JP2003345045A

JP2003345045A - 電子写真感光体、画像形成装置、画像形成方法及びプロセスカートリッジ

Info

Publication number: JP2003345045A
Application number: JP2002152302A
Authority: JP
Inventors: 友男 ▲崎▼村; Tomoo Sakimura; Kageyuki Tomoyose; 景之友寄; Kazuhisa Shida; 和久志田
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2002-05-27
Filing date: 2002-05-27
Publication date: 2003-12-03

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明はチタニルフタロシアニン顔料等を用
いた場合の帯電特性、感度特性の湿度変化を改良し、カ
ブリが発生せず、且つ黒ポチや環境メモリ等の画像欠陥
の発生がない電子写真感光体を提供することであり、該
電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、
プロセスカートリッジを提供することにある。【解決手段】融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水率５
質量％以下の樹脂を含有することを特徴とする電子写真
感光体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機やプリンタ
ーの分野において用いられる電子写真感光体、及び該電
子写真感光体を用いた画像形成装置、画像形成方法、プ
ロセスカートリッジに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子写真用感光体（以下単に感光体とも
云う）はＳｅ、ヒ素、ヒ素／Ｓｅ合金、ＣｄＳ、ＺｎＯ
等の無機感光体から、公害や製造の容易性等の利点に優
れる有機感光体に主体が移り、様々な材料を用いた有機
感光体が開発されている。

【０００３】近年では電荷発生と電荷輸送の機能を異な
る材料に担当させた機能分離型の感光体が主流となって
おり、なかでも電荷発生層、電荷輸送層を積層した積層
型の有機感光体が広く用いられている。

【０００４】また、電子写真プロセスに目を向けると潜
像画像形成方式は、ハロゲンランプを光源とするアナロ
グ画像形成とＬＥＤやレーザを光源とするデジタル方式
の画像形成に大別される。最近はパソコンのハードコピ
ー用のプリンターとして、また通常の複写機においても
画像処理の容易さや複合機への展開の容易さからデジタ
ル方式の潜像画像形成方式が急激に主流となりつつあ
る。

【０００５】デジタル方式の画像形成では、デジタル電
気信号に変換された画像情報を感光体上に静電潜像とし
て書き込む際の光源としてレーザ、特に半導体レーザや
ＬＥＤが用いられている。

【０００６】これらのレーザ光やＬＥＤ光の発振波長
は、７８０ｎｍや６６０ｎｍの近赤外光やそれに近い長
波長光である。デジタル的に画像形成を行う際に使用さ
れる有機感光体にとって、まず第一に要求される特性と
してはこれらの長波長光に対して高感度であることであ
り、これまで多種多様な材料についてそのような特性を
有するか否かの検討がなされてきている。その中でもフ
タロシアニン顔料は、合成が比較的簡単である上、長波
長光に対して高感度を示すものが多い点で、フタロシア
ニン顔料を用いた有機感光体が、幅広く検討され、実用
化されている。

【０００７】なかでも、粉末Ｘ線回折スペクトルにてブ
ラッグ角２θが２７．２±０．２°に最大ピークを有す
るチタニルフタロシアニン顔料（以後、単にＹ型チタニ
ルフタロシアニン顔料又はＹ型とも云う）は高感度な素
材として知られ学会報告もされている（織田ら電子写真
学会誌，２９（３），２５０（１９９０）など）。更
に、藤巻はこのＹ型チタニルフタロシアニン顔料が乾燥
した不活性ガス中での脱水処理によっての光量子効率が
低下することを見いだした。しかしながら、この光量子
効率の低下は常温常湿度環境に放置して水を再吸収させ
ると再び量子効率が上がることから、Ｙ型チタニルフタ
ロシアニン顔料は水を含んだ結晶構造を有し、この水分
子が光によって生成した励起子のホールとエレクトロン
との解離を促進し、これが高い光量子効率を示す原因の
一つと推測している。（Ｙ．Ｆｕｊｉｍａｋｉ：ＩＳ＆
Ｔ’ｓ７ｔｈＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＣｏｎ
ｇｒｅｓｓｏｎＡｄｖａｎｃｅｉｎＮｏｎｉｍ
ｐａｃｔＰｒｉｎｔｉｎｇＴｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ
ｓ，ＰａｐｅｒＳｕｍｍａｒｉｅｓ，２６９（１９９
１））このような素材をキャリヤ発生物質として用いた場合、
環境、特に湿度変動により、帯電特性、感度特性が変化
し、環境メモリが発生しやすい。

