JPS59216853A - スチルベン誘導体及びその製造法 - Google Patents

スチルベン誘導体及びその製造法

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JPS59216853A
JPS59216853A JP58087624A JP8762483A JPS59216853A JP S59216853 A JPS59216853 A JP S59216853A JP 58087624 A JP58087624 A JP 58087624A JP 8762483 A JP8762483 A JP 8762483A JP S59216853 A JPS59216853 A JP S59216853A
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JP
Japan
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group
lower alkyl
phenyl
formula
alkyl group
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JP58087624A
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English (en)
Inventor
Masaomi Sasaki
正臣 佐々木
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

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  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 玖!分野 本発明は新規なスチルベン誘導体及びその製造法に関し
、電子写真用の有機光導電性素材及び螢光増白剤として
使用することができ、特に電子写真用の有機光導電性材
料として有用な材料を提供するものである。
従来技讐り 従来、電子写真方式において使用される感光体の有機光
導電性素材としてポリ−N−ビニルカルバゾールをはじ
め数多くの月利が提案されている。
ここにいう「電子写真方式」とは一般に光導電性の感光
体を、まず暗所で例えばコロナ放電などにより帯電せし
め、ついで露光部のみの電荷を選択的に放電させること
により静電潜像を得て、この潜像部をトナーなどを用い
た現像手段で可視化して画像を形成するようにした画像
形成法の一つである。このような電子写真方式における
感光体に要求される基本的な特性としては、1)暗所に
おいて適当な電位に帯電されること、2)暗所における
電荷の放電が少ないこと、3)光照射により速やかに電
荷を放電すること、などが挙げられる。しかし、従来の
光導電性有機材料はこれらの要求をかならずしも満足し
ていないのが実状である。
一方、セレンや酸化亜鉛は光導電性無機材i11として
知られており、中でもセレンは広く実用に供されている
。しかし、最近電子写真のプロセスの点から、感光体に
対する種々の要求、即わち一例として前述の基本的特性
に加えて、例えばその形状についても可撓性のあるベル
ト状の感光体などが要求されるようになってきている。
しかし、セレンの場合は一般にこのような形状のものに
作成することは困難である。
目     的 本発明の目的は」−記のような感光体における光導電性
素材の持つ欠点を除去した、特に光導電性素材として有
用11新規なスチルベン誘導体及びその製造法を提供す
ることである。
怖成 第1の発明は、一般式(T) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基またはフェニ
ル基、R2は低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子またはシアムLArは置換もしくは無置換の
フェニル基またはスチリル基を表わし、nは1または2
の整数である。) で示されるスチルベン誘導体であり、Arにおける置換
基としてはアルキル基、アルコキシル基、アリールオキ
シ基、アラルキルオキシ基、ジアルキルアミノ基、ヒド
ロキシ基、カルボキシル基およびそのエステル、アシル
基、ニトロ5− 基またはシアノ基などが挙げられる。
第2の発明は、一般式(1[) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基またはフェニ
ル基、Arは置換もしくは無置換のフェニル基またはス
チリル基、Rは低級アルキル基を表わす) で表わされるフェニル誘導体と、下記一般式() (式中、R2は低級アルキル基、低級アルコキシル基、
ハロゲン原子またはシアン基を表わし、nは1または2
の整数である。) で表わされるアルデヒド化合物とを反応させることを特
徴とする下記一般式(I) 6− (式中、R1は水素原子、低級アルキル基またはフェニ
ル基、R2は低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
ロゲン原子またはシアノ基、Δrは置換もしくは無置換
のフェニル基またはスチリル基を表わし、nは1または
2の整数である。) で表わされるスヂルベン誘導体のWA造法である。
本発明で用いる一般式(I[)で表わされるフェニル誘
導体は対応するハロメヂル化合物と亜リン酸1〜リアル
キルとを直接あるいはトルエン、キシレン4Tどの溶媒
中で加熱覆ることにより容易に製造される。ここで仙リ
ン酸トリアルキルとしては炭素数1〜4のアルキル基、
特にメヂル基、エチル基が好ましい。
こうして得られた一般式(IF)で表わされるフェニル
誘導体と一般式(I[)で表わされるアルデヒド化合物
とをjn基竹触媒の存在下、室温から100℃程度の温
度において反応させる。
塩基性触媒としては苛性ソーダ、苛性カリ、ナトリウム
アミド水素化ナトリウム及びナトリウムメチラーI・、
カリウム−1−ブトキサイドなどのアルコラードを挙げ
ることができる。また、反応溶媒としてはメタノール、
エタノール、イソプロパツール、ブタノール、2−メト
キシエタノール、1.2−ジメトキシエタン、ビス(2
−メトキシエチル)エーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、トルエン、キシレン、ジメチルスルホキシド
