JP2002333732A - 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は電位安定性の良好な、且つ黒
ポチ等の画像欠陥を発生しない電子写真感光体を提供す
ることであり、該電子写真感光体を用いた画像形成方
法、画像形成装置、プロセスカートリッジを提供するこ
とにある。 【解決手段】 導電性支持体上に、中間層を介して感光
層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
ケイ素化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒子とバイ
ンダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有機
ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構造
成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機やプリンタ
ーの分野において用いられる電子写真感光体、及び該電
子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、プ
ロセスカートリッジに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子写真感光体（以下単に、感光
体とも云う）は有機光導電物質を含有する有機電子写真
感光体（以後、有機感光体とも云う）が最も広く用いら
れている。有機感光体は可視光から赤外光まで各種露光
光源に対応した材料を開発しやすいこと、環境汚染のな
い材料を選択できること、製造コストが安いことなどが
他の感光体に対して有利な点であるが、欠点としては機
械的強度が弱く、多数枚の複写やプリント時に感光体表
面の劣化や傷が発生しやすいことである。

【０００３】上記のような有機感光体の耐久性を向上す
るための課題としてクリーニングブレード等の擦過によ
る摩耗を抑制することが強く求められてきた。そのため
のアプローチとして、感光体の表面に高強度の保護層を
設置するなどの技術が検討されてきた。例えば特開平６
−１１８６８１号公報では感光体の表面層として、コロ
イダルシリカ含有硬化性シロキサン樹脂を用いることが
報告されている。しかし、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−
Ｓｉ結合）が三次元的に繰り返されてなるシリカのみか
らなる保護層では、表面にクラック（亀裂）が発生した
り、感光層との接着性が悪化したり、感光層の静電特性
が低下して問題となっていた。

【０００４】又、耐摩耗性と感光層との接着性を改善す
る試みとして有機ポリマーと架橋されたシロキサン成分
の両特性を併せ持つ、有機−無機のハイブリッドポリマ
ーが提案されている。例えば特開２０００−２２１７２
３号公報には電子写真感光体の保護層としてポリシロキ
サンとシリル基含有ビニル系樹脂とが化学的に結合した
重合体を含有する保護層が報告されている。しかしなが
ら、このような保護層を有する感光体は機械的な耐摩耗
特性は改善されるが、繰り返し使用時の電子写真特性が
不十分であり、カブリや画像ボケが発生しやすく、この
ような保護層を有する感光体はカールソンプロセス等の
最も広く使用されている電子写真方式の感光体としては
不適であった。

【０００５】そこで、機械的な耐摩耗性と繰り返し使用
時の電子写真特性を同時に満足する電子写真感光体の保
護層として、本研究者等は電荷輸送性能付与基を有し、
且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂層を感光体の保
護層として提案してきた（特願平１１−７０３０８
号）。この保護層を有する感光体は従来の重要な課題で
あった耐摩擦特性、及び繰り返し使用時の電子写真特性
（帯電、感度、残留電位特性等）が改善され、高耐久の
有機感光体として十分に実用性を有している。しかしな
がら、この保護層を有する感光体もデジタル方式の電子
写真画像形成では尚以下のような問題を有している。

【０００６】即ち、デジタル方式の電子写真画像形成で
は、一般に反転現像方式（露光部分を現像する現像方
法）が用いられているが、この反転現像を用いた画像形
成方法の特有の問題として、本来白地部分として画像形
成されるべき箇所に、トナーが付着してカブリ発生させ
る現象や、感光体の局部的な欠陥による黒ポチの発生が
知られている。

【０００７】上記シロキサン系樹脂層を保護層とする感
光体はフタロシアニン系の顔料等で形成された感光層と
組み合わせると、画像形成を一定時間休止し、その後画
像形成を再開した直後の帯電電位が２回目以降の帯電電
位よりも低くなる問題を有する。この現象は特に反転現
像では感光体１回転目に画像形成したコピー画像が２回
転目以降に比較して明らかに劣る原因となる。画像欠陥
としては本来白地へのトナーカブリとして現れるため目
立ちやすく深刻である。

【０００８】又、上記シロキサン系樹脂層を保護層とす
る感光体は高温高湿環境下等で黒ポチの発生を十分に抑
制できていない。又、シロキサン結合に残留する親水性
基（例えば水酸基）等が原因で高温高湿環境下等で帯電
電位が低下しやすい傾向がある。更に高湿環境では画像
の解像度が従来の有機感光体に比べて著しく低下する問
題も明らかとなった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点に鑑み、電位安定性の良好な、且つ黒ポチ等
の画像欠陥を発生しない電子写真感光体を提供すること
であり、更に詳しくは黒ポチ等の画像欠陥を発生させ
ず、繰り返し使用でも電位安定性の良好な電子写真感光
体、及び該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像
形成装置、プロセスカートリッジを提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は感光体を
構成する各層に検討を加えた結果、上記課題に対し下記
のような感光体構成を採用することにより達成された。

【００１１】１．導電性支持体上に、中間層を介して感
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複
数回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有
機ケイ素化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒子とバ
インダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有
機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構
造成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体。

【００１２】２．前記最後の表面処理がメチルハイドロ
ジェンポリシロキサンを用いて行われたことを特徴とす
る前記１に記載の電子写真感光体。

【００１３】３．前記最後の表面処理が前記一般式
（１）で示される有機ケイ素化合物を用いて行われたこ
とを特徴とする前記１に記載の電子写真感光体。

【００１４】４．前記一般式（１）のＲが炭素数４から
８までのアルキル基であることを特徴とする前記３に記
載の電子写真感光体。

【００１５】５．導電性支持体上に、中間層を介して感
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複
数回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有
機チタン化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒子とバ
インダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有
機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構
造成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体。

【００１６】６．導電性支持体上に、中間層を介して感
光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複
数回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有
機ジルコニウム化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒
子とバインダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層
が、有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸
送性構造成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含
有することを特徴とする電子写真感光体。

【００１７】７．前記複数回の表面処理のうち、少なく
とも１回の表面処理がアルミナ、シリカ、及びジルコニ
アの少なくとも１種以上の表面処理であることを特徴と
する前記１〜６の何れか１項に記載の電子写真感光体。

【００１８】８．前記Ｎ型半導性微粒子が少なくともシ
リカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性
有機ケイ素化合物を用いた表面処理を行うことを特徴と
する前記１〜４の何れか１項に記載の電子写真感光体。

【００１９】９．前記Ｎ型半導性微粒子が少なくともシ
リカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性
有機チタン化合物を用いた表面処理を行うことを特徴と
する前記５に記載の電子写真感光体。

【００２０】１０．前記Ｎ型半導性微粒子が少なくとも
シリカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応
性有機ジルコニウム化合物を用いた表面処理を行うこと
を特徴とする前記６に記載の電子写真感光体。

【００２１】１１．前記Ｎ型半導性微粒子が酸化チタン
粒子であることを特徴とする前記１〜１０の何れか１項
に記載の電子写真感光体。

【００２２】１２．前記Ｎ型半導性微粒子が、ルチル型
の結晶型を有することを特徴とする前記１〜１１の何れ
か１項に記載の電子写真感光体。

【００２３】１３．前記Ｎ型半導性微粒子の数平均一次
粒径が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴と
する前記１〜１２の何れか１項に記載の電子写真感光
体。

【００２４】１４．導電性支持体上に、中間層を介して
感光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、
フッ素原子を有する反応性有機ケイ素化合物を用いて表
面処理された酸化チタン粒子とバインダー樹脂を含有し
ており、該感光層の表面層が、有機ポリマー成分、シロ
キサン縮合体成分、電荷輸送性構造成分、及び酸化防止
構造成分を有する樹脂を含有することを特徴とする電子
写真感光体。

【００２５】１５．前記酸化チタン粒子の数平均一次粒
径が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とす
る前記１４に記載の電子写真感光体。

【００２６】１６．前記中間層のバインダー樹脂がポリ
アミド樹脂であることを特徴とする前記１〜１５の何れ
か１項に記載の電子写真感光体。

【００２７】１７．電子写真感光体の周辺に、少なくと
も帯電手段、像露光手段、現像手段、転写手段、クリー
ニング手段を有し、繰り返し画像形成を行う画像形成方
法において、該電子写真感光体が前記１〜１６の何れか
１項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画
像形成方法。

【００２８】１８．前記１７に記載の画像形成方法を用
いることを特徴とする画像形成装置。

【００２９】１９．前記１８に記載の画像形成装置に用
いられるプロセスカートリッジが、少なくとも前記１〜
１６の何れか１項に記載の電子写真感光体と帯電器、像
露光器、現像器、転写器、クリーニング器の少なくとも
１つを一体として有しており、該画像形成装置に出し入
れ可能に構成されたことを特徴とするプロセスカートリ
ッジ。

【００３０】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の電子写真感光体（以下、単に感光体ともいう）は
導電性支持体と感光層の間に設ける中間層に特定の表面
処理を施されたＮ型半導性微粒子とバインダー樹脂とを
含有させることを特徴としている。そのＮ型半導性微粒
子の表面処理は、複数回の表面処理が行われ、かつ該
複数回の表面処理のうち最後の表面処理が反応性有機ケ
イ素化合物を用いて行われたことを特徴とするもの、
フッ素原子を有する反応性有機ケイ素化合物を用いて行
われたことを特徴とするもの、複数回の表面処理が行
われ、かつ該複数回の表面処理のうち最後の表面処理が
反応性有機チタン化合物を用いて行われたことを特徴と
するもの、及び複数回の表面処理が行われ、かつ該複
数回の表面処理のうち最後の表面処理が反応性有機ジル
コニウム化合物を用いて行われたことを特徴としてい
る。

【００３１】これらの４つのうち何れか一つの表面処理
を施されたＮ型半導性微粒子を含有させて導電性支持体
と感光層の間に中間層を設け、該感光層の表面層とし
て、有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸
送性構造成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含
有する層を設けることにより、残電上昇や、帯電電位低
下といった電子写真特性を劣化させることなく、黒ポチ
の発生を著しく抑制することができ、更には、レーザー
露光によるモアレの発生も改善できることを見出したも
のである。

【００３２】更に、本発明においては、前述のＮ型半導
性微粒子として酸化チタン微粒子を用いることが特に好
ましいものであることを見出したのである。

【００３３】以下、本発明に用いられるＮ型半導性微粒
子及び酸化チタンについて、更に、上記表面処理につい
て詳細に説明する。

【００３４】本発明に用いられるＮ型半導性微粒子と
は、導電性キャリアを電子とする性質をもつ微粒子を示
す。すなわち、導電性キャリアを電子とする性質とは、
該Ｎ型半導性微粒子を絶縁性バインダーに含有させるこ
とにより、基体からのホール注入を効率的にブロック
し、また、感光層からの電子に対してはブロッキング性
を示さない性質を有するものをいう。

【００３５】前記Ｎ型半導性微粒子は、具体的には酸化
チタン（ＴｉＯ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ
（ＳｎＯ₂）等の微粒子が挙げられるが、本発明では、
特に酸化チタンが好ましく用いられる。

【００３６】本発明に用いられるＮ型半導性微粒子の平
均粒径は、数平均一次粒径において１０ｎｍ以上２００
ｎｍ以下の範囲のものが好ましく、より好ましくは１０
ｎｍ〜１００ｎｍ、特に好ましくは、１５ｎｍ〜５０ｎ
ｍである。

【００３７】数平均一次粒径の値が前記範囲内にあるＮ
型半導性微粒子を用いた中間層は層内での分散を緻密な
ものとすることができ、十分な電位安定性、及び黒ポチ
発生防止機能を有する。

【００３８】前記Ｎ型半導性微粒子の数平均一次粒径
は、例えば酸化チタンの場合、透過型電子顕微鏡観察に
よって１００００倍に拡大し、ランダムに１００個の粒
子を一次粒子として観察し、画像解析によりフェレ方向
径の数平均径として測定値される。

【００３９】本発明に用いられるＮ型半導性微粒子の形
状は、樹枝状、針状および粒状等の形状があり、このよ
うな形状のＮ型半導性微粒子は、例えば酸化チタン粒子
では、結晶型としては、アナターゼ型、ルチル型及びア
モルファス型等があるが、いずれの結晶型のものを用い
てもよく、また２種以上の結晶型を混合して用いてもよ
い。その中でもルチル型のものが最も良い。