【０００８】本発明者等は前記のような問題を検討した
結果、前記湿度変動対策として、電荷発生層に隣接する
中間層の影響が大きいことが見出された。

【０００９】例えば、酸化チタン粒子等をポリアミド樹
脂に分散させて中間層を形成する方法は、広く知られて
いる。しかし、この場合のポリアミド樹脂として通常用
いられる主に、６−ナイロン等のアミド結合間の炭素鎖
の少ない化学構造から構成される共重合ポリアミド樹脂
やメトキシメチル化ポリアミド樹脂は、吸水率が高く、
このようなポリアミドを用いた中間層は環境依存性が高
くなる傾向にあり、その結果、繰り返し使用による残留
電位の上昇、高温高湿下の帯電特性等が変化しやすく、
環境メモリ（高温高湿の環境から低温低湿の環境に変わ
ったとき、帯状の画像欠陥が発生する現象）や黒ポチが
発生しやすい。

【００１０】アミド結合間の炭素鎖の多い構成単位から
構成される共重合ポリアミド樹脂、例えば１２−ナイロ
ン系樹脂は、吸水率が低い為、環境依存性が低い感光体
を作るのに有効な材料であると予想される。しかし、こ
のようなポリアミドは通常の有機溶媒には不溶で、感光
体の製造には適さない。特開平５−７２７８７号公報や
特開平６−１８６７６７号公報等に記載の如く、メトキ
シメチル化により溶解性を向上させて用いる例がある
が、メトキシメチル化は著しく吸水率を増加させる為、
黒ポチや環境メモリを十分低くすることは難しい。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点に鑑み、チタニルフタロシアニン顔料等を用
いた場合の帯電特性、感度特性の湿度変化を改良し、カ
ブリが発生せず、且つ黒ポチや環境メモリ等の画像欠陥
の発生がない電子写真感光体を提供することであり、該
電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、
プロセスカートリッジを提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は既存のポリアミ
ド樹脂を用いた中間層の前記したような欠点を改良すべ
く検討を加えた結果、結晶性が低く、且つ吸水性が低い
樹脂を中間層のバインダー樹脂として用いることによ
り、溶媒溶解性、感光体の帯電特性、感度特性の耐湿度
依存性を改善し、カブリが発生せず、黒ポチや環境メモ
リ等の画像欠陥の発生も防止できることを見出し、本発
明を完成した。即ち、本発明は以下のような構成を有す
ることにより、達成される。

【００１３】１．融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水率
５質量％以下の樹脂を含有することを特徴とする電子写
真感光体。

【００１４】２．導電性支持体上に中間層、感光層とを
有する電子写真感光体において、該中間層が融解熱０〜
４０Ｊ／ｇで、且つ吸水率５質量％以下の樹脂を含有す
ることを特徴とする電子写真感光体。

【００１５】３．前記樹脂がアルコール可溶性ポリアミ
ドであることを特徴とする前記１又は２に記載の電子写
真感光体。

【００１６】４．前記中間層が数平均一次粒径１０〜４
００ｎｍの微粒子を含有することを特徴とする前記２又
は３に記載の電子写真感光体。

【００１７】５．前記微粒子がＮ型半導性粒子であるこ
とを特徴とする前記４に記載の電子写真感光体。

【００１８】６．前記Ｎ型半導性粒子が酸化チタン粒子
であることを特徴とする前記５に記載の電子写真感光
体。

【００１９】７．前記微粒子が金属酸化物であることを
特徴とする前記４に記載の電子写真感光体。

【００２０】８．前記微粒子が表面処理を施されている
ことを特徴とする前記４〜７のいずれか１項に記載の電
子写真感光体。

【００２１】９．前記樹脂が前記一般式（１）で示され
る繰り返し単位構造を有するポリアミドであることを特
徴とする前記３〜８のいずれか１項に記載の電子写真感
光体。

