JP2001255684A - 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ - Google Patents
電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジInfo
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- JP2001255684A JP2001255684A JP2000068544A JP2000068544A JP2001255684A JP 2001255684 A JP2001255684 A JP 2001255684A JP 2000068544 A JP2000068544 A JP 2000068544A JP 2000068544 A JP2000068544 A JP 2000068544A JP 2001255684 A JP2001255684 A JP 2001255684A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は表面硬度、耐摩耗性が高く、繰り返
し使用時の電子写真特性が高温高湿下でも安定な感光体
を提供することであり、且つ感光体のクリーニング手段
として、クリーニングブレードを用いても、ブレードめ
くれ等を発生させない前記感光体を用いた画像形成方
法、画像形成装置、及び該画像形成装置に用いられるプ
ロセスカートリッジを提供することにある。 【解決手段】 導電性支持体上に複数の樹脂層を有する
電子写真感光体において、該樹脂層の少なくとも1つが
電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂
とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子
を含有する樹脂層であることを特徴とする電子写真感光
体。
し使用時の電子写真特性が高温高湿下でも安定な感光体
を提供することであり、且つ感光体のクリーニング手段
として、クリーニングブレードを用いても、ブレードめ
くれ等を発生させない前記感光体を用いた画像形成方
法、画像形成装置、及び該画像形成装置に用いられるプ
ロセスカートリッジを提供することにある。 【解決手段】 導電性支持体上に複数の樹脂層を有する
電子写真感光体において、該樹脂層の少なくとも1つが
電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂
とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子
を含有する樹脂層であることを特徴とする電子写真感光
体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体と該
電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、
及びプロセスカートリッジに関するものである。
電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、
及びプロセスカートリッジに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子写真感光体には有機感光体が
広く用いられている。有機感光体は可視光から赤外光ま
で各種露光光源に対応した材料が開発しやすいこと、環
境汚染のない材料を選択できること、製造コストが安い
事など他の感光体に対して有利な点があるが、欠点とし
ては機械的強度が弱く、多数枚のプリント時に感光体表
面の劣化や傷の発生がある。
広く用いられている。有機感光体は可視光から赤外光ま
で各種露光光源に対応した材料が開発しやすいこと、環
境汚染のない材料を選択できること、製造コストが安い
事など他の感光体に対して有利な点があるが、欠点とし
ては機械的強度が弱く、多数枚のプリント時に感光体表
面の劣化や傷の発生がある。
【0003】電子写真感光体(以下単に感光体とも云
う)の表面には帯電器、現像器、転写手段およびクリー
ニング器などにより電気的、機械的な外力が直接加えら
れるため、それらに対する耐久性が要求される。
う)の表面には帯電器、現像器、転写手段およびクリー
ニング器などにより電気的、機械的な外力が直接加えら
れるため、それらに対する耐久性が要求される。
【0004】具体的には摩擦による感光体表面の摩耗や
傷の発生、コロナ帯電時に発生するオゾン等の活性酸
素、チッソ酸化物などによる表面の劣化などに対する耐
久性が要求される。
傷の発生、コロナ帯電時に発生するオゾン等の活性酸
素、チッソ酸化物などによる表面の劣化などに対する耐
久性が要求される。
【0005】従来、有機感光体の耐久性を向上するため
の課題としてクリーニングブレード等の擦過による摩耗
を抑制することが強く求められてきた。そのためのアプ
ローチとして、感光体の表面に高強度の保護層を設置す
るなどの技術が検討されてきた。例えば特開平9−19
0004号公報や特開平10−251277号公報には
強度的に優れるシロキサン樹脂を保護層に用いた感光体
が記載されている。しかしながらシロキサン樹脂を用い
た保護層は、特に高温高湿下環境でのクリーニングブレ
ードにかかるトルクが大きく、ブレードめくれ(感光体
の回転方向に対しカウンター方向に当接されているブレ
ード先端が感光体の回転方向に反転する現象を云う)が
起こりやすい問題があった。
の課題としてクリーニングブレード等の擦過による摩耗
を抑制することが強く求められてきた。そのためのアプ
ローチとして、感光体の表面に高強度の保護層を設置す
るなどの技術が検討されてきた。例えば特開平9−19
0004号公報や特開平10−251277号公報には
強度的に優れるシロキサン樹脂を保護層に用いた感光体
が記載されている。しかしながらシロキサン樹脂を用い
た保護層は、特に高温高湿下環境でのクリーニングブレ
ードにかかるトルクが大きく、ブレードめくれ(感光体
の回転方向に対しカウンター方向に当接されているブレ
ード先端が感光体の回転方向に反転する現象を云う)が
起こりやすい問題があった。
【0006】ブレードめくれを防止するためには保護層
の表面エネルギーを低減させクリーニングブレードとの
摩擦力を低減させることが有効である。例えば特開平1
0−83094号公報には水との接触角が90°以上の
表面エネルギーの小さい保護層を用いる方法が記載され
ている。しかしながらブレードトルクは化学的親和力の
みならず、保護層の粘弾性特性に起因する要素も存在
し、表面エネルギーの低減のみでは解決できないことが
明らかとなった。
の表面エネルギーを低減させクリーニングブレードとの
摩擦力を低減させることが有効である。例えば特開平1
0−83094号公報には水との接触角が90°以上の
表面エネルギーの小さい保護層を用いる方法が記載され
ている。しかしながらブレードトルクは化学的親和力の
みならず、保護層の粘弾性特性に起因する要素も存在
し、表面エネルギーの低減のみでは解決できないことが
明らかとなった。
【0007】また、シロキサン樹脂にコロイダルシリカ
を併用する技術も検討されてきたが、有効なブレードト
ルクの低減には至らず、逆にコロイダルシリカは粒子自
身の内部表面積が大きいこと、水分子との親和性の高い
極性基が多く含まれているため高温高湿下で画像流れが
起こりやすいといった問題がある。
を併用する技術も検討されてきたが、有効なブレードト
ルクの低減には至らず、逆にコロイダルシリカは粒子自
身の内部表面積が大きいこと、水分子との親和性の高い
極性基が多く含まれているため高温高湿下で画像流れが
起こりやすいといった問題がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題点を解決することにあり、表面硬度、耐摩耗性が
高く、繰り返し使用時の電子写真特性が高温高湿下でも
安定な感光体を提供することであり、且つ感光体のクリ
ーニング手段として、クリーニングブレードを用いて
も、ブレードめくれ等を発生させない前記感光体を用い
た画像形成方法、画像形成装置、及び該画像形成装置に
用いられるプロセスカートリッジを提供することにあ
る。
の問題点を解決することにあり、表面硬度、耐摩耗性が
高く、繰り返し使用時の電子写真特性が高温高湿下でも
安定な感光体を提供することであり、且つ感光体のクリ
ーニング手段として、クリーニングブレードを用いて
も、ブレードめくれ等を発生させない前記感光体を用い
た画像形成方法、画像形成装置、及び該画像形成装置に
用いられるプロセスカートリッジを提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記問題
解決のため鋭意努力した結果、本発明の目的は、下記構
成の何れかをとることにより達成されることが判明し
た。
解決のため鋭意努力した結果、本発明の目的は、下記構
成の何れかをとることにより達成されることが判明し
た。
【0010】1.導電性支持体上に複数の樹脂層を有す
る電子写真感光体において、該樹脂層の少なくとも1つ
が電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹
脂とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒
子を含有する樹脂層であることを特徴とする電子写真感
光体。
る電子写真感光体において、該樹脂層の少なくとも1つ
が電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹
脂とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒
子を含有する樹脂層であることを特徴とする電子写真感
光体。
【0011】2.前記電荷輸送性能を有する構造単位を
有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂が水酸
基、或いは加水分解性基を有する有機ケイ素化合物と、
前記一般式(1)で示される化合物とを反応させて得ら
れるシロキサン系樹脂であることを特徴とする前記1に
記載の電子写真感光体。
有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂が水酸
基、或いは加水分解性基を有する有機ケイ素化合物と、
前記一般式(1)で示される化合物とを反応させて得ら
れるシロキサン系樹脂であることを特徴とする前記1に
記載の電子写真感光体。
【0012】3.前記一般式(1)中のZが酸素原子で
あることを特徴とする前記2に記載の電子写真感光体。
あることを特徴とする前記2に記載の電子写真感光体。
【0013】4.前記有機ケイ素化合物が前記一般式
(2)及び(3)で表される化合物若しくはこれらの加
水分解生成物であることを特徴とする前記2又は3に記
載の電子写真感光体。
(2)及び(3)で表される化合物若しくはこれらの加
水分解生成物であることを特徴とする前記2又は3に記
載の電子写真感光体。
【0014】5.前記電荷輸送性能を有する構造単位を
含むシロキサン系樹脂が前記一般式(4)で表される構
造を含むことを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に
記載の電子写真感光体。
含むシロキサン系樹脂が前記一般式(4)で表される構
造を含むことを特徴とする前記1〜4のいずれか1項に
記載の電子写真感光体。
【0015】6.前記電荷輸送性能を有する構造単位を
含むシロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子
を含む金属酸化物粒子を含有する樹脂層が酸化防止剤を
含有することを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に
記載の電子写真感光体。
含むシロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子
を含む金属酸化物粒子を含有する樹脂層が酸化防止剤を
含有することを特徴とする前記1〜5のいずれか1項に
記載の電子写真感光体。
【0016】7.前記電荷輸送性能を有する構造単位を
含むシロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子
を含む金属酸化物粒子を含有する樹脂層が該感光体の保
護層であることを特徴とする前記1〜6のいずれか1項
に記載の電子写真感光体。
含むシロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子
を含む金属酸化物粒子を含有する樹脂層が該感光体の保
護層であることを特徴とする前記1〜6のいずれか1項
に記載の電子写真感光体。
【0017】8.前記導電性支持体と前記保護層の間に
中間層、感光層を有することを特徴とする前記7に記載
の電子写真感光体。
中間層、感光層を有することを特徴とする前記7に記載
の電子写真感光体。
【0018】9.前記感光層がチタニルフタロシアニン
を含有することを特徴とする前記8に記載の電子写真感
光体。
を含有することを特徴とする前記8に記載の電子写真感
光体。
【0019】10.電子写真感光体上に、少なくとも帯
電、像露光、現像、クリーニングを行う工程を有する画
像形成方法において、該電子写真感光体に前記1〜9の
いずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特
徴とする画像形成方法。
電、像露光、現像、クリーニングを行う工程を有する画
像形成方法において、該電子写真感光体に前記1〜9の
いずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特
徴とする画像形成方法。
【0020】11.電子写真感光体と、少なくとも帯
電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形
成方法において、該電子写真感光体に前記1〜9のいず
れか1項に記載の電子写真感光体を用い、該クリーニン
グ工程がクリーニングブレードを用いており、且つ該電
子写真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像
形成することを特徴とする画像形成方法。
電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形
成方法において、該電子写真感光体に前記1〜9のいず
れか1項に記載の電子写真感光体を用い、該クリーニン
グ工程がクリーニングブレードを用いており、且つ該電
子写真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像
形成することを特徴とする画像形成方法。
【0021】12.前記電子写真感光体の表面に供給さ
れる脂肪酸金属塩が現像剤に含有されていることを特徴
とする前記11に記載の画像形成方法。
れる脂肪酸金属塩が現像剤に含有されていることを特徴
とする前記11に記載の画像形成方法。
【0022】13.電子写真感光体と、少なくとも帯
電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形
成装置において、該電子写真感光体に前記1〜9のいず
れか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴と
する画像形成装置。
電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形
成装置において、該電子写真感光体に前記1〜9のいず
れか1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴と
する画像形成装置。
【0023】14.電子写真感光体と、少なくとも帯
電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形
成装置において、該電子写真感光体に前記1〜9のいず
れか1項に記載の電子写真感光体を用い、該クリーニン
グ手段がクリーニングブレードを用いており、且つ該電
子写真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像
形成することを特徴とする画像形成装置。
電、像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形
成装置において、該電子写真感光体に前記1〜9のいず
れか1項に記載の電子写真感光体を用い、該クリーニン
グ手段がクリーニングブレードを用いており、且つ該電
子写真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像
形成することを特徴とする画像形成装置。
【0024】15.前記電子写真感光体の表面に供給さ
れる脂肪酸金属塩が現像手段に含有されていることを特
徴とする前記14に記載の画像形成装置。
れる脂肪酸金属塩が現像手段に含有されていることを特
徴とする前記14に記載の画像形成装置。
【0025】16.電子写真感光体と少なくとも帯電、
像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形成装
置に用いられるプロセスカートリッジが前記1〜9のい
ずれか1項に記載の電子写真感光体と帯電器、像露光
器、現像器、クリーニング器のいずれか1つとを一体に
組み合わせて有しており、該画像形成装置に出し入れ自
由に設計されていることを特徴とするプロセスカートリ
ッジ。
像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形成装
置に用いられるプロセスカートリッジが前記1〜9のい
ずれか1項に記載の電子写真感光体と帯電器、像露光
器、現像器、クリーニング器のいずれか1つとを一体に
組み合わせて有しており、該画像形成装置に出し入れ自
由に設計されていることを特徴とするプロセスカートリ
ッジ。
【0026】本発明者らは、感光体の表面保護層とし
て、電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系
樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物
粒子を含有する樹脂層を感光層の上に設けることによ
り、本発明の目的を達成する感光体が得られること見い
だし、本発明に至った。
て、電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系
樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物
粒子を含有する樹脂層を感光層の上に設けることによ
り、本発明の目的を達成する感光体が得られること見い
だし、本発明に至った。
【0027】以下、本発明の詳細について説明する。本
発明の樹脂層(電荷輸送性能を有する構造単位を含むシ
ロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子を含む
金属酸化物粒子を含有する樹脂層) 本発明の樹脂層は電荷輸送性能を有する構造単位を含む
シロキサン系樹脂層の中に、ケイ素原子とは異なる金属
原子を含む金属酸化物粒子を該シロキサン系樹脂層中に
分散させた構造を有する。該シロキサン系樹脂は下記に
詳述する硬化性有機ケイ素化合物等と該有機ケイ素化合
物と反応性を有する反応性電荷輸送性化合物との組成物
を塗布乾燥する事により得ることができる。
発明の樹脂層(電荷輸送性能を有する構造単位を含むシ
ロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子を含む
金属酸化物粒子を含有する樹脂層) 本発明の樹脂層は電荷輸送性能を有する構造単位を含む
シロキサン系樹脂層の中に、ケイ素原子とは異なる金属
原子を含む金属酸化物粒子を該シロキサン系樹脂層中に
分散させた構造を有する。該シロキサン系樹脂は下記に
詳述する硬化性有機ケイ素化合物等と該有機ケイ素化合
物と反応性を有する反応性電荷輸送性化合物との組成物
を塗布乾燥する事により得ることができる。
【0028】前記硬化性有機ケイ素化合物は代表的には
下記一般式(5)で表される有機ケイ素化合物を原料と
した塗布組成物を塗布乾燥することにより形成される。
これらの原料は親水性溶媒中では加水分解とその後に生
じる縮合反応により、溶媒中で有機ケイ素化合物の縮合
物(オリゴマー)を形成する。これら塗布組成物を塗
布、乾燥することにより、3次元網目構造を形成したシ
ロキサン系樹脂を含有する樹脂層を形成することができ
る。
下記一般式(5)で表される有機ケイ素化合物を原料と
した塗布組成物を塗布乾燥することにより形成される。
これらの原料は親水性溶媒中では加水分解とその後に生
じる縮合反応により、溶媒中で有機ケイ素化合物の縮合
物(オリゴマー)を形成する。これら塗布組成物を塗
布、乾燥することにより、3次元網目構造を形成したシ
ロキサン系樹脂を含有する樹脂層を形成することができ
る。
【0029】 一般式(5) (R)n−Si−(X)4-n 式中、Siはケイ素原子、Rは該ケイ素原子に炭素が直
接結合した形の有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解
性基を表し、nは0〜3の整数を表す。
接結合した形の有機基を表し、Xは水酸基又は加水分解
性基を表し、nは0〜3の整数を表す。
【0030】一般式(5)で表される有機ケイ素化合物
において、Rで示されるケイ素に炭素が直接結合した形
の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル
等のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチル、ビフェ
ニル等のアリール基、γ−グリシドキシプロピル、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル等の含エポ
キシ基、γ−アクリロキシプロピル、γ−メタアクリロ
キシプロピルの含(メタ)アクリロイル基、γ−ヒドロ
キシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピルオキシプ
ロピル等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル
基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基、γ−
アミノプロピル、N−β(アミノエチル)−γ−アミノ
プロピル等の含アミノ基、γ−クロロプロピル、1,
1,1−トリフロオロプロピル、ノナフルオロヘキシ
ル、パーフルオロオクチルエチル等の含ハロゲン基、そ
の他ニトロ、シアノ置換アルキル基を挙げられる。特に
はメチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキル基が
好ましい。又Xの加水分解性基としてはメトキシ、エト
キシ等のアルコキシ基、ハロゲン基、アシルオキシ基が
挙げられる。特には炭素数6以下のアルコキシ基が好ま
しい。
において、Rで示されるケイ素に炭素が直接結合した形
の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル
等のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチル、ビフェ
ニル等のアリール基、γ−グリシドキシプロピル、β−
(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル等の含エポ
キシ基、γ−アクリロキシプロピル、γ−メタアクリロ
キシプロピルの含(メタ)アクリロイル基、γ−ヒドロ
キシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピルオキシプ
ロピル等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル
基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基、γ−
アミノプロピル、N−β(アミノエチル)−γ−アミノ
プロピル等の含アミノ基、γ−クロロプロピル、1,
1,1−トリフロオロプロピル、ノナフルオロヘキシ
ル、パーフルオロオクチルエチル等の含ハロゲン基、そ
の他ニトロ、シアノ置換アルキル基を挙げられる。特に
はメチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキル基が
好ましい。又Xの加水分解性基としてはメトキシ、エト
キシ等のアルコキシ基、ハロゲン基、アシルオキシ基が
挙げられる。特には炭素数6以下のアルコキシ基が好ま
しい。
【0031】又前記一般式(5)で表される有機ケイ素
化合物の中でもは、前記一般式(2)及び一般式(3)
で表される有機ケイ素化合物若しくはこれらの加水分解
生成物、或いは該加水分解生成物から得られる縮合物を
使用することが好ましい。前記一般式(2)及び一般式
(3)で表される有機ケイ素化合物若しくはこれらの加
水分解生成物、或いは該加水分解生成物から得られる縮
合物を使用してえられた本発明のシロキサン系樹脂層は
弾性と剛性を備えたシロキサン系樹脂層を形成すること
ができる。
化合物の中でもは、前記一般式(2)及び一般式(3)
で表される有機ケイ素化合物若しくはこれらの加水分解
生成物、或いは該加水分解生成物から得られる縮合物を
使用することが好ましい。前記一般式(2)及び一般式
(3)で表される有機ケイ素化合物若しくはこれらの加
水分解生成物、或いは該加水分解生成物から得られる縮
合物を使用してえられた本発明のシロキサン系樹脂層は
弾性と剛性を備えたシロキサン系樹脂層を形成すること
ができる。
【0032】前記一般式(2)の有機ケイ素化合物の具
体例としては下記の化合物が挙げられる。即ち、トリク
ロロシラン、クロロメチルトリクロロシラン、メチルト
リクロロシラン、1,2−ジブロモエチルトリクロロシ
ラン、ビニルトリクロロシラン、1,2−ジクロロエチ
ルトリクロロシラン、1−クロロエチルトリクロロシラ
ン、2−クロロエチルトリクロロシラン、エチルトリク
ロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリク
ロロシラン、2−シアノエチルトリクロロシラン、アリ
ルトリクロロシラン、3−ブロモプロピルトリクロロシ
ラン、クロロメチルトリメトキシシラン、3−クロロプ
ロピルトリクロロシラン、n−プロピルトリクロロシラ
ン、エトキシメチルジクロロシラン、ジメトキシメチル
クロロシラン、トリメトキシシラン、3−シアノプロピ
ルトリクロロシラン、n−ブチルトリクロロシラン、イ
ソブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシ
シラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチル
トリメトキシシラン、ペンチルトリクロロシラン、トリ
メトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、
3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘ
キシルトリクロロシラン、4−クロロフェニルクロロシ
ラン、フェニルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリ
クロロシラン、ヘキシルトリクロロシラン、トリス(2
−クロロエトキシ)シラン、3、3、3−トリフルオロ
プロピルトリメトキシシラン、2−シアノエチルトリメ
トキシシラン、トリエトキシクロロシラン、3−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、3
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、2−アミノエチルアミノ
メチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラ
ン、p−トリルトリクロロシラン、6−トリクロロシリ
ル−2−ノルボルネン、2−トリクロロシリルノルボル
ネン、メチルトリアセトキシシラン、ヘプチルトリクロ
ロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、ブチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチル
トリス(2−アミノエトキシ)シラン、β−フェネチル
トリクロロシラン、トリアセトキシビニルシラン、2−
(4−シクロヘキシルエチル)トリクロロシラン、エチ
ルトリアセトキシシラン、3−トリフルオロアセトキシ
プロピルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラ
ン、トリエトキシビニルシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)トリメ
トキシシラン、クロロメチルフェニルエチルトリクロロ
シラン、2−フェニルプロピルトリクロロシラン、4−
クロロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、ノニルトリクロロシラン、2−シアノエチ
ルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3
−アリルチオプロピルトリメトキシシラン、3−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、3−ブロモプロピ
ルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキ
シシラン、3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、メ
チルトリイソプロペノキシシラン、3−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、デシルトリクロロシラ
ン、ビス(エチルメチルケトオキシム)メトキシメチル
シラン、3−モルフォリノプロピルトリメトキシシラ
ン、3−ピペラジノプロピルトリメトキシシラン、メチ
ルトリプロポキシシラン、メチルトリス(2−メトキシ
エトキシシラン)、2−(2−アミノエチルチオエチ
ル)トリエトキシシラン、3−[2−(2−アミノエチ
ルアミノエチルアミノ)プロピル]トリエトキシシラ
ン、トリス(1−メチルビニロキシ)ビニルシラン、2
−(3,4−エポキシシクロヘキシルエチル)トリメト
キシシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、トリス
(2−メトキシエトキシ)ビニルシラン、ジイソプロポ
キシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、3−ピペ
リジノプロピルトリメトキシシラン、ペンチルトリエト
キシシラン、4−クロロフェニルトリエトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ビス(エチルメチルケト
オキシム)メチルイソプロポキシシラン、ビス(エチル
メチルケトオキシム)−2−メトキシエトキシメチルシ
ラン、3−(2−メチルピペリジノプロピル)トリメト
キシシラン、3−シクロヘキシルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、O,O′−ジエチルS−(2−トリエト
キシシリルエチル)ジチオフォスフェート、ベンジルト
リエトキシシラン、6−トリエトキシシリル−2−ノル
ボルネン、3−ベンジルアミノプロピルトリメトキシシ
ラン、メチルトリス(エチルメチルケトオキシム)シラ
ン、ビス(エチルメチルケトオキシム)ブトキシメチル
シラン、メチルトリス(N,N−ジエチルアミノキシ)
シラン、テトラデシルトリクロロシラン、オクチルトリ
エトキシシラン、フェニルトリス(2−メトキシエトキ
シ)シラン、3−(ビニルベンジルアミノプロピル)ト
リメトキシシラン、N−(3−トリエトキシシリルプロ
ピル)−p−ニトロベンズアミド、3−(ビニルベンジ
ルアミノプロピル)トリエトキシシラン、オクタデシル
トリクロロシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドコ
シルトリクロロシラン、オクタデシルトリエトキシシラ
ン、ジメチルオクタデシル−3−トリメトキシルシリル
プロピルアンモニウムクロライド、1,2−ビス(メチ
ルジクロロシリル)エタン等が挙げられる。
体例としては下記の化合物が挙げられる。即ち、トリク
ロロシラン、クロロメチルトリクロロシラン、メチルト
リクロロシラン、1,2−ジブロモエチルトリクロロシ
ラン、ビニルトリクロロシラン、1,2−ジクロロエチ
ルトリクロロシラン、1−クロロエチルトリクロロシラ
ン、2−クロロエチルトリクロロシラン、エチルトリク
ロロシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリク
ロロシラン、2−シアノエチルトリクロロシラン、アリ
ルトリクロロシラン、3−ブロモプロピルトリクロロシ
ラン、クロロメチルトリメトキシシラン、3−クロロプ
ロピルトリクロロシラン、n−プロピルトリクロロシラ
ン、エトキシメチルジクロロシラン、ジメトキシメチル
クロロシラン、トリメトキシシラン、3−シアノプロピ
ルトリクロロシラン、n−ブチルトリクロロシラン、イ
ソブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシ
シラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチル
トリメトキシシラン、ペンチルトリクロロシラン、トリ
メトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、
3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘ
キシルトリクロロシラン、4−クロロフェニルクロロシ
ラン、フェニルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリ
クロロシラン、ヘキシルトリクロロシラン、トリス(2
−クロロエトキシ)シラン、3、3、3−トリフルオロ
プロピルトリメトキシシラン、2−シアノエチルトリメ
トキシシラン、トリエトキシクロロシラン、3−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、3
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、2−アミノエチルアミノ
メチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラ
ン、p−トリルトリクロロシラン、6−トリクロロシリ
ル−2−ノルボルネン、2−トリクロロシリルノルボル
ネン、メチルトリアセトキシシラン、ヘプチルトリクロ
ロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、ブチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチル
トリス(2−アミノエトキシ)シラン、β−フェネチル
トリクロロシラン、トリアセトキシビニルシラン、2−
(4−シクロヘキシルエチル)トリクロロシラン、エチ
ルトリアセトキシシラン、3−トリフルオロアセトキシ
プロピルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラ
ン、トリエトキシビニルシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、3−(2−アミノエチルアミノプロピル)トリメ
トキシシラン、クロロメチルフェニルエチルトリクロロ
シラン、2−フェニルプロピルトリクロロシラン、4−
クロロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメト
キシシラン、ノニルトリクロロシラン、2−シアノエチ
ルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、3
−アリルチオプロピルトリメトキシシラン、3−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、3−ブロモプロピ
ルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキ
シシラン、3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラ
ン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、メ
チルトリイソプロペノキシシラン、3−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、デシルトリクロロシラ
ン、ビス(エチルメチルケトオキシム)メトキシメチル
シラン、3−モルフォリノプロピルトリメトキシシラ
ン、3−ピペラジノプロピルトリメトキシシラン、メチ
ルトリプロポキシシラン、メチルトリス(2−メトキシ
エトキシシラン)、2−(2−アミノエチルチオエチ
ル)トリエトキシシラン、3−[2−(2−アミノエチ
ルアミノエチルアミノ)プロピル]トリエトキシシラ
ン、トリス(1−メチルビニロキシ)ビニルシラン、2
−(3,4−エポキシシクロヘキシルエチル)トリメト
キシシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、トリス
(2−メトキシエトキシ)ビニルシラン、ジイソプロポ
キシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、3−ピペ
リジノプロピルトリメトキシシラン、ペンチルトリエト
キシシラン、4−クロロフェニルトリエトキシシラン、
フェニルトリエトキシシラン、ビス(エチルメチルケト
オキシム)メチルイソプロポキシシラン、ビス(エチル
メチルケトオキシム)−2−メトキシエトキシメチルシ
ラン、3−(2−メチルピペリジノプロピル)トリメト
キシシラン、3−シクロヘキシルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、O,O′−ジエチルS−(2−トリエト
キシシリルエチル)ジチオフォスフェート、ベンジルト
リエトキシシラン、6−トリエトキシシリル−2−ノル
ボルネン、3−ベンジルアミノプロピルトリメトキシシ
ラン、メチルトリス(エチルメチルケトオキシム)シラ
ン、ビス(エチルメチルケトオキシム)ブトキシメチル
シラン、メチルトリス(N,N−ジエチルアミノキシ)
シラン、テトラデシルトリクロロシラン、オクチルトリ
エトキシシラン、フェニルトリス(2−メトキシエトキ
シ)シラン、3−(ビニルベンジルアミノプロピル)ト
リメトキシシラン、N−(3−トリエトキシシリルプロ
ピル)−p−ニトロベンズアミド、3−(ビニルベンジ
ルアミノプロピル)トリエトキシシラン、オクタデシル
トリクロロシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドコ
シルトリクロロシラン、オクタデシルトリエトキシシラ
ン、ジメチルオクタデシル−3−トリメトキシルシリル
プロピルアンモニウムクロライド、1,2−ビス(メチ
ルジクロロシリル)エタン等が挙げられる。
【0033】前記一般式(3)の有機ケイ素化合物の具
体例としては下記の化合物が挙げられる。即ち、クロロ
メチルメチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、エチルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラ
ン、エチルメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシ
ラン、ジメトキシジメチルシラン、ジビニルジクロロシ
ラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジク
ロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、3−クロロ
プロピルメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラ
ン、メチルプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラ
ン、3−シアノプロピルメチルジクロロシラン、ブチル
メチルジクロロシラン、ビス(2−クロロエトキシ)メ
チルシラン、ジエトキシメチルシラン、フェニルジクロ
ロシラン、ジアリルジクロロシラン、ジメトキシメチル
−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、メチルペ
ンチルジクロロシラン、3−クロロプロピルジメトキシ
メチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエト
キシジメチルシラン、ジメトキシ−3−メルカプトプロ
ピルメチルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,
6−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチ
ルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニル
シラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、ヘキシ
ルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチルビニルシラ
ン、ヘキシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチル
ビニルシラン、フェニルビニルジクロロシラン、6−メ
チルジクロロシリル−2−ノルボルネン、2−メチルジ
クロロシリルノルボルネン、3−メタクリロキシプロピ
ルメチルジクロロシラン、ジエトキシジビニルシラン、
ヘプチルメチルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラ
ン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシ
シラン、3−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、
3−(2−アミノエチルアミノプロピル)ジメトキシメ
チルシラン、アリルフェニルジクロロシラン、3−クロ
ロプロピルフェニルジクロロシラン、メチル−β−フェ
ネチルジクロロシラン、ジメトキシメチルフェニルシラ
ン、2−(4−シクロヘキセニルエチル)メチルジクロ
ロシラン、メチルオクチルジクロロシラン、ジエトキシ
エチルメチルケトオキシムメチルシラン、2−(2−ア
ミノエチルチオエチル)ジエトキシメチルシラン、O,
O′−ジエチルS−(2−トリメチルシリルエチル)ジ
チオフォスフェート、O,O′−ジエチルS−(2−ト
リメトキシシリルエチル)ジチオフォスフェート、t−
ブチルフェニルジクロロシラン、3−メタクリロキシプ
ロピルジメトキシメチルシラン、3−(3−シアノプロ
ピルチオプロピル)ジメトキシメチルシラン、3−(2
−アセトキシエチルチオプロピル)ジメトキシメチルシ
ラン、ジメトキシメチル−2−ピペリジノエチルシラ
ン、ジメトキシメチル−3−ピペラジノプロピルシラ
ン、ジブトキシジメチルシラン、ジメトキシ−3−(2
−エトキシエチルチオプロピル)メチルシラン、3−ジ
メチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエチ
ル−2−トリメチルシリルメチルチオエチルフォスファ
イト、ジエトキシメチルフェニルシラン、デシルメチル
ジクロロシラン、ビス(エチルメチルケトオキシム)エ
トキシメチルシラン、ジエトキシ−3−グリシドキシプ
ロピルメチルシラン、3−(3−アセトキシプロピルチ
オ)プロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチ
ル−3−ピペリジノプロピルシラン、ジプロポキシエチ
ルメチルケトオキシムメチルシラン、ジフェニルジクロ
ロシラン、ジフェニルジフルオロシラン、ジフェニルシ
ランジオール、ジヘキシルジクロロシラン、ビス(エチ
ルメチルケトオキシム)メチルプロポキシシラン、ジメ
トキシメチル−3−(4−メチルピペリジノプロピル)
シラン、ドデシルメチルジクロロシラン、ジメトキシジ
フェニルシラン、ジメトキシフェニル−2−ピペリジノ
エトキシシラン、ジメトキシメチル−3−(3−フェノ
キシプロピルチオプロピル)シラン、ジアセトキシジフ
ェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジエトキ
シドデシルメチルシラン、メチルオクタデシルジクロロ
シラン、ジフェニルメトキシ−2−ピペリジノエトキシ
シラン、ドコシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメ
チルオクタデシルシラン等が挙げられる。
体例としては下記の化合物が挙げられる。即ち、クロロ
メチルメチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、エチルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラ
ン、エチルメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシ
ラン、ジメトキシジメチルシラン、ジビニルジクロロシ
ラン、メチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジク
ロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、3−クロロ
プロピルメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラ
ン、メチルプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラ
ン、3−シアノプロピルメチルジクロロシラン、ブチル
メチルジクロロシラン、ビス(2−クロロエトキシ)メ
チルシラン、ジエトキシメチルシラン、フェニルジクロ
ロシラン、ジアリルジクロロシラン、ジメトキシメチル
−3,3,3−トリフルオロプロピルシラン、メチルペ
ンチルジクロロシラン、3−クロロプロピルジメトキシ
メチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエト
キシジメチルシラン、ジメトキシ−3−メルカプトプロ
ピルメチルシラン、3,3,4,4,5,5,6,6,
6−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチ
ルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニル
シラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、ヘキシ
ルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチルビニルシラ
ン、ヘキシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチル
ビニルシラン、フェニルビニルジクロロシラン、6−メ
チルジクロロシリル−2−ノルボルネン、2−メチルジ
クロロシリルノルボルネン、3−メタクリロキシプロピ
ルメチルジクロロシラン、ジエトキシジビニルシラン、
ヘプチルメチルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラ
ン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシ
シラン、3−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、
3−(2−アミノエチルアミノプロピル)ジメトキシメ
チルシラン、アリルフェニルジクロロシラン、3−クロ
ロプロピルフェニルジクロロシラン、メチル−β−フェ
ネチルジクロロシラン、ジメトキシメチルフェニルシラ
ン、2−(4−シクロヘキセニルエチル)メチルジクロ
ロシラン、メチルオクチルジクロロシラン、ジエトキシ
エチルメチルケトオキシムメチルシラン、2−(2−ア
ミノエチルチオエチル)ジエトキシメチルシラン、O,
O′−ジエチルS−(2−トリメチルシリルエチル)ジ
チオフォスフェート、O,O′−ジエチルS−(2−ト
リメトキシシリルエチル)ジチオフォスフェート、t−
ブチルフェニルジクロロシラン、3−メタクリロキシプ
ロピルジメトキシメチルシラン、3−(3−シアノプロ
ピルチオプロピル)ジメトキシメチルシラン、3−(2
−アセトキシエチルチオプロピル)ジメトキシメチルシ
ラン、ジメトキシメチル−2−ピペリジノエチルシラ
ン、ジメトキシメチル−3−ピペラジノプロピルシラ
ン、ジブトキシジメチルシラン、ジメトキシ−3−(2
−エトキシエチルチオプロピル)メチルシラン、3−ジ
メチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエチ
ル−2−トリメチルシリルメチルチオエチルフォスファ
イト、ジエトキシメチルフェニルシラン、デシルメチル
ジクロロシラン、ビス(エチルメチルケトオキシム)エ
トキシメチルシラン、ジエトキシ−3−グリシドキシプ
ロピルメチルシラン、3−(3−アセトキシプロピルチ
オ)プロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチ
ル−3−ピペリジノプロピルシラン、ジプロポキシエチ
ルメチルケトオキシムメチルシラン、ジフェニルジクロ
ロシラン、ジフェニルジフルオロシラン、ジフェニルシ
ランジオール、ジヘキシルジクロロシラン、ビス(エチ
ルメチルケトオキシム)メチルプロポキシシラン、ジメ
トキシメチル−3−(4−メチルピペリジノプロピル)
シラン、ドデシルメチルジクロロシラン、ジメトキシジ
フェニルシラン、ジメトキシフェニル−2−ピペリジノ
エトキシシラン、ジメトキシメチル−3−(3−フェノ
キシプロピルチオプロピル)シラン、ジアセトキシジフ
ェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジエトキ
シドデシルメチルシラン、メチルオクタデシルジクロロ
シラン、ジフェニルメトキシ−2−ピペリジノエトキシ
シラン、ドコシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメ
チルオクタデシルシラン等が挙げられる。
【0034】前記シロキサン系樹脂層は更に、前記一般
式(1)で示された化合物が前記有機ケイ素化合物又は
該縮合物等との縮合反応により、電荷輸送性を有する構
造単位を含むシロキサン系樹脂を含む樹脂層に改質する
事により、該樹脂層の残留電位上昇を小さく抑えること
ができる。
式(1)で示された化合物が前記有機ケイ素化合物又は
該縮合物等との縮合反応により、電荷輸送性を有する構
造単位を含むシロキサン系樹脂を含む樹脂層に改質する
事により、該樹脂層の残留電位上昇を小さく抑えること
ができる。
【0035】一般式(1)のBは電荷輸送性化合物構造
を含む1価以上の基である。ここでBが電荷輸送性化合
物構造を含むとは、一般式(1)中の(R1−ZH)基
を除いた化合物構造が電荷輸送性能を有しているか、又
は前記一般式(1)中の(R 1−ZH)基を水素原子で
置換したBHの化合物が電荷輸送性能を有する事を意味
する。
を含む1価以上の基である。ここでBが電荷輸送性化合
物構造を含むとは、一般式(1)中の(R1−ZH)基
を除いた化合物構造が電荷輸送性能を有しているか、又
は前記一般式(1)中の(R 1−ZH)基を水素原子で
置換したBHの化合物が電荷輸送性能を有する事を意味
する。
【0036】尚、前記の電荷輸送性化合物とは電子或い
は正孔のドリフト移動度を有する性質を示す化合物であ
り、又別の定義としてはTime−Of−Flight
法などの電荷輸送性能を検知できる公知の方法により電
荷輸送に起因する検出電流が得られる化合物として定義
できる。
は正孔のドリフト移動度を有する性質を示す化合物であ
り、又別の定義としてはTime−Of−Flight
法などの電荷輸送性能を検知できる公知の方法により電
荷輸送に起因する検出電流が得られる化合物として定義
できる。
【0037】本発明の樹脂層は電荷輸送性能を有する構
造単位を含むシロキサン系樹脂層の中に、ケイ素原子と
は異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を該シロキサン
系樹脂層中に分散させた構造を有する。即ち、本発明の
樹脂層は該シロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金
属原子を含む金属酸化物粒子とで複合化された樹脂層で
ある。以下に、このケイ素原子とは異なる金属原子を含
む金属酸化物粒子について詳述する。
造単位を含むシロキサン系樹脂層の中に、ケイ素原子と
は異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を該シロキサン
系樹脂層中に分散させた構造を有する。即ち、本発明の
樹脂層は該シロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金
属原子を含む金属酸化物粒子とで複合化された樹脂層で
ある。以下に、このケイ素原子とは異なる金属原子を含
む金属酸化物粒子について詳述する。
【0038】〈ケイ素原子とは異なる金属原子を含む金
属酸化物粒子〉本発明の金属酸化物粒子とは平均粒径1
nmから1μm、特に好ましくは10nmから200n
mの金属酸化物粒子であって、通常は液相法によって合
成される。ケイ素原子とは異なる金属原子の例としては
Ti、Al、Cr、Zr、Sn、Fe、Mg、Mn、N
i、Cuなどが挙げられる。
属酸化物粒子〉本発明の金属酸化物粒子とは平均粒径1
nmから1μm、特に好ましくは10nmから200n
mの金属酸化物粒子であって、通常は液相法によって合
成される。ケイ素原子とは異なる金属原子の例としては
Ti、Al、Cr、Zr、Sn、Fe、Mg、Mn、N
i、Cuなどが挙げられる。
【0039】上記金属酸化物粒子は通常次の一般式で表
される金属アルコキシド又は金属アリールオキシド等の
金属オキシドより合成することができる。
される金属アルコキシド又は金属アリールオキシド等の
金属オキシドより合成することができる。
【0040】M(OR)4 (Mはケイ素原子とは異なる金属原子、Rは炭素数1〜
20のアルキル基、アリール基、フェニル基、ベンジル
基を表す。) 前記金属酸化物粒子は上記金属オキシドのゾル−ゲル工
程を経て得ることができる。ゾル−ゲル工程において、
はじめに、ゾルは触媒の存在下アルコール/水性溶媒中
に金属オキシドを懸濁することによって得られる。該溶
液中の金属オキシドは加水分解を受けて、ゲル構造に縮
合する。ゲルは縮合され、沈殿したコロイド粒子(金属
酸化物粒子)を形成する。
20のアルキル基、アリール基、フェニル基、ベンジル
基を表す。) 前記金属酸化物粒子は上記金属オキシドのゾル−ゲル工
程を経て得ることができる。ゾル−ゲル工程において、
はじめに、ゾルは触媒の存在下アルコール/水性溶媒中
に金属オキシドを懸濁することによって得られる。該溶
液中の金属オキシドは加水分解を受けて、ゲル構造に縮
合する。ゲルは縮合され、沈殿したコロイド粒子(金属
酸化物粒子)を形成する。
【0041】又、前記ケイ素原子とは異なる金属原子を
含む金属酸化物粒子は該粒子表面に前記有機ケイ素化合
物と反応性を有する化合物基を有することが好ましい。
該反応性を有する化合物基としては、例えば水酸基、ア
ミノ基等が挙げられる。このような反応性基を有する金
属酸化物粒子を用いることにより、本発明のシロキサン
系樹脂層はシロキサン系樹脂と該金属酸化物粒子表面が
化学結合をした樹脂層を形成し、更に、強度と弾性を増
強した樹脂層をなり、該樹脂層を感光体の保護層として
用いるとブレードクリーニング等の擦過に対して摩耗し
にくい、電子写真特性の良好な膜を形成する。
含む金属酸化物粒子は該粒子表面に前記有機ケイ素化合
物と反応性を有する化合物基を有することが好ましい。
該反応性を有する化合物基としては、例えば水酸基、ア
ミノ基等が挙げられる。このような反応性基を有する金
属酸化物粒子を用いることにより、本発明のシロキサン
系樹脂層はシロキサン系樹脂と該金属酸化物粒子表面が
化学結合をした樹脂層を形成し、更に、強度と弾性を増
強した樹脂層をなり、該樹脂層を感光体の保護層として
用いるとブレードクリーニング等の擦過に対して摩耗し
にくい、電子写真特性の良好な膜を形成する。
【0042】前記水酸基又は加水分解性基を有する有機
ケイ素化合物、及び水酸基又は加水分解性基を有する有
機ケイ素化合物から形成された縮合物との総量(H)と
前記一般式(1)の化合物(I)の組成物中の組成比と
しては、質量比で100:3〜50:100であること
が好ましく、より好ましくは100:10〜50:10
0の間である。
ケイ素化合物、及び水酸基又は加水分解性基を有する有
機ケイ素化合物から形成された縮合物との総量(H)と
前記一般式(1)の化合物(I)の組成物中の組成比と
しては、質量比で100:3〜50:100であること
が好ましく、より好ましくは100:10〜50:10
