JPH11504728A - 光導電体用剥離層 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、導電性支持体、導電性支持体表面上の光導電性層、および光導電性を被覆する剥離層であって架橋間に鎖長の双峰分布を有するシリコーンポリマーを含む剥離層を含む光導電性組体である。

Description

【発明の詳細な説明】 光導電体用剥離層 １．発明の分野 本発明は、トナー画像をリセプターに転写することができる光導電体要素に関 する。より詳しくは、本発明は、光導電体要素に用いる剥離塗料に関する。 ２．発明の背景 電子写真は、フォトコピーやある形態のレーザー印刷を含む各種の周知の画像 処理のための技術的な基礎を成すものである。基本的な電子写真処理には、均質 静電荷を光胴体要素に配置し、光導電体要素を活性化電磁線、本文では「光線」 ともいう、に画像と同様にに暴露することによって、暴露領域にの電荷を散逸さ せて、その結果精製する静電潜像をトナーで現像し、光導体要素から最終支持体 、例えば、紙などに、直接転写または中間転写材料を介してトナー画像を転写す る工程を含む。 光導電体要素の構造は、ローラーまたは回転ドラムによって支持されかつ循環 される連続ベルトであってもよい。すべての光導電体要素は、活性化電磁線に暴 露された場合に、電流を流す光導電性層を有する。一般に、光導電性層は、導電 性支持体に付着される。光導電体の表面は、活性化電磁線が光導電性層に当たる 場合に、電荷がその領域の光導体を介して運ばれて照射領域の表面電荷を中和に または低減するように、負または正に帯電される。任意の遮断層を光導電性層で 覆って、光導電性層を保護し、光導電性層の有効寿命を延長してもよい。接着剤 層もしくは下塗り層または電荷注入ブロッキング層などのその 他の層もある種の光導電体要素に使用される。 一般には、正電荷トナーが画像と同様の暴露後に負の電荷を維持することによ って、静電潜像に対応するトナー画像を生成する光導体要素のそれらの領域に引 き寄せられる。トナーは、姓に帯電する必要はない。ある種のトナーは、電荷が 散逸された光導体要素の領域に引き寄せられる。このトナーは、ポリマーおよび 一般には炭素である着色粒子のブレンドを含む粉末材料、または、絶縁液体に分 散された微細に分割された固体を含む液体材料であってもよい。液体トナーは、 高解像度の画像を提供することができるために好まれることが多い。 トナー画像は、熱、圧力、熱および圧力の併用、または静電気の補助によって 、支持体または中間キャリヤーに転写することができる。電子写真撮像の段階で 生じる共通の問題は、光導体からリセプターへの転写に乏しいことである。転写 が不十分であれば、転写効率が低くなり、解像度が低くなる。低い転写効率の結 果、画像は、明るくおよび／または斑点混じりになる。低い画像解像度の結果、 画像はぼやけてしまう。こうした転写時の問題は、剥離塗料を使用することによ って軽減される。 剥離塗料は、光導電性層上または遮断層を使用している場合には遮断層上に適 用される。好ましくは、剥離層は、接着剤を必要としなくても光導電性層または 遮断層に十分に接着する。さらに、剥離層は、光導電体構成の電荷散逸特性にあ まり干渉してはならない。 電子写真業界で知られている一般的な剥離塗料には、米国特許第４，６００， ６７３号に開示されているようなシリコーンポリマーが挙げられる。従来のシロ キサン剥離材料は、電子写真のキャリヤー液体として使用される炭化水素用材で かなり膨潤する傾向がある。一般に、膨潤ポリマーは、靭性が低く、一般には、 優秀な引張特性を有さないシロキサンが、膨潤した場合には、非常に容易に引っ 掻かれてしまう。 光導電体構成あたりの撮像サイクルをより多くしてほしいという要求は高まっ てきている。このため、より耐久性のある剥離層が所望されている。具体的には 、剥離層は、光導電体要素に接触する各種のローラーおよびスクレーパの研磨に 耐えるように機械的耐久性があることが望ましい。剥離層は、トナーキャリヤー 液体に対して耐性がなければならない。 発明の大要 本発明は、光導電体層および光導電性支持体を含む光導電体構造、ならびに、 優秀な剥離特性の他、優秀な耐久性およびトナーキャリヤー液体に対する耐性を 示す剥離層を提供する。 耐溶剤性は、充填剤を添加することによって、または、ポリマーを架橋するこ とによって、改善することができる。ただし、高度な架橋系または充填系は、剥 離性能を低下させる表面エネルギーが増加する傾向にある。出願者は、剥離特性 を最低限度しか犠牲にせずに高い耐溶剤性を有する剥離層を発見した。本発明の 剥離層は、架橋間に鎖長の双峰分布を有する架橋シロキサンポリマーを含む。 「架橋間の鎖長」とは、いくつのモノマー単位が、枝分かれまたは架橋が起こ ったモノマー単位の間のポリマーの主鎖に存在するかを示す用語である。こうし た鎖長の双峰分布は、架橋間には多数の相対的に短い鎖が存在し、かつ、架橋間 には相対的に長い鎖が存在するが、架橋間には中間の長さを有する鎖はごく少数 しか存在しないことを示す。好ましくは、相対的に長い鎖は、少なくとも５０、 好ましくは、１００乃至１０００、最も好ましくは１５０乃至１０００のモノマ ー単位を架橋間のポリマー鎖の主鎖に有する。好ましくは、相対的に短い鎖は、 多くても３０、より好ましくは２乃至２５、もっとも好ましくは、３乃至１０の モノマー単位を架橋間のポリマー鎖の主鎖に有す る。好ましくは、架橋間の長い鎖の量は、ポリマーの全重量に基づいて、０．５ 乃至５０重量％、より好ましくは、５乃至３０重量％、もっとも好ましくは、１ ０乃至２０重量％の範囲を有する。残りのポリマーは、架橋間に短い鎖を有する が、ごく少数のポリマー鎖は、好ましくは０．５％未満が中間の長さを有するこ とができる。 架橋間に鎖長の双峰分布を有するこのシロキサンポリマーは、好ましくは、高 い官能価を有するポリマー、低い官能価を有するポリマー、および、要すれば、 架橋剤の反応生成物である。ただし、選択的に、このポリマーは、官能基が適切 に離隔して、架橋間の鎖長の双峰分布を提供することを条件とした場合には、単 一のポリマーの架橋生成物であってもよい。こうしたポリマーは、当業者に知ら れているようなアニオン重合を用いて合成することができる。 「官能価」および「官能基」は、本願明細書で使用するように、反応性基の指 標である。高い官能価を有するポリマーは、低い官能価を有するポリマーよりも 多くの反応性基を有する。ある種の反応性基には、遊離基反応、縮合反応、ヒド ロシリル化付加反応、ヒドロシラン／シラノール反応、または光開始反応を経る 反応性基が挙げられよう。 高い官能価を有する低分子量ポリマーは、トナーキャリヤー液体を剥離層に透 過させる量を低減して摩耗抵抗を改善する剥離層に高い架橋密度を提供する。低 い官能価を有する高分子量のポリマーを含むことによって、本発明者らは、優秀 な剥離特性を維持することができることを発見した。シロキサンの今日は、遊離 基反応、縮合反応、ヒドロシリル化付加反応、ヒドロシラン／および光開始反応 を含む各種の方法のいずれによっても実施することができるが、その方法は、そ の跡に架橋を誘導するための中間体の活性によって異なる。このため、本発明の シロキサンポリマーは、 Ａ）以下の式であって ただし、式中、各Ｒ¹が独立してアルキル基、アリール基、またはアルケニル 基であり、 Ｒ２が、各−ＳｉＲ¹Ｒ²Ｏ−基に対して独立してアルキル基、アリール基、ま たは架橋可能な官能基であり、かつ少なくとも３％のＲ２が架橋することができ 、かつ、 ｘが０より大きい整数である式で示される反復単位を有する架橋可能な高含量 の官能基を有する３５乃至８０重量部のシロキサンポリマー、 Ｂ）以下の式であって、 ただし、式中、各Ｒ⁴が独立してアルキル基、アリール基、またはアルケニル 基であり、 Ｒ³が各ＳｉＲ³Ｒ⁴基に対して、独立してアルキル基、アリール基、または架 橋可能な官能基であり、かつ、２．５％以下のＲ³が架橋可能であり、かつ、ｙ が少なくとも５０の整数である式で示される反復単位を有する官能基を有する架 橋可能な低含量の官能基を有する０重量部より大きく５０重量部以下のシロキサ ンポリマー、および要すれば、 Ｃ）以下の式であって、 ただし、式中、各Ｒ⁵が独立して水素、アルキル基、またはアリール基であり 、 Ｒ⁶が、各−ＳｉＲ⁵Ｒ⁶Ｏ−に対して、独立してアルキル基、アリール基、ま たは架橋可能な官能基であり、かつ、２５乃至１００％のＲ⁶が架橋可能な官能 基であり、 ｚが０乃至１０００の整数であり、かつ、架橋可能な１分子あたり少なくとも ２つの官能基が存在する式で示される反復単位を有する５乃至３０重量部の架橋 剤を含む成分の反応生成物であるシリコーンポリマーを含むことができる。 「架橋可能な官能基」とは、遊離基反応、縮合反応、ヒドロシリル化付加反応 、ヒドロシラン／シラノール反応、または、光開始反応を受ける基を意味する。 光導電体構造に用いる剥離層として使用される他に、本発明の剥離ポリマーは 、優秀な剥離特性、摩耗抵抗、および液体トナーおよび同様の溶液に対する耐性 が所望される支持体上のコーティングとして好都合に使用することができる。 架橋可能な官能基は、好ましくは、エチレン系不飽和有機基である。好ましく は、少なくとも、３．５％のＲ²が架橋可能な官能基であり、ｘが少なくとも１ ００の整数であり、ｙが少なくとも１００である。 この分野では、十分に理解されているように、置換が許容されているだけでは なく、望ましいことが多く、置換を本発明に使用される化合物に適用することが 期待される。本願明細書を通して使用される特 定の専門用語の解説を単純にする手段として、用語「基」および「部分」を使用 して、置換をさせるか、または、置換することができる化学種と、置換させない かまたは置換することができない化学種を区別する。このため、用語「基」を使 用して、化学化合物および置換基を述べる場合には、記載された化学材料は、塩 基性基および従来の置換基を有するその基を含む。用語「部分」を使用して化学 化合物および置換基を説明する場合には、未置換の材料しか意味しないこととす る。例えば、用語「アルキル基」は、純粋な鎖状および環状飽和炭化水素アルキ ル置換基であるメチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、オク タデシルなどの他、当業者にされているヒドロキシル、アルコキシ、ビニル、フ ェニル、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩ）、シアノ、ニトロ、カルボキ シルなどの置換基をさらに保持するアルキル置換基を含むことを意図する。一方 、アルキル部分は、メチル、エチル、プロピル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、 アダマンチル、オクタデシル、などの純粋な鎖状および環状飽和炭化水素アルキ ル置換基以外は含まないこととする。非常に強い求電子または酸化置換基などの 活性成分と反応する置換基は、当然のことながら、不活性でも無害でもないので 、一般当業者によって除外されることになろう。 発明の詳細な説明 本発明の光導体構造は、少なくとも光導電体層および剥離層を支持する導電性 層を含む。本発明の光導電体は、ドラム形構造、ベルト構造、または当業者に知 られる別の構造を問わずになり得る。光導電性層体に用いる導電性支持体は、当 業者によく知られており、一般には、（ａ）高導電材料またはその他の高導電性 材料の自己支持層または遮断層、（ｂ）薄い導電性コーティングである蒸気被覆 アルミニウムな どが適用されたポリマー材料、ガラス、または紙などの絶縁材料の２つの汎用ケ ースを含む。 光導電体層は、（ａ）結合剤に分散された粒子形態の向き光導電体材料、ある いは、より好ましくは（ｂ）有機光導電体材料を含み、当業者に知られるタイプ のいずれかであればよい。光導電体の厚さは、使用された材料によって異なるが 、一般には５乃至１５０μｍの範囲である。 有機光導電体要素を有する光導電体要素は、Ｂｏｒｓｅｎｂｅｒｇｅｒ ａｎ ｄ Ｗｅｉｓｓ， Ｐｈｏｔｏｒｅｃｅｐｔｏｒｓ：Ｏｒｇａｎｉｏｃ Ｐｈｏ ｔｏｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ Ｃｈ ９Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｉｍａｇｉｎｇ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｅｄ． Ａｒｔｈｕｒ Ｓ． Ｄｉａｍｏｎｄ， Ｍａ ｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．，１９９１に記載されている。有機光導電体 要素を使用する場合には、光導電性層は、電荷生成層および電荷トランスポート 層から成る２層構造にすることができる。電荷生成層は、一般に、約０．０１乃 至２０μｍの厚さであり、色素や顔料などの光を吸収して電荷担体を生成するこ とができる材料を含む。電荷トランスポート層は、一般に、１０乃至２０μｍの 厚さであり、適切な結合剤中のポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールまたはビス−（ベ ンゾカルバゾール）−フェニルメタンなどの生成された電荷担体を移行すること がてぎる材料を含む。 光導電体の二層有機光導電体材料の標準的な使用では、電荷生成層は、導電性 支持体と電荷トランスポート層の間に配置される。こうした光導電体要素は、一 般に、導電性支持体を電荷生成層の薄いコーティングで被覆することによって形 成され、電荷トランスポート層の相対的に厚いコーティングでオーバーコートさ れる。作業時に、光導電体要素の表面は、負に帯電される。撮像時には、光が当 たる領域では ホール／電子対が電荷生成層／電荷トランスポート層界面またはその付近に生成 される。電子は、電荷生成層を介して導電性支持体に移行し、ホールは電荷トラ ンスポート層を介して移行し、表面上の負の電荷を中和する。このようにして、 電荷は、光の当たる領域で中和される。 あるいは、逆２層系を使用することもできる。逆有機光導電体材料を有する光 導電体要素は、正に帯電しなければならないので、光需要体表面の劣化は少なく なる。一般に、逆２層系では、導電性支持体は、電荷トランスポート層の相対的 に厚いコーティング（約５乃至２０μｍ）で被覆され、電荷生成層の相対的に薄 い層（０．０５乃至１．０μｍ）のコーティングで被覆される。作業時には、光 受容器の表面は、正に帯電され、撮像時には、光の当たる領域では、ホール／電 子対が、電荷生成層／電荷トランスポート層界面またはその付近に生成される。 電子は、電荷生成層を介して移行し表面上の正の電荷を中和し、ホールは電荷ト ランスポート層を介して導電性支持体に移行する。このようにして、電荷はやは り光の当たる領域で中和される。 さらに、有機光導電体層は、電荷生成および電荷トランスポート材料を含む混 合物を含みかつ電荷生成および電荷トランスポート能力を有する単層構造を含む ことができる。単層有機光導電性層の例は、米国特許第５，０８７，５４０号お よび第３，８１６，１１８号特許に記載されている。 単層光導電体層に使用する適切な電荷生成材料および／または２層光受容器の 電荷生成層に使用する適切な電荷生成材料には、アゾ顔料、ペリレン顔料、フタ ロシアニン顔料、スクアライン顔料、２相凝集材料などが挙げられる。２相凝集 材料には、非晶質マトリックスに分散された感光性フィラメント性結晶相を含む 。 電荷トランスポート材料は、フィルムのバルクを介して生成部位か らの電荷（ホールまたは電子）をトランスポートする。電荷トランスポート材料 は、一般に、分子的にドープされたポリマーまたは活性トランスポートポリマー である。適切な電荷トランスポート材料には、エナミン、ヒドラゾン、オキサジ アゾール、オキサゾール、ピラゾリン、トリアールアミン、およびトリアリール メタンなどが挙げられる。適切な活性トランスポートポリマーは、ポリビニルカ ルバゾールである。特に好ましいトランスポート材料は、ポリ（Ｎ−ビニルカル バゾール）、受容体ドープポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ビス（ベンゾカル バゾール）−フェニルメタンの誘導体、フェニルヒドラゾンのエチルカルバゾー ル誘導体などのポリマーである。その他の材料は、Ｂｏｒｅｓｎｂｅｒｇｅｒ ａｎｄ ｗｅｉｓｓ， Ｐｈｏｔｏｒｅｃｅｐｔｏｒｓ：Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｈ ｏｔｏｃｏｎｄｕｃｔｏｒｓ，Ｃｈ．９ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｉｍａｇｉ ｎｇ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ， ｅｄ．Ａｒｔｈｕｒ Ｓ． Ｄｉａｍｏｎｄ， Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ， Ｉｎｃ．１９９１に記載されている。 有機光導電体材料に適切な結合剤樹脂には、あくまでも一例として、ポリエス テル、ポリビニルアセテート、塩化ポリビニル、塩化ポリビニリデン、ポリカル ボネート、ポリビニルブチラル、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルホル マール、ポリアクロニトリル、ポリメチルメタクリレートなどのポリアクリレー ト、ポリビニルカルバゾール、上述のポリマーに使用されるモノマーのコポリマ ー、クロリド／ビニルアセテート／ビニルアルコールターポリマー、塩化ビニル ／ビニルアセテート／マレイン酸ターポリマー、エチレン／ビニルアセテートコ ポリマー、塩化ビニル／塩化ビニリデンコポリマー、セルロースポリマーおよび それらの混合物が挙げられる。有機光導電体材料に使用される適切な溶剤の例に は、ニトロベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、テトラヒドロフラン などが挙げられる。 絶縁結合剤に分散された酸化亜鉛、二酸化チタン、硫化カドミウム、硫化アン チモンなどの無機光導電体は、当業者によく知られており、必要に応じて感光材 料を追加して従来の変種のいずれかで使用することができる。好ましい結合剤は 、樹脂系材料であり、スチレンブタジエンコポリマー、改質アクリルポリマー、 ビニルアセテートポリマー、スチレン−アルキド樹脂、大豆−アルキル樹脂、塩 化ポリビニル、塩化ポリビニリデン、アクリロニトリル、ポリカーボネート、ポ リアクリエステルおよびメタクリルエステル、ポリスチレン、ポリエステル、お よびそれらの組み合わせが挙げられる。 本発明の好ましい剥離層は、 Ａ）以下の式であって、 式中各Ｒ₁およびＲ₃が独立して１乃至２０個の炭素原子を含むアルキル基、６ 乃至２０個の炭素原子を含むアリール基、または、２乃至２０個の炭素原子を含 むアルケニル基であり、 各−ＳｉＲ₂Ｒ₃Ｏ−については、独立して、Ｒ₂が１乃至１０個の炭素原子を 有するアルキル基（Ｒ_2'）または２乃至２０個の炭素原子を有するエチレン系不 飽和有機基（Ｒ_2"）であり、少なくとも３．５％、好ましくは、４乃至４０％、 より好ましくは１０乃至３０％のＲ₂がエチレン系不飽和有機基であり、ｘが少 なくとも１００、好ましくは１００乃至８０００、より好ましくは２００乃至６ ０００の整数である式を有する高含量のエチレン系不飽和側鎖基を有する３５乃 至８０、好ましくは４５乃至７５、より好ましくは６０乃至７５重量パーセント のシロキサンポリマー、 Ｂ）以下の式であって、 各Ｒ₄およびＲ₆が独立して１個乃至２０個の炭素原子を含むアルキル基、６乃 至２０個の炭素原子を含むアリール基、または２乃至２０個の炭素原子を含むア ルケニル基であり、 各−ＳｉＲ₅Ｏ₆−基については、Ｒ₅が１乃至１０個の炭素原子を有するア ルキル基（Ｒ_5'）または２乃至２０個の炭素原子を有するエチレン系不飽和有機 基（Ｒ_5"）であり、２．５％、好ましくは、０．１乃至１％、およびより好まし くは、０．１乃至０．