【００２２】１０．前記Ｙ₁は前記化学構造を有するこ
とを特徴とする前記９に記載の電子写真感光体。

【００２３】１１．前記感光層がＣｕ−Ｋα特性Ｘ線に
よるＸ線回折スペクトルのブラッグ角（２θ±０．２
°）で、２７．３°に最大ピーク角度を有するチタニル
フタロシアニン顔料を含有することを特徴とする前記１
〜１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体。

【００２４】１２．前記感光層がＣｕ−Ｋα特性Ｘ線に
よるＸ線回折スペクトルのブラッグ角（２θ±０．２
°）で、７．５°、２８．７°に顕著な回折ピークを有
するチタニルフタロシアニン顔料を含有することを特徴
とする前記１〜１０のいずれか１項に記載の電子写真感
光体。

【００２５】１３．融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水
率５質量％以下の樹脂を含有する電子写真感光体、該電
子写真感光体を一様に帯電する帯電手段、帯電された電
子写真感光体に静電潜像を形成する潜像形成手段、電子
写真感光体上に形成された静電潜像を顕像化してトナー
像とする現像手段、顕像化して得られた該電子写真感光
体上のトナー像を転写材上に転写する転写手段及びトナ
ー像転写後に電子写真感光体上に残留するトナーを除去
するクリーニング手段を有することを特徴とする画像形
成装置。

【００２６】１４．前記１３に記載の画像形成装置を用
いて、電子写真画像を形成することを特徴とする画像形
成方法。

【００２７】１５．前記１〜１２のいずれか１項に記載
の電子写真感光体と該電子写真感光体上を一様に帯電す
る帯電手段、帯電された電子写真感光体に静電潜像を形
成する潜像形成手段、該電子写真感光体上の静電潜像を
顕像化する現像手段、該電子写真感光体上に顕像化され
たトナー像を転写材上に転写する転写手段、転写後の該
電子写真感光体上の電荷を除去する除電手段及び転写後
の該電子写真感光体上の残留するトナーを除去するクリ
ーニング手段の少なくとも１つの手段とが一体的に支持
され、画像形成装置本体に着脱自在に装着されているこ
とを特徴とするプロセスカートリッジ。

【００２８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
電子写真感光体は、融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水
率５質量％以下の樹脂を含有することを特徴とする。

【００２９】本発明の電子写真感光体は、導電性支持体
上に中間層、感光層とを有する電子写真感光体におい
て、該中間層が融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水率５
質量％以下の樹脂を含有することを特徴とする。

【００３０】中間層のバインダー樹脂に融解熱０〜４０
Ｊ／ｇで、且つ吸水率５質量％以下の樹脂を用いること
により、溶媒溶解性、感光体の帯電特性、感度特性の耐
湿度依存性を改善し、カブリが発生せず、黒ポチや環境
メモリ等の画像欠陥の発生も防止した良好な電子写真画
像を得ることができる。即ち、中間層のバインダー樹脂
として上記のような融解熱と吸水率を有する樹脂を用い
ることにより、温湿度の外部環境が変化しても、感光体
の半導体としての特性が変化しにくく、前記のような改
良効果が顕著に現れる。即ち、融解熱が４０Ｊ／ｇより
大きくなると、バインダーの溶媒溶解性が低下し、中間
層中で、微細なバインダー樹脂の凝集物が発生し、ミク
ロな物性の均一性が不足し、黒ポチの発生や、残留電位
の上昇をもたらし、又電荷発生物質の分散の均一性が十
分でなくなり、環境メモリを発生しやすくなる。該融解
熱は０〜３０Ｊ／ｇがより好ましく、０〜２０Ｊ／ｇが
最も好ましい。一方、前記吸水率が５質量％を超える
と、中間層中の含水率が上昇し、黒ポチや環境メモリを
発生させ、又残留電位の上昇、カブリの発生等の電子写
真特性を低下させる。該吸水率は３質量％がより好まし
い。

【００３１】上記樹脂の融解熱はＤＳＣ（示差走査熱量
測定：ＤｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌＳｃａｎｎｉｎｇＣ
ａｌｏｒｉｍｅｔｏｒｙ）にて測定する。但し、ＤＳＣ
の測定値と同じ測定値が得られれば、ＤＳＣ測定法にこ
だわらない。該融解熱はＤＳＣ昇温時の吸熱ピーク面積
から求める。

【００３２】一方、樹脂の吸水率は水中浸漬法による質
量変化又はカールフィッシャー法により求める。

【００３３】本発明の中間層のバインダー樹脂としては
アルコール可溶性ポリアミド樹脂が好ましい。電子写真
感光体の中間層のバインダー樹脂としては、中間層を均
一な膜厚で形成するために、溶媒溶解性の優れた樹脂が
必要とされている。このようなアルコール可溶性のポリ
アミド樹脂としては、前記した６−ナイロン等のアミド
結合間の炭素鎖の少ない化学構造から構成される共重合
ポリアミド樹脂やメトキシメチル化ポリアミド樹脂が知
られているが、これらの樹脂は吸水率が高く、このよう
なポリアミドを用いた中間層は環境依存性が高くなる傾
向にあり、その結果、たとえば高温高湿下の帯電特性等
が変化しやすく、環境メモリ（高温高湿の環境から低温
低湿の環境に変わったとき、帯状の画像欠陥が発生する
現象）や黒ポチが発生しやすい。

【００３４】本発明のアルコール可溶性ポリアミド樹脂
には、上記のような欠点を改良し、融解熱０〜４０Ｊ／
ｇで、且つ吸水率５質量％以下の特性を与えることによ
り、従来のアルコール可溶性ポリアミド樹脂の欠点を改
良し、外部環境が変化しても、又電子写真感光体の長時
間連続使用を行っても、良好な電子写真画像を得ること
ができる。

【００３５】以下、融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水
率５質量％以下の特性を有するアルコール可溶性ポリア
ミド樹脂について説明する。

【００３６】前記アルコール可溶性ポリアミド樹脂とし
ては、アミド結合間の炭素数が７〜３０の繰り返し単位
構造を全繰り返し単位構造の４０〜１００モル％含有す
るポリアミド樹脂が好ましい。

【００３７】ここで、アミド結合間の炭素数が７〜３０
の繰り返し単位構造について説明する。前記繰り返し単
位構造とはポリアミド樹脂を形成するアミド結合単位を
意味する。このことを、繰り返し単位構造がアミノ基と
カルボン酸基の両方を持つ化合物の縮合により形成され
るポリアミド樹脂（タイプＡ）と、ジアミノ化合物とジ
カルボン酸化合物の縮合で形成されるポリアミド樹脂
（タイプＢ）の両方の例で説明する。

【００３８】即ち、タイプＡの繰り返し単位構造は一般
式（２）で表され、Ｘに含まれる炭素数が繰り返し単位
構造におけるアミド結合単位の炭素数である。一方タイ
プＢの繰り返し単位構造は一般式（３）で表され、Ｙに
含まれる炭素数もＺに含まれる炭素数も、各々繰り返し
単位構造におけるアミド結合単位の炭素数である。

【００３９】

【化３】

【００４０】一般式（２）中、Ｒ₁は水素原子、置換又
は無置換のアルキル基、Ｘは置換又は無置換の、アルキ
レン基、２価のシクロアルカンを含む基、２価の芳香族
基及びこれらの混合構造を示し、ｌは自然数を示す。

【００４１】

【化４】

【００４２】一般式（３）中、Ｒ₂、Ｒ₃は各水素原子、
置換又は無置換のアルキル基、Ｙ、Ｚは各置換又は無置
換の、アルキレン基、２価のシクロアルカンを含む基、
２価の芳香族基及びこれらの混合構造を示し、ｍ、ｎは
自然数を示す。

【００４３】前記のごとく、炭素数が７〜３０の繰り返
し単位構造は置換又は無置換の、アルキレン基、２価の
シクロアルカンを含む基、２価の芳香族基及びこれらの
混合構造を有する化学構造等が挙げられるが、これらの
中で２価のシクロアルカンを含む基を有する化学構造が
好ましい。

【００４４】本発明のポリアミド樹脂は繰り返し単位構
造のアミド結合間の炭素数が７〜３０であるが、好まし
くは９〜２５、更には１１〜２０が良い。またアミド結
合間の炭素数が７〜３０の繰り返し単位構造が全繰り返
し単位構造中に占める比率は４０〜１００モル％、好ま
しくは６０〜１００モル％、更には８０〜１００モル％
が良い。