【００４０】本発明のＮ型半導性微粒子に行われる表面
処理の１つは、複数回の表面処理を行うものであり、か
つ該複数回の表面処理の中で、最後の表面処理を反応性
有機ケイ素化合物を用いた表面処理を行うものである。
また、該複数回の表面処理の中で、少なくとも１回の表
面処理がアルミナ、シリカ、及びジルコニアから選ばれ
る少なくとも１種類以上の表面処理を行い、最後に反応
性有機ケイ素化合物を用いた表面処理を行うことが好ま
しい。

【００４１】尚、アルミナ処理、シリカ処理、ジルコニ
ア処理とはＮ型半導性微粒子表面にアルミナ、シリカ、
或いはジルコニアを析出させる処理を云い、これらの表
面に析出したアルミナ、シリカ、ジルコニアにはアルミ
ナ、シリカ、ジルコニアの水和物も含まれる。又、反応
性有機ケイ素化合物の表面処理とは、処理液に反応性有
機ケイ素化合物を用いることを意味する。

【００４２】また、本発明のＮ型半導性微粒子に行われ
る表面処理の他の方法としては、複数回の表面処理を行
い、かつ該複数回の表面処理の中で、最後の表面処理に
反応性有機チタン化合物や或いは反応性有機ジルコニウ
ム化合物を用いて表面処理を行うものである。また、該
複数回の表面処理の中で、少なくとも１回の表面処理が
上記同様アルミナ、シリカ、及びジルコニアから選ばれ
る少なくとも１種類以上の表面処理を行い、最後に反応
性有機チタン化合物或いは反応性有機ジルコニウム化合
物を用いた表面処理を行うものであることが好ましい。

【００４３】この様に、酸化チタン粒子の様なＮ型半導
性微粒子の表面処理を少なくとも２回以上行うことによ
り、Ｎ型半導性微粒子表面が均一に表面被覆（処理）さ
れ、該表面処理されたＮ型半導性微粒子を中間層に用い
ると、中間層内における酸化チタン粒子等のＮ型半導性
微粒子の分散性が良好で、かつ黒ポチ等の画像欠陥を発
生させない良好な感光体を得ることができるのである。

【００４４】また、該複数回の表面処理をアルミナ及び
シリカの表面処理を行い、次いで反応性有機ケイ素化合
物を用いた表面処理を行うものや、アルミナ及びシリカ
の表面処理の後に反応性有機チタン化合物或いは反応性
有機ジルコニウム化合物を用いた表面処理を行うものが
特に好ましい。

【００４５】なお、前述のアルミナ及びシリカの処理は
同時に行っても良いが、特にアルミナ処理を最初に行
い、次いでシリカ処理を行うことが好ましい。また、ア
ルミナとシリカの処理をそれぞれ行う場合のアルミナ及
びシリカの処理量は、アルミナよりもシリカの多いもの
が好ましい。

【００４６】前記酸化チタン等のＮ型半導性微粒子のア
ルミナ、シリカ、及びジルコニア等の金属酸化物による
表面処理は湿式法で行うことができる。例えば、シリ
カ、又はアルミナの表面処理を行ったＮ型半導性微粒子
は以下の様に作製することができる。

【００４７】Ｎ型半導性微粒子として酸化チタン粒子を
用いる場合、酸化チタン粒子（数平均一次粒子径：５０
ｎｍ）を５０〜３５０ｇ／Ｌの濃度で水中に分散させて
水性スラリーとし、これに水溶性のケイ酸塩又は水溶性
のアルミニウム化合物を添加する。その後、アルカリ又
は酸を添加して中和し、酸化チタン粒子の表面にシリ
カ、又はアルミナを析出させる。続いて濾過、洗浄、乾
燥を行い目的の表面処理酸化チタンを得る。前記水溶性
のケイ酸塩としてケイ酸ナトリウムを使用した場合に
は、硫酸、硝酸、塩酸等の酸で中和することができる。
一方、水溶性のアルミニウム化合物として硫酸アルミニ
ウムを用いたときは水酸化ナトリウムや水酸化カリウム
等のアルカリで中和することができる。

【００４８】なお、上記表面処理の金属酸化物の量は、
前記表面処理時の仕込量にて酸化チタン粒子等のＮ型半
導性微粒子１００質量部に対して、０．１〜５０質量
部、更に好ましくは１〜１０質量部の金属酸化物が用い
られる。尚、前述のアルミナとシリカ処理の場合も例え
ば酸化チタン粒子の場合、酸化チタン粒子１００質量部
に対して各々１〜１０質量部用いることが好ましく、ア
ルミナよりもシリカの量が多いことが好ましい。

【００４９】上記の金属酸化物の表面処理の次に行われ
る反応性有機ケイ素化合物を用いた表面処理は以下の様
な湿式法で行うことが好ましい。

【００５０】即ち、有機溶剤や水に対して前記反応性有
機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた液に前記金属酸
化物で処理された酸化チタンを添加し、この液を数分か
ら１時間程度撹拌する。そして場合によっては該液に加
熱処理を施した後に、濾過等の工程を経た後乾燥し、表
面を有機ケイ素化合物で被覆した酸化チタン粒子を得
る。なお、有機溶剤や水に対して酸化チタンを分散させ
た懸濁液に前記反応性有機ケイ素化合物を添加しても構
わない。

【００５１】尚、本発明において酸化チタン粒子表面が
反応性有機ケイ素化合物により被覆されていることは、
光電子分光法（ＥＳＣＡ）、オージェ電子分光法（Ａｕ
ｇｅｒ）、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）や拡散反
射ＦＩ−ＩＲ等の表面分析手法を複合することによって
確認されるものである。

【００５２】前記表面処理に用いられる反応性有機ケイ
素化合物の量は、前記表面処理時の仕込量にて前記金属
酸化物で処理された酸化チタン１００質量部に対し、反
応性有機ケイ素化合物を０．１〜５０質量部、更に好ま
しくは１〜１０質量部が好ましい。表面処理量が上記範
囲よりも少ないと表面処理効果が十分に付与されず、中
間層内における酸化チタン粒子の分散性等が悪くなる。
また、上記範囲を超えてしまうと電子写真特性を劣化さ
せ、その結果残留電位上昇や帯電電位の低下を招いてし
まう。

【００５３】本発明で用いられる反応性有機ケイ素化合
物としては下記一般式（２）で表される化合物が挙げら
れるが、酸化チタン表面の水酸基等の反応性基と縮合反
応をする化合物であれば、下記化合物に限定されない。

【００５４】一般式（２） （Ｒ）_n−Ｓｉ−（Ｘ）_4-n （式中、Ｓｉはケイ素原子、Ｒは該ケイ素原子に炭素が
直接結合した形の有機基を表し、Ｘは加水分解性基を表
し、ｎは０〜３の整数を表す。） 一般式（２）で表される有機ケイ素化合物において、Ｒ
で示されるケイ素に炭素が直接結合した形の有機基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、オクチル、ドデシル等のアルキル基、フェニ
ル、トリル、ナフチル、ビフェニル等のアリール基、γ
−グリシドキシプロピル、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチル等の含エポキシ基、γ−アクリロキ
シプロピル、γ−メタアクリロキシプロピルの含（メ
タ）アクリロイル基、γ−ヒドロキシプロピル、２，３
−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル等の含水酸基、
ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプ
ロピル等の含メルカプト基、γ−アミノプロピル、Ｎ−
β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル等の含アミノ
基、γ−クロロプロピル、１，１，１−トリフロオロプ
ロピル、ノナフルオロヘキシル、パーフルオロオクチル
エチル等の含ハロゲン基、その他ニトロ、シアノ置換ア
ルキル基を挙げられる。また、Ｘの加水分解性基として
はメトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、ハロゲン基、
アシルオキシ基が挙げられる。

【００５５】また、一般式（２）で表される有機ケイ素
化合物は、単独でも良いし、２種以上組み合わせて使用
しても良い。

【００５６】また、一般式（２）で表される有機ケイ素
化合物の具体的化合物で、ｎが２以上の場合、複数のＲ
は同一でも異なっていても良い。同様に、ｎが２以下の
場合、複数のＸは同一でも異なっていても良い。又、一
般式（２）で表される有機ケイ素化合物を２種以上を用
いるとき、Ｒ及びＸはそれぞれの化合物間で同一でも良
く、異なっていても良い。

【００５７】ｎが０の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロ
シラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロ
シラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス（２−メ
トキシエトキシ）シラン、テトラブトキシシラン、テト
ラフェノキシシラン、テトラキス（２−エチルブトキ
シ）シラン、テトラキス（２−エチルヘキシロキシ）シ
ラン等が挙げられる。

【００５８】ｎが１の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。即ち、トリクロロシラン、メチルトリクロ
ロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロ
シラン、アリルトリクロロシラン、ｎ−プロピルトリク
ロロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、クロロメチ
ルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
ルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニ
ルシラン、エチルトリメトキシシラン、３，３，４，
４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、３，３，３−
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、３
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、２−アミノエチルアミノ
メチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラ
ン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、３−アリルチオプロピルトリメト
キシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−ア
リルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリ
エトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビス（エチルメチルケト
オキシム）メトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキ
シシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリ
エトキシシラン等が挙げられる。

【００５９】ｎが２の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチ
ルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル−３，
３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエト
キシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチ
ル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−ク
ロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジ
エトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキ
シ−３−メルカプトプロピルメチルシラン、３，３，
４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメ
チルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、
ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビ
ニルシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラ
ン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジメトキ
シメチルシラン、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、
３−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、
３−（３−シアノプロピルチオプロピル）ジメトキシメ
チルシラン、３−（２−アセトキシエチルチオプロピ
ル）ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−２−
ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、
３−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、
ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ−３−グ
リシドキシプロピルメチルシラン、３−（３−アセトキ
シプロピルチオ）プロピルジメトキシメチルシラン、ジ
メトキシメチル−３−ピペリジノプロピルシラン、ジエ
トキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。

【００６０】ｎが３の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。トリメチルクロロシラン、メトキシトリメ
チルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメ
チル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−
クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ−３
−メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられ
る。

【００６１】また、一般式（２）で表される有機ケイ素
化合物は、好ましくは前記一般式（１）で示される有機
ケイ素化合物が用いられる。

【００６２】一般式（１）で表される有機ケイ素化合物
においては、更に好ましくはＲが炭素数４から８までの
アルキル基である有機ケイ素化合物が好ましく、具体的
な好ましい化合物例としては、トリメトキシｎ−ブチル
シラン、トリメトキシｉ−ブチルシラン、トリメトキシ
ヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシランが挙げら
れる。

【００６３】又、最後の表面処理に用いる好ましい反応
性有機ケイ素化合物としてはハイドロジェンポリシロキ
サン化合物が挙げられる。該ハイドロジェンポリシロキ
サン化合物の分子量は１０００〜２００００のものが一
般に入手しやすく、又、黒ポチ発生防止機能も良好であ
る。

【００６４】特にメチルハイドロジェンポリシロキサン
を最後の表面処理に用いると良好な効果が得られる。

【００６５】本発明の酸化チタンの表面処理の他の１つ
はフッ素原子を有する有機ケイ素化合物を用いて表面処
理を施された酸化チタン粒子である。該フッ素原子を有
する有機ケイ素化合物を用いた表面処理、前記した湿式
法で行うのが好ましい。

【００６６】即ち、有機溶剤や水に対して前記フッ素原
子を有する有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させ、こ
の中に未処理の酸化チタンを添加し、このような溶液を
数分から１時間程度撹拌して混合し、場合によっては加
熱処理を施した後に、濾過などの工程を経て乾燥し、酸
化チタン表面をフッ素原子を有する有機ケイ素化合物で
被覆する。なお、有機溶剤や水に対して酸化チタンを分
散した懸濁液に前記フッ素原子を有する有機ケイ素化合
物を添加しても構わない。

【００６７】尚、前記酸化チタン表面がフッ素原子を有
する有機ケイ素化合物によって被覆されていることは、
光電子分光法（ＥＳＣＡ）、オージェ電子分光法（Ａｕ
ｇｅｒ）、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）や拡散反
射ＦＩ−ＩＲ等の表面分析装置を用いて複合的に確認す
ることができる。

【００６８】本発明に用いられるフッ素原子を有する有
機ケイ素化合物としては、３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ナノフルオロヘキシルトリクロロシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラ
ン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロ
ロシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオ
ロプロピルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，
６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙
げられる。

【００６９】なお、本発明では、上記のＮ型半導性微粒
子に最後に行われる表面処理を反応性有機チタン化合物
や反応性有機ジルコニウム化合物を用いて行われるもの
も含まれるが、具体的な表面処理方法は、上記反応性有
機ケイ素化合物を用いた表面処理方法に準ずる方法によ
って行われるものである。

【００７０】また、前記Ｎ型半導性微粒子表面が反応性
有機チタン化合物や反応性有機ジルコニウム化合物によ
って被覆されていることは、光電子分光法（ＥＳＣ
Ａ）、オージェ電子分光法（Ａｕｇｅｒ）、２次イオン
質量分析法（ＳＩＭＳ）や拡散反射ＦＩ−ＩＲ等の表面
分析手法を複合的に用いることにより高精度に確認され
るものである。

【００７１】前記Ｎ型半導性微粒子の表面処理に用いら
れる具体的な反応性有機チタン化合物としては、テトラ
プロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の金属アル
コキシド化合物やジイソプロポキシチタニウムビス（ア
セチルアセテート）、ジイソプロポキシチタニウムビス
（エチルアセトアセテート）、ジイソプロポキシチタニ
ウムビス（ラクテート）、ジブトキシチタニウムビス
（オクチレングリコレート）、ジイソプロポキシチタニ
ウムビス（トリエタノールアミナート）等の金属キレー
ト化合物が挙げられる。また、反応性有機ジルコニウム
化合物としては、テトラブトキシジルコニウムやブトキ
シジルコニウムトリ（アセチルアセテート）等の金属ア
ルコキシド化合物や金属キレート化合物が挙げられる。

【００７２】次に、前記表面処理が施された酸化チタン
粒子等のＮ型半導性微粒子（以下、表面処理Ｎ型半導性
微粒子ともいう。また、特に、表面処理が施された酸化
チタン粒子を表面処理酸化チタンとも云う）を用いた中
間層の構成について説明する。

【００７３】本発明の中間層は、前記複数回の表面処理
を行って得られた表面処理酸化チタン等の表面処理Ｎ型
半導性微粒子をバインダー樹脂とともに溶媒中に分散さ
せた液を導電性支持体上に塗布することにより作製され
る。

【００７４】本発明の中間層は導電性支持体と感光層の
間に設けられ、該導電性支持体と感光層のとの接着性改
良、及び該支持体からの電荷注入を防止するバリア機能
を有する。該中間層のバインダー樹脂としては、ポリア
ミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニ
ルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビ
ニルアルコール樹脂やメラミン樹脂、エポキシ樹脂、ア
ルキッド樹脂等の熱硬化性樹脂やこれらの樹脂の繰り返
し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられ
る。これらバインダー樹脂の中でポリアミド樹脂が特に
好ましく、特には共重合、メトキシメチロール化等のア
ルコール可溶性ポリアミドが好ましい。

【００７５】前記バインダー樹脂中に分散される本発明
の表面処理Ｎ型半導性微粒子の量は、例えば表面処理酸
化チタンの場合では、該バインダー樹脂１００質量部に
対し、１０〜１０，０００質量部、好ましくは５０〜
１，０００質量部である。該表面処理酸化チタンをこの
範囲で用いることにより、該酸化チタンの分散性を良好
に保つことができ、黒ポチの発生しない、良好な中間層
を形成することができる。

【００７６】本発明の中間層の膜厚は０．５〜１５μｍ
が好ましい。膜厚を前記範囲で用いることにより、黒ポ
チの発生しない、電子写真特性の良好な中間層を形成で
きる。

【００７７】本発明の中間層を形成するために作製する
中間層塗布液は前記表面処理酸化チタン等の表面処理Ｎ
型半導性微粒子、バインダー樹脂、分散溶媒等から構成
されるが、分散溶媒としては他の感光層の作製に用いら
れる溶媒と同様なものが適宜用いられる。

【００７８】即ち、本発明の中間層、感光層、その他の
層の形成に用いられる溶媒又は分散媒としては、ｎ−ブ
チルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソ
プロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、
シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタ
ン、１，２−ジクロロプロパン、１，１，２−トリクロ
ロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、
ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、
ブタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げ
られる。

【００７９】中間層塗布液溶媒としては、これらに限定
されるものではないが、メタノール、エタノール、ブタ
ノール、１−プロパノール、イソプロパノール等が好ま
しく用いられる。また、これらの溶媒は単独或いは２種
以上の混合溶媒として用いることもできる。

【００８０】また、中間層塗布溶媒としては、中間層塗
布時の乾燥ムラの発生を防止するために高い樹脂溶解性
を有するメタノールと直鎖アルコールとの混合溶媒を用
いることが好ましく、好ましい溶媒の比率は、体積比で
メタノール１に対して直鎖アルコールを０．０５〜０．
６の比率で混合したものがよい。この様に塗布溶媒を混
合溶媒とすることで溶媒の蒸発速度が適切に保たれ、塗
布時の乾燥ムラに伴う画像欠陥の発生を抑えることがで
きる。

【００８１】中間層塗布液の作製に用いられる表面処理
酸化チタンの分散手段としてはサンドミル、ボールミ
ル、超音波分散等いずれの分散手段を用いても良い。

【００８２】前記中間層を含め、本発明の電子写真感光
体を製造するための塗布加工方法としては、浸漬塗布、
スプレー塗布、円形量規制型塗布等の塗布加工法が用い
られるが、感光層の上層側の塗布加工は下層の膜を極力
溶解させないため、又、均一塗布加工を達成するためス
プレー塗布又は円形量規制型（円形スライドホッパ型が
その代表例）塗布等の塗布加工方法を用いるのが好まし
い。なお前記スプレー塗布については例えば特開平３−
９０２５０号及び特開平３−２６９２３８号公報に詳細
に記載され、前記円形量規制型塗布については例えば特
開昭５８−１８９０６１号公報に詳細に記載されてい
る。

【００８３】次に、本発明の表面層について記載する。
本発明の表面層は有機ポリマー成分、酸化防止構造成
分、シロキサン縮合体成分、及び電荷輸送性構造成分を
有する樹脂を含有する。

【００８４】ここで、有機ポリマー成分（有機重合体成
分）とは重合体主骨格が有機化合物の繰り返し単位で構
成された重合体を云う。例えば、ビニル系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を構成する重
合体成分を云う。

【００８５】本発明の樹脂はこの有機ポリマー成分が部
分構造としてヒンダードアミン、或いはヒンダードフェ
ノール等の酸化防止構造成分を有し、且つシロキサン縮
合体成分及び電荷輸送性構造成分と化学的な結合をし
て、均一化している。ここで化学的な結合とは、化学反
応によって生成する共有結合、水素結合、イオン結合を
含む。

【００８６】ここで、酸化防止構造成分とはオゾン、Ｎ
Ｏ_x等の活性ガス、或いは紫外線等の光照射により引き
起こされる酸化又は還元耐性を有する基を意味する。

【００８７】上記のような樹脂構造は重合反応に関与で
きる重合性モノマー、酸化防止構造成分を有する重合性
モノマー、重合性シラン化合物を用いて酸化防止構造成
分を有し且つシリル基を有する有機ポリマーを形成し、
その後該有機ポリマーのシリル基に電荷輸送構造を有す
るシロキサン縮合体を形成することにより達成できる。

【００８８】以後、上記有機ポリマー成分にビニル系ポ
リマー成分を用いて説明する。本発明のビニル系ポリマ
ー成分が酸化防止構造成分を有するとはビニル系ポリマ
ー成分がその部分構造として酸化防止機能を有する基を
有していることを意味する。本発明で好ましく用いられ
る酸化防止成分としてはヒンダードアミン基、ヒンダー
ドフェノール基が挙げられる。

【００８９】ここで、ヒンダードアミン基とはアミン化
合物のアミノ基のＮ原子近傍に立体障害性を有する基及
びその誘導体を云う。立体障害性の基としては分岐状ア
ルキル基、炭素数が３以上の基等が好ましい。

【００９０】又、ヒンダードフェノール基とはフェノー
ルの水酸基に対しオルト位置に立体障害性を有する基及
びその誘導体を云う（但し、水酸基がアルコキシに変成
されていても良い）。立体障害性の基としては分岐アル
キル基、或いは炭素数が３以上の基等が好ましい。

【００９１】ビニル系ポリマー成分にヒンダードアミン
基、或いはヒンダードフェノール基を部分構造として導
入するには、ビニル系ポリマー重合時に、炭素−炭素不
飽和結合の重合性不飽和基を有するヒンダードアミンモ
ノマー或いはヒンダードフェノールモノマーを共存さ
せ、これらのモノマーを本発明のビニル系ポリマーの重
合の進行と共に反応させることにより、ビニル系ポリマ
ー中にヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール
基を導入することができる。

【００９２】このような重合性不飽和基を有するヒンダ
ードアミンモノマーとしては、重合性不飽和基を含有す
る立体障害アミンモノマーが好ましく、なかでも重合性
不飽和基を含有する立体障害ピペリジン化合物（以下、
「ピペリジン系モノマー」ともいう。）が特に好まし
い。ピペリジン系モノマーの代表的なものとしては、例
えば下記一般式（Ａ）で表される化合物を挙げることが
できる。

【００９３】

【化１】

【００９４】一般式（Ａ）において、Ｒ⁵は水素原子ま
たはシアノ基を示し、Ｒ⁶およびＲ⁷は相互に同一でも異
なってもよく、水素原子、メチル基またはエチル基を示
し、Ｘは酸素原子またはイミノ基を示し、Ｙは水素原
子、炭素数１〜１８のアルキル基または下記一般式
（Ｂ）で表される重合性不飽和基を示す。

【００９５】

【化２】

【００９６】一般式（Ｂ）において、Ｒ⁸およびＲ⁹は相
互に同一でも異なってもよく、水素原子、メチル基また
はエチル基を示す。

【００９７】一般式（Ａ）におけるＸのイミノ基中の水
素原子は、置換されても置換されていなくてもよい。ま
た、一般式（Ａ）におけるＹのうち、炭素数１〜１８の
アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、
ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル
基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘ
プタデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖または分岐
鎖のアルキル基を挙げることができる。

【００９８】上記、一般式（Ａ）のピペリジン系モノマ
ーのうち、好ましいモノマーは、４−（メタ）アクリロ
イルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイル
オキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−
（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロ
イルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルオキシ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シ
アノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジン、１−（メタ）アクリ
ロイル−４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリ
ロイル−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリ
ロイル−４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルオキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メ
タ）アクリロイル−４−シアノ−４−（メタ）アクリロ
イルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、４−クロトノイルアミノ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルオ
キシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、
４−クロトノイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジン、４−シアノ−４−クロトノイルオキ
シ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−シ
アノ−４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン、１−クロトノイル−４−クロトノ
イルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、１−クロトノイル−４−クロトノイルアミノ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトノイ
ル−４−シアノ−４−クロトノイルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトノイル−
４−シアノ−４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン等であり、なかでも４−（メ
タ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，
２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンが特に好まし
い。

【００９９】又、重合性不飽和基を有するヒンダードフ
ェノールモノマーとしては、重合性不飽和基を含有する
ヒンダードフェノールモノマーが好ましく、例えば下記
のようなモノマーを挙げることができる。即ち、２−ｔ
−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５
−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレー
ト、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）エチルアクリレート、２−（３，５−ジ−ｓ−
プロピル−４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−（３，５−ジ−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシ
フェニル）エチルアクリレート、２−（３−ｔ−ブチル
−５−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチル
ベンジル）４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレー
ト、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒド
ロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル
（メタ）アクリレート、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）エチル（メタ）アクリレー
ト、２−（３，５−ジ−ｓ−プロピル−４−ヒドロキシ
フェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３，５
−ジ−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシフェニル）エチル
（メタ）アクリレート、２−（３−ｔ−ブチル−５−
（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジ
ル）４−ヒドロキシフェニル）エチル（メタ）アクリレ
ート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ルプロピオン酸ビニルエステル、３，５−ジ−ｔ−オク
チル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸ビニルエス
テル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ルプロピオン酸−イソプロペニルエステル、３，５−ジ
−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸
−イソプロペニルエステル等が挙げられる。

