヒドロ
キシスチルベン化合物。 【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａｒ5、Ａｒ8は置
換もしくは無置換のアリール基を表し、それぞれ同一で
も異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単結合または分
岐状、環状のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリ
ーレン基を表す。） - 【請求項４】 下記一般式（Ｉ−３）で表されるヒドロ
キシスチルベン化合物。 【化４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、置換もしくは
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基
を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘは−
Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜
Ｃ12の単結合または分岐状、環状のアルキレン基、置換
もしくは無置換のアリーレン基を表す。） - 【請求項５】 下記一般式（II）で表されるアミノスチ
ルベン化合物。 【化５】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5、Ｒ6は置換も
しくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシ
ル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａ
ｒ1、Ａｒ2、Ａｒ3、Ａｒ4、Ａｒ6、Ａｒ７は置換もし
くは無置換のアリーレン基を表し、それぞれ同一でも異
なっていてもよい。Ａｒ５、Ａｒ8は置換もしくは無置
換のアリール基を表し、それぞれ同一でも異なっていて
もよい。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、
−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単結合または分岐状、環状のア
ルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基を表
す。） - 【請求項６】 下記一般式（II−１）で表されるアミノ
スチルベン化合物。 【化６】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5、Ｒ6は置換も
しくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシ
ル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａ
ｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換のアリール基を表し、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単
結合または分岐状、環状のアルキレン基、置換もしくは
無置換のアリーレン基を表す。） - 【請求項７】 下記一般式（II−２）で表されるアミノ
スチルベン化合物。 【化７】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、置換もしくは無置換のア
ルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表し、そ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5、Ｒ6は置換も
しくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアシ
ル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ａ
ｒ5、Ａｒ8は置換もしくは無置換のアリール基を表し、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘは−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単
結合または分岐状、環状のアルキレン基、置換もしくは
無置換のアリーレン基を表す。） - 【請求項８】 下記一般式（II−３）で表されるアミノ
スチルベン化合物。 【化８】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素原子、置換もしくは
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基
を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5、
Ｒ6は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは
無置換のアシル基を表し、それぞれ同一でも異なってい
てもよい。Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ
2−、−ＣＯ−、Ｃ1〜Ｃ12の単結合または分岐状、環状
のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基を
表す。）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16084598A JP4107621B2 (ja) | 1997-06-11 | 1998-06-09 | ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体 |
| US09/095,708 US5976746A (en) | 1997-06-11 | 1998-06-11 | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
| US09/337,559 US6172176B1 (en) | 1997-06-11 | 1999-06-22 | Electrophotographic photoconductor and aromatic polycarbonate resin for use therein |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15398897 | 1997-06-11 | ||
| JP9-153988 | 1997-06-11 | ||
| JP16084598A JP4107621B2 (ja) | 1997-06-11 | 1998-06-09 | ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1160544A true JPH1160544A (ja) | 1999-03-02 |
| JP4107621B2 JP4107621B2 (ja) | 2008-06-25 |
Family
ID=26482447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16084598A Expired - Fee Related JP4107621B2 (ja) | 1997-06-11 | 1998-06-09 | ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4107621B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011074050A (ja) * | 2009-10-02 | 2011-04-14 | Ricoh Co Ltd | 新規メチロール化合物とアルデヒド化合物、及び該メチロール化合物の製法 |
-
1998
- 1998-06-09 JP JP16084598A patent/JP4107621B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011074050A (ja) * | 2009-10-02 | 2011-04-14 | Ricoh Co Ltd | 新規メチロール化合物とアルデヒド化合物、及び該メチロール化合物の製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4107621B2 (ja) | 2008-06-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0295126B1 (en) | Arylamine-containing polyhydroxy ether resins | |
| JPH0520424B2 (ja) | ||
| JP3358140B2 (ja) | 芳香族ポリカーボネート樹脂 | |
| JP2552695B2 (ja) | ジオレフィン芳香族化合物 | |
| GB2055803A (en) | Hydrazones of 9-ethylcarbazole-3- aldehyde and their use in electrophotography | |
| JP3507922B2 (ja) | ジアミン化合物 | |
| JP4117396B2 (ja) | ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体 | |
| JPH1160544A (ja) | ヒドロキシスチルベン化合物とその製造中間体 | |
| JP3540099B2 (ja) | ヒドロキシル基含有アミン化合物及びその製造中間体 | |
| JP3542216B2 (ja) | ヒドロキシル基を有するスチルベン化合物 | |
| JPS59216853A (ja) | スチルベン誘導体及びその製造法 | |
| JP3540061B2 (ja) | ジヒドロキシル基含有ジアミン化合物 | |
| JP3541076B2 (ja) | ジヒドロキシスチルベン化合物とその製造方法 | |
| US20040185360A1 (en) | Photoconductive imaging members | |
| JP2000063337A (ja) | アルデヒド化合物とその製造方法 | |
| JP3930380B2 (ja) | 電荷輸送能を有するエポキシ化合物及びその製造方法 | |
| JP3540008B2 (ja) | ピレニル基を有するジアミン化合物及びその製造法 | |
| JP3540043B2 (ja) | ジアミン化合物 | |
| JP3541104B2 (ja) | ジヒドロキシル基含有ジアミン化合物 | |
| JP3570649B2 (ja) | ヒドロキシル基含有アミン化合物及びその製造中間体 | |
| JP3544811B2 (ja) | ジヒドロキシル基含有ジアミン化合物 | |
| JP3544805B2 (ja) | ジヒドロキシル基含有ジアミン化合物 | |
| JP4343605B2 (ja) | エナミン〜ビス（ヒドロキシアリーレン置換）ポリエン化合物及びその製造中間体 | |
| JP3571461B2 (ja) | 共役ジエン系化合物 | |
| JP3520875B2 (ja) | ピレン化合物及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050518 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080108 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080228 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080328 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080331 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120411 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130411 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140411 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |