JP2004045993A

JP2004045993A - 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置

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Publication number: JP2004045993A
Application number: JP2002206028A
Authority: JP
Inventors: Masataka Kawahara; 川原　正隆; ▲高▼谷　格; Itaru Takatani
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 2002-07-15
Filing date: 2002-07-15
Publication date: 2004-02-12

Abstract

【課題】光散乱やブリードがなく、均一な状態の光導電層であって低表面エネルギーと機械的、電気的耐久性を両立した高感度かつ低残留電位の電子写真感光体、及び該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供する。
【解決手段】支持体上に感光層を有する電子写真感光体において該電子写真感光体の感光層が硬化性有機ケイ素系高分子及び下記一般式（１）
【外１】

（Ａは窒素原子を２つ以上含有する正孔輸送性基を示し、Ｑは加水分解性基または水酸基を示し、Ｒ^２は置換もしくは無置換の一価炭化水素基を示し、Ｒ^３は置換もしくは無置換のアルキレン基またはアリーレン基を示し、ｍは１〜３の整数を示し、ｌは正の整数を示す。）
で示される有機ケイ素変成正孔輸送性化合物を硬化することによって得られる樹脂を含有することを特徴とする。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特定の感光層を有する電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子写真感光体の感光層には、セレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の無機光導電性物質が広く用いられてきた。近年、安全性が高い、量産に適している、コストが安いなどの利点から、有機光導電性物質を電子写真感光体の感光層に用いる研究が盛んに行われ、数多くの感光体が提案され実用化されている。その中でも、電荷発生材料を含有する電荷発生層と電荷輸送材料を含有する電荷輸送層に機能分離させた積層型感光体が感度、耐久性等が優れているという点で研究の主流となっている。しかし、上記積層型感光体においても複写機やレーザービームプリンターで、帯電、露光、現像、転写、除電等の画像形成プロセスを繰り返すことによって、帯電電位の低下や残留電位の上昇が起こり画像にカブリやボケ等の欠陥が生じ、電気的耐久性が十分ではない。
【０００３】
また、電子写真感光体の表面には、帯電手段、現像手段、転写手段、及びクリーニング手段等により機械的な影響が直接に加えられるために、それらに対する機械的耐久性が要求される。
【０００４】
具体的には、摺擦による感光体表面の摩耗や傷の発生、及び高湿下におけるコロナ帯電時に発生しやすいオゾンによる感光体表面の劣化などに対する耐久性が要求される。また、現像とクリーニングの繰り返しなどに起因した、感光体表面へのトナーの付着という問題もあり、これに対しては感光体表面のクリーニング性の向上が求められている。
【０００５】
上記のような感光体表面に要求される様々な特性を満たすために感光層上に樹脂を主成分とする種々の表面保護層を設ける試みがなされている。例えば、特開昭５７−３０８４３号公報には、導電性粒子として金属酸化物粒子を添加することによって抵抗を制御した保護層が提案されている。
【０００６】
また、表面層中に種々の物質を添加することで感光体表面の物性を改善することも検討されている。例えば、シリコーンの低表面エネルギーに注目した添加物としては、シリコーンオイル（特開昭６１−１３２９５４）、ポリジメチルシロキサン、シリコーン樹脂粉体（特開平４−３２４４５４）、架橋シリコーン樹脂、ポリ（カーボネートーシリコン）ブロック共重合体、シリコーン変成ポリウレタン、シリコーン変成ポリエステルが報告されている。
【０００７】
低表面エネルギーの代表的なポリマーとしてはフッ素系高分子があり、該フッ素系高分子としては、ポリテトラフルオロエチレン粉体、フッ化カーボン粉末等が挙げられる。
【０００８】
しかしながら、金属酸化物等を含む表面保護層は高い硬度を有するものが得られるが、表面エネルギーは大きくなりやすいためにクリーニング性等に問題がある。シリコーン系樹脂は表面エネルギーが小さい点で優れているが他の樹脂に対して十分な相溶性を示さないため、添加系では凝集しやすく光散乱を生じたり、ブリードして表面に偏析するために安定した特性を示さない等の問題があった。また、低表面エネルギーのポリマーであるフッ素系高分子は一般に溶媒に不溶であり、分散性も不良であることから、平滑な感光体表面を得ることが困難であり、屈折率も小さいことから光散乱が生じやすく、それによる透明性の劣化を生じる問題点があった。また、フッ素系高分子は一般的に柔らかいために傷がつきやすい問題点があった。
【０００９】
さらに、表面保護層や添加剤を用いることによって感度や残電等の電子写真特性が悪化する等の弊害があった。
【００１０】
一方、電子写真用の光源としては、コスト、装置の大きさの点から半導体レーザーが用いられているが、現在主として用いられている半導体レーザーはその発振波長が赤〜近赤外領域にあるため、長波長の光に十分な感度を有する電子写真感光体の開発が進められてきた。フタロシアニン化合物はこうした長波長領域まで感度を有する電荷発生材料として極めて有効であり、特にオキシチタニルフタロシアニンは従来のフタロシアニン化合物に比べ優れた感度を有しており、これまでに特開昭６１−２１７０５０号公報、特開昭６１−２３９２４８号公報、特開昭６２−６７０９４号公報、特開昭６３−２１８７６８号公報、特開昭６４−１７０６６号公報などに高感度な様々な結晶型のオキシチタニウムフタロシアニンが報告されている。
【００１１】
オキシチタニウムフタロシアニンを用いた電子写真感光体は前途のように優れた感度特性を有している反面、残留電位が比較的高いという欠点を有している。このような特性においては電子写真のプロセス速度が速い、あるいはプロセスサイクルの短い系、さらにはレーザー露光を用いる場合のレーザースポットが小さい系などにおいて、電位コントラストがとりにくくなるという欠点を有する。また、例えばオキシチタニウムフタロシアニンを電荷発生層として積層型感光体を形成しようとする場合、中間層や、表面保護層などの処方設計ラチチュードが狭くなり好ましくない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は上記の問題点を解決することのできる、すなわち光散乱やブリードがなく、均一な状態の光導電層であって低表面エネルギーと機械的、電気的耐久性を両立した高感度かつ低残留電位の電子写真感光体、及び該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、支持体上に感光層を有する電子写真感光体において該電子写真感光体の感光層が硬化性有機ケイ素系高分子及び下記一般式（１）
【外３】