0の間である。
【0043】また本発明の金属酸化物粒子(J)の添加
量は前記総量(H)+化合物(I)成分の総質量100
部に対し(J)を1〜30質量部を用いることが好まし
い。
量は前記総量(H)+化合物(I)成分の総質量100
部に対し(J)を1〜30質量部を用いることが好まし
い。
【0044】前記総量(H)成分が前記の範囲内で使用
されると、前記シロキサン系樹脂層が硬度が高く且つ弾
力性のある樹脂層となる。(J)成分の金属酸化物粒子
の過不足も前記総量(H)成分と同様の傾向がみられ
る。一方、前記化合物(I)成分が前記の範囲内で使用
されるとシロキサン系樹脂層の感度や残留電位特性等の
電子写真特性を良好にする。
されると、前記シロキサン系樹脂層が硬度が高く且つ弾
力性のある樹脂層となる。(J)成分の金属酸化物粒子
の過不足も前記総量(H)成分と同様の傾向がみられ
る。一方、前記化合物(I)成分が前記の範囲内で使用
されるとシロキサン系樹脂層の感度や残留電位特性等の
電子写真特性を良好にする。
【0045】前記のシロキサン系樹脂層を形成するには
縮合反応を促進するために縮合触媒を用いることが好ま
しい。ここで用いられる縮合触媒とは縮合反応に接触的
に作用する触媒、及び縮合反応の反応平衡を生成系に移
動させる働きをするものの少なくともいずれか一方の作
用をもつものであれば良い。
縮合反応を促進するために縮合触媒を用いることが好ま
しい。ここで用いられる縮合触媒とは縮合反応に接触的
に作用する触媒、及び縮合反応の反応平衡を生成系に移
動させる働きをするものの少なくともいずれか一方の作
用をもつものであれば良い。
【0046】具体的な縮合触媒としては酸、金属酸化
物、金属塩、アルキルアミノシラン化合物など従来シリ
コンハードコート材料に用いられてきた公知の触媒を用
いることができる。例えば、有機カルボン酸、亜硝酸、
亜硫酸、アルミン酸、炭酸及びチオシアン酸の各アルカ
リ金属塩、有機アミン塩(水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、テトラメチルアンモニウムアセテート)、スズ有
機酸塩(スタンナスオクトエート、ジブチルチンジアセ
テート、ジブチルチンジラウレート、ジブチルチンメル
カプチド、ジブチルチンチオカルボキシレート、ジブチ
ルチンマリエート等)等が挙げられる。
物、金属塩、アルキルアミノシラン化合物など従来シリ
コンハードコート材料に用いられてきた公知の触媒を用
いることができる。例えば、有機カルボン酸、亜硝酸、
亜硫酸、アルミン酸、炭酸及びチオシアン酸の各アルカ
リ金属塩、有機アミン塩(水酸化テトラメチルアンモニ
ウム、テトラメチルアンモニウムアセテート)、スズ有
機酸塩(スタンナスオクトエート、ジブチルチンジアセ
テート、ジブチルチンジラウレート、ジブチルチンメル
カプチド、ジブチルチンチオカルボキシレート、ジブチ
ルチンマリエート等)等が挙げられる。
【0047】一般式(1)において、Bで示される電荷
輸送性化合物構造を有する基としては、正孔輸送型と電
子輸送型がある。正孔輸送型はオキサゾール、オキサジ
アゾール、チアゾール、トリアゾール、イミダゾール、
イミダゾロン、イミダゾリン、ビスイミダゾリジン、ス
チリル、ヒドラゾン、ベンジジン、ピラゾリン、トリア
リールアミン、オキサゾロン、ベンゾチアゾール、ベン
ゾイミダゾール、キナゾリン、ベンゾフラン、アクリジ
ン、フェナジン等の構造単位を含む基及びこれらの誘導
体から派生する基が挙げられる。一方、電子輸送型とし
ては無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無
水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトタシアノエチ
レン、テトタシアノキノジメタン、ニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼン、トリニトロベンゼン、テトラニトロベ
ンゼン、ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、
キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾ
キノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノ
ン、アントラキノン、1−クロロアントラキノン、ジニ
トロアントラキノン、4−ニトロベンゾフェノン、4、
4′−ジニトロベンゾフェノン、4−ニトロベンザルマ
ロンジニトリル、α−シアノ−β−(p−シアノフェニ
ル)−2−(p−クロロフェニル)エチレン、2,7−
ジニトロフルオレノン、2,4,7−トリニトロフルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロフルオレノン、
9−フルオロニリデンジシアノメチレンマロニトリル、
ポリニトロ−9−フルオロニリデンジシアノメチレンマ
ロニトリル、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニ
トロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、パーフルオ
ロ安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロ
サリチル酸、フタル酸、メリット酸等の化学構造単位を
含む基及びこれらの誘導体から派生する基が挙げられる
が、これらの構造に限定されるものではない。
輸送性化合物構造を有する基としては、正孔輸送型と電
子輸送型がある。正孔輸送型はオキサゾール、オキサジ
アゾール、チアゾール、トリアゾール、イミダゾール、
イミダゾロン、イミダゾリン、ビスイミダゾリジン、ス
チリル、ヒドラゾン、ベンジジン、ピラゾリン、トリア
リールアミン、オキサゾロン、ベンゾチアゾール、ベン
ゾイミダゾール、キナゾリン、ベンゾフラン、アクリジ
ン、フェナジン等の構造単位を含む基及びこれらの誘導
体から派生する基が挙げられる。一方、電子輸送型とし
ては無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無
水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトタシアノエチ
レン、テトタシアノキノジメタン、ニトロベンゼン、ジ
ニトロベンゼン、トリニトロベンゼン、テトラニトロベ
ンゼン、ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、
キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾ
キノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノ
ン、アントラキノン、1−クロロアントラキノン、ジニ
トロアントラキノン、4−ニトロベンゾフェノン、4、
4′−ジニトロベンゾフェノン、4−ニトロベンザルマ
ロンジニトリル、α−シアノ−β−(p−シアノフェニ
ル)−2−(p−クロロフェニル)エチレン、2,7−
ジニトロフルオレノン、2,4,7−トリニトロフルオ
レノン、2,4,5,7−テトラニトロフルオレノン、
9−フルオロニリデンジシアノメチレンマロニトリル、
ポリニトロ−9−フルオロニリデンジシアノメチレンマ
ロニトリル、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニ
トロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、パーフルオ
ロ安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロ
サリチル酸、フタル酸、メリット酸等の化学構造単位を
含む基及びこれらの誘導体から派生する基が挙げられる
が、これらの構造に限定されるものではない。
【0048】以下に一般式(1)で表される代表的な化
合物例をあげる。一般式(1)においてZが酸素原子の
化合物例を下記に挙げる。
合物例をあげる。一般式(1)においてZが酸素原子の
化合物例を下記に挙げる。
【0049】
【化2】
【0050】
【化3】
【0051】
【化4】
【0052】
【化5】
【0053】
【化6】
【0054】次に、一般式(1)において、ZがNH基
である化合物例を下記に挙げる。
である化合物例を下記に挙げる。
【0055】
【化7】
【0056】次に、一般式(1)において、Zがメルカ
プト基(SH)である化合物例を下記に挙げる。
プト基(SH)である化合物例を下記に挙げる。
【0057】
【化8】
【0058】更に、ケイ素原子含有基を有する電荷輸送
性化合物について説明する。ケイ素原子含有基を有する
電荷輸送性化合物は、以下のような構造の電荷輸送物質
である。この化合物も前記有機ケイ素化合物と結合し
て、電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系
樹脂層を形成することが出来る。
性化合物について説明する。ケイ素原子含有基を有する
電荷輸送性化合物は、以下のような構造の電荷輸送物質
である。この化合物も前記有機ケイ素化合物と結合し
て、電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系
樹脂層を形成することが出来る。
【0059】 B−(−Z−Si(R11)3-a(R12)a)n 式中、Bは電荷輸送性能を有する構造単位を含む基であ
り、R11は水素原子、置換若しくは無置換のアルキル
基、アリール基を示し、R12は加水分解性基又は水酸基
を示し、Zは置換若しくは無置換のアルキレン基、アリ
ーレン基を示す。aは1〜3の整数を示し、nは整数を
示す。
り、R11は水素原子、置換若しくは無置換のアルキル
基、アリール基を示し、R12は加水分解性基又は水酸基
を示し、Zは置換若しくは無置換のアルキレン基、アリ
ーレン基を示す。aは1〜3の整数を示し、nは整数を
示す。
【0060】前記一般式(1)で示された化合物の内最
も好ましい化合物はZが水酸基(OH)で且つmが2以
上の化合物である。Zが水酸基(OH)で且つmが2以
上の化合物は該化合物が前記有機ケイ素化合物と反応
し、その結果シロキサン系樹脂の網目構造中に入り込む
ことにより高硬度で且つ残留電位上昇が小さい樹脂層を
形成することができる。
も好ましい化合物はZが水酸基(OH)で且つmが2以
上の化合物である。Zが水酸基(OH)で且つmが2以
上の化合物は該化合物が前記有機ケイ素化合物と反応
し、その結果シロキサン系樹脂の網目構造中に入り込む
ことにより高硬度で且つ残留電位上昇が小さい樹脂層を
形成することができる。
【0061】本発明において、電荷輸送性能を有する構
造単位を含むシロキサン系樹脂の好ましい電荷輸送性能
を有する構造単位は、前記一般式(1)で示された化合
物がシロキサン系樹脂中に化学反応により組み込まれた
樹脂構造であり、該電荷輸送性化合物を構成する炭素原
子又はケイ素原子を介して前記一般式(4)中のYで示
される連結原子又は連結基(Y)に結合し、Yを介して
シロキサン系樹脂中に含有される。
造単位を含むシロキサン系樹脂の好ましい電荷輸送性能
を有する構造単位は、前記一般式(1)で示された化合
物がシロキサン系樹脂中に化学反応により組み込まれた
樹脂構造であり、該電荷輸送性化合物を構成する炭素原
子又はケイ素原子を介して前記一般式(4)中のYで示
される連結原子又は連結基(Y)に結合し、Yを介して
シロキサン系樹脂中に含有される。
【0062】好ましくは前記一般式(4)のYが、隣接
する結合原子(ケイ素原子Siと前記電荷輸送性能を有
する構造単位の一部を構成する炭素原子C)を除いた2
価以上の原子又は基である。
する結合原子(ケイ素原子Siと前記電荷輸送性能を有
する構造単位の一部を構成する炭素原子C)を除いた2
価以上の原子又は基である。
【0063】但し、Yが3価以上の原子の時は式中のS
iとC以外のYの結合手は結合が可能な前記シロキサン
系樹脂中のいずれかの構成原子と結合しているか又は他
の原子、分子基と連結した構造(基)を有する。
iとC以外のYの結合手は結合が可能な前記シロキサン
系樹脂中のいずれかの構成原子と結合しているか又は他
の原子、分子基と連結した構造(基)を有する。
【0064】又、前記一般式の中で、Y原子として、特
に酸素原子(O)、硫黄原子(S)、窒素原子(N)が
好ましい。
に酸素原子(O)、硫黄原子(S)、窒素原子(N)が
好ましい。
【0065】ここで、Yが窒素原子(N)の場合、前記
連結基は−NR−で表される(Rは水素原子又は一価の
有機基である)。
連結基は−NR−で表される(Rは水素原子又は一価の
有機基である)。
【0066】電荷輸送性能を有する構造単位Xは式中で
は一価の基として示されているが、シロキサン系樹脂と
反応させる電荷輸送性化合物が2つ以上の反応性官能基
を有している場合はシロキサン系樹脂中で2価以上のク
ロスリンク基として接合してもよく、単にペンダント基
として接合していてもよい。
は一価の基として示されているが、シロキサン系樹脂と
反応させる電荷輸送性化合物が2つ以上の反応性官能基
を有している場合はシロキサン系樹脂中で2価以上のク
ロスリンク基として接合してもよく、単にペンダント基
として接合していてもよい。
【0067】前記原子、即ちO、S、Nの原子はそれぞ
れ前記一般式(1)で示された化合物中の水酸基、メル
カプト基、アミン基と水酸基或いは加水分解性基を有す
る有機ケイ素化合物との反応によって形成され、シロキ
サン系樹脂中に電荷輸送性能を有する構造単位を部分構
造として取り込む連結基である。
れ前記一般式(1)で示された化合物中の水酸基、メル
カプト基、アミン基と水酸基或いは加水分解性基を有す
る有機ケイ素化合物との反応によって形成され、シロキ
サン系樹脂中に電荷輸送性能を有する構造単位を部分構
造として取り込む連結基である。
【0068】又、本発明の電子写真感光体の保護層は水
に対する接触角が90°以上であることが好ましい。水
に対する接触角が90°以上にすることにより紙粉やト
ナー微粉のフィルミングをより少なくすることができ
る。
に対する接触角が90°以上であることが好ましい。水
に対する接触角が90°以上にすることにより紙粉やト
ナー微粉のフィルミングをより少なくすることができ
る。
【0069】前記電荷輸送性能を有するシロキサン系樹
脂層の水に対する接触角を90°以上にする方法として
はシロキサン樹脂層の疎水性を高めることが有効であ
る。このための方法としてはシロキサン樹脂にF原子含
有基を導入する方法、ジメチルシロキサン骨格を導入す
る方法、芳香族基を導入する方法或いは撥水性を有する
PTFE等の樹脂粒子や有機ポリマーを添加する方法等
が挙げられる。
脂層の水に対する接触角を90°以上にする方法として
はシロキサン樹脂層の疎水性を高めることが有効であ
る。このための方法としてはシロキサン樹脂にF原子含
有基を導入する方法、ジメチルシロキサン骨格を導入す
る方法、芳香族基を導入する方法或いは撥水性を有する
PTFE等の樹脂粒子や有機ポリマーを添加する方法等
が挙げられる。
【0070】本発明の電荷輸送性能を有する構造単位を
有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂は予め構
造単位にシロキサン結合を有するモノマー、オリゴマ
ー、ポリマーに触媒や架橋剤を加えて新たな化学結合を
形成させ3次元網目構造を形成する事もあり、又加水分
解反応とその後の脱水縮合によりシロキサン結合を促進
させモノマー、オロゴマー、ポリマーから3次元網目構
造を形成する事もできる。
有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂は予め構
造単位にシロキサン結合を有するモノマー、オリゴマ
ー、ポリマーに触媒や架橋剤を加えて新たな化学結合を
形成させ3次元網目構造を形成する事もあり、又加水分
解反応とその後の脱水縮合によりシロキサン結合を促進
させモノマー、オロゴマー、ポリマーから3次元網目構
造を形成する事もできる。
【0071】一般的には、アルコキシシランを有する組
成物又はアルコキシシランと金属酸化物粒子を有する組
成物の縮合反応により3次元網目構造を形成することが
できる。
成物又はアルコキシシランと金属酸化物粒子を有する組
成物の縮合反応により3次元網目構造を形成することが
できる。
【0072】また前記の3次元網目構造を形成させる触
媒としては有機カルボン酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン
酸、炭酸及びチオシアン酸の各アルカリ金属塩、有機ア
ミン塩(水酸化テトラメチルアンモニウム、テトラメチ
ルアンモニウムアセテート)、スズ有機酸塩(スタンナ
スオクトエート、ジブチルチンジアセテート、ジブチル
チンジラウレート、ジブチルチンメルカプチド、ジブチ
ルチンチオカルボキシレート、ジブチルチンマリエート
等)、アルミニウム、亜鉛のオクテン酸、ナフテン酸
塩、アセチルアセトン錯化合物等が挙げられる。
媒としては有機カルボン酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン
酸、炭酸及びチオシアン酸の各アルカリ金属塩、有機ア
ミン塩(水酸化テトラメチルアンモニウム、テトラメチ
ルアンモニウムアセテート)、スズ有機酸塩(スタンナ
スオクトエート、ジブチルチンジアセテート、ジブチル
チンジラウレート、ジブチルチンメルカプチド、ジブチ
ルチンチオカルボキシレート、ジブチルチンマリエート
等)、アルミニウム、亜鉛のオクテン酸、ナフテン酸
塩、アセチルアセトン錯化合物等が挙げられる。
【0073】次に、本発明の酸化防止剤とは、その代表
的なものは電子写真感光体中ないしは感光体表面に存在
する自動酸化性物質に対して、光、熱、放電等の条件下
で酸素の作用を防止ないし、抑制する性質を有する物質
である。詳しくは下記の化合物群が挙げられる。
的なものは電子写真感光体中ないしは感光体表面に存在
する自動酸化性物質に対して、光、熱、放電等の条件下
で酸素の作用を防止ないし、抑制する性質を有する物質
である。詳しくは下記の化合物群が挙げられる。
【0074】(1)ラジカル連鎖禁止剤 ・フェノール系酸化防止剤 ヒンダードフェノール系 ・アミン系酸化防止剤 ヒンダードアミン系 ジアリルジアミン系 ジアリルアミン系 ・ハイドロキノン系酸化防止剤 (2)過酸化物分解剤 ・硫黄系酸化防止剤(チオエーテル類) ・燐酸系酸化防止剤(亜燐酸エステル類) 上記酸化防止剤のうちでは、(1)のラジカル連鎖禁止
剤が良く、特にヒンダードフェノール系或いはヒンダー
ドアミン系酸化防止剤が好ましい。又、2種以上のもの
を併用してもよく、例えば(1)のヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤と(2)のチオエーテル類の酸化防止剤
との併用も良い。更に、分子中に上記構造単位、例えば
ヒンダードフェノール構造単位とヒンダードアミン構造
単位を含んでいるものでも良い。
剤が良く、特にヒンダードフェノール系或いはヒンダー
ドアミン系酸化防止剤が好ましい。又、2種以上のもの
を併用してもよく、例えば(1)のヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤と(2)のチオエーテル類の酸化防止剤