【０１００】又、前記ヒンダードアミン系或いはヒンダ
ードフェノール系の酸化防止成分を有するモノマー（重
合性不飽和基を有する化合物）以外のモノマーの例とし
ては、フェニルサリチル酸（メタ）アクリレート、ｔ−
ブチルフェニルサリチル酸（メタ）アクリレート等のサ
リチル酸化合物；２−（メタ）アクリロイルオキシ−４
−メトキシベンゾフェノン、２−（メタ）アクリロイル
オキシ−２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノ
ン、２，２’−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン、２，２’−ジ（メタ）アクリロ
イルオキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２
−（メタ）アクリロイルオキシ−４−メトキシ−２’−
カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−〔３
−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポ
キシ〕ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−
〔３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプ
ロポキシ〕ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；
２−〔２’−（メタ）アクリロイルオキシ−５’−メチ
ルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２’−（メ
タ）アクリロイルオキシ−５’−ｔ−オクチルフェニ
ル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２’−（メタ）アクリ
ロイルオキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル〕
ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；２
−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
（メタ）アクリレート、１，３−ビス（４−ベンゾイル
−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピル（メタ）
アクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニ
ル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。本発
明において、前記酸化防止成分を有するモノマーは、単
独でまたは２種以上を混合して使用することができる。

【０１０１】本発明の樹脂はビニル系ポリマー成分とシ
ロキサン縮合体成分を有している。ビニル系ポリマー成
分にシロキサン縮合体成分を形成するには、ビニル系ポ
リマーの重合時に、炭素−炭素不飽和結合の重合性不飽
和基を有する下記一般式（３）のシランモノマーを共存
させ、これらのモノマーをビニル系ポリマーの重合の進
行と共に反応させることにより、ビニル系ポリマー中に
シリル基を導入したシリル変性ビニル系ポリマーを形成
し、その後、このシリル基にシロキサン縮合体を形成す
るか、既に形成されたシロキサン縮合体を結合させる。

【０１０２】

【化３】

【０１０３】式中、Ｒ³は水素原子、炭素数１〜１０の
アルキル基、炭素数１〜１０のアラルキル基、Ｒ⁴は重
合性二重結合を有する有機基、Ｘはハロゲン原子、アル
コキシ基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基
を示し、ｎは１〜３の整数である。

【０１０４】又、シロキサン縮合体形成時に反応性電荷
輸送性化合物を共存させることにより、シロキサン縮合
体中に電荷輸送性構造成分を部分構造として形成するこ
とが出来る。

【０１０５】上記一般式（３）のシランモノマーとして
は、シリル基、特に加水分解性を有するシリル基を有
し、後述の各種ビニル系モノマーと重合可能なモノマー
であれば特に制限されず、例えば、ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ
（ＣＨ₃）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃、ＣＨ₂＝ＣＨＳｉ（ＣＨ₃）Ｃｌ₂、ＣＨ₂＝ＣＨ
ＳｉＣｌ ₃、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（Ｃ
Ｈ₃）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｓｉ
（ＯＣＨ₃）₃、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（Ｃ
Ｈ₃）（ＯＣＨ₃）₂、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ
（ＯＣＨ₃）₃、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（Ｃ
Ｈ₃）Ｃｌ₂、ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₂ＳｉＣｌ₃、
ＣＨ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＣＨ₃）Ｃｌ₂、Ｃ
Ｈ₂＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ₂）₃ＳｉＣｌ₃、ＣＨ₂＝Ｃ（Ｃ
Ｈ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＣＨ₃）（ＯＣＨ₃）₂、Ｃ
Ｈ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₃、
ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃Ｓｉ（ＣＨ₃）
（ＯＣＨ₃）₂、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃Ｓ
ｉ（ＯＣＨ₃）₃、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂
Ｓｉ（ＣＨ₃）Ｃｌ ₂、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ
₂）₂ＳｉＣｌ₃、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃
Ｓｉ（ＣＨ₃）Ｃ_l2、ＣＨ₂＝Ｃ（ＣＨ₃）ＣＯＯ（Ｃ
Ｈ₂）₃ＳｉＣｌ₃、

【０１０６】

【化４】

【０１０７】等が挙げられる。これらのシランモノマー
は単独でまたは２種以上を混合して使用することができ
る。

【０１０８】ビニル系ポリマーとしては、例えば（メ
タ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、
（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エ
チルヘキシル、シクロヘキシル（メタ）アクリレートな
どの（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル
酸、イタコン酸、フマル酸などのカルボン酸および無水
マレイン酸などの酸無水物；グリシジル（メタ）アクリ
レートなどのエポキシ化合物；ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、アミノエチルビニルエーテルな
どのアミノ化合物；（メタ）アクリルアミド、イタコン
酸ジアミド、α−エチルアクリルアミド、クロトンアミ
ド、フマル酸ジアミド、マレイン酸ジアミド、Ｎ−ブト
キシメチル（メタ）アクリルアミドなどのアミド化合
物；アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなど
からなるグループから選ばれる１またはそれ以上のビニ
ル系モノマーを重合または共重合したビニル系ポリマー
が好ましい。又、水酸基を含むビニル系モノマー、例え
ば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシビニルエーテル、Ｎ−メチロールアクリルアミドな
ども用いることができる。

【０１０９】ここで、ヒンダードアミン基又はヒンダー
ドフェノール基を有し且つシリル変性された（シリル基
を有する）ビニル系ポリマーの合成例を記載する。

【０１１０】（ビニル系ポリマー溶液Ａの合成例：ヒン
ダードアミン基を有し且つシリル変性されたビニル系ポ
リマー溶液）還流冷却器及び攪拌機を備えた反応容器
に、モノマーとしてγ−メタクリロイルオキシプロピル
トリメトキシシラン２５部、４−メタクロイルオキシ−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン１部、メ
タクリル酸メチル８０部とメタクリル酸２−エチルヘキ
シル１５部、ｎ−ブチルアクリレート２９部、２−プロ
パノール１５０部、２−ブタノン５０部及びメタノール
２５部を加えて混合した後、攪拌しながら８０℃に加温
し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキ
シレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下した
後、８０℃で５時間反応させて固形分濃度４０質量％の
側鎖にヒンダードアミン基を有し且つシリル基を有する
ビニル系ポリマー溶液Ａを得た。

【０１１１】（ビニル系ポリマー溶液Ｂの合成例：ヒン
ダードフェノール基を有し且つシリル変性されたビニル
系ポリマー溶液）還流冷却器及び攪拌機を備えた反応容
器に、モノマーとしてγ−メタクリロイルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン２０部、２−ｔ−ブチル−６−
（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジ
ル）−４−メチルフェニルアクリレート２部、メタクリ
ル酸メチル７０部、ｎ−ブチルアクリレート４０部、ア
クリル酸５部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１
３部、１，１，１−トリメチルアミンメタクリルイミド
１部、２−プロパノール１５０部、２−ブタノン５０部
及びメタノール２５部を加えて混合した後、攪拌しなが
ら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニ
トリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分間
かけて滴下した後、８０℃で５時間反応させて固形分濃
度４０質量％の側鎖にヒンダードフェノール基を有し且
つシリル基を有するビニル系ポリマー溶液Ｂを得た。

【０１１２】（ビニル系ポリマー溶液Ｃの比較合成例：
シリル変性されたビニル系ポリマー溶液）還流冷却器及
び攪拌機を備えた反応容器に、モノマーとしてγ−メタ
クリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２５部、
メタクリル酸メチル８０部とメタクリル酸２−エチルヘ
キシル１５部、ｎ−ブチルアクリレート３０部、２−プ
ロパノール１５０部、２−ブタノン５０部及びメタノー
ル２５部を加えて混合した後、攪拌しながら８０℃に加
温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部を
キシレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下し
た後、８０℃で５時間反応させて固形分濃度４０質量％
のシリル基を有するビニル系ポリマー溶液Ｃを得た。

【０１１３】上記合成例Ａ、Ｂに示したように重合性不
飽和基を有するヒンダードアミンモノマー、ヒンダード
フェノールモノマー、シランモノマー及びビニル系モノ
マーを共存させ重合することにより、側鎖にヒンダード
アミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリ
ル基を有するビニル系ポリマーを合成する事が出来る。

【０１１４】上記シリル変性ビニル系ポリマーの重合度
は特に制限されないが、１００〜５００であることが望
ましい。

【０１１５】次に、上記シリル変性ビニルポリマーに電
荷輸送構造を有するシロキサン縮合体成分を形成するこ
とにより、本発明の樹脂構造を有する樹脂を形成でき
る。即ち、上記ヒンダードアミン基或いはヒンダードフ
ェノール基を有し且つシリル基を有するビニルポリマー
と以下に記すような有機ケイ素化合物を用いて、シリル
変性ビニルポリマーのシリル基にシロキサン縮合体成分
を形成する。このシロキサン縮合体成分の形成は表面層
形成と同時に行ってもよいが、予め樹脂溶液でシリル基
末端にシロキサン縮合体成分を形成して、表面層形成を
行ってもよい。

【０１１６】ここで、「ヒンダードアミン基或いはヒン
ダードフェノール基を有し」とはヒンダードアミン基或
いはヒンダードフェノール基の少なくとも一方を有する
ことを意味し、両方の基を有していても良い。

【０１１７】又、本発明のシロキサン縮合体成分とは、
シロキサン結合が複数個、三次元的に連なった構造を有
し、前記一般式（２）で示され有機ケイ素化合物及びそ
の具体例で示された化合物を併用して重縮合を形成する
のが好ましい。

【０１１８】架橋構造を有するシロキサン系樹脂の原料
として用いられる前記一般式（２）の有機ケイ素化合物
は、一般にはケイ素原子に結合している加水分解性基の
数（４−ｎ）のｎが３のとき、有機ケイ素化合物の高分
子化反応は抑制される。ｎが０、１又は２のときは高分
子化反応が起こりやすく、特に１或いは０では高度に架
橋反応を進めることが可能である。従って、これらをコ
ントロールすることにより得られる塗布層液の保存性や
塗布膜の硬度等を制御することが出来る。

【０１１９】本発明の電荷輸送性構造成分とは電子或い
は正孔のドリフト移動度を有する性質を示す構造単位、
或いは電荷輸送性化合物残基であり、又別の定義として
はＴｉｍｅ−Ｏｆ−Ｆｌｉｇｈｔ法などの電荷輸送性能
を検知できる公知の方法により電荷輸送に起因する検出
電流が得られる構造単位、或いは電荷輸送性化合物残基
である。

【０１２０】本発明の樹脂中に電荷輸送性構造成分を導
入するには、有機ケイ素化合物と反応性電荷輸送性化合
物を用い、シロキサン縮合体中に電荷輸送性構造成分を
組み込むことができる。ここで反応性電荷輸送性化合物
とは前記有機ケイ素化合物、或いはビニル系ポリマーの
シリル基と化学結合可能な反応性基を有する電荷輸送性
化合物を意味する。以下、反応性電荷輸送性化合物につ
いて説明する。

【０１２１】前記反応性電荷輸送性化合物としては水酸
基、メルカプト基、アミン基、シリル基を有する電荷輸
送性化合物等が挙げられる。

【０１２２】水酸基を有する電荷輸送性化合物は下記一
般式（４）で表される。 一般式（４） Ｘ−（Ｒ₇−ＯＨ）_m ここにおいて、 Ｘ：電荷輸送性構造基、 Ｒ₇：単結合、置換又は無置換のアルキレン基、アリー
レン基、 ｍ：１〜５の整数である。

【０１２３】その中でも代表的なものを挙げれば下記の
ごときものがある。例えばトリアリールアミン系化合物
は、トリフェニルアミン等のトリアリールアミン構造を
電荷輸送性構造基＝Ｘとして有し、前記Ｘを構成する炭
素原子を介して、又はＸから延長されたアルキレン、ア
リーレン基を介して水酸基を有する化合物が好ましく用
いられる。

【０１２４】次に、水酸基を有する電荷輸送性化合物の
合成例について述べる。 化合物Ｂ−１の合成

【０１２５】

【化５】

【０１２６】ステップＡ 温度計、冷却管、撹拌装置、滴下ロートの付いた四頭コ
ルベンに、化合物（１）４９ｇとオキシ塩化リン１８４
ｇを入れ加熱溶解した。滴下ロートよりジメチルホルム
アミド１１７ｇを徐々に滴下し、その後反応液温を８５
〜９５℃に保ち、約１５時間撹拌を行った。次に反応液
を大過剰の温水に徐々に注いだ後、撹拌しながらゆっく
り冷却した。

【０１２７】析出した結晶を濾過及び乾燥した後、シリ
カゲル等により不純物吸着及びアセトニトリルでの再結
晶により精製を行って化合物（２）を得た。収量は３０
ｇであった。 ステップＢ 化合物（２）３０ｇとエタノール１００ｍｌをコルベン
に投入し撹拌した。水素化ホウ素ナトリウム１．９ｇを
徐々に添加した後、液温を４０〜６０℃に保ち、約２時
間撹拌を行った。次に反応液を約３００ｍｌの水に徐々
にあけ、撹拌して結晶を析出させた。濾過後充分水洗し
て、乾燥し化合物（３）を得た。収量は３０ｇであっ
た。

【０１２８】メルカプト基を有する電荷輸送性化合物は
下記一般式（５）で表される。 一般式（５） Ｘ−（Ｒ₈−ＳＨ）_m ここにおいて、 Ｘ：電荷輸送性構造基、 Ｒ₈：単結合、置換又は無置換のアルキレン、アリーレ
ン基、 ｍ：１〜５の整数である。

【０１２９】アミン基を有する電荷輸送性化合物は下記
一般式（６）で表される。 一般式（６） Ｘ−（Ｒ₉−ＮＲ₁₀Ｈ）_m ここにおいて、 Ｘ：電荷輸送性構造基、 Ｒ₉：単結合、置換、無置換のアルキレン、置換、無置
換のアリーレン基、 Ｒ₁₀：水素原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無
置換のアリール基、 ｍ：１〜５の整数である。

【０１３０】アミノ基を有する電荷輸送性化合物の中
で、第一級アミン化合物（−ＮＨ₂）の場合は２個の水
素原子が有機珪素化合物と反応し、シロキサン構造に連
結しても良い。第２級アミン化合物（−ＮＨＲ₁₀）の場
合は１個の水素原子が有機珪素化合物と反応し、Ｒ₁₀は
ブランチとして残存する基でも良く、架橋反応を起こす
基でも良く、電荷輸送物質を含む基でもよい。

【０１３１】更に、シリル基を有する電荷輸送性化合物
は下記一般式（７）で表される。一般式（７） Ｘ−（−Ｒ₁−Ｓｉ（Ｒ₁₁）_3-a（Ｒ₁₂）_a）_n 式中、Ｘは電荷輸送性構造基であり、Ｒ₁₁は水素原子、
置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基を示し、
Ｒ₁₂は加水分解性基又は水酸基を示し、Ｒ₁は置換若し
くは無置換のアルキレン基を示す。ａは１〜３の整数を
示し、ｎは整数を示す。

【０１３２】前記一般式（４）〜（７）の代表例を下記
に示す。

【０１３３】

【化６】

【０１３４】

【化７】

【０１３５】

【化８】

【０１３６】

【化９】

【０１３７】本発明の反応性電荷輸送性化合物としては
同一分子内に複数の反応性基を有する化合物が好まし
い。このことにより、反応性電荷輸送性化合物は有機ケ
イ素化合物との反応性が向上し、本発明の表面層に良好
な電荷輸送特性を付与する。

【０１３８】本発明の表面層の樹脂の電荷輸送性構造成
分とは前記一般式（４）〜（７）中の電荷輸送性構造基
Ｘに相当する化学構造成分を示す。電荷輸送性構造基Ｘ
の具体的な化合物構造としては、例えば正孔輸送型ＣＴ
Ｍとしては、キサゾール、オキサジアゾール、チアゾー
ル、トリアゾール、イミダゾール、イミダゾロン、イミ
ダゾリン、ビスイミダゾリジン、スチリル、ヒドラゾ
ン、ベンジジン、ピラゾリン、スチルベン化合物、アミ
ン、オキサゾロン、ベンゾチアゾール、ベンズイミダゾ
ール、キナゾリン、ベンゾフラン、アクリジン、フェナ
ジン、アミノスチルベン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアント
ラセンなどの化学構造を有する電荷輸送性構造基が挙げ
られる。

【０１３９】一方、電子輸送型ＣＴＭとしては無水コハ
ク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリッ
ト酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラ
シアノキノジメタン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼ
ン、トリニトロベンゼン、テトラニトロベンゼン、ニト
ロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロル
イミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、ナフ
トキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキ
ノン、１−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキ
ノン、４−ニトロベンゾフェノン、４，４′−ジニトロ
ベンゾフェノン、４−ニトロベンザルマロンジニトリ
ル、α−シアノ−β−（ｐ−シアノフェニル）−２−
（ｐ−クロロフェニル）エチレン、２，７−ジニトロフ
ルオレン、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，
４，５，７−テトラニトロフルオレノン、９−フルオレ
ニリデンジシアノメチレンマロノニトリル、ポリニトロ
−９−フルオロニリデンジシアノメチレンマロノジニト
リル、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安
息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安
息香酸、５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサリ
チル酸、フタル酸、メリット酸などの化学構造を有する
電荷輸送性構造基が挙げられる。

【０１４０】本発明で用いられる反応性電荷輸送性化合
物の分子量は７００以下、１００以上が好ましい。７０
０以下の反応性電荷輸送性化合物を用いることにより、
残電上昇が小さく電子写真特性が良好で、且つクリーニ
ング性の優れた表面層を形成できる。更に、４５０以
下、１００以上の分子量の反応性電荷輸送性化合物が好
ましい。

【０１４１】前記、電荷輸送性能付与基Ｘは上式中では
１価の基として示されているが、有機ケイ素化合物、シ
ロキサン縮合体成分と反応させる反応性電荷輸送性化合
物が２つ以上の反応性官能基を有している場合は樹脂中
で２価以上のクロスリンク基として接合してもよく、単
にペンダント基として接合していてもよい。

【０１４２】本発明の表面層は有機ポリマー成分、シロ
キサン縮合体成分、及び電荷輸送性構造成分、酸化防止
構造成分を有する樹脂を含有するが、表面層中のこれら
の樹脂は相互に化学結合により結合しており、表面層全
体が架橋構造を有する樹脂層で形成されている。

【０１４３】前記樹脂の有機ポリマー成分とシロキサン
縮合体成分の総質量に対する電荷輸送性構造成分の比が
１：０．０１〜１０であることが好ましい。電荷輸送性
構造成分の質量比が少ないと繰り返し使用時の電子写真
特性（帯電、感度、残留電位特性等）が劣化し、一方多
いと膜強度が低下する。

【０１４４】前記樹脂の有機ポリマー成分、シロキサン
縮合体成分、電荷輸送性構造成分、及び酸化防止構造成
分の質量比は有機ポリマー成分１に対し、シロキサン縮
合体成分０．２５〜４、電荷輸送性構造成分０．０２〜
５０、酸化防止構造成分０．０１〜１の質量比で構成さ
れていることが好ましい。シロキサン縮合体成分の質量
比が少ないと膜強度が低下し、一方多いとクリーニング
性が劣化し、ブレードめくれが発生しやすい。又、下層
の感光層に対する接着性が悪化する。電荷輸送性構造成
分の質量比が少ないと繰り返し使用時の電子写真特性
（帯電、感度、残留電位特性等）が劣化し、一方多いと
膜強度が低下する。酸化防止構造成分の質量比が少ない
と繰り返し使用時の電子写真特性（帯電、感度、残留電
位特性等）が劣化し、一方多いと膜強度が低下する。

【０１４５】本発明の表面層の膜厚は０．０３〜３０μ
ｍ、好ましくは０．０３〜１０μｍ、最も好ましくは
０．１〜５μｍであることが望ましい。特に本発明の表
面層を保護層として用いる場合は保護層の膜厚が０．０
３〜１０μｍ、好ましくは０．１〜５μｍであることが
望ましい。本発明の表面層を保護層をした場合は、保護
層の膜厚がこのように比較的厚くても、従来から問題と
なっていた感度や残留電位等の静電特性を低下させるこ
となく、耐摩耗特性、トナーのクリーニング性能やクリ
ーニングブレードのめくれに対する安定性を向上させる
ことができる。更に高湿環境でも鮮明な画像を得ること
が出来る。

【０１４６】本発明の表面層には、本発明の効果を阻害
しない範囲内で、金属酸化物粒子が配合されていてよ
い。金属酸化物粒子を配合することによって本発明の表
面層の耐摩耗特性をさらに向上させることができ、トナ
ーのクリーニング性能やクリーニングブレードのめくれ
に対する安定性を向上させることができる。

【０１４７】前記金属酸化物粒子の一次粒径は５ｎｍ〜
５００ｎｍであることが好ましい。これらの金属酸化物
粒子は通常は液相法によって合成され、コロイド粒子と
して得ることができる。金属原子の例としてはＳｉ、Ｔ
ｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎ
ｉ、Ｃｕなどが挙げられる。

【０１４８】又、前記金属酸化物粒子は該粒子表面に前
記有機ケイ素化合物と反応性を有する基を有することが
好ましい。該反応性を有する基としては、例えば水酸
基、アミノ基等が挙げられる。このような反応性基を有
する金属酸化物粒子を用いることにより、本発明樹脂の
シロキサン縮合成分と該金属酸化物粒子表面が化学結合
をした複合化された表面層を形成し、ブレードクリーニ
ング等の擦過に対して摩耗しにくい、電子写真特性の良
好な表面層を形成することができる。配合量としては、
表面層全質量の０．１〜３０質量％が好ましい。これら
の配合量が３０質量％を越えるとクリーニング性能が劣
化し、高湿環境での画像が劣化する。

【０１４９】また、表面層には、有機微粒子等が配合さ
れていてよい。これらを配合することによって表面層の
表面エネルギーを低下させ、クリーニング特性を向上さ
せることができる。有機微粒子としては、フッ素樹脂、
シリコーン樹脂、アクリル樹脂、オレフィン樹脂等が挙
げられ、特に良好なものとしてはポリテトラフルオロエ
チレン、ポリフッ化ビニルデン等のフッ素樹脂ならびに
ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン樹脂が挙
げられる。有機微粒子は１種または２種以上混合して用
いてもよい。

【０１５０】有機微粒子の大きさとしては、平均体積粒
径あるいは粒子投影像の最大長さとして０．０１〜１．
０μｍ、好ましくは０．０１〜０．３μｍであることが
望ましい。有機微粒子の配合量は、表面層全質量の０．
１〜３０質量％が好ましい。これらの配合量が３０質量
％を越えると感光体の感度が低下し、繰り返し使用時
に、感光体の残留電位が上昇しカブリが生じる。

【０１５１】また本発明中の表面層には樹脂構造成分と
しての酸化防止構造成分とは別にヒンダードフェノー
ル、ヒンダードアミン、チオエーテル又はホスファイト
部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境
変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。

【０１５２】ヒンダードフェノール構造を持つ酸化防止
剤としては、例えば特開平１−１１８１３７号（Ｐ７〜
Ｐ１４）記載の化合物が挙げられるが本発明はこれに限
定されるものではない。

【０１５３】ヒンダードアミン構造を持つ酸化防止剤と
しては、例えば特開平１−１１８１３８号（Ｐ７〜Ｐ
９）記載の化合物も挙げられるが本発明はこれに限定さ
れるものではない。

【０１５４】以下に代表的な酸化防止剤の化合物例を挙
げる。

【０１５５】

【化１０】

【０１５６】

【化１１】

【０１５７】

【化１２】

【０１５８】

【化１３】

【０１５９】又、製品化されている酸化防止剤としては
以下のような化合物、例えば「イルガノックス１０７
６」、「イルガノックス１０１０」、「イルガノックス
１０９８」、「イルガノックス２４５」、「イルガノッ
クス１３３０」、「イルガノックス３１１４」、「イル
ガノックス１０７６」、「３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシビフェニル」以上ヒンダードフェノール
系、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６
５」、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７７
０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、
「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マー
クＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６
８」、「マークＬＡ６３」以上ヒンダードアミン系、
「スミライザーＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」以
上チオエーテル系、「マーク２１１２」、「マークＰＥ
Ｐ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ
−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」
以上ホスファイト系が挙げられる。これらの中で特にヒ
ンダードフェノール、ヒンダードアミン系酸化防止剤が
好ましい。酸化防止剤の添加量としては表面層固形分の
総質量１００部に対し、０．１〜１０質量部を用いるこ
とが好ましい。

【０１６０】次に、前記表面層の製造方法について記載
する。本発明において表面層は上記のような表面層が形
成されればいかなる方法によって形成されてよい。以下
に、代表的な本発明の表面層の製造方法について記載す
る。

【０１６１】本発明の表面層は酸化防止構造成分を有し
且つシリル基を有する有機ポリマーと有機ケイ素化合物
と反応性電荷輸送性化合物を含有する塗布液を感光層上
に塗布した後、硬化することにより形成することができ
る。