【００１４】
（Ａは窒素原子を２つ以上含有する正孔輸送性基を示し、Ｑは加水分解性基または水酸基を示し、Ｒ^２は置換もしくは無置換の一価炭化水素基を示し、Ｒ^３は置換もしくは無置換のアルキレン基またはアリーレン基を示し、ｍは１〜３の整数を示し、ｌは正の整数を示す。）
で示される有機ケイ素変成正孔輸送性化合物を硬化することによって得られる樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
【００１５】
また、本発明は、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置である。
【００１６】
【発明の実施の形態】
上記式（１）において、Ｑは加水分解性基または水酸基を示し、加水分解性基をしては、メトキシ基、エトキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエチル基等が挙げられ、より好ましくは−ＯＲ^１で示される。Ｒ^１は加水分解性基であるアルコキシ基あるいはアルコキシアルコキシ基を形成する基であり、炭素数が１〜６の整数であることが好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、メトキシエチル基等が挙げられる。Ｑとしては、式−ＯＲ^１であるアルコキシ基が好ましい。一般にケイ素原子に結合している加水分解性基の数が１または２のときは有機ケイ素化合物自体での高分子化反応は抑制されるが、ｍが３のときは縮合反応が生じ易く高度に架橋反応を行うことが可能であることから、得られる重合体の硬度等の改善が期待できる。
【００１７】
Ｒはアルキレン基またはアリーレン基を示し、炭素数が１〜１８であることが好ましく、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、シクロヘキシリデン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、更にはこれらが結合した基等が挙げられる。また、Ｒが有してもよい置換基としてはメチル基、エチル基等のアルキル基、フェニル基のアリール基、フッ素原子塩素原子等のハロゲン原子が挙げられる。これらの中ではＲが式−（ＣＨ_２）ｎ−（ｎは正の整数）で示されることが好ましい。
【００１８】
ｎは１〜１８であることが更に好ましいが、必ずしも直鎖状である必要はない。ｎが１９以上では電荷輸送性基Ａが運動しやすいため硬度が低下し、ケイ素原子に直接電荷輸送性基が結合していると立体障害等で安定性、物性に悪影響を与え易い。ｎは好ましくは２〜８である。また、ｌは正の整数を示すが、１〜５であることが好ましい。ｌが６以上では加水分解、重縮合反応において未反応基が残りやすいため電子写真特性等が低下し易い。
【００１９】
また、本発明における電荷輸送性とは電荷を輸送する能力のことである。イオン化ポテンシャルで６．２ｅＶ以下であることが好ましい。つまり、前記式（１）で示される有機ケイ素変性電荷輸送性化合物及びＡの水素付加物は、イオン化ポテンシャルが６．２ｅＶ以下であることが好ましく、特には４．５〜６．２ｅＶであることが好ましい。イオン化ポテンシャルが６．２ｅＶを越えると正孔注入が起こりにくく帯電し易くなる。また、４．５ｅＶ未満では化合物が容易に酸化されるために劣化し易くなる。イオン化ポテンシャルは大気下光電子分析法（理研計器製、表面分析装置ＡＣ−１）によって測定される。
【００２０】
また、上記有機ケイ素変成正孔輸送性化合物は正孔輸送能として１×１０^−７ｃｍ^２／Ｖｓｅｃ以上のドリフト移動度を有しているものが好ましい。１×１０^−７ｃｍ^２／Ｖｓｅｃ以下では電子写真感光体として露光後、現像までに正孔が十分に移動できないために見かけ上感度が低減し、残留電位も高くなってしまう問題が発生する場合がある。
【００２１】
上記式（１）の正孔輸送性基Ａとしては、窒素原子を２つ以上含有する正孔輸送性基を示し、さらに構造が下記式（２）で示されるものが好ましい。
【外４】

【００２２】
（Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は有機基であり、そのうちの少なくとも１つは芳香族炭化水素環基または複素環基を示し、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^８は芳香族炭化水素環基をしめす。）
このように正孔輸送性基ＡはＲ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７のうちのいくつかの基の水素原子が除かれて形成された基である。
【００２３】
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の構造の好ましい具体例を以下に示す。
【外５】