【００４５】前記炭素数が７より小だと、ポリアミド樹
脂の吸湿性が大きく、電子写真特性、特に繰り返し使用
時の電位の湿度依存性が大きく、更に黒ポチ、環境メモ
リ等が発生しやすい。３０より大であるとポリアミド樹
脂の塗布溶媒への溶解が悪くなり、中間層の塗布膜形成
に適さない。

【００４６】又、アミド結合間の炭素数が７〜３０の繰
り返し単位構造が全繰り返し単位構造中に占める比率が
４０モル％より小さいと、上記効果が小さくなる。

【００４７】本発明の好ましいポリアミド樹脂としては
下記一般式（１）で示される繰り返し単位構造を有する
ポリアミドが挙げられる。

【００４８】

【化５】

【００４９】一般式（１）中、Ｙ₁は２価のアルキル置
換されたシクロアルカンを含む基、Ｚ₁はメチレン基、
ｍは１〜３、ｎは３〜２０を示す。

【００５０】上記一般式（１）中、Ｙ₁の２価のアルキ
ル置換されたシクロアルカンを含む基は下記化学構造が
好ましい。即ち、Ｙ₁が下記化学構造を有する本発明の
ポリアミド樹脂は、環境メモリ、黒ポチ改善効果が著し
い。

【００５１】

【化６】

【００５２】上記化学構造において、Ａは単結合、炭素
数１〜４のアルキレン基を示し、Ｒ ₄は置換基で、アル
キル基を示し、ｐは１〜５の自然数を示す。但し、複数
のＲ₄は同一でも、異なっていても良い。

【００５３】本発明のポリアミド樹脂の具体例としては
下記のような例が挙げられる。

【００５４】

【化７】

【００５５】

【化８】

【００５６】

【化９】

【００５７】上記具体例中の（）内の％は繰り返し単位
構造のアミド結合間の炭素数が７以上の繰り返し単位構
造の比率（モル％）を示す。

【００５８】上記具体例の中でも、一般式（１）の繰り
返し単位構造を有するＮ−１〜Ｎ−４のポリアミド樹脂
が特に好ましい。

【００５９】又、本発明のポリアミド樹脂の分子量は数
平均分子量で５，０００〜８０，０００が好ましく、１
０，０００〜６０，０００がより好ましい。数平均分子
量が５，０００以下だと中間層の膜厚の均一性が劣化
し、本発明の効果が十分に発揮されにくい。一方、８
０，０００より大きいと、樹脂の溶媒溶解性が低下しや
すく、中間層中に凝集樹脂が発生しやすく、黒ポチ等の
画像欠陥が発生しやすい。

【００６０】本発明のポリアミド樹脂はその一部が既に
市販されており、例えばダイセル・デグサ（株）社製の
ベスタメルトＸ１０１０、Ｘ４６８５等の商品名で販売
されて、一般的なポリアミドの合成法で作製することが
できるが、以下に合成例の一例を挙げる。

【００６１】例示ポリアミド樹脂（Ｎ−１）の合成攪拌機、窒素、窒素導入管、温度計、脱水管等を備えた
重合釜にラウリルラクタム２１５質量部、３−アミノメ
チル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルアミン１
１２質量部、１，１２−ドデカンシカルボン酸１５３質
量部及び水２質量部を混合し、加熱加圧下、水を留出さ
せながら９時間反応させた。重合物を取り出し、Ｃ¹³−
ＮＭＲにより共重合組成を求めたところ、Ｎ−１の組成
と一致した。尚、上記合成された共重合のメルトフロー
インデックス（ＭＦＩ）は（２３０℃／２．１６ｋｇ）
の条件で、５ｇ／１０ｍｉｎであった。

【００６２】本発明のポリアミド樹脂を溶解し、塗布液
を作製する溶媒としては、エタノール、ｎ−プロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、
ｔ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等の炭素数２〜４
のアルコール類が好ましく、ポリアミドの溶解性と作製
された塗布液の塗布性の点で優れている。これらの溶媒
は全溶媒中に３０〜１００質量％、好ましくは４０〜１
００質量％、更には５０〜１００質量％が好ましい。前
記溶媒と併用し、好ましい効果を得られる助溶媒として
は、メタノール、ベンジルアルコール、トルエン、メチ
レンクロライド、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラ
ン等が挙げられる。