【０１６２】又、本発明の表面層は酸化防止構造成分を
有し且つシロキサン縮合体成分を有する有機ポリマーと
反応性電荷輸送性化合物を含有する塗布液を感光層上に
塗布した後、硬化することによっても形成することがで
きる。

【０１６３】具体的には、ヒンダードアミン基或いはヒ
ンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニ
ル系ポリマーを有機ケイ素化合物、反応性電荷輸送性化
合物と混合した塗布液を塗布、硬化してもよく、又、ヒ
ンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し
且つシリル基を有するビニル系ポリマーと有機ケイ素化
合物を混合し、予めビニル系ポリマーの側鎖にシロキサ
ン縮合体を形成し、その後有機ケイ素化合物、反応性電
荷輸送性化合物と混合した塗布液を塗布、硬化してもよ
い。

【０１６４】当該硬化によって、シロキサン縮合体が３
次元化され、シロキサン縮合体と側鎖にヒンダードアミ
ン基或いはヒンダードフェノール基を有するビニル系ポ
リマー、及び反応性電荷輸送性化合物がシリル基や反応
性基を介して化学的に結合し、これによって耐摩耗性、
感光層との接着性およびクリーニング特性の良好な表面
層が形成される。

【０１６５】上記いずれの製造方法でも、原料となる有
機ケイ素化合物、シロキサン縮合体、酸化防止構造成分
を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマー、及び反
応性電荷輸送性化合物の塗布液中の質量比は得られる保
護層中のビニル系ポリマー成分、シロキサン縮合体成
分、電荷輸送性構造成分、酸化防止構造成分の質量比が
前記範囲内になるような比率であればよく、例えば、有
機ケイ素化合物として一般式（２）の化合物を用いた場
合、有機ケイ素化合物、ヒンダードアミン基或いはヒン
ダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル
系ポリマー、反応性電荷輸送性化合物の質量比は１０
０：２５〜４００：１〜１０００の質量比が好ましい。

【０１６６】尚、実際には有機ケイ素化合物とシリル基
を有するビニル系ポリマーとの反応を行うことなく、有
機ケイ素化合物と側鎖にヒンダードアミン基及びシリル
基を有するビニル系ポリマーとの市販の反応物、例え
ば、グラスカＨＰＣ７５０６（ＪＳＲ（株）社製：側鎖
シリル基アクリル系樹脂）を用い、当該反応物溶液を有
機ケイ素化合物及び反応性電荷輸送性化合物と混合し、
表面層塗布液を作製してもよい。

【０１６７】有機ケイ素化合物、ヒンダードアミン基或
いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有す
るビニル系ポリマー、反応性電荷輸送性化合物の反応を
促進するためには、塗布液中、或いは塗布液生成過程で
金属キレート化合物を添加することが好ましい。ここで
金属キレート化合物は、ジルコニウム、チタンおよびア
ルミニウムの群から選ばれる金属のキレート化合物であ
る（以下、金属キレート化合物（III）という）。金属
キレート化合物（III）は、前記の有機ケイ素化合物と
シリル基を有するビニル系ポリマー、反応性電荷輸送性
化合物との加水分解および／または部分縮合反応を促進
し、３成分の共縮合物の形成を促進する作用をなすもの
と考えられる。

【０１６８】このような金属キレート化合物（III）の
例としては、一般式（８）、（９）、（１０）で表され
る化合物、あるいはこれらの化合物の部分加水分解物が
挙げられる。

【０１６９】 一般式（８） Ｚｒ（ＯＲ₅）_p（Ｒ₆ＣＯＣＨＣＯＲ₇）_4-p 一般式（９） Ｔｉ（ＯＲ₅）_q（Ｒ₆ＣＯＣＨＣＯＲ₇）_4-q 一般式（１０） Ａｌ（ＯＲ₅）_r（Ｒ₆ＣＯＣＨＣＯＲ₇）_3-r 一般式（８）、（９）、（１０）におけるＲ₅およびＲ₆
は、それぞれ独立に炭素数１〜６の１価の炭化水素基、
具体的には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
フェニル基等を示し、Ｒ₇は、Ｒ₅およびＲ₆と同様の炭
素数１〜６の１価の炭化水素基のほか、炭素数１〜１６
のアルコキシ基、具体的には、メトキシ基、エトキシ
基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキ
シ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ラウリル
オキシ基、ステアリルオキシ基等を示す。また、ｐおよ
びｑは０〜３の整数、ｒは０〜２の整数である。

【０１７０】このような金属キレート化合物（III）の
具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトア
セテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチ
ルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシ・ト
リス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラ
キス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、
テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウ
ム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウ
ム等のジルコニウムキレート化合物；ジ−ｉ−プロポキ
シ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−
ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウ
ム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チ
タニウム等のチタンキレート化合物；ジ−ｉ−プロポキ
シ・エチルアセトアセテートアルミニウム、ジ−ｉ−プ
ロポキシ・アセチルアセトナートアルミニウム、ｉ−プ
ロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウ
ム、ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ア
ルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミ
ニウム、トリス（エチルアセテート）アルミニウム、ト
リス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセ
チルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）ア
ルミニウム等のアルミニウムキレート化合物等が挙げら
れる。これらの化合物のうち、トリ−ｎ−ブトキシ・エ
チルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキ
シ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジ−ｉ
−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、
トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムが好ま
しい。これらの金属キレート化合物（III）は、単独で
または２種以上を混合して使用することができる。

【０１７１】金属キレート化合物（III）の添加量は、
有機ケイ素化合物、シロキサン縮合体、シリル基を有す
るビニル系ポリマー、及び反応性電荷輸送性化合物等の
塗布液固形分（塗布液固形分とは塗布液を乾燥した後、
残留する成分）の全質量に対する配合量が０．０１〜２
０質量％、好ましくは０．５〜２０質量％となるような
量である。金属キレート化合物（III）の量が少なすぎ
ると保護層樹脂の３次元化が達成されないおそれがあ
り、一方、多すぎると塗液のポットライフが悪化する。

【０１７２】表面層の塗布液を塗布した後の硬化条件
は、使用される有機ケイ素化合物の反応性に依存する
が、６０〜１５０℃にて３０分〜６時間の乾燥を行わせ
るのが好ましい。

【０１７３】これらの硬化反応を促進するためには有機
溶媒が存在することが好ましい。ここで使用可能な有機
溶媒としては、アルコール類、芳香族炭化水素類、エー
テル類、ケトン類、エステル類などが好適である。有機
溶媒の使用量は有機ケイ素化合物に対して限定されるも
のではなく、使用目的に応じて調製される。

【０１７４】硬化反応促進させる溶媒としては有機ケイ
素化合物、シリル基を有するビニル系ポリマー、反応性
基を有する電荷輸送性化合物を均一に溶解させる溶媒が
好ましく用いられる。これらの溶媒としてはアルコール
類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステ
ル類などが用いられるが、特に下記に例示ような溶媒が
好ましい。

【０１７５】アルコール系溶媒としては炭素数１〜４の
アルコール、即ちメタノール、エタノール、ｎ−プロパ
ノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓ
ｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタ
ノールが好ましく用いられる。

【０１７６】非アルコール系溶媒としてはエチルメチル
ケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチル
ケトン等のケトン系の溶媒が好ましく用いられる。

【０１７７】上記表面層塗布液中には、更に、硬化促進
剤必要により添加することができる。

【０１７８】硬化促進剤としては、ナフテン酸、オクチ
ル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸などのアルカ
リ金属塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのア
ルカリ性化合物；アルキルチタン酸、リン酸、ｐ−トル
エンスルホン酸、フタル酸などの酸性化合物；エチレン
ジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレントリアミン、
トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、
ピペリジン、ピペラジン、メタフェニレンジアミン、エ
タノールアミン、トリエチルアミン、エポキシ樹脂の硬
化剤として用いられる各種変性アミン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノ
エチル）−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アニリノプロピルトリメトキシシランなどのアミン系
化合物、（Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃）₂、（Ｃ₄
Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ₃）₂、（Ｃ₄
Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₉）₂、（Ｃ₈
Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₁Ｈ ₂₃）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ
（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ₃）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ
（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₉）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓ
ｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、Ｓｎ（ＯＣＯ
ＣＣ₈Ｈ₁₇）₂、などのカルボン酸型有機スズ化合物；
（Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯ）₂、（Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ
（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣ
Ｈ₂ＣＯＯ）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ ₂ＣＨ₂ＣＯ
Ｏ）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ
ＣＯＣＨ₂Ｓ）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣＨ₂Ｓ）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓ
ｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（Ｓ
ＣＨ₂ＣＯＯＣ₁₂Ｈ₂₅）₂、などのメルカプチド型有機ス
ズ化合物；（Ｃ₄Ｈ₉）₂ＳｎＯ、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂ＳｎＯ、
（Ｃ₄Ｈ₉）₂ＳｎＯ、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂ＳｎＯなどの有機ス
ズオキサイドとエチルシリケート、エチルシリケート４
０、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル
酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成物など
の有機スズ化合物などが使用される。

【０１７９】上記塗布液中の硬化促進剤の添加量は、塗
布液固形分（固形分とは塗布液成分中の乾燥後に残留す
る成分を意味する）１００質量部に対して０．１〜２０
質量部、好ましくは０．５〜１００質量部である。これ
らの量が少なすぎると膜の強度が低下するおそれがあ
り、一方、多すぎると塗液のポットライフが悪化する。

【０１８０】又、上記塗布液には前記した金属酸化物粒
子、有機微粒子、酸化防止剤を必要に応じて添加し、本
発明の表面層を作製することが出来る。

【０１８１】本発明においては、表面層塗布液の全固形
分濃度を調整し、併せて粘度も調整するために、有機溶
媒を使用することができる。このような有機溶媒として
は、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケ
トン類、エステル類等の有機溶剤を使用することが好ま
しい。前記アルコール類としては、例えば１価または２
価のアルコールを挙げることができ、具体的にはメタノ
ール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチ
ルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ヘキシルア
ルコール、ｎ−オクチルアルコール、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ
−プロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチ
ルエーテル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等を挙
げることができる。これらのうち、炭素数１〜８の１価
の飽和脂肪族アルコールが好ましい。また、前記芳香族
炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等を挙げることができ、前記エーテル類の具体例
としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン等を挙げる
ことができ、前記エステル類の具体例としては、酢酸エ
チル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、炭酸プロピ
レン等を挙げることができる。これらの有機溶媒は、単
独または２種以上を混合して使用することができる。有
機溶媒の添加方法は特に限定されるものではなく、本発
明の表面保護液を調製する際および／または調製後の適
宜の段階で添加することができる。

【０１８２】次に、前記中間層、表面層以外の本発明の
感光体構成について記載する。本発明の感光体としては
セレンやアモルファスシリコン等を用いた無機感光体に
も適用できるが、本発明の目的からは有機電子写真感光
体（有機感光体とも云う）に本発明の中間層、表面層を
適用することが好ましい。

【０１８３】本発明において、有機感光体とは電子写真
感光体の構成に必要不可欠な電荷発生機能及び電荷輸送
機能の少なくとも一方の機能を有機化合物に持たせて構
成された電子写真感光体を意味し、公知の有機電荷発生
物質又は有機電荷輸送物質から構成された感光体、電荷
発生機能と電荷輸送機能を高分子錯体で構成した感光体
等公知の有機電子写真感光体を全て含有する。

【０１８４】有機感光体の層構成は、特に限定はない
が、電荷発生層、電荷輸送層、或いは電荷発生・電荷輸
送層（電荷発生と電荷輸送の機能を同一層に有する層）
等の感光層とその上に表面層を塗設した構成をとるのが
好ましい。

【０１８５】以下に本発明に用いられる具体的な感光体
の構成について記載する。 導電性支持体 本発明の感光体に用いられる導電性支持体としてはシー
ト状、円筒状のどちらを用いても良いが、画像形成装置
をコンパクトに設計するためには円筒状導電性支持体の
方が好ましい。

【０１８６】本発明の円筒状導電性支持体とは回転する
ことによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円筒
状の支持体を意味し、真直度で０．１ｍｍ以下、振れ
０．１ｍｍ以下の範囲にある導電性の支持体が好まし
い。この真円度及び振れの範囲を超えると、良好な画像
形成が困難になる。

【０１８７】導電性の材料としてはアルミニウム、ニッ
ケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸
化インジュウムなどを蒸着したプラスチックドラム、又
は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用
することができる。導電性支持体としては常温で比抵抗
１０³Ωｃｍ以下が好ましい。