【００２４】
【外６】

【００２５】
Ｒ^８の構造の好ましい具体例を以下に示す。
【外７】

【００２６】
上記式（１）の有機ケイ素変成電荷輸送性化合物の合成方法としては、公知の方法、例えば、芳香族環にビニル基を有する化合物と置換基を有する水素化ケイ素化合物とから白金系触媒、或いは有機過酸化物等を触媒にヒドロシリル化反応を行うものが好適に用いられる。この場合に使用される白金触媒についてはとくに限定するものではなく、通常のヒドロシリル化反応、付加型シリコーンゴムに用いられている白金触媒であればよく、塩化白金、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−フォスフィン錯体等が挙げられる。白金触媒の添加量に関しては特に制限するものではないが、残留触媒が特性に悪影響を与えないようにできる限り少量で用いることが望ましい。芳香族環にビニル基を有する化合物と置換基を有する水素化ケイ素化合物とから白金系触媒等により、付加反応により本発明の化合物を合成する場合にはビニル基のα位と反応する場合とβ位と反応する場合があり、一般には混合物が生じる。本発明においてはα位、β位のどちらに反応したのものも用いられるが、ケイ素原子と電荷輸送性基を結合している炭化水素基の炭素数が少ない場合には立体障害からはβ位に反応したものが好ましい。
【００２７】
有機過酸化物としては室温以上に半減期を示すものであればよく、特に、ラウリルパーオキシド等のアルキル過酸化物が水素引き抜きを起こしにくいことから好適に用いることができる。ビニル基を有しないものについては、芳香族環をホルミル化し、還元、脱水するか直接Ｗｉｔｔｉｎｇ反応によりビニル基を導入する方法等により、本発明の合成原料として用いることが可能である。
【００２８】
上記樹脂の加水分解、重縮合には、必ずしも触媒が必要ではないが、通常ケイ素樹脂の加水分解、重縮合に用いられる触媒の使用を妨げるものではなく、加水分解、重縮合に要する時間、硬化温度等を考慮してジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫オクトエート等のアルキル錫有機酸塩等もしくはノルマルブチルチタネート等の有機チタン酸エステルから適宜選択される。
【００２９】
本発明においては、有機ケイ素変成正孔輸送性化合物の重合時に３次元架橋構造が形成されることにより、各元素間の運動や外部からの化合物の侵入が困難になることから、硬度や機械的強度が増大し、耐摩耗性が向上するのみでなく、帯電時に発生するアーク放電等の電気的な障害や化学物質等に対する耐久性も向上させることが可能となる。
【００３０】
次に、有機ケイ素系高分子について説明する。
【００３１】
有機ケイ素系高分子としては、オルガノポリシロキサン、ポリシルアルキレンシロキサン、ポリシルアリーレンシロキサン等が例示される。また、ケイ素原子に結合した一価の炭素水素基とケイ素原子との数の比が０．５〜１．５であることが好ましい。この比が１．０を境にこれより低くなるに従いガラスの組成に近く、加熱重量減少が少なく生成する樹脂は硬くなる傾向があり、０．５未満では膜形成が困難である。また、この比が１．０より高くなるに従いこれとは逆の傾向を示し、オルガノポリシロキサンの場合は２．０でポリジオルガノシロキサンとなるため、１．５を越えるとゴム的要素が強くなりすぎ、硬度が低下する。
【００３２】
オルガノポリシロキサンとしては、下記式（３）で示される構造単位を有する物が好ましい。
【００３３】
Ｒ^７ _ｒＳｉＯ_{（４−ｒ−ｓ）／２}（ＯＲ^８）_ｓ　　　　　（３）
（Ｒ^７は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を示し、Ｒ^８は水素原子またはアルキル基を示し、ｒ及びｓはモル比を示す。）
前記式（３）において、Ｒ^７はケイ素原子に結合した一価の炭化水素基であり、炭素数が１〜１８であることが好ましく、直鎖あるいは分岐のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、オクタデシル基等が挙げられ、アリール基としては例えばフェニル基、トリル基等が挙げられ、更には、例えばトリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロペンチル基、ナノフルオロヘキシル基等で代表されるフロロ炭化水素基、クロロメチル基、クロロエチル基等のクロロ炭化水素基等、直鎖あるいは分岐の飽和炭化水素基ハロゲン置換体が挙げられる。
【００３４】
Ｒ^７は必ずしも単一の種類である必要はなく、樹脂特性の改良、溶媒に対する溶解性の改良等に応じて適宜選択される。メチル基とフェニル基が混在する系ではメチル基単独であるよりも一般に有機化合物との親和性が向上することは周知の事実である。また、フロロ炭化水素基を導入すると、オルガノポリシロキサンでも一般高分子の場合と同様にフッ素原子の効果により表面張力が減少し、そのため、撥水・撥油等のオルガノポリシロキサンの特性が変化する。本発明においても、より低い表面張力が求められる場合には、適宜、フロロ炭化水素と結合したケイ素単位を共重合して導入することができる。なおｒはモル比を示し、平均０．５〜１．５であることが好ましい。
【００３５】
本発明において、ケイ素原子に結合したＯＲ^８基は水酸基または加水分解縮合可能な基である。Ｒ^８は、水素、及びメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の低級アルキル基から選択される。ＯＲ^８基におけるＲ^８は水素からアルキル基の炭素数が多くなるにつれて反応性が低下する特性を示し、使用される反応系に応じて適宜選択される。加水分解縮合可能な基の比率はｓによって示されるが、０．０１以上であることが好ましい。樹脂の硬度が架橋密度で調整されることは周知であり、本発明においても前述のケイ素原子に結合した加水分解縮合可能な基の数を制御することにより可能となる。しかしながら、該加水分解縮合可能な基が多すぎると未反応で残存する可能性があり、使用環境中で加水分解されるために表面特性等に悪影響を与えやすい。好ましいｓの値は０．０１〜１．５である。
【００３６】
ケイ素樹脂の一般的な特性の一つに有機化合物に対する親和性、溶解性が極めて悪いことがある。例えば、通常の有機樹脂で使用されている酸化防止剤、紫外線吸収剤等はジメチルシロキサンポリマーに全く溶解性を示さず樹脂中で凝集する。一般に用いられる電荷輸送性化合物もその例外ではなく、電荷輸送の目的に使用可能な濃度に溶解することは困難である。しかし、本発明の前記式（１）で示される電荷輸送性化合物と前記ケイ素系高分子、特にオルガノポリシロキサンは相溶性に優れ、機械的特性を大幅に改善することが可能にした。
【００３７】
前記有機ケイ素系高分子は、硬化させる際に架橋剤を加えて、これを介して架橋されることもできる。
【００３８】
更に、架橋剤として下記式（４）で示されるシラン化合物を用いることにより、硬化性組成物を硬化して得られる光導電層の硬度や強度等の物性の制御が容易になる。
【００３９】
Ｒ^９ _ａＳｉＹ_４−ａ　　　　　　（４）
（Ｒ^９は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を示し、Ｙは加水分解性基を示し、ａはモル比を示す。）
前記式（４）において、Ｒ^９はケイ素原子に結合した一価の炭化水素基であり、炭素数が１〜１８であることが好ましく、直鎖あるいは分岐のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、ヘキシル基、ビニル基、アリル基、フェニル基、トリル基等が挙げられる。Ｙで示される加水分解性基をしては、メトキシ基、エトキシ基、メチルエチルケトオキシ基、ジエチルアミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、等が挙げられる。
【００４０】
上記樹脂の架橋硬化には、必ずしも触媒が必要ではないが、通常ケイ素樹脂の硬化に用いられる触媒の使用を妨げるものではなく、硬化に要する時間、硬化温度等を考慮してジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫オクトエート等のアルキル錫有機酸塩等もしくはノルマルブチルチタネート等の有機チタン酸エステルから適宜選択される。
【００４１】
架橋剤としての式（４）で示されるシラン化合物の具体例としてはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、これらのアルコキシ基の代わりにアセトキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ基、イソプロペノキシ基に置換したシラン等が挙げられる。架橋剤はエチルポリシリケートのようなオリゴマー状のものでもよい。
【００４２】
本発明で使用するオルガノポリシロキサンの製造方法としては、特公昭２６−２６９６号、特公昭２８−６２９７号に記載されている方法を始めとして、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ｏｆ　Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓ，Ｃｈａｐｔｅｒ５，ｐ．１９１〜（Ｗａｌｔｅｒ　Ｎｏｌｌ，　ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ，Ｉｎｃ．１９６８）のシロキサンポリマー合成方法がある。例えば、ケイ素原子に対する一価の有機基の置換数ｒが平均０．５〜１．５であるオルガノアルコキシシラン、オルガノハロゲノシランを有機溶媒中に溶解し、酸或いは塩基存在化で加水分解、縮合することによって重合し、その後溶媒を除去することによって合成される。本発明で使用するオルガノポリシロキサンはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、シクロヘキサノン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、及びクロロホルム、クロロベンゼン等の含ハロゲン炭化水素、エタノール、ブタノール等のアルコールなどの溶媒中に溶解させて使用される。
【００４３】
本発明においては、硬化性の有機ケイ素系高分子と、本発明の有機ケイ素変成正孔輸送性化合物の硬化時に３次元架橋構造が形成されることにより、各元素間の運動や外部からの化合物の侵入が困難になることから、硬度や機械的強度が増大し、耐摩耗性が向上するのみでなく、帯電時に発生するアーク放電等の電気的な障害や化学物質等に対する耐久性も向上させることが可能となる。
【００４４】
前記有機ケイ素系高分子と有機ケイ素変成電荷輸送性を硬化する前の溶液（本発明の硬化性組成物ともいう）は、例えば両者を溶解する溶媒中に混合することで得られる。有機ケイ素系高分子の溶媒を取り除いた固形分１００重量部に対して有機ケイ素変成電荷輸送性化合物は２０〜２００重量部混合して用いられる。２０重量部インタフェースかでは電荷輸送性が不十分となるために帯電電位が増加して好ましくない。また、２００重量部以上では機械的強度が低下し、表面エネルギーが増加することから好ましくない。より好ましくは有機ケイ素系高分子１００重量部に対して有機ケイ素変成電荷輸送性化合物は３０〜１５０重量部で用いられる。
【００４５】
本発明においては、前もってアルコキシシランなどの電荷輸送能を持たないケイ素系化合物と有機ケイ素変成電荷輸送性化合物を部分的に重合させても良い。この場合には感光体への塗布に支障のない溶液もしくは分散液であれば用いることができる。
【００４６】
硬化の条件としては１００〜２００℃で加熱することが好ましい。１００℃以下では硬化反応に時間がかかるため、未反応の加水分解性基が残存する可能性もある。２００℃以上では電荷輸送性基が酸化劣化しやすくなり、悪影響が発生しやすい。より望ましくは、１２０〜１６０℃で加熱硬化して用いられる。
【００４７】
本発明の正孔輸送能を有する硬化性組成物をもちいて電子写真感光体を製造する例を下記に示す。
【００４８】
電子写真感光体の支持体（図１及び図２中の１）としては支持体自体が導電性を有するもの、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、チタン、ニッケル、マグネシウム、インジウム、金、白金、銀、鉄等を用いることが出来る。その他にアルミニウム、酸化インジウム、酸化スズ、金、等を蒸着等によりプラスチック等の誘電体基材に被膜形成し、導電層としたものや、導電性微粒子をプラスチックや紙に混合したもの等を用いることが出来る。これらの導電性基材は均一な導電性が求められるとともに平滑な表面が重要である。表面の平滑性はその上層に形成される下引層、電荷発生層、正孔輸送層の均一性に大きな影響を与えることから、その表面荒さは０．３μｍ以下で用いられることが好ましい。０．３μｍ以上の凹凸は下引層や電荷発生層のような薄い層に印加される局所電場を大きく変化させてしまうためにその特性が大きく変化してしまい電荷注入や残電のむら等の欠陥を生じ易いことから好ましくない。
【００４９】
特に導電性微粒子をポリマーバインダー中に分散して塗布することにより得られる導電層は形成が容易であり、均質な表面を形成することに適している。このとき用いられる導電性微粒子の１次粒径は１００ｎｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以下のものが用いられる。導電性微粒子としては、導電性酸化亜鉛、導電性酸化チタン、Ａｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、カーボンブラック、ＩＴＯ、酸化スズ、酸化インジウム、インジウム、等が用いられ、これらを絶縁性微粒子の表面にコーティングして用いてもよい。前記導電性微粒子の含有量は体積抵抗が十分に低くなるように使用され、好ましくは１×１０^１０Ωｃｍ以下の抵抗となるように添加される。より好ましくは１×１０^８Ωｃｍ以下で用いられる。
【００５０】
レーザー等のコヒーレントな光源を用いて露光する場合は干渉による画像劣化を防止するために上記導電性基材の表面に凹凸を形成することも可能である。このときは電荷注入や残留電位のむら等の欠陥が生じにくいように使用する波長の１／２λ程度の凹凸を数μｍ以下の直径のシリカビーズ等の絶縁物を分散することに１０μｍ以下の周期で形成して用いることが可能である。
【００５１】
本発明においては、基材と光導電層の中間に、注入阻止機能と接着機能をもつ下引層（図１及び２中の３）を設けることもできる。下引層の材料としてはカゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレンーアクリル酸コポリマー、ポリビニルブチラール、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチン、等が挙げられる。下引層の膜厚は０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、特には０．３μｍ〜３μｍであることが好ましい。
【００５２】
感光層としては電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層からなる機能分離タイプのものや電荷発生物質と電荷輸送物質を同一の層に含有する単層タイプが用いられる。
【００５３】
機能分離タイプの感光層について説明すると、感光層の構成としては、電荷発生層上に電荷輸送層を積層する構成と、電荷輸送層上に電荷発生層を積層する構成がある。
【００５４】
電荷発生材料としては、例えば、セレンーテルル、ピリリウム系染料、チオピリリウム系染料、フタロシアニン系顔料、アントアントロン系顔料、ジベンズピレンキノン系顔料、ピラントロン系顔料、アゾ系顔料、インジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、シアニン系顔料等を用いることができる。これらの電荷発生材料のうち、本発明においては、特にアゾ顔料及びフタロシアニン顔料が適している。フタロシアニン顔料としては、無金属フタロシアニン、銅フタロシアニン、ガリウムフタロシアニン、オキシチタニウムフタロシアニン等が挙げられる。このうち特に長波長光に対して高感度を有するオキシチタニウムフタロシアニンが好ましく、例えば特開昭６１−２３９２４８号公報、特開昭６２−６７０９４号公報、特開平３−１２８９７３号公報及び平３−２００７９０号公報に開示がある。これらの中でも、特開平３−１２８９７３号公報に開示のＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）において、９．０°、１４．２°、２３．９°及び２７．１°に特徴的なピークを有する結晶形であるオキシチタニウムフタロシアニンがより好ましい。
【００５５】
結着剤としては、広範な絶縁性樹脂から選択でき、例えばポリビニルブチラール、ポリビニルアルコール、ポリアリレート、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、セルロース系樹脂等の樹脂が挙げられる。電荷発生層中に含有する樹脂は、８０重量％以下、好ましくは５０重量％以下が適している。電荷発生層の厚さは５μｍ以下、特に０．０５〜２μｍであることが好ましい。
【００５６】
本発明の正孔輸送能を有する硬化性組成物の硬化物は電荷輸送層もしくは正孔輸送能を有する表面保護層として用いることが可能である。
【００５７】
本発明における電荷輸送層の膜厚は１〜４０μｍであることが好ましく、特には３〜３０μｍであることが好ましい。本発明における表面保護層の厚みは、１〜１５μｍであることが好ましい。１μｍ以下では保護効果が十分ではなく、１５μｍを越えると感光層全体の膜厚が増加することにより、画像劣化が生じ易くなってしまうことから好ましくない。
【００５８】
光導電層には前記化合物以外にも機械的特性の改良や耐久性向上のために添加剤を用いることができる。このような添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、安定化剤、架橋剤、潤滑剤、導電性制御剤等が用いられる。
【００５９】
本発明においては、更に、露光手段が照射する光ビームのスポット面積と電子写真感光体が有する感光層の膜厚の積が２×１０^４μｍ^３以下であることが好ましい。また、この積は現像コントラストの大きさ（現像時の感光体上の電位差）の点で２×１０^３μｍ^３以上であることが好ましい。２×１０^３μｍ^３に満たないと十分な現像コントラストは得にくくなる傾向になる。
【００６０】
この場合、本発明に用いられる露光方法は、光をドット状に照射することによって感光体上に静電潜像を形成する物である。その光源は特に制限されるものではないが、より小さなスポット面積をより容易に得ることができるという点でレーザー光及びＬＥＤ光であることが好ましい。
【００６１】
図３に光の強度分布、スポット径及びスポット面積（Ｓ）と感光層の厚さの積の関係を示す。光スポットは一般的には図３に示すように主走査スポット径（ａｂ）と副走査スポット径（ｃｄ）を有する楕円形の形状を有しており、本発明におけるスポット面積と感光層の厚さの積は、該光スポットが感光層へ照射されている部分の体積（Ｖ）であるといえる。該光ビームのスポット面積はピーク強度の１／ｅ^２に減少するまでの部分で表わされる。
【００６２】
該光のスポット面積（Ｓ）は感光層上の面積であり、光の強度がピーク強度（Ａ）の１／ｅ^２（Ｂ）以上である部分の面積で表される。用いられる光源としては半導体レーザやＬＥＤ等が挙げられ、光強度分布についてもガウス分布、ローレンツ分布等があるが、いずれの場合もピーク強度（Ａ）１／ｅ^２（Ｂ）以上の強度の部分をスポット面積（Ｓ）とする。なお、スポット面積（Ｓ）は、感光体の位置にＣＣＤカメラを設置することにより測定することができる。
【００６３】
本発明における光のスポット面積は４×１０^３μｍ^２以下であることが好ましく、特には３×１０^３μｍ^２以下であることが好ましい。４×１０^３μｍ^２を越えると隣接画素の光と重複し易くなり、階調再現性が不安定となりやすい。また、コストの点から１×１０^３μｍ^２以上であることが好ましい。
【００６４】