との併用も良い。更に、分子中に上記構造単位、例えば
ヒンダードフェノール構造単位とヒンダードアミン構造
単位を含んでいるものでも良い。
【0075】前記酸化防止剤の中でも特にヒンダードフ
ェノール系、ヒンダードアミン系酸化防止剤が高温高湿
時のカブリの発生や画像ボケ防止に特に効果がある。
ェノール系、ヒンダードアミン系酸化防止剤が高温高湿
時のカブリの発生や画像ボケ防止に特に効果がある。
【0076】ヒンダードフェノール系或いはヒンダード
アミン系酸化防止剤の樹脂層中の含有量は0.01〜2
0質量%が好ましい。0.01質量%未満だと高温高湿
時のカブリや画像ボケに効果がなく、20質量%より多
い含有量では樹脂層中の電荷輸送能の低下がおこり、残
留電位が増加しやすくなり、又膜強度の低下が発生す
る。
アミン系酸化防止剤の樹脂層中の含有量は0.01〜2
0質量%が好ましい。0.01質量%未満だと高温高湿
時のカブリや画像ボケに効果がなく、20質量%より多
い含有量では樹脂層中の電荷輸送能の低下がおこり、残
留電位が増加しやすくなり、又膜強度の低下が発生す
る。
【0077】又、前記酸化防止剤は下層の電荷発生層或
いは電荷輸送層、中間層等にも必要により含有させて良
い。これらの層への前記酸化防止剤の添加量は各層に対
して0.01〜20質量%が好ましい。
いは電荷輸送層、中間層等にも必要により含有させて良
い。これらの層への前記酸化防止剤の添加量は各層に対
して0.01〜20質量%が好ましい。
【0078】ここでヒンダードフェノールとはフェノー
ル化合物の水酸基に対しオルト位置に分岐アルキル基を
有する化合物類及びその誘導体を云う(但し、水酸基が
アルコキシに変成されていても良い)。
ル化合物の水酸基に対しオルト位置に分岐アルキル基を
有する化合物類及びその誘導体を云う(但し、水酸基が
アルコキシに変成されていても良い)。
【0079】ヒンダードアミン系とはN原子近傍にかさ
高い有機基を有する化合物である。かさ高い有機基とし
ては分岐状アルキル基があり、例えばt−ブチル基が好
ましい。例えば下記構造式で示される有機基を有する化
合物類が好ましい。
高い有機基を有する化合物である。かさ高い有機基とし
ては分岐状アルキル基があり、例えばt−ブチル基が好
ましい。例えば下記構造式で示される有機基を有する化
合物類が好ましい。
【0080】
【化9】
【0081】式中のR13は水素原子又は1価の有機基、
R14、R15、R16、R17はアルキル基、R18は水素原
子、水酸基又は1価の有機基を示す。
R14、R15、R16、R17はアルキル基、R18は水素原
子、水酸基又は1価の有機基を示す。
【0082】ヒンダードフェノール部分構造を持つ酸化
防止剤としては、例えば特開平1−118137号(P
7〜P14)記載の化合物が挙げられるが本発明はこれ
に限定されるものではない。
防止剤としては、例えば特開平1−118137号(P
7〜P14)記載の化合物が挙げられるが本発明はこれ
に限定されるものではない。
【0083】ヒンダードアミン部分構造を持つ酸化防止
剤としては、例えば特開平1−118138号(P7〜
P9)記載の化合物も挙げられるが本発明はこれに限定
されるものではない。
剤としては、例えば特開平1−118138号(P7〜
P9)記載の化合物も挙げられるが本発明はこれに限定
されるものではない。
【0084】有機リン化合物としては、例えば、一般式
RO−P(OR)−ORで表される化合物である。尚、
ここにおいてRは水素原子、各々置換もしくは未置換の
アルキル基、アルケニル基又はアリール基を表す。
RO−P(OR)−ORで表される化合物である。尚、
ここにおいてRは水素原子、各々置換もしくは未置換の
アルキル基、アルケニル基又はアリール基を表す。
【0085】有機硫黄系化合物としては、例えば、一般
式R−S−Rで表される化合物である。尚、ここにおい
てRは水素原子、各々置換もしくは未置換のアルキル
基、アルケニル基又はアリール基を表す。
式R−S−Rで表される化合物である。尚、ここにおい
てRは水素原子、各々置換もしくは未置換のアルキル
基、アルケニル基又はアリール基を表す。
【0086】以下に代表的な酸化防止剤の化合物例を挙
げる。
げる。
【0087】
【化10】
【0088】
【化11】
【0089】
【化12】
【0090】
【化13】
【0091】
【化14】
【0092】又、製品化されている酸化防止剤としては
以下のような化合物、例えば「イルガノックス107
6」、「イルガノックス1010」、「イルガノックス
1098」、「イルガノックス245」、「イルガノッ
クス1330」、「イルガノックス3114」、「イル
ガノックス1076」、「3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシビフェニル」以上ヒンダードフェノール
系、「サノールLS2626」、「サノールLS76
5」、「サノールLS770」、「サノールLS74
4」、「チヌビン144」、「チヌビン622LD」、
「マークLA57」、「マークLA67」、「マークL
A62」、「マークLA68」、「マークLA63」以
上ヒンダードアミン系が挙げられる。
以下のような化合物、例えば「イルガノックス107
6」、「イルガノックス1010」、「イルガノックス
1098」、「イルガノックス245」、「イルガノッ
クス1330」、「イルガノックス3114」、「イル
ガノックス1076」、「3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシビフェニル」以上ヒンダードフェノール
系、「サノールLS2626」、「サノールLS76
5」、「サノールLS770」、「サノールLS74
4」、「チヌビン144」、「チヌビン622LD」、
「マークLA57」、「マークLA67」、「マークL
A62」、「マークLA68」、「マークLA63」以
上ヒンダードアミン系が挙げられる。
【0093】本発明において、導電性支持体上に少なく
とも複数の樹脂層を有するとは樹脂が層形成に主要な機
能を有している層が2つ以上導電性支持体上にあること
を意味し、該樹脂層としては下引層、感光層、保護層、
更には電荷発生層、電荷輸送層等の層の内2つ以上の層
が樹脂層として有ればよい。
とも複数の樹脂層を有するとは樹脂が層形成に主要な機
能を有している層が2つ以上導電性支持体上にあること
を意味し、該樹脂層としては下引層、感光層、保護層、
更には電荷発生層、電荷輸送層等の層の内2つ以上の層
が樹脂層として有ればよい。
【0094】本発明の電子写真感光体の層構成は、特に
限定はないが、電荷発生層、電荷輸送層、或いは電荷発
生・電荷輸送層(電荷発生と電荷輸送の機能を同一層に
有する層)等の感光層とその上に本発明の電荷輸送性能
を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケイ素原子
とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含有する樹
脂層を塗設した構成をとるのが好ましい。
限定はないが、電荷発生層、電荷輸送層、或いは電荷発
生・電荷輸送層(電荷発生と電荷輸送の機能を同一層に
有する層)等の感光層とその上に本発明の電荷輸送性能
を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケイ素原子
とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含有する樹
脂層を塗設した構成をとるのが好ましい。
【0095】以下に本発明に用いられる感光体の構成に
ついて記載する。 導電性支持体 本発明の感光体に用いられる導電性支持体としてはシー
ト状、円筒状のどちらを用いても良いが、画像形成装置
をコンパクトに設計するためには円筒状導電性支持体の
方が好ましい。
ついて記載する。 導電性支持体 本発明の感光体に用いられる導電性支持体としてはシー
ト状、円筒状のどちらを用いても良いが、画像形成装置
をコンパクトに設計するためには円筒状導電性支持体の
方が好ましい。
【0096】本発明の円筒状導電性支持体とは回転する
ことによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円筒
状の支持体を意味し、真直度で0.1mm以下、振れ
0.1mm以下の範囲にある導電性の支持体が好まし
い。この真円度及び振れの範囲を超えると、良好な画像
形成が困難になる。
ことによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円筒
状の支持体を意味し、真直度で0.1mm以下、振れ
0.1mm以下の範囲にある導電性の支持体が好まし
い。この真円度及び振れの範囲を超えると、良好な画像
形成が困難になる。
【0097】導電性の材料としてはアルミニウム、ニッ
ケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸
化インジュウムなどを蒸着したプラスチックドラム、又
は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用
することができる。導電性支持体としては常温で比抵抗
103Ωcm以下が好ましい。
ケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸
化インジュウムなどを蒸着したプラスチックドラム、又
は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用
することができる。導電性支持体としては常温で比抵抗
103Ωcm以下が好ましい。
【0098】本発明で用いられる導電性支持体は、その
表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを
用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム
酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等
の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最
も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場
合、硫酸濃度は100〜200g/l、アルミニウムイ
オン濃度は1〜10g/l、液温は20℃前後、印加電
圧は約20Vで行うのが好ましいが、これに限定される
ものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常2
0μm以下、特に10μm以下が好ましい。
表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを
用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム
酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等
の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最
も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場
合、硫酸濃度は100〜200g/l、アルミニウムイ
オン濃度は1〜10g/l、液温は20℃前後、印加電
圧は約20Vで行うのが好ましいが、これに限定される
ものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常2
0μm以下、特に10μm以下が好ましい。
【0099】中間層 本発明においては導電性支持体と感光層の間に、バリヤ
ー機能を備えた中間層を設けることもできる。
ー機能を備えた中間層を設けることもできる。
【0100】本発明においては導電性支持体と前記感光
層のとの接着性改良、或いは該支持体からの電荷注入を
防止するために、該支持体と前記感光層の間に中間層
(下引層も含む)を設けることもできる。該中間層の材
料としては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの
2つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら下引
き樹脂の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく
できる樹脂としてはポリアミド樹脂が好ましい。又、こ
れら樹脂を用いた中間層の膜厚は0.01〜0.5μm
が好ましい。
層のとの接着性改良、或いは該支持体からの電荷注入を
防止するために、該支持体と前記感光層の間に中間層
(下引層も含む)を設けることもできる。該中間層の材
料としては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの
2つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら下引
き樹脂の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく
できる樹脂としてはポリアミド樹脂が好ましい。又、こ
れら樹脂を用いた中間層の膜厚は0.01〜0.5μm
が好ましい。
【0101】又本発明に最も好ましく用いられる中間層
はシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の有
機金属化合物を熱硬化させた硬化性金属樹脂を用いた中
間層が挙げられる。硬化性金属樹脂を用いた中間層の膜
厚は、0.1〜2μmが好ましい。
はシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の有
機金属化合物を熱硬化させた硬化性金属樹脂を用いた中
間層が挙げられる。硬化性金属樹脂を用いた中間層の膜
厚は、0.1〜2μmが好ましい。
【0102】感光層 本発明の感光体の感光層構成は前記中間層上に電荷発生
機能と電荷輸送機能を1つの層に持たせた単層構造の感
光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電
荷発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL層)に分離し
た構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ること
により繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御で
き、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやす
い。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層(C
GL)、その上に電荷輸送層(CTL層)の構成を取る
ことが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順
が負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好ま
しい感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光
体構成である。
機能と電荷輸送機能を1つの層に持たせた単層構造の感
光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電
荷発生層(CGL)と電荷輸送層(CTL層)に分離し
た構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ること
により繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御で
き、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやす
い。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層(C
GL)、その上に電荷輸送層(CTL層)の構成を取る
ことが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順
が負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好ま
しい感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光
体構成である。
【0103】以下に機能分離負帯電感光体の感光層構成
について説明する。 電荷発生層 電荷発生層:電荷発生層には電荷発生物質(CGM)を
含有する。その他の物質としては必要によりバインダー
樹脂、その他添加剤を含有しても良い。
について説明する。 電荷発生層 電荷発生層:電荷発生層には電荷発生物質(CGM)を
含有する。その他の物質としては必要によりバインダー
樹脂、その他添加剤を含有しても良い。
【0104】電荷発生物質(CGM)としては公知の電
荷発生物質(CGM)を用いることができる。例えばフ
タロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニ
ウム顔料などを用いることができる。これらの中で繰り
返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるCGM
は複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる立体、電位
構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を
有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のCGMが挙
げられる。例えばCu−Kα線に対するブラッグ角2θ
が27.2°に最大ピークを有するチタニルフタロシア
ニン、同2θが12.4に最大ピークを有するベンズイ
ミダゾールペリレン等のCGMは繰り返し使用に伴う劣
化がほとんどなく、残留電位増加小さくすることができ
る。
荷発生物質(CGM)を用いることができる。例えばフ
タロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニ
ウム顔料などを用いることができる。これらの中で繰り
返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるCGM
は複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる立体、電位
構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を
有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のCGMが挙
げられる。例えばCu−Kα線に対するブラッグ角2θ
が27.2°に最大ピークを有するチタニルフタロシア
ニン、同2θが12.4に最大ピークを有するベンズイ
ミダゾールペリレン等のCGMは繰り返し使用に伴う劣
化がほとんどなく、残留電位増加小さくすることができ
る。
【0105】電荷発生層にCGMの分散媒としてバイン
ダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用
いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマ
ール樹脂、ブチラール樹脂、シリコン樹脂、シリコン変
性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。バ
インダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バインダー樹
脂100質量部に対し20〜600質量部が好ましい。
これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用に伴う
残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の膜厚は
0.01μm〜2μmが好ましい。
ダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用
いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマ
ール樹脂、ブチラール樹脂、シリコン樹脂、シリコン変
性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。バ
インダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バインダー樹
脂100質量部に対し20〜600質量部が好ましい。
これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用に伴う
残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の膜厚は
0.01μm〜2μmが好ましい。
【0106】電荷輸送層 電荷輸送層:電荷輸送層には電荷輸送物質(CTM)及
びCTMを分散し製膜するバインダー樹脂を含有する。
その他の物質としては必要により酸化防止剤等の添加剤
を含有しても良い。
びCTMを分散し製膜するバインダー樹脂を含有する。
その他の物質としては必要により酸化防止剤等の添加剤
を含有しても良い。
【0107】電荷輸送物質(CTM)としては公知の電
荷輸送物質(CTM)を用いることができる。例えばト
リフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル
化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物などを用
いることができる。これら電荷輸送物質は通常、適当な
バインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。これら
の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくで
きるCTMは高移動度で、且つ組み合わされるCGMと
のイオン化ポテンシャル差が0.5(eV)以下の特性
を有するものであり、好ましくは0.25(eV)以下
である。
荷輸送物質(CTM)を用いることができる。例えばト
リフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル
化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物などを用
いることができる。これら電荷輸送物質は通常、適当な
バインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。これら
の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくで
きるCTMは高移動度で、且つ組み合わされるCGMと
のイオン化ポテンシャル差が0.5(eV)以下の特性
を有するものであり、好ましくは0.25(eV)以下
である。
【0108】CGM、CTMのイオン化ポテンシャルは
表面分析装置AC−1(理研計器社製)で測定される。
表面分析装置AC−1(理研計器社製)で測定される。
【0109】電荷輸送層(CTL層)に用いられる樹脂
としては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタク
リル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、
フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、
ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂並
びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を
含む共重合体樹脂。又これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−
N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。
としては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタク
リル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、
フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、
ポリカーボネート樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂並
びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの2つ以上を
含む共重合体樹脂。又これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−
N−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。
【0110】これらCTLのバインダーとして最も好ま
しいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネ
ート樹脂はCTMの分散性、電子写真特性を良好にする
ことにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸
送物質との割合は、バインダー樹脂100質量部に対し
10〜200質量部が好ましい。又、電荷輸送層の膜厚
は10〜40μmが好ましい。
しいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネ
ート樹脂はCTMの分散性、電子写真特性を良好にする
ことにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸
送物質との割合は、バインダー樹脂100質量部に対し
10〜200質量部が好ましい。又、電荷輸送層の膜厚
は10〜40μmが好ましい。
【0111】保護層 感光体の表面保護層として、前記電荷輸送層の上に電荷
輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケ
イ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含
有する樹脂層を設けることにより、本発明の最も好まし
い層構成を有する感光体を得ることができる。
輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケ
イ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含
有する樹脂層を設けることにより、本発明の最も好まし
い層構成を有する感光体を得ることができる。
【0112】上記では本発明の最も好ましい感光体の層
構成を例示したが、本発明では上記以外の感光体層構成
でも良い。例えば、電荷輸送性を有する構造単位を含む
シロキサン系樹脂を含有する樹脂層を電荷輸送層に適用
すれば上記した感光体層構成の保護層を除くことも可能
である。又、電荷輸送性を有する構造単位を含むシロキ
サン系樹脂を含有する樹脂層を単層構造の感光層に適用
すれば円筒状導電性支持体上には中間層と単層構造の感
光層の2つの樹脂層から本発明の電子写真感光体を形成
する事もできる。
構成を例示したが、本発明では上記以外の感光体層構成
でも良い。例えば、電荷輸送性を有する構造単位を含む
シロキサン系樹脂を含有する樹脂層を電荷輸送層に適用
すれば上記した感光体層構成の保護層を除くことも可能
である。又、電荷輸送性を有する構造単位を含むシロキ
サン系樹脂を含有する樹脂層を単層構造の感光層に適用
すれば円筒状導電性支持体上には中間層と単層構造の感
光層の2つの樹脂層から本発明の電子写真感光体を形成
する事もできる。
【0113】本発明の中間層、感光層、その他樹脂層の
形成に用いられる溶媒又は分散媒としては、n−ブチル
アミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロ
パノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレン
ジアミン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シク
ロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、
1,2−ジクロロプロパン、1,1,2−トリクロロエ
タン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチ
レン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、ブタ
ノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、
ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられ
る。本発明はこれらに限定されるものではないが、ジク
ロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メチルエチルケ
トン等が好ましく用いられる。また、これらの溶媒は単
独或いは2種以上の混合溶媒として用いることもでき
る。
形成に用いられる溶媒又は分散媒としては、n−ブチル
アミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロ
パノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレン
ジアミン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シク
ロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ
ホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、
1,2−ジクロロプロパン、1,1,2−トリクロロエ
タン、1,1,1−トリクロロエタン、トリクロロエチ
レン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオ
キソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、ブタ
ノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、
ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられ
る。本発明はこれらに限定されるものではないが、ジク
ロロメタン、1,2−ジクロロエタン、メチルエチルケ
トン等が好ましく用いられる。また、これらの溶媒は単
独或いは2種以上の混合溶媒として用いることもでき
る。
【0114】次に本発明の電子写真感光体を製造するた
めの塗布加工方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、
円形量規制型塗布等の塗布加工法が用いられるが、感光
層の上層側の塗布加工は下層の膜を極力溶解させないた
め、又、均一塗布加工を達成するためスプレー塗布又は
円形量規制型(円形スライドホッパ型がその代表例)塗
布等の塗布加工方法を用いるのが好ましい。なお前記ス
プレー塗布については例えば特開平3−90250号及
び特開平3−269238号公報に詳細に記載され、前
記円形量規制型塗布については例えば特開昭58−18
9061号公報に詳細に記載されている。
めの塗布加工方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、
円形量規制型塗布等の塗布加工法が用いられるが、感光
層の上層側の塗布加工は下層の膜を極力溶解させないた
め、又、均一塗布加工を達成するためスプレー塗布又は
円形量規制型(円形スライドホッパ型がその代表例)塗
布等の塗布加工方法を用いるのが好ましい。なお前記ス
プレー塗布については例えば特開平3−90250号及
び特開平3−269238号公報に詳細に記載され、前
記円形量規制型塗布については例えば特開昭58−18
9061号公報に詳細に記載されている。
【0115】次に、本発明に適用される画像形成方法、
及び画像形成装置の実施の形態について、以下に説明す
る。
及び画像形成装置の実施の形態について、以下に説明す
る。
【0116】図1は本発明の画像形成装置の全体の構成
を示す概要構成図である。図1に示す画像形成装置は、
デジタル方式による画像形成装置であって、画像読取り
部A、画像処理部B(図示省略)、画像形成部C、転写
紙搬送手段としての転写紙搬送部Dから構成されてい
る。
を示す概要構成図である。図1に示す画像形成装置は、
デジタル方式による画像形成装置であって、画像読取り
部A、画像処理部B(図示省略)、画像形成部C、転写
紙搬送手段としての転写紙搬送部Dから構成されてい
る。
【0117】画像読取り部Aの上部には原稿を自動搬送
する自動原稿送り手段が設けられていて、原稿載置台1
1上に載置された原稿は原稿搬送ローラ12によって1
枚宛分離搬送され読み取り位置13aにて画像の読み取
りが行われる。原稿読み取りが終了した原稿は原稿搬送
ローラ12によって原稿排紙皿14上に排出される。
する自動原稿送り手段が設けられていて、原稿載置台1
1上に載置された原稿は原稿搬送ローラ12によって1
枚宛分離搬送され読み取り位置13aにて画像の読み取
りが行われる。原稿読み取りが終了した原稿は原稿搬送
ローラ12によって原稿排紙皿14上に排出される。
【0118】一方、プラテンガラス13上に置かれた場
合の原稿の画像は走査光学系を構成する照明ランプ及び
第1ミラーから成る第1ミラーユニット15の速度vに
よる読み取り動作と、V字状に位置した第2ミラー及び
第3ミラーから成る第2ミラーユニット16の同方向へ
の速度v/2による移動によって読み取られる。
合の原稿の画像は走査光学系を構成する照明ランプ及び
第1ミラーから成る第1ミラーユニット15の速度vに
よる読み取り動作と、V字状に位置した第2ミラー及び
第3ミラーから成る第2ミラーユニット16の同方向へ
の速度v/2による移動によって読み取られる。
【0119】読み取られた画像は、投影レンズ17を通
してラインセンサである撮像素子CCDの受光面に結像
される。撮像素子CCD上に結像されたライン状の光学
像は順次電気信号(輝度信号)に光電変換されたのちA
/D変換を行い、画像処理部Bにおいて濃度変換、フィ
ルタ処理などの処理が施された後、画像データは一旦メ
モリに記憶される。
してラインセンサである撮像素子CCDの受光面に結像
される。撮像素子CCD上に結像されたライン状の光学
像は順次電気信号(輝度信号)に光電変換されたのちA
/D変換を行い、画像処理部Bにおいて濃度変換、フィ
ルタ処理などの処理が施された後、画像データは一旦メ
モリに記憶される。
【0120】画像形成部Cでは、画像形成ユニットとし
て、像担持体であるドラム状の感光体(以下、感光体ド
ラムとも云う)21と、その外周に、帯電手段である帯
電器22、現像手段である現像装置23、転写手段であ
る転写器24、分離手段である分離器25、クリーニン
グ手段26及びPCL(プレチャージランプ)27が各
々動作順に配置されている。感光体21は、光導電性化
合物をドラム基体上に塗布形成したもので、例えば有機
感光体(OPC)が好ましく使用され、図示の時計方向
に駆動回転される。
て、像担持体であるドラム状の感光体(以下、感光体ド
ラムとも云う)21と、その外周に、帯電手段である帯
電器22、現像手段である現像装置23、転写手段であ
る転写器24、分離手段である分離器25、クリーニン
グ手段26及びPCL(プレチャージランプ)27が各
々動作順に配置されている。感光体21は、光導電性化
合物をドラム基体上に塗布形成したもので、例えば有機
感光体(OPC)が好ましく使用され、図示の時計方向
に駆動回転される。
【0121】回転する感光体21へは帯電器22による
一様帯電がなされた後、露光光学系30により画像処理
部Bのメモリから呼び出された画像信号に基づいた像露
光が行われる。書き込み手段である露光光学系30は図
示しないレーザーダイオードを発光光源とし、回転する
ポリゴンミラー31、fθレンズ(符号なし)、シリン
ドリカルレンズ(符号なし)を経て反射ミラー32によ
り光路が曲げられ主走査がなされるもので、感光体21
に対してAoの位置において像露光が行われ、感光体2
1の回転(副走査)によって潜像が形成される。本実施
の形態の一例では文字部に対して露光を行い潜像を形成
する。
一様帯電がなされた後、露光光学系30により画像処理
部Bのメモリから呼び出された画像信号に基づいた像露
光が行われる。書き込み手段である露光光学系30は図
示しないレーザーダイオードを発光光源とし、回転する
ポリゴンミラー31、fθレンズ(符号なし)、シリン
ドリカルレンズ(符号なし)を経て反射ミラー32によ
り光路が曲げられ主走査がなされるもので、感光体21
に対してAoの位置において像露光が行われ、感光体2
1の回転(副走査)によって潜像が形成される。本実施
の形態の一例では文字部に対して露光を行い潜像を形成
する。
【0122】感光体21上の潜像は現像装置23によっ
て反転現像が行われ、感光体21の表面に可視像のトナ
ー像が形成される。転写紙搬送部Dでは、画像形成ユニ
ットの下方に異なるサイズの転写紙Pが収納された転写
紙収納手段としての給紙ユニット41(A)、41
(B)、41(C)が設けられ、また側方には手差し給
紙を行う手差し給紙ユニット42が設けられていて、そ
れらの何れかから選択された転写紙Pは案内ローラ43
によって搬送路40に沿って給紙され、給紙される転写
紙の傾きと偏りの修正を行うレジストローラ対44によ
って転写紙Pは一時停止を行ったのち再給紙が行われ、
搬送路40、転写前ローラ43a及び転写進入ガイド板
46に案内され、感光体21上のトナー画像が転写位置
Boにおいて転写器24によって転写紙Pに転写され、
次いで分離器25によって除電されて転写紙Pは感光体
21面より分離し、搬送装置45により定着器50に搬
送される。