６％のＲ₅がエチレン系不飽和有機基であり、 ｔが少なくとも１００、好ましくは１０００乃至１５，０００、より好ましく は６，０００乃至１３，０００の整数であり、 好ましくは、１分子あたり少なくとも２つのエチレン系不飽和基が存在する式 を有する低含量のエチレン系不飽和側鎖基を有する０よりは大きいが５０以下、 好ましくは５乃至３０、より好ましくは１０乃至２０重量パーセントのシロキサ ンポリマー、 Ｃ）以下の式であって、 式中各Ｒ₇およびＲ₈が独立して水素、１乃至２０個の炭素原子を含むアルキル 基、６乃至２０個の炭素原子を含むアリール基であり、 各−ＳｉＲ₈Ｒ₉Ｏ−基については、Ｒ₉が１乃至１０個の炭素原子を有するア ルキル基（Ｒ_9'）または水素であり、かつ、２５乃至１００％、好ましくは５０ 乃至１００％のＲ₉が水素であり、 ｚが０乃至１０００、好ましくは、５乃至１００、より好ましくは１０乃至５ ０の整数であり、 Ｘが二価の有機基、単結合、または、より好ましくは酸素であり、かつ、 成分Ｃの量は、１分子あたり少なくとも２つの水素原子が存在し、成分Ａおよ びＢから得られるエチレン系不飽和基あたりの成分Ｃから得られる珪素原子から の側鎖である水素原子の数が、０．６乃至７、好ましくは１乃至５、より好まし くは１．１乃至１．５になるような量であるような式を有する架橋剤を含む成分 の反応生成物を含むシリコーンポリマーを含む。上述の式の代わりとして、末端 のＲ₁およびＲ₄基がヒドロキシルのような官能基であってもよい。 成分Ａは、好ましくは、独立して１乃至５個の炭素原子、より好ましくはメチ ル基であるＲ₁を有する。別の好ましい実施例では、成分Ａの各端に対するＲ₁の １つが、２乃至１０個の炭素原子を含むアルケニル基であり、もう一方のＲ₁が １乃至５個の炭素原子を有するアルキル基であってもよい。エチレン系不飽和基 Ｒ_2'のエチレン系不飽和は、好ましくは主鎖の珪素原子から少なくとも３原子分 以下だけ 離隔している。アルキル基Ｒ_2"は、好ましくは、メチル基である。Ｒ₃は、好ま しくはメチル基である。 成分Ｂは、好ましくは、独立して１乃至５個の炭素原子、より好ましくはメチ ル基であるＲ₄を有する。別の好ましい実施例では、成分Ｂの各端に対するＲ₄の １つが、２乃至１０個の炭素原子を含むアルケニル基であり、もう一方のＲ₄が １乃至５個の炭素原子を有するアルキル基であってもよい。エチレン系不飽和基 Ｒ_5'のエチレン系不飽和は、好ましくは主鎖の珪素原子から少なくとも３原子分 以下だけ離隔している。アルキル基Ｒ_5"は、好ましくは、メチル基である。Ｒ₆ は、好ましくはメチル基である。 成分Ｃは、好ましくは、独立して１乃至５個の炭素原子、より好ましくはメチ ル基であるＲ₇を有する。別の好ましい実施例では、成分Ｃの各端に対するＲ₇の １つが、水素源であり、もう一方のＲ₇が１乃至５個の炭素原子を有するアルキ ル基であってもよい。アルキル基Ｒ₈およびＲ_9'は、好ましくはメチル基である 。 成分Ａの市販の例には、ＰＳ４２２、ＰＳ４２４およびＰＳ４２６（すべてＨ ｕｌｓ Ａｍｅｒｉｃａ Ｉｎｃ．）およびＫＥ−７９（Ｓｈｉｎ Ｅｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ．）が挙げられる。成分Ｂの市販の例には、Ｐ Ｓ２２５（Ｈｕｌｓ Ａｍｅｒｉｃａ Ｉｎｃ．）、Ｃ１５８、Ｃ１５７、Ｃ１ ６２、Ｃ１７０、およびＣ５６６（すべてＷａｃｋｅｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏｒｐ．）、ならびにＫＥ−７６およびＫＥ−７８（Ｓｈｉｎ Ｅｔｓｕ Ｃ ｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ）が挙げられる。成分Ｃの市販の例には、ＮＭ２ ０３、ＰＳ１２２．５、ＰＳ１２３（Ｈｕｌｓ Ａｍｅｒｉｃａ Ｉｎｃ．）、 ＤＣ７０４８（ＤＯＷ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐ．）、Ｆ−９Ｗ−９（Ｓｈｉ ｎ Ｅｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ）、およびＶＸＬ（Ｏ Ｓｉ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｉｅｓ）が挙げ られる。 上述の成分は、好ましくは、上述の成分の付加架橋を触媒することができる触 媒の存在したで反応される。適切な触媒には、Ｔｈｅ Ｃｅｍｅｉｓｔｒｙ ｏ ｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｉｌｏｃｏｎｅ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ， Ｏｊｉｍａ， （Ｓ．Ｐａｔａｉ，Ｊ．Ｒａｐｐａｐｏｒｔ ｅｄｓ．， Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅ ｙ ａｎｄ Ｓｏｎｅｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９８９）のヒドロシリル化につ いて記載された遷移金属触媒が挙げられる。こうした触媒は、熱または放射線で 活性化することもできる。あくまでも一例として、Ｐｔ（ＩＩ）のアルケン錯体 、ｐｔ（Ｉ）およびｐｔ（０）のホスフィン錯体、およびＲｈ（Ｉ）の有機錯体 が挙げられる。クロロ白金酸を基剤とする触媒は、好ましい触媒である。必要に 応じて、または、ポットライフを延期するかもしくは反応速度を制御するために は、阻害剤を添加することもできる。クロロ白金酸に基づく市販のヒドロシリル 化触媒にはＰＣ０７５、ＰＣ０８５（Ｈｕｌｓ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｉｎｃ．） 、Ｓｙｌ−Ｏｆｆ^TM７１２７、 Ｓｙｌ−Ｏｆｆ^TM７０５７（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎ ｉｎｇ Ｃｏｒｐ．）， ＳＬ６０１０−Ｄ１（Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒ ｉｃ）、ＶＣＡＴ−ＲＴ、ＶＣＡＴ−ＥＴ（Ｏ Ｓｉ Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｉｅ ｓ）、ＰＬ−４およびＰＬ（Ｓｈｉｎ Ｅｔｓｕ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ Ｌ ｔｄ．）が挙げられる。 上述の剥離層は、機械的耐久性を有し、炭化水素に対して非常に耐性があるの で、一般的には、トナーキャリヤー液体として役立つ。好ましくは、剥離層の厚 さは、０３μｍより大きい。最大厚さは、光導電体材料によって異なるが、好ま しくは０．４乃至３μｍより好ましくは、０．