上記観点からは、本発明における感光層の厚さは１２μｍ以下であることが好ましく、特には１０μｍ以下であることが好ましい。
【００６５】
図２に本発明のプロセスカートリッジを有する画像形成装置の第１の例の概略構成を示す。
【００６６】
図において７はドラム状の本発明の電子写真感光体であり、軸８を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。感光体７は、回転過程において、一次帯電手段９によりその周面に正または負の所定電位の均一帯電を受け、次いで、レーザービーム走査露光等の像露光手段（不図示）からの画像露光１０を受ける。こうして感光体７の周面に静電潜像が順次形成されていく。
【００６７】
形成された静電潜像は、現像手段１１によりトナー現像され、現像されたトナー現像像は不図示の給紙部から感光体７と転写手段１２との間に感光体７の回転と同期取り出されて給紙された転写材１３に、転写手段１２により順次転写されていく。
【００６８】
像転写を受けた転写材１３は、感光体面から分離されて像定着手段１４へ導入されて像定着を受けることにより複写物（コピー）として装置外にプリントアウトされる。
【００６９】
像転写後の感光体７の表面は、クリーニング手段１５によって転写残りトナーの除去を受けて清浄面化され、更に前露光手段（不図示）からの前露光光１６により除電処理された後、繰り返し像形成に使用される。なお、一次帯電手段９が帯電ローラー等を用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
【００７０】
本発明においては、上述の電子写真感光体７、一次帯電手段９、現像手段１１及びクリーニング手段１５等の構成要素のうち、複数のものをプロセスカートリッジとして一体に結合して構成し、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンタ等の画像形成装置本体に対して着脱可能に構成してもよい。例えば、一次帯電手段７と共に一体に支持してカートリッジ化して、装置本体のレール１８等の案内手段を用いて装置本体に着脱可能なプロセスカートリッジ１７とすることができる。
【００７１】
図３に本発明の画像形成装置の第２の例であるカラー複写機の概略構成を示す。
【００７２】
図において２０１はイメージスキャナ部であり、原稿を読み取り、デジタル信号処理を行う部分である。また、２０２はプリンタ部であり、イメージスキャナ２０１に読み取られた原稿画像に対応した画像を用紙にフルカラーでプリント出力する部分である。
【００７３】
イメージスキャナ部２０１において、２００は原稿厚板であり、原稿台ガラス２０３上の原稿２０４は赤外カットフィルター２０８を通ったハロゲンランプ２０５の光で照射され、原稿２０４からの反射光はミラー２０６、２０７に導かれ、レンズ２０９により３本のＣＣＤラインセンサ（ＣＣＤ）２１０上に像を結び、フルカラー情報レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）成分として信号処理部２１１に送られる。なお、２０５、２０６は速度ｖで、２０７は１／２ｖでラインセンサの電気的走査方向（以下、主走査方向）に対して垂直方向（以下、副走査方向）に機械的に動くことにより、原稿全面を走査する。
【００７４】
信号処理部２１１では読み取られた信号を電気的に処理し、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（ＢＫ）の各成分に分解し、プリンタ部２００に送れ、計４回の原稿走査により一回プリントアウトが完成する。
【００７５】
イメージスキャナ部２０１より送られてくるＭ，Ｃ，Ｙ，ＢＫの画像信号は、レーザドライバ２１２に送られる。レーザドライバ２１２は画像信号に応じ、半導体レーザ２１３を変調駆動する。レーザ光はポリゴンミラー２１４、ｆ−θレンズ２１５、ミラー２１６を介し、感光体ドラム２１７上を走査する。
【００７６】
２１８は回転現像機であり、マゼンタ現像器２１９、シアン現像器２２０、イエロー現像器２２１、ブラック現像器２２２より構成され、４つの現像器が交互に感光体ドラムに接し、感光体ドラム２１７上に形成されたＭ，Ｃ，Ｙ及びＢＫの静電潜像を対応するトナーで現像する。
【００７７】
２２３は転写ドラムで、用紙カセット２２４または２２５より給紙された用紙をこの転写ドラム２２３に巻付け、感光体ドラム２１７上に現像されたトナー像を用紙に転写する。
【００７８】
このようにしてＭ，Ｃ，Ｙ及びＢＫの４色が順次転写された後に、用紙は定着ユニット２２６を通過して定着後、排紙される。
【００７９】
【実施例】
以下、実施例によって本発明を説明する。本発明に用いられる硬化性有機ケイ素高分子は、例えば以下のようにして合成した。
【００８０】
（合成例１）
メチルポリシロキサン樹脂を主成分とする硬化性樹脂溶液の調整
メチルシロキサン単位８０モル％、ジメチルシロキサン単位２０モル％からなる１ｗｔ％のシラノール基を含むシロキサン樹脂１０ｇをトルエン１０ｇに溶解し、これに、メチルトリ（メチルエチルケトキシム）シラン１１．５ｇ、ジブチル錫ジアセテート０．２ｇを加え均一な溶液にした。
【００８１】
（合成例２）
メチルフェニルポリシロキサン樹脂を主成分とする硬化性樹脂溶液の調整
フェニルシロキサン単位４０モル％、ジフェニルシロキサン単位２０モル％、メチルシロキサン単位２０モル％、ジメチルシロキサン単位２０％からなる１ｗｔ％のシラノール基を含むシロキサン樹脂１２ｇをトルエン１０ｇに溶解しジブチル錫ジアセテート０．２ｇを加え均一な溶液にした。
【００８２】
本発明に用いられる有機ケイ素変成電荷輸送性化合物は、例えば以下のようにして合成した。
【００８３】
（合成例３）
２，７−ビス｛４′−〔２−（トリエトキシシリル）エチル〕ジフェニルアミノ｝−９，９ジメチルフルオレンの合成
トルエン４０ｍｌ、トリエトキシシラン９．９ｇ（６０ｍｍｏｌ）及びトリス（テトラメチルジビニルジシロキサン）二白金（Ｏ）のトルエン溶液０．０１８ｍｍｏｌを三つ口フラスコに取り、室温で撹拌しながら２，７−ビス（４′−ビニルジフェニルアミノ）−９，９−ジメチルフルオレン１６ｇのトルエン溶液２０ｍｌを滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間撹拌を行った後、溶媒を減圧下で除き、淡黄色油状の２，７−ビス｛４′−〔２−（トリエトキシシリル）エチル〕ジフェニルアミノ｝−９，９−ジメチルフルオレンを得た。収量は２１．８ｇであった。
【００８４】
（合成例４）
Ｎ，Ｎ′−ビス｛４−〔２−（メチルジメトキシシシリル）エチル〕フェニル｝−Ｎ，Ｎ′−ビス−（フェニル）−ベンジジンの合成
トルエン４０ｍｌ、メチルジメトキシシラン４．０ｇ（３８ｍｍｏｌ）及びジクロロ（ｈ−シクロオクタ−１，５−ジエン）白金（ＩＩ）０．３４ｍｍｏｌを三つ口フラスコに取り、室温で撹拌しながらＮ，Ｎ′−ビス−４−（ビニルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ビス−（フェニル）−ベンジジン１５．７ｇのトルエン溶液２０ｍｌを滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間撹拌を行った後、溶媒を減圧下で除去し、淡黄色油状のＮ，Ｎ′−ビス｛４−〔２−（メチルジメトキシシシリル）エチル〕フェニル｝−Ｎ．Ｎ′−ビス−（フェニル）−ベンジジンを得た。収量は１６．８ｇであった。
【００８５】
（実施例１）
引き抜き加工により得られた外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、フェノール樹脂（商品名　プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部及び平均粒径２μｍのシリコーン樹脂粒子３部を分散したものを浸漬コーティング法により塗工し、乾燥後の膜厚が１５μｍの導電層を形成した。
【００８６】
上記導電層上にアルコール可溶性共重合ナイロン（商品名　アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が０．５μｍの下引層を形成した。
【００８７】
次に、電荷発生層用分散液としてＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２゜）の９．０゜、１４．２゜、２３．９゜及び２７．９゜に強いピークを有するオキシチタニルフタロシアニン顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２時間分散した。
【００８８】
この分散液を先に形成した下引層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【００８９】
ついで、合成例３で合成した有機ケイ素変成トリアリールアミン化合物３０部と合成例１のシリコーン系熱硬化樹脂１０部をトルエン１００部をトルエン１００部に加え溶解したものを前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により塗工した。１２０℃で３時間乾燥、熱硬化して電荷輸送層の膜厚１２μｍの透明で均一な電荷輸送層を作成した。
【００９０】
この電子写真感光体を−５００Ｖに帯電し、波長６８０ｎｍの光を用いて電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２（−２５０Ｖまで帯電電位が減少するために必要な露光量）が０．１８Ｊ／ｃｍ^２、残留電位が−２０Ｖと非常に良好であった。
【００９１】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＬＢＰ−８ＩＶの改造機（（１／ｅ^２）を副走査方向で６３．５μｍ、主走査方向で２０μｍの照射スポット径となるように改造）を用い初期帯電−５００Ｖに設定して画像評価を行ったところ、４０００枚の耐久試験後においても画像の劣化がなく、６００ｄｐｉ相当の入力信号においてのハイライト部の１画素再現性も十分であった。
【００９２】
（比較例１）
実施例１と同様にして、電荷発生層まで形成した。次いで、下記のトリアリールアミン化合物６部と、
【外８】