て反転現像が行われ、感光体21の表面に可視像のトナ
ー像が形成される。転写紙搬送部Dでは、画像形成ユニ
ットの下方に異なるサイズの転写紙Pが収納された転写
紙収納手段としての給紙ユニット41(A)、41
(B)、41(C)が設けられ、また側方には手差し給
紙を行う手差し給紙ユニット42が設けられていて、そ
れらの何れかから選択された転写紙Pは案内ローラ43
によって搬送路40に沿って給紙され、給紙される転写
紙の傾きと偏りの修正を行うレジストローラ対44によ
って転写紙Pは一時停止を行ったのち再給紙が行われ、
搬送路40、転写前ローラ43a及び転写進入ガイド板
46に案内され、感光体21上のトナー画像が転写位置
Boにおいて転写器24によって転写紙Pに転写され、
次いで分離器25によって除電されて転写紙Pは感光体
21面より分離し、搬送装置45により定着器50に搬
送される。
【0123】定着器50は定着ローラ51と加圧ローラ
52とを有しており、転写紙Pを定着ローラ51と加圧
ローラ52との間を通過させることにより、加熱、加圧
によってトナーを熔着させる。トナー画像の定着を終え
た転写紙Pは排紙トレイ64上に排出される。
52とを有しており、転写紙Pを定着ローラ51と加圧
ローラ52との間を通過させることにより、加熱、加圧
によってトナーを熔着させる。トナー画像の定着を終え
た転写紙Pは排紙トレイ64上に排出される。
【0124】本発明の画像形成方法は前記クリーニング
手段(クリーニング工程)にクリーニングブレードを用
いたクリーニング方式を用いる。
手段(クリーニング工程)にクリーニングブレードを用
いたクリーニング方式を用いる。
【0125】《クリーニングブレードの特性と当接条
件》本発明において前記クリーニングブレードには弾性
体ゴムブレードを用いる。本発明ではこの弾性体ゴムブ
レードを用いて、転写されず感光体上に残留したトナー
をクリーニングする。弾性体ゴムブレードの感光体に対
する当接条件は、クリーニング性を向上させる観点から
線圧5〜50g/cmの圧接力で当接することが好まし
い。圧接力が5g/cm未満だとトナーのすり抜けが発
生しやすくなり、50g/cmより大きいとブレードメ
クレが発生し易くなる。圧接の方法としては予めブレー
ドの当接位置を決めてブレードを固定する方法、重りに
より荷重を調節する方法、ばねを利用する方法等がある
が、圧接力のばらつきを低減させるには重り荷重方式が
好ましい。
件》本発明において前記クリーニングブレードには弾性
体ゴムブレードを用いる。本発明ではこの弾性体ゴムブ
レードを用いて、転写されず感光体上に残留したトナー
をクリーニングする。弾性体ゴムブレードの感光体に対
する当接条件は、クリーニング性を向上させる観点から
線圧5〜50g/cmの圧接力で当接することが好まし
い。圧接力が5g/cm未満だとトナーのすり抜けが発
生しやすくなり、50g/cmより大きいとブレードメ
クレが発生し易くなる。圧接の方法としては予めブレー
ドの当接位置を決めてブレードを固定する方法、重りに
より荷重を調節する方法、ばねを利用する方法等がある
が、圧接力のばらつきを低減させるには重り荷重方式が
好ましい。
【0126】なおクリーニング工程の前段階において
は、クリーニングを容易にするために感光体表面を除電
する除電工程を付加する事が好ましい。この除電工程
は、例えば交流コロナ放電を生じさせる除電器により行
われる。
は、クリーニングを容易にするために感光体表面を除電
する除電工程を付加する事が好ましい。この除電工程
は、例えば交流コロナ放電を生じさせる除電器により行
われる。
【0127】図2はクリーニングブレードの感光体への
当接条件の説明図である。図2において、電子写真感光
体は1、ブレード当接角はθで表される。又、前記クリ
ーニングブレード2の自由長Lは図1に示すようにホル
ダー3(ブレードホルダー)の端部Bから変形前のブレ
ードの先端点の長さを表す。hはブレードの厚さを示
す。又ブレード当接角θは感光体の当接点Aにおける接
線Xと変形前のブレード(図面では点線で示した)との
なす角を表す。又食い込み量aは図1に示すように感光
体外周S0の半径r0と変形前のブレード(図面では点線
で示した)の位置A′を一点とする感光体と同一中心軸
Cを中心とした円S1の半径r1との差である。該クリー
ニングブレードの感光体への当接角θの好ましい値とし
てはθ=5〜35°である。又、前記クリーニングブレ
ードの自由長Lは図2に示すように支持部材191の端
部から変形前のブレードの先端点の長さを表す。該自由
長の好ましい値としてはl=6〜15mm、である。前
記クリーニングブレードの厚さは0.5〜10mmが好
ましい。
当接条件の説明図である。図2において、電子写真感光
体は1、ブレード当接角はθで表される。又、前記クリ
ーニングブレード2の自由長Lは図1に示すようにホル
ダー3(ブレードホルダー)の端部Bから変形前のブレ
ードの先端点の長さを表す。hはブレードの厚さを示
す。又ブレード当接角θは感光体の当接点Aにおける接
線Xと変形前のブレード(図面では点線で示した)との
なす角を表す。又食い込み量aは図1に示すように感光
体外周S0の半径r0と変形前のブレード(図面では点線
で示した)の位置A′を一点とする感光体と同一中心軸
Cを中心とした円S1の半径r1との差である。該クリー
ニングブレードの感光体への当接角θの好ましい値とし
てはθ=5〜35°である。又、前記クリーニングブレ
ードの自由長Lは図2に示すように支持部材191の端
部から変形前のブレードの先端点の長さを表す。該自由
長の好ましい値としてはl=6〜15mm、である。前
記クリーニングブレードの厚さは0.5〜10mmが好
ましい。
【0128】前記クリーニングブレード、即ち弾性体ゴ
ムブレードの物性のうち硬度と反発弾性を同時にコント
ロールすることにより、より有効にブレードの反転を抑
制できる。25±5℃に於けるブレードのJISA硬度
が65よりも小さくなるとブレードの反転が起こり易く
なり、80より大きくなるとクリーニング性能が低下す
る。また、反発弾性が75を超えるとブレードの反転が
おこり易くなり、20以下だとクリーニング性能が低下
する。これら硬度と反発弾性が同時に請求範囲を満たさ
ないと効果が得られない。更に、好ましくは反発弾性は
20以上65以下である。(JISA硬度及び反発弾性
ともJISK6301の加硫ゴム物理試験方法に基づき
測定する。反発弾性の数値は%を示す。) 上記弾性体ゴムブレードの硬度と反発弾性をコントロー
ルすることによって長期にわたってブレードの反転もな
く安定なクリーニング性能を維持することが可能であ
る。その結果、減耗も少なくクリーニング性にも優れた
高耐久画像形成方法を提供することができる。
ムブレードの物性のうち硬度と反発弾性を同時にコント
ロールすることにより、より有効にブレードの反転を抑
制できる。25±5℃に於けるブレードのJISA硬度
が65よりも小さくなるとブレードの反転が起こり易く
なり、80より大きくなるとクリーニング性能が低下す
る。また、反発弾性が75を超えるとブレードの反転が
おこり易くなり、20以下だとクリーニング性能が低下
する。これら硬度と反発弾性が同時に請求範囲を満たさ
ないと効果が得られない。更に、好ましくは反発弾性は
20以上65以下である。(JISA硬度及び反発弾性
ともJISK6301の加硫ゴム物理試験方法に基づき
測定する。反発弾性の数値は%を示す。) 上記弾性体ゴムブレードの硬度と反発弾性をコントロー
ルすることによって長期にわたってブレードの反転もな
く安定なクリーニング性能を維持することが可能であ
る。その結果、減耗も少なくクリーニング性にも優れた
高耐久画像形成方法を提供することができる。
【0129】前記弾性体ゴムブレードの材質としてはウ
レタンゴム、シリコンゴム、フッソゴム、クロロピレン
ゴム、ブタジエンゴム等が知られているが、これらの
内、ウレタンゴムは他のゴムに比して摩耗特性が優れて
いる点で特に好ましい。例えば、特開昭59−3057
4号に記載のポリカプロラクトンエステルとポリイソシ
アネートとを反応硬化せしめて得られるウレタンゴム等
が好ましい。
レタンゴム、シリコンゴム、フッソゴム、クロロピレン
ゴム、ブタジエンゴム等が知られているが、これらの
内、ウレタンゴムは他のゴムに比して摩耗特性が優れて
いる点で特に好ましい。例えば、特開昭59−3057
4号に記載のポリカプロラクトンエステルとポリイソシ
アネートとを反応硬化せしめて得られるウレタンゴム等
が好ましい。
【0130】又、本発明の画像形成方法はクリーニング
工程が弾性体ゴムブレードのクリーニングブレードを用
いており、且つ前記シロキサン系樹脂層を有する電子写
真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像形成
することを特徴とする。
工程が弾性体ゴムブレードのクリーニングブレードを用
いており、且つ前記シロキサン系樹脂層を有する電子写
真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像形成
することを特徴とする。
【0131】即ち、本発明の画像形成方法は前記シロキ
サン系樹脂層を有する電子写真感光体は脂肪酸金属塩と
の親和性が特異的に向上し、感光体表面に均一に脂肪酸
金属塩の薄膜を効果的に形成できることを見出して達成
されたものである。この技術の具体的な実現手段として
下記に記載した方法が効果的である。即ち、 現像剤中に脂肪酸金属塩を含有させる。
サン系樹脂層を有する電子写真感光体は脂肪酸金属塩と
の親和性が特異的に向上し、感光体表面に均一に脂肪酸
金属塩の薄膜を効果的に形成できることを見出して達成
されたものである。この技術の具体的な実現手段として
下記に記載した方法が効果的である。即ち、 現像剤中に脂肪酸金属塩を含有させる。
【0132】感光体表面層に脂肪酸金属塩を含有させ
る。 クリーニング補助部材を介して脂肪酸金属塩を感光体
表面に供給する。
る。 クリーニング補助部材を介して脂肪酸金属塩を感光体
表面に供給する。
【0133】前記脂肪酸金属塩は一般に炭素数10以上
の飽和又は不飽和脂肪酸の金属塩が好ましい。たとえば
ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸インジウム、
ステアリン酸ガリウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン
酸リチウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸
ナトリウム、パルチミン酸アルミニウム、オレイン酸ア
ルミニウム等が挙げられ、より好ましくはステアリン酸
金属塩である。
の飽和又は不飽和脂肪酸の金属塩が好ましい。たとえば
ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸インジウム、
ステアリン酸ガリウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン
酸リチウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸
ナトリウム、パルチミン酸アルミニウム、オレイン酸ア
ルミニウム等が挙げられ、より好ましくはステアリン酸
金属塩である。
【0134】本発明では脂肪酸金属塩の中でも特にフロ
ーテスターの流出速度が高い脂肪酸金属塩は劈開性が高
く、本発明の前記感光体表面でより効果的に脂肪酸金属
塩の層を形成することができる。流出速度の範囲として
は1×10-7以上1×10-1以下が好ましく、5×10
-4以上1×10-2以下であると最も好ましい。フローテ
スターの流出速度の測定は島津フローテスター「CFT
−500」(島津製作所(株)製)を用いて測定した。
ーテスターの流出速度が高い脂肪酸金属塩は劈開性が高
く、本発明の前記感光体表面でより効果的に脂肪酸金属
塩の層を形成することができる。流出速度の範囲として
は1×10-7以上1×10-1以下が好ましく、5×10
-4以上1×10-2以下であると最も好ましい。フローテ
スターの流出速度の測定は島津フローテスター「CFT
−500」(島津製作所(株)製)を用いて測定した。
【0135】次に脂肪酸金属塩の各供給手段について記
載する。現像剤中に脂肪酸金属塩を含有させる場合は、
トナーの後処理工程でトナー中に脂肪酸金属塩を混合攪
拌して分散させるのが好ましい。添加量はトナーの粒径
等にも依存するが、一般的なトナーの粒径2〜15μ
(体積平均粒径)では0.01〜1質量%が好ましい。
脂肪酸金属塩が0.01質量%以下だとトナー表面から
感光体表面への移行が不十分となり感光体表面に薄膜を
形成することが難しい。また1質量%以上だと感光体表
面に形成された脂肪酸金属塩薄膜への紙粉の付着が増大
し、画像ボケが発生しやすくなる。
載する。現像剤中に脂肪酸金属塩を含有させる場合は、
トナーの後処理工程でトナー中に脂肪酸金属塩を混合攪
拌して分散させるのが好ましい。添加量はトナーの粒径
等にも依存するが、一般的なトナーの粒径2〜15μ
(体積平均粒径)では0.01〜1質量%が好ましい。
脂肪酸金属塩が0.01質量%以下だとトナー表面から
感光体表面への移行が不十分となり感光体表面に薄膜を
形成することが難しい。また1質量%以上だと感光体表
面に形成された脂肪酸金属塩薄膜への紙粉の付着が増大
し、画像ボケが発生しやすくなる。
【0136】又、トナーへの流動性付与の観点から、無
機微粒子、有機微粒子をトナーに添加し混合攪拌処理を
繰り返すことが好ましい。この場合、特に無機微粒子の
使用が好ましく、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機
酸化物粒子の使用が好ましく、更に、これら無機微粒子
はシランカップリング剤やチタンカップリング剤等によ
って疎水化処理されていることが好ましい次に本感光体
表面層に脂肪酸金属塩を含有させる場合は以下に記すよ
うな本発明のシロキサン系樹脂層の塗布溶液中に分散或
いは溶解させて塗布、乾燥させればよい。該シロキサン
系樹脂層中の脂肪酸金属塩の存在量は0.1質量%〜1
0質量%が好ましい。脂肪酸金属塩が0.01質量%以
下だと十分な効果が得られない。また10質量%以上だ
と感光体表面への紙粉の付着が増大し、画像ボケが発生
しやすくなる。
機微粒子、有機微粒子をトナーに添加し混合攪拌処理を
繰り返すことが好ましい。この場合、特に無機微粒子の
使用が好ましく、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機
酸化物粒子の使用が好ましく、更に、これら無機微粒子
はシランカップリング剤やチタンカップリング剤等によ
って疎水化処理されていることが好ましい次に本感光体
表面層に脂肪酸金属塩を含有させる場合は以下に記すよ
うな本発明のシロキサン系樹脂層の塗布溶液中に分散或
いは溶解させて塗布、乾燥させればよい。該シロキサン
系樹脂層中の脂肪酸金属塩の存在量は0.1質量%〜1
0質量%が好ましい。脂肪酸金属塩が0.01質量%以
下だと十分な効果が得られない。また10質量%以上だ
と感光体表面への紙粉の付着が増大し、画像ボケが発生
しやすくなる。
【0137】尚、本発明の画像形成方法をファクシミリ
のプリンターとして使用する場合には、像露光器53は
受信データをプリントするための露光を行うことにな
る。
のプリンターとして使用する場合には、像露光器53は
受信データをプリントするための露光を行うことにな
る。
【0138】本発明の電子写真感光体は、複写機、レー
ザープリンター、LEDプリンター、液晶シャッター式
プリンター等の電子写真装置一般に適用し得るものであ
るが、更には電子写真技術を応用したディスプレイ、記
録、軽印刷、製版、ファクシミリ等の装置にも広く適用
し得るものである。
ザープリンター、LEDプリンター、液晶シャッター式
プリンター等の電子写真装置一般に適用し得るものであ
るが、更には電子写真技術を応用したディスプレイ、記
録、軽印刷、製版、ファクシミリ等の装置にも広く適用
し得るものである。
【0139】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、文中
「部」とは「質量部」を表す。
るが、本発明の態様はこれに限定されない。なお、文中
「部」とは「質量部」を表す。
【0140】 感光体1の作製 〈中間層〉 チタンキレート化合物(TC−750 松本製薬製) 30g シランカップリング剤(KBM−503 信越化学社製) 17g 2−プロパノール 150ml 上記塗布液を用いてφ60mmの円筒形の導電性支持体
上に、乾燥膜厚0.5μmとなるよう塗布した。
上に、乾燥膜厚0.5μmとなるよう塗布した。
【0141】 〈電荷発生層〉 Y型チタニルフタロシアニン(Cu−Kα特性X線によるX線回折の最大 ピーク角度が2θで27.3) 60g シリコーン変性ブチラール樹脂(X−40−1211:信越化学社製) 700g 2−ブタノン 2000ml を混合し、サンドミルを用いて10時間分散し、電荷発
生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に
浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層
を形成した。
生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に
浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚0.2μmの電荷発生層
を形成した。
【0142】 〈電荷輸送層〉 電荷輸送物質(4−メトキシ−4′−(4−メチル−α−フェニルスチリル) トリフェニルアミン) 225g ポリカーボネート(粘度平均分子量30,000) 300g 酸化防止剤(例示化合物1−7) 6g 1,2−ジクロロメタン 2000ml を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この
塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾
燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾
燥膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
【0143】 〈保護層〉 メチルトリメトキシシラン 182g 化合物(例示化合物B−1) 40g 金属酸化物粒子(表1) 10g 酸化防止剤(例示化合物2−1) 1g 2−プロパノール 225g 2%酢酸 106g アルミニウムトリスアセチルアセトナート 1g を混合し、保護層用の塗布液を調製した。この塗布液を
前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により乾燥
膜厚3μmの樹脂層を形成し、更に110℃、1時間の
加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層
の保護層を有する感光体1を作製した。
前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により乾燥
膜厚3μmの樹脂層を形成し、更に110℃、1時間の
加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層