【００６３】又、本発明の中間層には前記したポリアミ
ド樹脂中に一次粒子径が１０〜４００ｎｍの微粒子を分
散、含有させることが好ましい。

【００６４】上記数平均一次粒子径とは、微粒子を透過
型電子顕微鏡観察によって１００００倍に拡大し、ラン
ダムに１００個の粒子を一次粒子として観察し、画像解
析によってフェレ方向平均径としての測定値である。

【００６５】このような微粒子を中間層に含有させると
画像欠陥の１つであるレーザ光によるモアレを低減した
り、中間層のフリーキャリア（導電性支持体等から進入
してくる電子やホール）のブロッキング性を高めること
は、公知のことであるが、このような微粒子を中間層に
含有させた場合、微粒子が湿度を高めやすく、しばしば
温湿度環境依存性が大きくなりやすい。本発明では中間
層のバインダー樹脂として前記した融解熱０〜４０Ｊ／
ｇで、且つ吸水率５質量％以下の樹脂を用いることによ
り、このような微粒子を含有させた中間層を形成して
も、外部の温湿度変化に対しても安定した特性を有する
中間層を得ることができ、その結果感光体の電子写真特
性が安定し、外部の温湿度変化に対しても安定した特性
を有する感光体を得ることができる。

【００６６】このような微粒子としては、例えば酸化セ
リウム、酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化マグネシ
ウム、酸化ケイ素、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化
鉄、酸化チタンなどの酸化物；硫酸カルシウム、硫酸バ
リウム、硫酸アルミニウムなどの硫酸塩；珪酸カルシウ
ム、珪酸マグネシウムなどの珪酸塩；チッ化ホウ素、チ
ッ化チタンなどのチッ化物；炭化ケイ素、炭化チタン、
炭化ホウ素、炭化タングステン、炭化ジルコニウムなど
の炭化物；ホウ化ジルコニウム、ホウ化チタンなどのホ
ウ化物などが挙げられるが、本発明の微粒子としては下
記に記すＮ型半導性微粒子が好ましい。

【００６７】Ｎ型半導性粒子とは、導電性キャリアを電
子とする性質をもつ微粒子を示す。すなわち、導電性キ
ャリアを電子とする性質をもつことから、該Ｎ型半導性
粒子を絶縁性バインダーに含有させた中間層は、基体か
らのホール注入を効率的にブロックし、また、感光層か
らの電子に対してはブロッキング性が少ない性質を有す
る。

【００６８】前記Ｎ型半導性粒子は、具体的には酸化チ
タン（ＴｉＯ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（Ｓ
ｎＯ₂）等の微粒子が挙げられるが、本発明では、特に
酸化チタンが好ましく用いられる。

【００６９】本発明に用いられるＮ型半導性粒子の平均
粒径は、数平均一次粒径で１０ｎｍ以上４００ｎｍ以下
の範囲が良く、１５ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。１０
ｎｍ未満では中間層によるモアレ発生の防止効果が小さ
い。一方、４００ｎｍより大きいと、中間層塗布液のＮ
型半導性粒子の沈降が発生しやすく、その結果中間層中
のＮ型半導性粒子の均一分散性が悪く、又黒ポチも増加
しやすい。数平均一次粒径が前記範囲のＮ型半導性粒子
を用いた中間層塗布液は分散安定性が良好で、且つこの
ような塗布液から形成された中間層は黒ポチ発生防止機
能の他、環境特性が良好で、且つ耐クラッキング性を有
する。

【００７０】前記Ｎ型半導性微粒子の数平均一次粒径
は、例えば酸化チタンの場合、透過型電子顕微鏡観察に
よって１００００倍に拡大し、ランダムに１００個の粒
子を一次粒子として観察し、画像解析によりフェレ径の
数平均径として測定値する。

【００７１】本発明に用いられるＮ型半導性粒子の形状
は、樹枝状、針状および粒状等の形状があり、このよう
な形状のＮ型半導性粒子は、例えば酸化チタン粒子で
は、結晶型としては、アナターゼ型、ルチル型及びアモ
ルファス型等があるが、いずれの結晶型のものを用いて
もよく、また２種以上の結晶型を混合して用いてもよ
い。その中でもルチル型で且つ粒状のものが最も良い。