【００９３】
ポリカーボネート樹脂（商品名Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）６部をクロロベンゼン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を実施例２の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により塗工することによって、乾燥後の膜厚が１２μｍの電荷輸送層を形成した。この電子写真感光体を−５００Ｖに帯電し、波長６８０ｎｍの光を用いて電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２（−２５０Ｖまで帯電電位が減少するために必要な露光量）が０．３２Ｊ／ｃｍ^２、残留電位が−９６Ｖと大きかった。
【００９４】
本電子写真感光体をキヤノン製レーザービームプリンタＬＢＰ−８ＩＶの改造機（（１／ｅ^２）を副走査方向で６３．５μｍ、主走査方向で２０μｍの照射スポット径となるように改造）を用い初期帯電−５００Ｖに設定して画像評価を行ったところ、５０００枚の耐久試験後は干渉縞及び黒ポチが認められ、６００ｄｐｉ相当の入力信号においてのハイライト部の１画素再現性も不十分でむらがあった。
【００９５】
（実施例２）
実施例１と同様のアルミニウムシリンダー上に、フェノール樹脂（商品名　プライオーフェン、大日本インキ化学工業（株）製）１６７部をメチルセロソルブ１００部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子（１次粒径５０ｎｍ）２００部を分散したものを浸漬コーティング法により、乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように塗工した。この導電性支持体に実施例２と同様にして膜厚１μｍの下引層及び膜厚０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【００９６】
ついで、合成例４で合成した有機ケイ素変成トリアリールアミン化合物３０部と合成例２のシリコーン系熱硬化樹脂１０部をトルエン１００部に加え溶解したものを前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により塗工した。１２０℃で３時間乾燥、熱硬化して電荷輸送層の膜厚１２μｍの透明で均一な電荷輸送層を作成した。
【００９７】
この電子写真感光体を−５００Ｖに帯電し、波長６８０ｎｍの光を用いて電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２（−２５０Ｖまで帯電電位が減少するために必要な露光量）が０．１７Ｊ／ｃｍ^２、残留電位−１８Ｖと非常に良好であった。
【００９８】
本電子写真感光体を実施例２と同様のキヤノン製レーザービームプリンタを用い初期帯電−５００Ｖに設定して画像評価を行ったところ、５０００枚の耐久試験後においても画像の劣化がなく、６００ｄｐｉ相当の入力信号においてのハイライト部の１画素再現性も十分であった。
【００９９】
（実施例３）
外径８０ｍｍのアルミニウムシリンダー上に、１０％の酸化アンチモンを含有する酸化スズで被覆した導電性酸化チタン粉末５０部、フェノール樹脂２５部、メチルセロソルブ３０部、メタノール３０部及びシリコーンオイル（ポリメチルシロキサンポリオキシアルキレン共重合体、重量平均分子量３０００）０．００２部を１φｍｍガラスビーズを用いたサンドミル装置で２時間分散して調整した導電層用塗料を浸漬塗布し、１４０℃で３０分間乾燥して膜厚２０μｍの導電層を形成した。
【０１００】
次に、アルコール可溶性共重合ナイロン（商品名　アミランＣＭ−８０００、東レ（株）製）５部をメタノール９５部に溶解した溶液を浸漬コーティング法により塗工した。８０℃で１０分間乾燥して、膜厚が１μｍの下引層を形成した。
【０１０１】
次に、電荷発生層として下記のビスアゾ顔料５部をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール（ベンザール化度７５％以上）２部を溶解した液に加え、サンドミルで２０時間分散した。この分散液を先に形成した下引層の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるように浸漬コーティング法で塗工した。
【外９】