５乃至１μｍの範囲である。 その他の架橋反応を使用しても架橋間に鎖長の双峰分布を有する架橋シリコー ンポリマーを生成することができる。使用された架橋反応 には、遊離基反応、縮合反応、ヒドロシリル化付加反応、ヒドロシラン／シラノ ール反応が挙げられる。架橋は、後に生じる架橋を誘導するため中間体の活性に よって異なるが、光開始反応から生じさせることもできる。 メチル側基に存在するＣ−Ｈの有効性に依存するベルオキシド誘導遊離基反応 は、所望の網状構造が得られない非特異性架橋構造を提供する。ただし、ビニル 特異性ベルオキシドを有するビニル基を含有するシロキサンを使用はれず、出発 原料の適切な選択に付与される所望の構造を提供することができる。遊離基反応 は、電子ビームなどの紫外線または高エネルギー放射線のその他の供給源によっ て活性化することもできる。 縮合反応は、ヒシロキサン主鎖に取り付けられた相補的基間で起こる。アミン またはヒドロキシ官能基で縮合するイソシアネート、エポキシ、またはカルボキ シル酸は、シロキサンを架橋するために使用されてきた。より一般的には、縮合 反応は、ある有機基が珪素に取り付けられて水と反応するために出発原料または その他のシラノール基とさらに反応して架橋を形成するシラノール基を提供する ことができることに依存する。珪素に取り付けられる多くの基が容易に加水分解 してシラノール基を生成することは知られている。具体的には、アルコキシ、ア シロキシ、およびオキシム基かこの反応を経ることが知られている。水分の不在 下では、これらの基は反応しないので、未保護後のシラノール基に対して十分な 可使時間を提供する。水分に暴露した場合には、これらの基は自発的に加水分解 して縮合する。これらの系に、必要に応じて触媒を作用させてもよい。 ヒドロシラン基は、酒豪反応について説明した方法と同様に反応させるむこと ができる。ヒドロシラン基は、ＳｉＯＨ基に直接反応させてもよいし、別のＳｉ ＯＨ部分と縮合させる前に、水と反応させるこ とによって、最初にＯＨ基に交換してもよい。反応は、縮合またはヒドロシレー ト化触媒のいずれかによって触媒作用させることができる。 ヒドロシレート付加反応は、新規の金属触媒の存在下の炭素−炭素二重結合に わたって転化するためのヒドロシラン結合の能力に依存する。こうした反応は、 有機官能性シロキサンの合成および感圧接着剤用の剥離層の調製にも広くしよう することができる。 周知の光反応は、シロキサンを架橋させることができる。ケイ皮酸塩、アクリ レート、エポキシなどの有機官能性基は、シロキサン主鎖に取り付けることもで きる。さらに、光開始剤を溶解度改善のためにシロキサン主鎖上にグラフとさせ るてもよい。この化学的性質のその他の例には、炭素−炭素二重結合にわたるチ オール（一般には、芳香族ケトン開始剤が必要である）の付加、ヒドロシラン／ エン付加（ヒドロシリル化反応の遊離当量）、アクリレート重合（電子ビーム活 性化も可能である）、および。エポキシ、ビニルエーテル、およびその他の官能 基の放射線誘導カチオン重合などがあげられる。 上述の架橋反応は、架橋間の鎖長の双峰分布を架橋シロキサンポリマーに提供 するために使用することができる反応の例である。当業者に知られているような その他の架橋反応も使用することができる。 要すれば、本発明の光導電体要素は、さらに、光導電体層および剥離層の間に 遮断層を含む。この遮断層は、トナーキャリヤー液体および光導電体を損傷させ る恐れのあるその他の化合物から光導電体層を保護する。また、遮断層は、高電 圧コロナで光導電体要素を帯電することから生じ得る損傷から光導電性層を保護 する。遮断層は、剥離層と同様に、光導電体要素の電荷散逸特性をあまり干渉し てはならず、光導電性層および剥離層に、好ましくは接着剤を用いずに付着しな ければならない。遮断層は、米国特許第４，４３９，５０９号、第４，６０６， ９３４号、第４，５９５，６０２号および第４，９２３，７ ７５号に開示されている架橋性シロキサノール−コロイドシリカハイブリッド、 米国特許第４，５６５，７６０号によって開示されるアルコール媒体中でヒドロ キシレート化ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅおよびコロイドシリカの分散系から 形成される塗料、ポリビニルアルコールとメチルビニルエーテル／無水マレイン コポリマーとの混合物から生成されるポリマーなどの既知の遮断層のいずれかで あればよい。 好ましくは、遮断層は、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポリビニルアセタ ール、スルホン化ポリエステル、およびポリビニルアルコールとメチルビニルエ ーテル／無水マレイン酸コポリマーとの混合物から成る群から選択されるシリカ および有機ポリマーを含む複合材料である。有機ポリマーおよびシリカは、好ま しくは、９：１乃至１：１の範囲のシリカ対ポリマー重量比で遮断層に存在する 。このタイプの遮断層は、１９９３年７月１５に出願された同時係属米国特許出 願第０８／０９１，９９９号に開示されている。その他の好ましい遮断層は、同 時係属米国特許出願第０８／１１２，４１８号に開示されているように、シラノ ールを有する有機ポリマーを含む複合材料である。シラノールは、以下の式であ って、 Y_aSi(OH)_b 式中、 Ｙが、例えば、炭素原子１個乃至６個の炭素原子を有するアルキルまたはアル コキシ基、１乃至２個の炭素原子を含むアルコキシ部および１乃至６個の炭素原 子を含むアルキル部を含むアルコキシアルキル基、１乃至６個の炭素原子および ２、３、４、５、または６個のいずれかの炭素原子に取り付けられるアミノ基を 有するアミノアルキル基、ビニル基、１乃至２個のハロゲン置換基を含み得るフ ェニル基、５乃至６個の炭素原子を有し、１乃至２個の置換対を含み得るシクロ アル キル基、ならびに水素を含み、 ａは０乃至２の範囲の数であり、 ｂは２乃至４の範囲の数であり、 ａ＋ｂ＝４である式を有する。 有機ポリマーは、好ましくは、ポリアクリレート、ポリウレタン、ポレビニル アセタール、スルホン化ポリエステル、および、ポリビニルアルコールとメチル ビニルエーテル／無水マレイン酸コポリマーとの混合物から成る群から選択され る。 下塗り層や支持体ブロッキング層などのその他の層は、当業者に知られている ように、光導電体構造に含めることもできる。 例 以下の比限定的な例を本発明を具体的に例示するために示す。以下の例で使用さ れるリング被覆処理は、Ｂｏｒｓｅｎｂｅｒｇｅｒ，Ｐ．Ｓ．およびＤ．Ｓ．Ｗ ｅｉｓｓ，Ｏｒｇａｎｉｃ Ｐｈｏｔｏｒｅｃｅｐｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｉｍａｇ ｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｍａｒｃｅｌ Ｄｅｋｋｅｒ， Ｉｎｃ．， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ， １９９３，ｐ．２９４に記載されているものである。 これらの例は、以下の手続きに従って、試験した。 Ｎｏｒｐａｒ^TM１２耐久性ワイパー試験 Ｎｏｒｐａｒ^TM１２耐久性ワイパーは、６，２５”（１９．５ｃｍ）の直径ア ルミニウムドラムと、このドラムに適合する半径を有する凹面を有する５つのス テンレス鋼シューから構成されている。ドラムを水平に位置決めし、４０回転／ 分でドラムを回転させることができるギヤーおよびモーターに取り付けた。５つ のステンレス鋼は、それら自身の重量（３００ｇ）で、凹面を下に、ドラムの上 側湾曲部上 に静止させた。シューは、ドラムが回転する際に移動しないが、垂直方向には移 動することができるように適所に保持した。２層のペーパータオルでドラムの周 囲を包んでから、Ｎｏｒｐａｒ^TM１２で浸漬した。光導電体構造の１つの１．２ ５”×４”（３．１７５ｃｍ×１０．１６ｃｍ）のストリップを、シューを適所 に配置した場合に、剥離面がペパータオルに接触するように、各金属シューの曲 面上に固定した。次にドラムを４０回転／分で８００回転させた。８００回転よ り多くふき取りのために回転させたサンプルについては、新鮮なＮａｏｒｐａｒ^TM １２浸漬タオルを８００回転ごとに交換した。ぬぐい取りの後、サンプルスト リップを剥離試験またはインキ電気メッキの前に少なくとも一晩風乾させた。 引掻傷定格 Ｎｏｒｐａｒ^TM１２のぬぐい取りが完了した後、サンプルを見かけの引掻傷に ついて格付けした。剥離層の１．０の定格値は、肉眼で引掻傷が見えない場合に 対応し、５．０の定格値はサンプルストリップから除去された剥離層のほとんど といってもよい程度まで多数の引掻傷がみられる場合に対応した。 剥離力を測定するための剥離試験 Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｏｒｓ， ＩＮｃ．から市販の滑り／剥離試練装置モデ ルＳＰ−１０２Ｂ−３Ｍ９０をテープ剥離力測定に使用した。１．２５”×４” （３．１７５ｃｍ×１０．１６ｃｍ）のサンプルストリップを各々両面粘着テー プで作業プラテンに付着させた。１”（２．５４ｃｍ）の３Ｍ２０２マスキング テープをサンプル剥離面または剥離面（以下参照）上のインク電気メッキ面に適 用し、１５ｌｂ（６．８ｋｇ）のローラーをテープ上で６回転がした。テープを 接着した直後に、ＭＢ−１０ロードセルを使用してテープまたはテープ／インク の組み合わせを表面から１８０度および９０”／分（２２８．６ｃｍ／分）で２ 秒間引き剥がすのに必要な平均力（ｇ／インチ）を測定した。 インク転写定格 サンプルストリップを０．４％固形分にまでＩｓｏｐａｒ^TMＧで稀釈された黒 色のＤｉｇｉｔａｌ Ｍａｔｃｈｐｒｉｎｔ^TM Ｐｒｏｏｆｉｎｇ Ｉｎｋ Ｒ ｅｐｌｅｎｉｓｈｅｒで電気メッキした。ストリップは、それぞれ、導電性材料 で被覆されてストリップの表面積と同様の表面積を４．２ｍｍの距離で有するガ ラスプレートに面するサンプルと一緒に配置し、両者を０．４５のインキに３． ７５”（９．５２ｃｍ）まで浸漬した。このインクを５秒以内の間６００Ｖでサ ンプル表面に電気メッキした後、３０分間電気メッキ済みサンプルを風乾した。 次に、２０２テープを適用し、剥離試験を上述のように行い、テープを用いてイ ンキを除去すると同時に、剥離力を測定した。次に、インキ転写の効果を、この 手続きの跡にどの程度のインクがサンプルストリップ上に残っているか（肉眼で 観察して）に基づいて格付けした。定格値１．０は、インキ転写が完全にサンプ ルからはがれた（サンプルにインキが残っていない）ことをに対応し、定格１０ ．０は、ほとんどのインク転写がサンプルからはがれなかった（インキが完全に サンプルを被覆している）ことに対応する。 例１ 有機光導電性層塗料溶液 練り顔料： Ｘ形態の無金属フタロシアニン顔料 １００ｇ （Zeneca Corp.から市販） EC-130（塩化ビニルコポリマー、 ４００ｇ Sekisuiから市販、 テトラヒドロフラン中１５重量％） Mowital^TM B60HH（ポリビニルブチラル樹脂、 ６００ｇ Hoechst Celaneseから市販、 テトラヒドロフラン中１５重量％） 15% by weight in tetrahydrofuran） テトラヒドロフラン １０００ｇ 上述に列挙した材料を１ガロン（３．７８ｌ）のガラス瓶に一緒に混合した。 この混合物を２０時間、４０００ｒｐｍの回転速度で、０．８ｍｍのセラミック 練り媒体で２５０ｍＬ水平サンドミル内で混練した。 次に、塗料溶液を以下の材料を混合することによって調製した。 上述のように調製された練り顔料 ４２３０ｇ (ＴＨＦ中１２．４重量％) Tinuvin-770^TM ３６ｇ (紫外線安定剤、 Ciba Geigy から市販) Mowital^TM B60HH (ＴＨＦ中１５重量％ ５１５４ｇ Hoechst Celaneseから市販) テトラヒドロフラン(THF) １７３１ｇ 上述に列挙した材料を完全に混合し、２ミクロンの無水フィルター（Ｐｏｒｏ ｕｓ Ｍｅｄｉａ Ｃｏｒｐ．から市販）で濾過した。コーティングの直前に、 １４．５ｇのＭｏｎｄｕｒＣＢ−６０１（Ｍｏｂａｙ Ｃｏｒｐ．から市販）、 ０．８７ｇのジブチル錫ジラウレートおよび５８ｇのＴＨＦを１７００の上述の 濾過溶液に添加した。最終塗料溶液を０．１ｍｍ（４ｍｉｌ）のアルミニウム蒸 発被覆ポリエステル上に押出塗布し、１８２℃（華氏３６０度）で１分間風乾し たところ、７．５ミクロンの乾燥コーティング厚さを得た。 遮断層塗料溶液 3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン １０．０ｇ (水および２−プロパノールの５０／５０混合物中に ５％の固形分、Huls America Inc.から市販) Nalco^TM1057 １６．０ｇ （２−プロポキシエタノール中に ３０％のコロイドシリカ、Nalco Chemicalから市販） ２−プロパノール １７６．０ｇ Union Carbide Chemicals & Plastics Coから市販） ポリビニルブチラル ４８．０ｇ （７０／３０の２−プロパノールおよびエタノールの 混合物中に５％の固形分、 Sukisui Chemical Co．Ltd.から市販） 上述の成分を列挙した順番に混ぜ合わせた。溶液を３０分間振動テーブル上で 撹拌し、撹拌してから、２４時間放置した。塗料溶液は、 ５ミクロンの無水フィルターを介して濾過した。上述の光導電性層で被覆された ポリエステル支持体をドラムシリンダーに取り付けてから、遮断層塗料溶液でリ ング被覆した。