【０１８８】本発明で用いられる導電性支持体は、その
表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを
用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム
酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等
の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最
も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場
合、硫酸濃度は１００〜２００ｇ／ｌ、アルミニウムイ
オン濃度は１〜１０ｇ／ｌ、液温は２０℃前後、印加電
圧は約２０Ｖで行うのが好ましいが、これに限定される
ものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常２
０μｍ以下、特に１０μｍ以下が好ましい。

【０１８９】中間層 本発明においては導電性支持体と感光層の間に、バリヤ
ー機能を備えた前記した中間層を設ける。

【０１９０】感光層 本発明の感光体の感光層構成は前記中間層上に電荷発生
機能と電荷輸送機能を１つの層に持たせた単層構造の感
光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電
荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）に分離した
構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ることに
より繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御で
き、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやす
い。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層（Ｃ
ＧＬ）、その上に電荷輸送層（ＣＴＬ）の構成を取るこ
とが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順が
負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好まし
い感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光体
構成である。

【０１９１】以下に機能分離負帯電感光体の感光層構成
について説明する。 電荷発生層 電荷発生層には電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する。そ
の他の物質としては必要によりバインダー樹脂、その他
添加剤を含有しても良い。

【０１９２】電荷発生物質（ＣＧＭ）としては公知の電
荷発生物質（ＣＧＭ）を用いることができる。例えばフ
タロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニ
ウム顔料などを用いることができる。これらの中で繰り
返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるＣＧＭ
は複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる立体、電位
構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を
有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のＣＧＭが挙
げられる。例えばＣｕ−Ｋα線に対するブラッグ角２θ
が２７．２°に最大ピークを有するチタニルフタロシア
ニン、同２θが１２．４に最大ピークを有するベンズイ
ミダゾールペリレン等のＣＧＭは繰り返し使用に伴う劣
化がほとんどなく、残留電位増加小さくすることができ
る。

【０１９３】電荷発生層にＣＧＭの分散媒としてバイン
ダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用
いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマ
ール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコー
ン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ
る。バインダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バイン
ダー樹脂１００質量部に対し２０〜６００質量部が好ま
しい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用
に伴う残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の
膜厚は０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。

【０１９４】電荷輸送層 電荷輸送層には電荷輸送物質（ＣＴＭ）及びＣＴＭを分
散し製膜するバインダー樹脂を含有する。その他の物質
としては必要により酸化防止剤等の添加剤を含有しても
良い。

【０１９５】電荷輸送物質（ＣＴＭ）としては公知の電
荷輸送物質（ＣＴＭ）を用いることができる。例えばト
リフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル
化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物などを用
いることができる。これら電荷輸送物質は通常、適当な
バインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。これら
の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくで
きるＣＴＭは高移動度で、且つ組み合わされるＣＧＭと
のイオン化ポテンシャル差が０．５（ｅＶ）以下の特性
を有するものであり、好ましくは０．２５（ｅＶ）以下
である。

【０１９６】ＣＧＭ、ＣＴＭのイオン化ポテンシャルは
表面分析装置ＡＣ−１（理研計器社製）で測定される。

【０１９７】電荷輸送層（ＣＴＬ）に用いられる樹脂と
しては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリ
ル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂並
びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以上を
含む共重合体樹脂。又これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げら
れる。

【０１９８】これらＣＴＬのバインダーとして最も好ま
しいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネ
ート樹脂はＣＴＭの分散性、電子写真特性を良好にする
ことにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸
送物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し
１０〜２００質量部が好ましい。又、電荷輸送層の膜厚
は１０〜４０μｍが好ましい。

【０１９９】表面層 感光体の表面層として、前記した本発明のシロキサン系
表面層を設けることにより、本発明の最も好ましい層構
成を有する感光体を得ることができる。

【０２００】上記では本発明の最も好ましい感光体の層
構成を例示したが、本発明では上記以外の感光体層構成
でも良い。

【０２０１】図１は本発明の画像形成方法の一例として
の画像形成装置の断面図である。図１に於いて５０は像
担持体である感光体ドラム（感光体）で、有機感光層を
ドラム上に塗布し、その上に本発明の表面層を塗設した
感光体で、接地されて時計方向に駆動回転される。５２
はスコロトロンの帯電器（帯電工程）で、感光体ドラム
５０周面に対し一様な帯電をコロナ放電によって与えら
れる。この帯電器５２による帯電に先だって、前画像形
成での感光体の履歴をなくすために発光ダイオード等を
用いた帯電前露光部５１による露光を行って感光体周面
の除電をしてもよい。

【０２０２】感光体への一様帯電の後、像露光器（像露
光工程）５３により画像信号に基づいた像露光が行われ
る。この図の像露光器５３は図示しないレーザーダイオ
ードを露光光源とする。回転するポリゴンミラー５３
１、ｆθレンズ等を経て反射ミラー５３２により光路を
曲げられた光により感光体ドラム上の走査がなされ、静
電潜像が形成される。

【０２０３】ここで本発明の反転現像とは帯電器５２に
より、感光体表面を一様に帯電し、像露光が行われた領
域、即ち感光体の露光部電位（露光部領域）を現像工程
により、顕像化する画像形成方法である。一方未露光部
電位は現像スリーブ５４１に印加される現像バイアス電
位により現像されない。

【０２０４】その静電潜像は次いで現像器（現像工程）
５４で現像される。感光体ドラム５０周縁にはトナーと
キャリアとから成る現像剤を内蔵した現像器５４が設け
られていて、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転
する現像スリーブ５４１によって現像が行われる。現像
器５４内部は現像剤攪拌搬送部材５４４、５４３、搬送
量規制部材５４２等から構成されており、現像剤は攪
拌、搬送されて現像スリーブに供給されるが、その供給
量は該搬送量規制部材５４２により制御される。該現像
剤の搬送量は適用される電子写真感光体の線速及び現像
剤比重によっても異なるが、一般的には２０〜２００ｍ
ｇ／ｃｍ²の範囲である。

【０２０５】現像剤は、例えばフェライトをコアとして
そのまわりに絶縁性樹脂をコーティングしたキャリア
と、前述のスチレンアクリル系樹脂を主材料としてカー
ボンブラック等の着色剤と荷電制御剤と本発明の低分子
量ポリオレフィンからなる着色粒子に、シリカ、酸化チ
タン等を外添したトナーとからなるもので、現像剤は搬
送量規制部材によって層厚を規制されて現像域へと搬送
され、現像が行われる。この時通常は感光体ドラム５０
と現像スリーブ５４１の間に直流バイアス、必要に応じ
て交流バイアス電圧をかけて現像が行われる。また、現
像剤は感光体に対して接触あるいは非接触の状態で現像
される。感光体の電位測定は電位センサー５４７を図１
のように現像位置上部に設けて行う。

【０２０６】記録紙Ｐは画像形成後、転写のタイミング
の整った時点で給紙ローラー５７の回転作動により転写
域へと給紙される。

【０２０７】転写域においてはトナーと逆極性の電荷を
付与する転写電極（転写工程）５８により感光体上のト
ナーが給紙された記録紙Ｐに転写される。

【０２０８】次いで記録紙Ｐは分離電極（分離工程）５
９によって除電がなされ、感光体ドラム５０の周面より
分離して定着装置（定着工程）６０に搬送され、熱ロー
ラー６０１と圧着ローラー６０２の加熱、加圧によって
トナーを溶着したのち排紙ローラー６１を介して装置外
部に排出される。なお前記の転写電極５８及び分離電極
５９は記録紙Ｐの通過後感光体ドラム５０の周面より退
避離間して次なるトナー像の形成に備える。

【０２０９】一方記録紙Ｐを分離した後の感光体ドラム
５０は、クリーニング器（クリーニング工程）６２のブ
レード６２１の圧接により残留トナーを除去・清掃し、
再び帯電前露光部５１による除電と帯電器５２による帯
電を受けて次なる画像形成のプロセスに入る。

【０２１０】尚、７０は感光体、帯電器、転写器、分離
器及びクリーニング器が一体化されている着脱可能なプ
ロセスカートリッジである。

【０２１１】本発明の画像形成方法及び画像形成装置は
電子写真複写機、レーザープリンター、ＬＥＤプリンタ
ー及び液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一
般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディス
プレー、記録、軽印刷、製版及びファクシミリ等の装置
にも幅広く適用することができる。

【０２１２】

【実施例】以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の様態はこれに限定されない。なお、文中
「部」とは「質量部」を表す。

【０２１３】中間層塗布液の作製 以下の様にして、各実施例、比較例の中間層塗布液を作
製した。

【０２１４】（中間層塗布液１の作製）ポリアミド樹脂
ＣＭ８０００（東レ社製）１質量部、酸化チタンＳＭＴ
５００ＳＡＳ（１回目：シリカ・アルミナ処理、２回
目：メチルハイドロジェンポリシロキサン処理：テイカ
社製）３質量部、メタノール１０質量部を同一容器中に
加え超音波ホモジナイザーを用いて分散して、中間層塗
布液１を作製した。

【０２１５】（中間層塗布液２〜７の作製）酸化チタン
及びその表面処理と粒径、バインダー樹脂、酸化チタン
／バインダー樹脂質量比及び溶剤を表１に示す様にした
他は中間層塗布液１と同様にしてそれぞれ中間層塗布液
２〜７を作製した。

【０２１６】（中間層塗布液８の作製）２回目の表面処
理をジイソプロポキシチタニウムビス（アセチルアセテ
ート）で行った酸化チタンＭＴ５００ＳＡ（一次処理は
シリカ・アルミナ処理）を用いた他は中間層塗布液１と
同様にして中間層塗布液８を作製した。

【０２１７】（中間層塗布液９の作製）２回目の表面処
理をブトキシジルコニウムトリ（アセチルアセテート）
で行った酸化チタンＭＴ５００ＳＡ（一次処理はシリカ
・アルミナ処理）を用いた他は中間層塗布液１と同様に
して中間層塗布液９を作製した。

【０２１８】（中間層塗布液１０〜１２の作製：比較
例）酸化チタン及びその表面処理と粒子径、バインダー
樹脂、酸化チタン／バインダー樹脂質量比、及び溶剤の
種類を表１に示すようにした他は中間層塗布液１と同様
にしてそれぞれ中間層塗布液１０〜１２を作製した。

【０２１９】（中間層塗布液１３の作製：比較例）ポリ
アミド樹脂ＣＭ８０００（東レ社製）１質量部、メタノ
ール１０質量部に溶解して、中間層塗布液１３を作製し
た。

【０２２０】

【表１】

【０２２１】尚、表１中、一次処理欄に記載のものは一
次処理後の酸化チタン粒子表面に析出した物質であり、
二次処理欄に記載のものは二次処理時に用いた物質を示
す。

【０２２２】感光体１の作製 〈中間層〉円筒形アルミニウム基体上に中間層塗布液１
を浸漬塗布し、４μｍの乾燥膜厚で中間層を設けた。

【０２２３】 〈電荷発生層〉 Ｙ型チタニルフタロシアニン（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線によるＸ線回折の 最大ピーク角度が２θで２７．３） ６０ｇ シリコーン変性ブチラール樹脂（Ｘ−４０−１２１１Ｍ：信越化学社製） ７００ｇ ２−ブタノン ２０００ｍｌ を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発
生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に
浸漬塗布法で塗布し、乾燥膜厚０．２μｍの電荷発生層
を形成した。

【０２２４】 〈電荷輸送層〉 電荷輸送物質〔Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−｛４− （β−フェニルスチリル）フェニル｝−ｐ−トルイジン〕 ２２５ｇ ポリカーボネート（粘度平均分子量２０，０００） ３００ｇ 酸化防止剤（例示化合物１−３） ６ｇ ジクロロメタン ２０００ｍｌ を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この
塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾
燥膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。

【０２２５】 〈保護層：本発明の表面層〉 ビニル系ポリマー溶液Ａ １００部 メチルトリメトキシシラン ７０部 ジメチルジメトキシシラン ３０部 ｉ−ブチルアルコール １００部 ブチルセロソルブ ７５部 ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム １０部 を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水３０部を滴下
し、６０℃で４時間反応させた。次いで室温まで冷却し
て反応性電荷輸送性化合物（Ｂ−１）５０部及びアルミ
ニウムトリスアセチルアセトネート５部を添加、攪拌
し、コーティング液を調製した。この塗布液を前記電荷
輸送層の上に円形量規制型塗布装置により厚さ３μｍの
保護層を形成し、１２０℃、１時間の加熱硬化を行い、
保護層として本発明の表面層を有する感光体１を作製し
た。