【０１０２】
ついで、合成例３で合成した有機ケイ素変成トリアリールアミン化合物３０部と合成例１のシリコーン系熱硬化樹脂１０部をトルエン１００部に加え溶解したものを前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により塗工した。１５０℃で３時間乾燥、熱硬化して電荷輸送層の膜厚１２μｍの透明で均一な電荷輸送層を作成した。
【０１０３】
この電子写真感光体を−５００Ｖに帯電し、波長６８０ｎｍの光で電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２（−２５０Ｖまで帯電電位が減少するために必要な露光量）が０．６Ｊ／ｃｍ^２、残留電位が−１２Ｖと非常に良好であった。
【０１０４】
本電子写真感光体をキヤノン製デジタルフルカラー複写機ＣＬＣ−５００を副走査方向で６３．５μｍ、主走査方向で２０μｍの照射スポット径となるように改造した評価機にて初期帯電−５００Ｖに設定して画像評価を行ったところ、初期及び１０万枚耐久試験後も黒ポチ等の電荷注入及び干渉縞もなく、均一性の優れた画像出力が得られ、階調再現性も４００ｄｐｉで２５６階調ときわめて良好であった。
【０１０５】
（比較例２）
実施例３と同様にして、電荷発生層まで形成した。
【０１０６】
次いで、下記のトリアリールアミン化合物６部と、
【外１０】