次に、シートをドラムから除去し、１５０℃に５分間入れて、０ ．２ミクロンの乾燥ヒーティング厚さを得た。 剥離層塗料溶液配合物Ｉ 成分Ａ：ビニルメチルジメチルシロキサン ３．８ｇ コポリマー＊（１０．３８モル％のビニルエチル、ヘプタン中１５重量パーセ ント） 成分Ｂ：Ｃ−１５８ １．２ｇ （０．２モル％のビニルメチルを有するビニルジメチルシロキサンコポリ マー、Wacker Silicones から市販、ヘプタン中１５重量パーセント） 成分Ｃ：ＮＭ２０３ ０．２ｇ （ポリメチルヒドロシロキサン、 Huls Americaから市販） ヘプタン ２０．０ｇ 白金触媒 ０．１ｇ （ヘプタン中に０．８５％のテトラビニルジシロキサンで調整された０． １５重量％のＰｔ） ＊シロキサンコポリマーは、ＭｃＧｒａｔｈ，Ｊ.Ｅ， Ａｎｄ Ｉ．Ｙｉ ｌｏｒ， Ａｄｖ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ， ｖｏｌ．８６， ｐ． １，１９８９に 記載の方法を用いて調整した。 上述の成分を列挙した順番に組み合わせた。塗料溶液は、シートを ドラムシリンダーに取り付けることによって、上述の遮断層上にリング塗布した 。次に、この塗料をドラムから除去し、１５０℃の対流オーブンないで１０分間 硬化し、０．７ミクロンの厚さのコーティングを得た。 本発明の剥離層は、上述に示したように試験して、Ｎｏｒｐａｒ^TM１２に対し て優秀な耐性、優秀な耐久性および優秀な剥離特性を有することが確認された。 例２ 光導電体要素を上述のように準備したが、有機光導電性層を９０／１０のＴＨ Ｆ／シクロヘキサノンのブレンドから得て塗布した点では異なる。対照として、 米国特許第４，６００，６７３号に記載の第１０欄、第１２−４３行に開示され ているようなシリコーンの３重量％固形分溶液を同じタイプの光導電体／遮断層 構造上に０．７６インチ／秒（１．９３ｃｍ／秒）でリング塗布して、１１０℃ で１０分間オーブンに入れて乾燥させた。１６００回のぬぐい取り回転後、本発 明の剥離コーティングは、優秀な剥離特性を維持したが、以下の表に示される剥 離力の高い値および転写定格値によって明らかなように、対照剥離コーティング は、Ｎｏｒｐａｒ^TM１２に対して不十分な耐久性を示した。 例３ 成分Ｂの量（Ｗａｃｋｅｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ Ｃｏｒｐ．から市販）を以 下のように配合物Ｉのものから変更した。 配合物Ｉに加えてこれらの溶液を例１と同様にリング塗布し、Ｎｏｒｐａｒ^TM １２に対する耐久性、剥離力、引掻耐性について試験した。以下の表に示す結果 は、ある程度の成分Ｂが含まれていることで剥離特性は改善されるが、大量に成 分Ｂが含まれると、溶剤に対する耐性および摩耗抵抗が劣化することを示す。 例４ 成分Ｃの量およびタイプと同様成分Ａの量を以下のように変更した。 配合物Ｉと一緒にこれらの溶液を例１に示すようにリング塗布した。 ＮＭ２０３の濃度を下げて、成分Ａの量を増加しても、３２００ぬぐい取り回転 後の剥離耐久性に悪影響はなかった。ただし、ＰＳ１２３．５（Ｈｕｌｓから市 販の１５−１８％のメチルヒドロ、８２−８５％のジメトルシロキサンコポリマ ー）を用い、配合物Ｖのに示される成分Ａの量を現象したところ、かなり低下し た。これは、わずか８００回転のぬぐい取り回転後に得られた非常に高い剥離力 によって示される。架橋密度は、低い官能価の水素化物含有材料であるＰＳ１２ ３．５が高い剥離力を提供したことから、ぬぐい取りおよび迫力試験の性能に重 要であるように思われた。ただし、よりしっかりと架橋された系を用い、ＮＭ２ ０３を用いた場合には、広範囲の水素化物対ビニル比において許容できる結果が もたらされた。 例５ ビニル顔料および成分Ａの粘度を調節する効果は、成分Ａを（ビニルメチル、 ジメチルシロキサンコポリマー）配合物Ｉから以下のように置き換えることによ って測定された。 各配合物に対する成分の量は、配合物Ｉと同じであった。これらの配合物は、 例１のようにリング塗布された。一般に、以下のように示すように、Ａ乃至Ａ４ の樹脂を有するすべての配合物が、低い剥離力および引掻定格値によって示され るように、Ｎｏｒｐａｒぬぐい取りに対して耐久性があった。 例６ 逆二重層光導電体層を以下のように、アルミニウム化ポリエステルフィルム上 に塗布した。 トルエンに含めた１０００ｍｇの１２．５％ポリカルボネートＺ （Mitsubishi Gas Co.）/PE2200(Shell Chemical Co.)（９９：１）に、６２． ５ｍｇの９−エチレルエルバゾール−３−アルデヒド−ミ−メチル−Ｎ−フェニ ル−ヒドラゾンおよび６２．ｇの９−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−Ｎ ，Ｎ−ジフェニル−ヒドラゾンを添加した。この混合物を溶解して、アルミニウ ム化フィルム上に塗布し、乾燥させて、１５ミクロンの電荷トランスポート層を 得た。電荷トランスポート層の上部には、ｘ形態の無金属フタロシアニン（Ｚｅ ｎｅｃａ、Ｌｔｄ）／Ｓ−ｌｅｃＢｘ−５（Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）の２．８％の固形分分散系を塗布して、０．１美馬論の乾燥電荷生成 層を得た。 この光導電体上には、以下の遮断層配合物を被覆した。 遮断層配合物 ３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ０．１５ （Huls America Inc.から市販） Nalco^TM2326 ３．１ｇ （水に含めた１４．５％のコロイドシリカ Nalco Chemicalから市販） 脱イオン水 ６．５ｇ Triton^TM X-100 界面活性剤 ０．０２ｇ （Union Carbide Chemicals & Plastics Co.から市販） ポリマー溶液 ２２．３ｇ （DuPont から市販の２．４部の Elvanol^TM 50-42 PVA、GAF Corp.から市販の ０．２部の Gantrez^TM AN-169 メチルビニルエーテル／無水マレイン酸コポリマ ーp.および９８．４部の水） 配合物Ｉを有する剥離層を剥離層について、最初と１６００回およ び３２００回 Noｒｐａｒ^TMを拭いとった後に試験した。それぞれの剥離力は、 ５．０、９．８、および５４．７ｇ／ｃｍであった。 例７ 配合物Ｉの剥離塗料をアルミニウム化ポリエステルに、３．７％の固形分、１ ．８５％の固形分、０．９３％の固形分で塗布した。厚さの測定は、Ｅｄｍｕｎ ｄｓ ＴＯＬ ２０１０単一ヘッドを用いて測定された。それぞれの固形分にお けるこれらの同じ配合物を例２の光導体構造に塗布した。乾燥サンプルを上述の ようにＮｏｒｐａｒ^TM１２で拭いとって、剥離試験した。この結果を以下の表に 示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サンダース，ジェイムズ・エフ アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 (72)発明者 シュレイフェルズ，デイビッド・ジェイ アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427 (72)発明者 ウー，エドワード・ジェイ アメリカ合衆国55133−3427ミネソタ州セ ント・ポール、ポスト・オフィス・ボック ス33427