、N、N−ジメチルホルムアミド、N−メヂルビロリド
ン、 1.3−ジメチル−2−イミダゾリジノンなどを
挙げることができる。中でも極性溶媒、例えばN、N−
ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシドが好適
である。
反応温度は1)使用する溶媒の塩基性触媒に対する安定
性、2)縮合成分(一般式(I[)及び(IN)の化合
物)の反応性、3)前記塩基性触媒中における縮合剤と
しての反応性によって広範囲に選択することができる。
例えば極性溶媒を用いるときは実際には室温から100
℃好しくは室温から80℃である。しかし反応時間の短
縮又は活性の低い縮合剤を使用するときはさらに高い温
度でもよい。
本発明にかかわる新規なスヂルベン誘導体は、電子写真
用感光体に於(づる光導電性素材として極めて有用であ
り、染料やルイス酸などの増感剤によって光学的あるい
は化学的に増感される。
また有機顔料あるいは無機顔yI+を電荷発生物質とす
るいわゆる機能分離型感光体に於ける電荷移動物質とし
てとりわけ有用である。
上記増感剤として例えばメチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット等のトリアリルメタン染料、ローズベン
ガル、■リスロジン、ローダミンB等のサンテン染料、
メヂレンブルー等のアジン染料、2,4.7−1−ジニ
トロ−9−フルオレノン、2,4−ジニトロ−9−フル
オレノン等が挙げられる。
また有機顔料としてはシーアイピグメントブー〇− ルー25 (CI  No、21180 ) 、シーア
イピグメントレッド41 (CI  No、21200
 ) 、シーアイベーシックレッド3(CI  No、
 45210)等のアゾ系顔料、シーアイビグメンシブ
ルー16 (CI  N O,74100)等のフタロ
シアニン系顔料、シーアイバットブラウン5(CINo
、73410) 、シーアイバイオレットダイ(Cr 
 N o、 73030)等のインジゴ系顔料、アルゴ
スカーレットB1インタンスレンスカーレットR等のペ
リレン系顔料が挙げられる。又、セレン、セレン−テル
ル、硫化カドミウム、α−シリコン等の無機材料も使用
できる。
次に実施例にJ:り本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 ベンジルホスホン酸ジエチル2.510  (0,01
モル)と、4−[N−(4−メチルフェニル)−N −
フェニルコアミノベンズアルデヒド2.87 (1(0
,01モル)をN、N−ジメチルホルムアミド20 m
℃に溶解し、これにカリウムtert−10− ブトキシド1,950を22〜32℃で加えた。添加後
、室温で5時間攪拌を行なった後、反応混合物を氷水に
注いだ。得られた結晶を濾取、水洗ついでメタノール洗
浄した後、乾燥した。117Mは3,290(収率91
.0%)、融点136.5〜137.5℃であった。酢
酸エチル−エタノールの混合溶媒から再結晶して淡黄色
釘状結晶の4 −[N−(4−メチルフェニル)−N−
フェニル]アミノスヂルベンの純品を得た。
融点136.5〜137.5℃であった。
元素分析値は、 0%  H% N% 実測値        89,62 6.37 3,8
6C271−12aN としての削算値    89,70 6.43 3.8
8赤外線吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図に示した
が、960cm−’にトランスのCH−面外変角振動に
基づく吸収帯が認められた。
実施例2〜24 実施例1において、ベンジルホスホン酸ジエチルIB 
ヨU  4− [N −(4−メチルフェニル)−N 
−フェニルコアミノベンズアルデヒドの代りに下記表1
に示すフェニル誘導体およびアルデヒド化合物を用いる
他は実施例1と同様にして、新規なスチルベン誘導体を
得た。結果を表2に示す。
表2 −17− 効    果 以上の説明から明らかなように、本発明に係るスチルベ
ン誘導体は新規な化合物であって、特に電子写真用の右
機光導電性材判として有効なものである。
【図面の簡単な説明】
図は実施例1で得られた4−[N−(4−メチルフェニ
ル)  −N −フェニルコアミノスチルベンの赤外線
吸収スペクトル図である。 特許出願人 株式会社 リ コ − 代理人 弁理士  小 松 秀 岳 代理人 弁理士  旭     宏 18− 符間昭59−216853 (7)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  一般式(T) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基または)1ニ
    ル基、R2は低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
    ロゲン原子またはシアノ基、Arは置換もしくは無置換
    のフェニル基またはスチリル基を表わし、nは1または
    2の整数である。) で示されるスチルベン誘導体。
  2. (2)  一般式(IF) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基またはフェニ
    ル基、Arは置換もしくは無置換のフェニル基またはス
    チリル基、Rは低級アルキル基を表わす) で表わされるフェニル誘導体と、 下記一般式(II) (式中、R2は低級アルキル基、低級アルコキシル基、
    ハロゲン原子またはシアノ基を表わし、nは1または2
    の整数である。) で表わされるアルデヒド化合物とを反応させることを特
    徴とする下記一般式(I) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基またはフェニ
    ル基、R2は低級アルキル基、低級アルコキシル基、ハ
    ロゲン原子またはシアノ基、Arは置換もしくは無置換
    のフェニル緒ま1〔はスチリル基を表わし、nは1また
    は2の整数である。) で表わされるスチルベン誘導体の製造法。
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