【０２２６】感光体２〜９の作製 実施例１で用いた中間層塗布液の代わりに表２に示す中
間層塗布液を使用し、表２に示した乾燥膜厚で中間層を
設けた他は実施例１と同様にして感光体２〜９を作製し
た。

【０２２７】感光体１０の製造 感光体１と同様にして電荷輸送層までを作製した。

【０２２８】〈保護層：本発明の表面層〉感光体１にお
いて保護層に用いたビニル系ポリマー溶液Ａの替わりに
ビニル系ポリマー溶液Ｂを用いた他は感光体１と同様に
して保護層として本発明の表面層を有する感光体１０を
作製した。

【０２２９】感光体１１〜１４の作製（比較例） 感光体１で用いた中間層塗布液の代わりに表２に示す中
間層塗布液を使用し、表２に示した乾燥膜厚で中間層を
設けた他は感光体１と同様にして感光体１１〜１４を作
製した。

【０２３０】感光体１５の作製（比較例） 感光体１において保護層に用いたビニル系ポリマー溶液
Ａの替わりにビニル系ポリマー溶液Ｃを用いた他は感光
体１と同様にして保護層として本発明外の表面層を有す
る感光体１５を作製した。

【０２３１】感光体１６の作製（比較例） 感光体１の作製において、表面層中の例示化合物（Ｂ−
１）を除いた以外は同様にして電荷輸送性構造成分を有
しないシロキサン系樹脂層の表面層Ｃを有する感光体１
６を作製した。

【０２３２】評価 評価機としてコニカ社製デジタル複写機Ｋｏｎｉｃａ７
０７５（コロナ帯電、レーザ露光、反転現像、静電転
写、爪分離、ブレードクリーニング、クリーニング補助
ブラシローラー採用プロセスを有する）を用い、該複写
機に感光体１〜１６を搭載し評価した。クリーニング性
及び画像評価は、画素率が７％の文字画像、人物顔写
真、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ１／４等分にあ
るオリジナル画像をＡ４中性紙に複写して行った。複写
条件は最も厳しいと思われる高温高湿環境（３０℃、８
０％ＲＨ）にて連続２０万枚コピー行いハーフトーン、
ベタ白画像、ベタ黒画像を作製し下記の評価を行った。
又、感光体の膜厚減耗量の評価も下記のように行った。

【０２３３】評価基準 画像濃度（マクベス社製ＲＤ−９１８を使用して測定。
紙の反射濃度を「０」とした相対反射濃度で測定した。
初期及び１万枚コピー毎に２０万枚コピーまで評価し
た。） ◎：黒ベタ画像が１．２以上 ○：黒ベタ画像が１．２未満〜１．０ ×：黒ベタ画像が１．０未満 カブリ（初期及び１万枚コピー毎に２０万枚コピーまで
ベタ白画像を目視で判定） ◎：２０万枚コピーを通してカブリの発生なし ○：１５万枚コピー後にカブリがわずかに発生 ×：１０万枚コピーでカブリ発生 解像度（文字画像の判別容易性で判定） ○：初期と２０万枚コピー後の解像度に差がない △：ハーフトーン画像で２０万枚コピー後の解像度に軽
微な低下有り ×：２０万枚コピー後の解像度に顕著な低下有り 黒ポチ（初期及び１万枚コピー毎に２０万枚コピーまで
のベタ白画像で評価）黒ポチの評価は、長径が０．４ｍ
ｍ以上の黒ポチがＡ４紙当たり何個あるかで判定した。
尚、黒ポチ長径はビデオプリンター付き顕微鏡等で測定
できる。黒ポチ評価の判定基準は、下記に示す通りであ
る。

【０２３４】 Ａ・・・０．４ｍｍ以上の黒ポチ頻度：全ての複写画像
が３個／Ａ４以下 Ｂ・・・０．４ｍｍ以上の黒ポチ頻度：４個／Ａ４以
上、１９個／Ａ４以下が１枚以上発生 Ｃ・・・０．４ｍｍ以上の黒ポチ頻度：２０個／Ａ４以
上が１枚以上発生 ΔＶ₁₂の評価 上記２０万枚コピー後、１時間の休止をはさんでΔＶ₁₂
の評価を行った。現像位置に電位センサーを設置し、感
光体の１回目と２回目の黒べた部電位を測定し、その差
の絶対値をΔＶ₁₂とした。

【０２３５】その他評価条件 尚、上記デジタル複写機Ｋｏｎｉｃａ７０７５を用いた
その他の評価条件は下記の条件に設定した。

【０２３６】帯電条件 帯電器；スコロトロン帯電器、初期帯電電位を−７５０
Ｖ 露光条件 露光部電位を−５０Ｖにする露光量に設定。

【０２３７】現像条件 ＤＣバイアス；−５５０Ｖ 現像剤は、フェライトをコアとして絶縁性樹脂をコーテ
ィングしたキャリアとスチレンアクリル系樹脂を主材料
としてカーボンブラック等の着色剤と荷電制御剤と本発
明の低分子量ポリオレフィンからなる着色粒子に、シリ
カ、酸化チタン等を外添したトナーの現像剤を使用 転写条件 転写極；コロナ帯電方式 クリーニング条件 クリーニング部に硬度７０°、反発弾性３４％、厚さ２
（ｍｍ）、自由長９ｍｍのクリーニングブレードをカウ
ンター方向に線圧２０（ｇ／ｃｍ）となるように重り荷
重方式で当接した。

【０２３８】評価結果を表２に示した。

【０２３９】

【表２】

【０２４０】表２から明らかなように本発明の中間層、
表面層を有する感光体１〜１０は、画像濃度、カブリ、
解像度等の画像特性が良好であり、電位変動特性（ΔＶ
₁₂）及び黒ポチの発生も少なく、又膜厚減耗量も少なく
全ての特性がバランスを持って改善されている。

【０２４１】一方、本発明外の中間層を有する感光体１
１は黒ポチの発生が著しく、画像濃度やカブリの評価も
劣っている。感光体１２〜１４は、本発明の感光体１〜
１０に比し電位変動特性（ΔＶ₁₂）が大きく、黒ポチ発
生の防止効果も小さい。又、本発明外の表面層を有する
感光体１５は本発明の感光体１〜１０に比しカブリが発
生し、電位変動特性（ΔＶ₁₂）も低下している。又、本
発明外の表面層を有する感光体１６は画像濃度の低下、
カブリの発生、解像度低下が大きい。

【０２４２】

【発明の効果】実施例からも明らかなように、本発明の
表面層と中間層を有する感光体を用いることにより、良
好な画像特性、良好な帯電特性、及び黒ポチ等の画像欠
陥を発生しない電子写真感光体を提供する事が出来る。
又該電子写真感光体を用いた良好な電子写真画像を達成
できる画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカート
リッジを提供する事が出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像形成方法の一例としての画像形成
装置の断面図。

【符号の説明】

５０ 感光体ドラム（又は感光体） ５１ 帯電前露光部 ５２ 帯電器 ５３ 像露光器 ５４ 現像器 ５４１ 現像スリーブ ５４３，５４４ 現像剤攪拌搬送部材 ５４７ 電位センサー ５７ 給紙ローラー ５８ 転写電極 ５９ 分離電極（分離器） ６０ 定着装置 ６１ 排紙ローラー ６２ クリーニング器 ７０ プロセスカートリッジ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内野 哲 東京都八王子市石川町2970番地コニカ株式 会社内 (72)発明者 濱口 進一 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 早田 裕文 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 2H068 AA03 AA04 AA43 AA44 AA45 BA57 BA58 BB28 BB33 BB49 CA06 CA29 CA33 FA27

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に、中間層を介して感光
   層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
   回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
   ケイ素化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒子とバイ
   ンダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有機
   ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構造
   成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含有するこ
   とを特徴とする電子写真感光体。
2. 【請求項２】 前記最後の表面処理がメチルハイドロジ
   ェンポリシロキサンを用いて行われたことを特徴とする
   請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 【請求項３】 前記最後の表面処理が下記一般式（１）
   で示される有機ケイ素化合物を用いて行われたことを特
   徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。 一般式（１） Ｒ−Ｓｉ−（Ｘ）₃ （式中、Ｒはアルキル基、アリール基、Ｘはメトキシ
   基、エトキシ基、ハロゲン基を表す。）
4. 【請求項４】 前記一般式（１）のＲが炭素数４から８
   までのアルキル基であることを特徴とする請求項３に記
   載の電子写真感光体。
5. 【請求項５】 導電性支持体上に、中間層を介して感光
   層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
   回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
   チタン化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒子とバイ
   ンダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層が、有機
   ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構造
   成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含有するこ
   とを特徴とする電子写真感光体。
6. 【請求項６】 導電性支持体上に、中間層を介して感光
   層を有する電子写真感光体において、該中間層が、複数
   回の表面処理を施し、且つ最後の表面処理が反応性有機
   ジルコニウム化合物を用いて行われたＮ型半導性微粒子
   とバインダー樹脂を含有しており、該感光層の表面層
   が、有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸
   送性構造成分、及び酸化防止構造成分を有する樹脂を含
   有することを特徴とする電子写真感光体。
7. 【請求項７】 前記複数回の表面処理のうち、少なくと
   も１回の表面処理がアルミナ、シリカ、及びジルコニア
   の少なくとも１種以上の表面処理であることを特徴とす
   る請求項１〜６の何れか１項に記載の電子写真感光体。
8. 【請求項８】 前記Ｎ型半導性微粒子が少なくともシリ
   カ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性有
   機ケイ素化合物を用いた表面処理を行うことを特徴とす
   る請求項１〜４の何れか１項に記載の電子写真感光体。
9. 【請求項９】 前記Ｎ型半導性微粒子が少なくともシリ
   カ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性有
   機チタン化合物を用いた表面処理を行うことを特徴とす
   る請求項５に記載の電子写真感光体。
10. 【請求項１０】 前記Ｎ型半導性微粒子が少なくともシ
    リカ又はアルミナによる表面処理を行い、次いで反応性
    有機ジルコニウム化合物を用いた表面処理を行うことを
    特徴とする請求項６に記載の電子写真感光体。
11. 【請求項１１】 前記Ｎ型半導性微粒子が酸化チタン粒
    子であることを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項
    に記載の電子写真感光体。
12. 【請求項１２】 前記Ｎ型半導性微粒子が、ルチル型の
    結晶型を有することを特徴とする請求項１〜１１の何れ
    か１項に記載の電子写真感光体。
13. 【請求項１３】 前記Ｎ型半導性微粒子の数平均一次粒
    径が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とす
    る請求項１〜１２の何れか１項に記載の電子写真感光
    体。
14. 【請求項１４】 導電性支持体上に、中間層を介して感
    光層を有する電子写真感光体において、該中間層が、フ
    ッ素原子を有する反応性有機ケイ素化合物を用いて表面
    処理された酸化チタン粒子とバインダー樹脂を含有して
    おり、該感光層の表面層が、有機ポリマー成分、シロキ
    サン縮合体成分、電荷輸送性構造成分、及び酸化防止構
    造成分を有する樹脂を含有することを特徴とする電子写
    真感光体。
15. 【請求項１５】 前記酸化チタン粒子の数平均一次粒径
    が１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする
    請求項１４に記載の電子写真感光体。
16. 【請求項１６】 前記中間層のバインダー樹脂がポリア
    ミド樹脂であることを特徴とする請求項１〜１５の何れ
    か１項に記載の電子写真感光体。
17. 【請求項１７】 電子写真感光体の周辺に、少なくとも
    帯電手段、像露光手段、現像手段、転写手段、クリーニ
    ング手段を有し、繰り返し画像形成を行う画像形成方法
    において、該電子写真感光体が請求項１〜１６の何れか
    １項に記載の電子写真感光体であることを特徴とする画
    像形成方法。
18. 【請求項１８】 請求項１７に記載の画像形成方法を用
    いることを特徴とする画像形成装置。
19. 【請求項１９】 請求項１８に記載の画像形成装置に用
    いられるプロセスカートリッジが、少なくとも請求項１
    〜１６の何れか１項に記載の電子写真感光体と帯電器、
    像露光器、現像器、転写器、クリーニング器の少なくと
    も１つを一体として有しており、該画像形成装置に出し
    入れ可能に構成されたことを特徴とするプロセスカート
    リッジ。