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． Ａ）以下の式であって ただし、式中、各Ｒ¹が独立してアルキル基、アリール基、またはアルケニル 基であり、 Ｒ２が、各−ＳｉＲ¹Ｒ²Ｏ−基に対して独立してアルキル基、アリール基、ま たは架橋可能な官能基であり、かつ少なくとも３％のＲ２が架橋することができ 、かつ、 ｘが０より大きい整数である式を有する架橋可能な高含量の官能基を有する３ ５乃至８０重量部のシロキサンポリマー、 Ｂ）以下の式であって、 ただし、式中、各Ｒ⁴が独立してアルキル基、アリール基、またはアルケニル 基であり、 Ｒ³が各ＳｉＲ³Ｒ⁴基に対して、独立してアルキル基、アリール基、または架 橋可能な官能基であり、かつ、２．５％以下のＲ³が架橋可能であり、かつ、ｙ が少なくとも５０の整数である式を有する官能基を有する架橋可能な低含量の官 能基を有する０重量部より大きく５０ 重量部以下のシロキサンポリマー、および要すれば、 Ｃ）以下の式であって、 ただし、式中、各Ｒ⁵が独立して水素、アルキル基、またはアリール基であり 、 Ｒ⁶が、各−ＳｉＲ⁵Ｒ⁶Ｏ−に対して、独立してアルキル基、アリール基、ま たは架橋可能な官能基であり、かつ、２５乃至１００％のＲ⁶が架橋可能な官能 基であり、 ｚが０乃至１０００の整数であり、かつ、架橋可能な１分子あたり少なくとも ２つの官能基が存在する式を有する５乃至３０重量部の架橋剤を含む成分の反応 生成物であるシリコーンポリマーを含む剥離層で被覆された表面を有する支持体 を含む要素。 ２．前記支持体が、導電性であり、かつ、前記支持体と剥離層の間に光導電性 層が存在する、請求項１記載の要素。 ３．成分ＡおよびＢについては、架橋可能な官能基がエチレン系不飽和有機基 であり、成分Ｃについては、架橋可能な官能基が水素である、請求項２記載の要 素。 ４．ｘが少なくとも１００であり、ｙが少なくとも１００である、請求項２記 載の要素。 ５．シロキサンポリマーＡの量が４５乃至７５重量部であり、シロキサンポリ マーＢの量が５乃至３０重量部であり、かつ、架橋剤Ｃの量がＳｉ原子からの側 鎖であるエチレン系不飽和基あたりのＳｉ原子からの側鎖である水素原子の数が ０．６乃至７．０であるような量で ある、請求項３記載の要素。 ６．シロキサンポリマーＡの量が６０乃至７５重量部であり、シロキサンポリ マーＢの量が１０乃至２０重量部であり、架橋剤Ｃの量が、Ｓｉからの側鎖であ るエチレン系不飽和基あたりのＳｉ原子からの側鎖である水素原子の数が１乃至 ５であるような量である、請求項３記載の要素。 ７．ｘが１００乃至８０００の整数である請求項２記載の要素。 ８，１０乃至３０％のＲ²基がエチレン系不飽和基である、請求項３記載の要 素。 ９． 各Ｒ¹が独立して１乃至５個の炭素原子を含むアルキル基である、請求 項３記載の要素。 １０．エチレン系不飽和基Ｒ²が、シロキサンポリマーの珪素原子から３原子分 以下離隔した炭素−炭素二重結合を有する、請求項３記載の要素。 １１．アルキル基であるエチレン系不飽和基Ｒ²について、アルキル基がメチル である、請求項３記載の要素。 １２．ｙが１０００乃至１５，０００の整数である、請求項２記載の要素。 １３．１％以下のＲ³がエチレン系不飽和有機基である、請求項３記載の要素。 １４．Ｒ⁴が、独立して１乃至５個の炭素原子を含むアルキル基である、請求項 ２記載の要素。 １５．エチレン系不飽和基Ｒ³が、シロキサンポリマーの珪素原子から３原子分 以下離隔した炭素−炭素二重結合を有する、請求項３記載の要素。 １６．アルキル基であるエチレン系不飽和基Ｒ³について、アルキル基がメチル である、請求項３記載の要素。 １７．ｚが５乃至５０の整数である、請求項２記載の要素。 １８．Ｒ⁵が１乃至５個の炭素原子を含むアルキル基である請求項３記載の要素 。 １９．５０乃至１００％のＲ⁶が水素である請求項２記載の要素。 ２０．Ｒ¹、Ｒ²、およびＲ⁵がメチル基であり、 １０乃至３０％のＲ²が２乃至２０個の炭層原子を含むエチレン系不飽和有機 化合物であり、かつ、残りのＲ²がメチル基であり、 １％以下のＲ³が２乃至２０個の炭素原子を含むエチレン系不飽和有機基であ り、かつ、残りのＲ³がメチル基であり、 ５０乃至１００％のＲ⁶が水素原子であり、かつ、残りのＲ⁶がメチル基であり 、 ｘが２００乃至６０００の整数であり、 ｙが６０００乃至１３，０００の整数であり、 ｚが１０乃至２５の整数である、請求項１または２のいずれか記載の要素。 ２１．前記成分がヒドロシリル化触媒をさらに含む、請求項１または２のいずれ か記載の要素。 ２２．前記触媒がクロロ白金酸を基剤とする触媒である、請求項２１記載とする 、請求項２１記載の要素。 ２３．前記剥離層が、０．３μｍより大きい、請求項１または２のいずれか記載 の要素。 ２４．前記剥離層が、０．４乃至３μｍの厚さを有する、請求項１記載の要素。 ２５．前記光導電性層と前記剥離層の間に遮断層をさらに含む、請求項２記載の 要素。 ２６．前記光導電性層が電荷生成層および電荷トランスポート層を含む有機光導 電体材料である、請求項２記載の光導電体要素。 ２７．前記電荷トランスポート層が前記導電性支持体および前記電荷生成層の間 に配置される、請求項２６記載の光導電体要素。 ２８．前記電荷トランスポート層が、ポリマー結合剤ならびに、ポリ−Ｎ−ビニ ルカルバゾール、ビス−（ベンゾカルバゾール）−フェニルメタンの誘導体、お よびフェニルヒドラゾンのエチルカルバゾール誘導体から成る群から選択される 少なくとも１つの材料を含み、かつ、 前記電荷生成層が、アゾ顔料、ペリレン顔料、フタロシアニン顔料、スクアラ イン顔料、および、２相凝集材料から成る群から選択される材料を含む、請求項 ２７記載の光導電体要素。 ２９．導電性支持体、 前記導電性支持体の１つの表面上の光導電層、 および、前記光導電性層上に、０．４μｍより大きい厚さを有する剥離層であ って、架橋間に鎖長の双峰分布を有する架橋シロキサンポリマーを含む剥離層を 含む、光導電体要素。