【０１０７】
ポリカーボネート樹脂（商品名Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）６部をクロロベンゼン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を実施例２の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により塗工することによって、乾燥後の膜厚が１２μｍの電荷輸送層を形成した。この電子写真感光体を−５００Ｖに帯電し、波長６８０ｎｍの光を用いて電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２（−２５０Ｖまで帯電電位が減少するために必要な露光量）が１．５Ｊ／ｃｍ^２、残留電位が−４８Ｖと大きかった。
【０１０８】
本電子写真感光体を実施例３と同様に画像評価したところ、２万枚の耐久試験後に黒ポチ等が大量に発生したために良好な画像は得られなかった。
【０１０９】
（実施例４）
実施例２と同様にして、電荷発生層まで形成した。
【０１１０】
ついで、合成例３で合成した有機ケイ素変成トリアリールアミン化合物３０部と合成例１のシリコーン系熱硬化樹脂１０部をトルエン１００部に加え溶解したものを前記の電荷発生層の上に浸漬コーティング法により塗工した。１５０℃で３時間乾燥、熱硬化して電荷輸送層の膜厚１２μｍの透明で均一な電荷輸送層を作成した。
【０１１１】
この電子写真感光体を−５００Ｖに帯電し、波長６８０ｎｍの光を用いて電子写真特性を測定したところ、Ｅ１／２（−２５０Ｖまで帯電電位が減少するために必要な露光量）が０．５５Ｊ／ｃｍ^２、残留電位−１０Ｖと非常に良好であった。
【０１１２】
本電子写真感光体をキヤノン製デジタルフルカラー複写機ＣＬＣ−５００を副走査方向で６３．５μｍ、主走査方向で２０μｍの照射スポット径となるように改造した評価機にて初期帯電−５００Ｖに設定して画像評価を行ったところ、初期及び１０万枚耐久試験後も黒ポチ等の電荷注入及び干渉縞もなく、均一性の優れた画像出力が得られ、階調再現性も４００ｄｐｉで２５６階調ときわめて良好であった。
【０１１３】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、光散乱やブリードがなく、均一な状態の光導電層であって低表面エネルギーと機械的、電気的耐久性を両立した高感度かつ低残留電位の電子写真感光体、及び該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】光の強度分布、スポット径及び光のスポット面積と感光層の厚さの積の関係を示す図である。
【図２】本発明の画像形成装置の第１の例の概略構成を示す図である。
【図３】本発明の画像形成装置の第２の例の概略構成を示す図である。

Claims

支持体上に感光層を有する電子写真感光体において該電子写真感光体の感光層が硬化性有機ケイ素系高分子及び下記一般式（１）
【外１】

（Ａは窒素原子を２つ以上含有する正孔輸送性基を示し、Ｑは加水分解性基または水酸基を示し、Ｒ^２は置換もしくは無置換の一価炭化水素基を示し、Ｒ^３は置換もしくは無置換のアルキレン基またはアリーレン基を示し、ｍは１〜３の整数を示し、ｌは正の整数を示す。）
で示される有機ケイ素変成正孔輸送性化合物を硬化することによって得られる樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
Ｒ^２が炭素数１〜１５の一価炭化水素基またはハロゲン置換一価炭化水素基であり、Ｒ^３が−（ＣＨ_２）ｎ−（ｎは１〜１８の整数）で示され、ｌが１〜５の整数である請求項１記載の電子写真感光体。
Ｑが−ＯＲ^１（Ｒ^１はアルキル基またはアルコキシアルキル基を示す。）で示される請求項１または２記載の電子写真感光体。
Ｒ^１の炭素数が１〜６である請求項３記載の電子写真感光体。
Ａが下記式（２）
【外２】

（Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は有機基であり、そのうちの少なくとも１つは芳香族炭化水素環基または複素環基を示し、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^８は芳香族炭化水素環基をしめす。）
で示される請求項１乃至４のいずれかに記載の電子写真感光体。
硬化性有機ケイ素高分子が下記式（３）
Ｒ^７ _ｒＳｉＯ_{（４−ｒ−ｓ）／２}（ＯＲ^８）_ｓ　　　　　（３）
（Ｒ^７は直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を示し、Ｒ^８は水素原子またはアルキル基を示し、ｒ及びｓはモル比を示す。）
で示される請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体。
ｒが平均０．５〜１．５であり、ｓが平均０．０１〜１．５である請求項６記載の電子写真感光体。
で示される請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体。
感光層が一般式（１）で示される有機ケイ素変成正孔輸送性化合物を重合することによって得られる樹脂を含有する電荷輸送層と電荷発生層の少なくとも２層からなる請求項１乃至５のいずれかに記載の電子写真感光体。
請求項５記載の電子写真感光体において、該電荷発生層がオキシチタニルフタロシアニンを含有する請求項６記載の電子写真感光体。
前記オキシチタニルフタロシアニンがＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）において、９．０°、１４．２°、２３．９°及び２７．１°に特徴的なピークを有する結晶形である請求項７記載の電子写真感光体。
電子写真感光体、及び帯電手段、現像手段及びクリーニング手段からなる群より選ばれる少なくともひとつの手段を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジにおいて、該電子写真感光体が支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の感光層が硬化性有機ケイ素系高分子及び一般式（１）で示される有機ケイ素変成正孔輸送性化合物を硬化することによって得られる樹脂を含有することを特徴とするプロセスカートリッジ。
電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有する画像形成装置において、該電子写真感光体が支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、該電子写真感光体の感光層が硬化性有機ケイ素系高分子及び一般式（１）で示される有機ケイ素変成正孔輸送性化合物を硬化することによって得られる樹脂を含有することを特徴とする画像形成装置。