の保護層を有する感光体1を作製した。
【0144】感光体2〜6の作製 感光体1と同様にして電荷輸送層までを作製した。
【0145】 〈保護層〉 メチルトリメトキシシラン 100g ジメトキシジメチルシラン 53g 化合物(例示化合物B−1) 45g 酸化防止剤(例示化合物2−1) 1g 2−プロパノール 225g 3%酢酸 30g 金属酸化物粒子(表1) 10g トリアセチルアセトナトアルミニウム 3g を混合し、樹脂層用の塗布液を調製した。この塗布液を
前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により乾燥
膜厚2μmの樹脂層を形成し、更に110℃、1時間の
加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層
の保護層を有する感光体2〜6を作製した。
前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により乾燥
膜厚2μmの樹脂層を形成し、更に110℃、1時間の
加熱硬化を行い、架橋構造を有するシロキサン系樹脂層
の保護層を有する感光体2〜6を作製した。
【0146】感光体7の作製 感光体1の作製において、保護層の金属酸化物の代わり
に、コロイダルシリカ(IPA−ST:日産化学)を用
いた以外は感光体1と同じにして感光体7を作製した。
に、コロイダルシリカ(IPA−ST:日産化学)を用
いた以外は感光体1と同じにして感光体7を作製した。
【0147】評価用現像剤1の作製 スチレン:ブチルアクリレート:ブチルメタクリレート
=75:20:5の質量比からなるスチレンアクリル樹
脂100部、カーボンブラック10部、低分子量ポリプ
ロピレン(数平均分子量=3500)4部とを溶融、混
練した後、機械式粉砕機を使用し、微粉砕を行い、分級
して体積平均粒径が6.5μmの着色粒子を得た。
=75:20:5の質量比からなるスチレンアクリル樹
脂100部、カーボンブラック10部、低分子量ポリプ
ロピレン(数平均分子量=3500)4部とを溶融、混
練した後、機械式粉砕機を使用し、微粉砕を行い、分級
して体積平均粒径が6.5μmの着色粒子を得た。
【0148】得られた着色粒子100部に対して外添剤
として平均粒径12nmの疎水性シリカ粒子(R80
5:日本アエロジル社製)0.4部、チタニア粒子(T
805:日本アエロジル社製)0.6部を混合し、ヘン
シェルミキサーで常温下、撹拌羽根の周速40(m/s
ec)で10分間混合し、負帯電性トナーを得た。この
トナーの固着率は45%であった。
として平均粒径12nmの疎水性シリカ粒子(R80
5:日本アエロジル社製)0.4部、チタニア粒子(T
805:日本アエロジル社製)0.6部を混合し、ヘン
シェルミキサーで常温下、撹拌羽根の周速40(m/s
ec)で10分間混合し、負帯電性トナーを得た。この
トナーの固着率は45%であった。
【0149】上記トナーに、シリコーン樹脂を被覆した
体積平均粒径60μmのフェライトキャリアを混合し
て、トナー濃度が5%の現像剤を調整した。
体積平均粒径60μmのフェライトキャリアを混合し
て、トナー濃度が5%の現像剤を調整した。
【0150】評価用現像剤2の作製 現像剤1の作製においてトナーの外添剤としてステアリ
ン酸亜鉛(ジンクステアレート S:日本油脂社製)
0.05部を加えた他は現像剤1と同様にして現像剤2
を作製した。
ン酸亜鉛(ジンクステアレート S:日本油脂社製)
0.05部を加えた他は現像剤1と同様にして現像剤2
を作製した。
【0151】〈評価〉 特性評価、ブレードトルク評価 特性評価は本感光体をコニカ社製デジタル複写機Kon
ica7040(レーザ露光、反転現像、爪分離、ブレ
ードクリーニングプロセスを有する)に搭載し、初期帯
電電位を−750Vに設定し、高温高湿環境(30℃、
80%RH)にてA4普通紙20万枚の連続コピー実写
評価を行った。
ica7040(レーザ露光、反転現像、爪分離、ブレ
ードクリーニングプロセスを有する)に搭載し、初期帯
電電位を−750Vに設定し、高温高湿環境(30℃、
80%RH)にてA4普通紙20万枚の連続コピー実写
評価を行った。
【0152】評価プロセス条件 尚、上記7040を用いた画像評価条件は下記の条件に
設定した。
設定した。
【0153】帯電条件 帯電器;スコロトロン帯電器、初期帯電電位を−750
V 現像条件 DCバイアス ;−500V Dsd(感光体と現像スリーブ間距離);600μm 現像剤層規制 ;磁性H−Cut方式 現像剤層厚 ;700μm 現像スリーブ径;40mm 転写条件 転写極;コロナ転写方式、転写ダミー電流値:45μA クリーニング条件 弾性体ゴムブレード;自由長9mm、厚さ:2mm、硬
度:70°、反発弾性:35%のゴムブレードを使用 特性評価は、画素率が7%の文字画像、人物顔写真、ベ
タ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ1/4等分にあるオリ
ジナル画像をA4での複写を行い、1000枚毎にハー
フトーン、ベタ白画像、ベタ黒画像を評価した。
V 現像条件 DCバイアス ;−500V Dsd(感光体と現像スリーブ間距離);600μm 現像剤層規制 ;磁性H−Cut方式 現像剤層厚 ;700μm 現像スリーブ径;40mm 転写条件 転写極;コロナ転写方式、転写ダミー電流値:45μA クリーニング条件 弾性体ゴムブレード;自由長9mm、厚さ:2mm、硬
度:70°、反発弾性:35%のゴムブレードを使用 特性評価は、画素率が7%の文字画像、人物顔写真、ベ
タ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ1/4等分にあるオリ
ジナル画像をA4での複写を行い、1000枚毎にハー
フトーン、ベタ白画像、ベタ黒画像を評価した。
【0154】ブレードトルクの評価はトルク測定用ドラ
ムカートリッジ(コニカ社製デジタル複写機Konic
a7040のカートリッジ利用)に感光体を装着し、中
心軸を通して固定した感光体に対して弾性体ゴムブレー
ドを当接角10°、食い込み量1.5mmで固定方式で
当接し、ドラムの起動トルクを測定した。ブレードトル
クの測定は初期トルクを測定した後、10万コピー毎に
測定した。
ムカートリッジ(コニカ社製デジタル複写機Konic
a7040のカートリッジ利用)に感光体を装着し、中
心軸を通して固定した感光体に対して弾性体ゴムブレー
ドを当接角10°、食い込み量1.5mmで固定方式で
当接し、ドラムの起動トルクを測定した。ブレードトル
クの測定は初期トルクを測定した後、10万コピー毎に
測定した。
【0155】前記弾性体ゴムブレードに用いられる弾性
体ゴムブレードの物性値;硬度と反発弾性はJISA硬
度及び反発弾性として、JISK6301の加硫ゴム物
理試験方法に基づいて測定される。
体ゴムブレードの物性値;硬度と反発弾性はJISA硬
度及び反発弾性として、JISK6301の加硫ゴム物
理試験方法に基づいて測定される。
【0156】ブレードめくれ評価 ◎:20万枚までブレードメクレ発生なし ○:10万枚までブレードメクレ発生なし △:5万枚までブレードメクレ発生なし ×:5万枚未満までブレードメクレ発生 画像評価 ◎:20万枚まで1枚も画像不良なし ○:10万枚まで1枚も画像不良なし △:10万枚まで画像不良が1〜4枚 ×:10万枚まで画像不良が5枚以上発生 (画像不良とは著しい濃度低下、カブリの発生、解像度
の低下、スジ状、或いはポチ状等の画像欠陥が発生し、
商品性能として不適な画像)
の低下、スジ状、或いはポチ状等の画像欠陥が発生し、
商品性能として不適な画像)
【0157】
【表1】
【0158】
【表2】
【0159】表2から明らかなように本発明の電荷輸送
性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケイ素
原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含有す
る樹脂層を保護層している実施例1〜7(感光体1〜
6)は比較例1の感光体7に対し高温高湿条件の複写画
像評価において、明らかに優れている。又、クリーニン
グブレードとのトルク値は本発明の実施例1〜7(感光
体1〜6)はコピー枚数の増加と共にトルク値が低下し
ており、比較例1の感光体7に比し、ブレードめくれも
改良されていることが見出される。
性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケイ素
原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含有す
る樹脂層を保護層している実施例1〜7(感光体1〜
6)は比較例1の感光体7に対し高温高湿条件の複写画
像評価において、明らかに優れている。又、クリーニン
グブレードとのトルク値は本発明の実施例1〜7(感光
体1〜6)はコピー枚数の増加と共にトルク値が低下し
ており、比較例1の感光体7に比し、ブレードめくれも
改良されていることが見出される。
【0160】
【発明の効果】上記実施例より、本発明の電荷輸送性能
を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケイ素原子
とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含有する樹
脂層を保護層としている感光体は従来のコロイダルシリ
カを用いたシロキサン系樹脂層の保護層を有する感光体
に比し、高温高湿での画像品質を改善し、更にクリーニ
ングブレードを用いた画像形成方法或いは画像形成装置
において、弾性体ゴムブレードと感光体との間のトルク
を減少させ、ブレードめくれの発生を防止する効果を有
することが示されている。
を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂とケイ素原子
とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子を含有する樹
脂層を保護層としている感光体は従来のコロイダルシリ
カを用いたシロキサン系樹脂層の保護層を有する感光体
に比し、高温高湿での画像品質を改善し、更にクリーニ
ングブレードを用いた画像形成方法或いは画像形成装置
において、弾性体ゴムブレードと感光体との間のトルク
を減少させ、ブレードめくれの発生を防止する効果を有
することが示されている。
【図1】本発明の画像形成装置の全体の構成を示す概要
構成図である。
構成図である。
【図2】クリーニングブレードの感光体への当接条件の
説明図。
説明図。
1 電子写真感光体 2 クリーニングブレード 3 ホルダー 4 ホルダー支点 L 自由長 a 食い込み量 A 当接点 θ ブレード当接角 21 感光体 22 帯電器 23 現像装置 24 転写器 25 分離器 26 クリーニング手段 26A 弾性体ゴムブレード 27 PCL(プレチャージランプ) 30 露光光学系 73 環境条件検知手段 731 温度センサ 732 湿度センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H068 AA03 AA16 AA19 AA41 BA12 BA39 BB33 BB44 CA29 CA33 CA60
Claims (16)
- 【請求項1】 導電性支持体上に複数の樹脂層を有する
電子写真感光体において、該樹脂層の少なくとも1つが
電荷輸送性能を有する構造単位を含むシロキサン系樹脂
とケイ素原子とは異なる金属原子を含む金属酸化物粒子
を含有する樹脂層であることを特徴とする電子写真感光
体。 - 【請求項2】 前記電荷輸送性能を有する構造単位を有
し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂が水酸基、
或いは加水分解性基を有する有機ケイ素化合物と、下記
一般式(1)で示される化合物とを反応させて得られる
シロキサン系樹脂であることを特徴とする請求項1に記
載の電子写真感光体。 一般式(1) B−(R1−ZH)m 式中、Bは電荷輸送性能を有する構造単位を含む1価又
は多価の基を表し、R 1は単結合又は2価のアルキレン
基を表し、Zは酸素原子、硫黄原子又はNHを表し、m
は1〜4の整数を表す。 - 【請求項3】 前記一般式(1)中のZが酸素原子であ
ることを特徴とする請求項2に記載の電子写真感光体。 - 【請求項4】 前記有機ケイ素化合物が下記一般式
(2)及び(3)で表される化合物若しくはこれらの加
水分解生成物であることを特徴とする請求項2又は3に
記載の電子写真感光体。 一般式(2) R1Si(X′)3 一般式(3) R1R2Si(X″)2 (式中、R1、R2は炭素数1〜10のアルキル基、アリ
ール基、ビニル基、アミノ基、γ−グリシドキシプロピ
ル基、γ−メタクリロオキシプロピル基、CnF2n+1C2
H4−を表す。X′、X″は水酸基又は加水分解性基を
表わす。) - 【請求項5】 前記電荷輸送性能を有する構造単位を含
むシロキサン系樹脂が下記一般式(4)で表される構造
を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に
記載の電子写真感光体。一般式(4) 【化1】 (式中、Xは電荷輸送性能を有する構造単位、Yは2価
以上の任意の連結基を表し、Siはケイ素原子を表
す。) - 【請求項6】 前記電荷輸送性能を有する構造単位を含
むシロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子を
含む金属酸化物粒子を含有する樹脂層が酸化防止剤を含
有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に
記載の電子写真感光体。 - 【請求項7】 前記電荷輸送性能を有する構造単位を含
むシロキサン系樹脂とケイ素原子とは異なる金属原子を
含む金属酸化物粒子を含有する樹脂層が該感光体の保護
層であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項
に記載の電子写真感光体。 - 【請求項8】 前記導電性支持体と前記保護層の間に中
間層、感光層を有することを特徴とする請求項7に記載
の電子写真感光体。 - 【請求項9】 前記感光層がチタニルフタロシアニンを
含有することを特徴とする請求項8に記載の電子写真感
光体。 - 【請求項10】 電子写真感光体上に、少なくとも帯
電、像露光、現像、クリーニングを行う工程を有する画
像形成方法において、該電子写真感光体に請求項1〜9
のいずれか1項に記載の電子写真感光体を用いることを
特徴とする画像形成方法。 - 【請求項11】 電子写真感光体と、少なくとも帯電、
像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形成方
法において、該電子写真感光体に請求項1〜9のいずれ
か1項に記載の電子写真感光体を用い、該クリーニング
工程がクリーニングブレードを用いており、且つ該電子
写真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像形
成することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項12】 前記電子写真感光体の表面に供給され
る脂肪酸金属塩が現像剤に含有されていることを特徴と
する請求項11に記載の画像形成方法。 - 【請求項13】 電子写真感光体と、少なくとも帯電、
像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形成装
置において、該電子写真感光体に請求項1〜9のいずれ
か1項に記載の電子写真感光体を用いることを特徴とす
る画像形成装置。 - 【請求項14】 電子写真感光体と、少なくとも帯電、
像露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形成装
置において、該電子写真感光体に請求項1〜9のいずれ
か1項に記載の電子写真感光体を用い、該クリーニング
手段がクリーニングブレードを用いており、且つ該電子
写真感光体の表面に脂肪酸金属塩を供給しながら画像形
成することを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項15】 前記電子写真感光体の表面に供給され
る脂肪酸金属塩が現像手段に含有されていることを特徴
とする請求項14に記載の画像形成装置。 - 【請求項16】 電子写真感光体と少なくとも帯電、像
露光、現像、クリーニングの手段を有する画像形成装置
に用いられるプロセスカートリッジが請求項1〜9のい
ずれか1項に記載の電子写真感光体と帯電器、像露光
器、現像器、クリーニング器のいずれか1つとを一体に
組み合わせて有しており、該画像形成装置に出し入れ自
由に設計されていることを特徴とするプロセスカートリ
ッジ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000068544A JP2001255684A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000068544A JP2001255684A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001255684A true JP2001255684A (ja) | 2001-09-21 |
Family
ID=18587587
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000068544A Pending JP2001255684A (ja) | 2000-03-13 | 2000-03-13 | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001255684A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007034312A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Samsung Electronics Co Ltd | 電子写真感光体及び電子写真画像の形成装置 |
CN111708261A (zh) * | 2019-03-18 | 2020-09-25 | 富士电机株式会社 | 电子照相用感光体、其制造方法以及电子照相装置 |
-
2000
- 2000-03-13 JP JP2000068544A patent/JP2001255684A/ja active Pending
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JP2007034312A (ja) * | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Samsung Electronics Co Ltd | 電子写真感光体及び電子写真画像の形成装置 |
CN111708261A (zh) * | 2019-03-18 | 2020-09-25 | 富士电机株式会社 | 电子照相用感光体、其制造方法以及电子照相装置 |
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