【００７２】本発明のＮ型半導性粒子に行われる表面処
理の１つは、複数回の表面処理を行い、かつ該複数回の
表面処理の中で、最後の表面処理が反応性有機ケイ素化
合物を用いた表面処理を行うものである。また、該複数
回の表面処理の中で、少なくとも１回の表面処理がアル
ミナ、シリカ、及びジルコニアから選ばれる少なくとも
１種類以上の表面処理を行い、最後に反応性有機ケイ素
化合物を用いた表面処理を行うことが好ましい。

【００７３】尚、アルミナ処理、シリカ処理、ジルコニ
ア処理とはＮ型半導性粒子表面にアルミナ、シリカ、或
いはジルコニアを析出させる処理を云い、これらの表面
に析出したアルミナ、シリカ、ジルコニアにはアルミ
ナ、シリカ、ジルコニアの水和物も含まれる。又、反応
性有機ケイ素化合物の表面処理とは、処理液に反応性有
機ケイ素化合物を用いることを意味する。

【００７４】この様に、酸化チタン粒子の様なＮ型半導
性粒子の表面処理を少なくとも２回以上行うことによ
り、Ｎ型半導性粒子表面が均一に表面被覆（処理）さ
れ、該表面処理されたＮ型半導性粒子を中間層に用いる
と、中間層内における酸化チタン粒子等のＮ型半導性粒
子の分散性が良好で、かつ黒ポチ等の画像欠陥を発生さ
せない良好な感光体を得ることができるのである。

【００７５】また、該複数回の表面処理をアルミナ、シ
リカを用いて表面処理を行い、次いで反応性有機ケイ素
化合物による表面処理を行うものが特に好ましい。

【００７６】なお、前述のアルミナ、シリカの処理は同
時に行っても良いが、特にシリカ処理を最初に行い、次
いでアルミナ処理を行うことが好ましい。また、アルミ
ナとシリカの処理をそれぞれ行う場合のアルミナ及びシ
リカの処理量は、アルミナよりもシリカの多いものが好
ましい。

【００７７】前記酸化チタン等のＮ型半導性粒子のアル
ミナ、シリカ、及びジルコニア等の金属酸化物による表
面処理は湿式法で行うことができる。例えば、シリカ、
又はアルミナの表面処理を行ったＮ型半導性粒子は以下
の様に作製することができる。

【００７８】Ｎ型半導性粒子として酸化チタン粒子を用
いる場合、酸化チタン粒子（数平均一次粒子径：５０ｎ
ｍ）を５０〜３５０ｇ／Ｌの濃度で水中に分散させて水
性スラリーとし、これに水溶性のケイ酸塩又は水溶性の
アルミニウム化合物を添加する。その後、アルカリ又は
酸を添加して中和し、酸化チタン粒子の表面にシリカ、
又はアルミナを析出させる。続いて濾過、洗浄、乾燥を
行い目的の表面処理酸化チタンを得る。前記水溶性のケ
イ酸塩としてケイ酸ナトリウムを使用した場合には、硫
酸、硝酸、塩酸等の酸で中和することができる。一方、
水溶性のアルミニウム化合物として硫酸アルミニウムを
用いたときは水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のア
ルカリで中和することができる。

【００７９】なお、上記表面処理に用いられる金属酸化
物の量は、前記表面処理時の仕込量にて酸化チタン粒子
等のＮ型半導性粒子１００質量部に対して、０．１〜５
０質量部、更に好ましくは１〜１０質量部の金属酸化物
が用いられる。尚、前述のアルミナとシリカを用いた場
合も例えば酸化チタン粒子の場合、酸化チタン粒子１０
０質量部に対して各々１〜１０質量部用いることが好ま
しく、アルミナよりもシリカの量が多いことが好まし
い。

【００８０】上記の金属酸化物による表面処理の次に行
われる反応性有機ケイ素化合物による表面処理は以下の
様な湿式法で行うことが好ましい。

【００８１】即ち、有機溶剤や水に対して前記反応性有
機ケイ素化合物を溶解または懸濁させた液に前記金属酸
化物で処理された酸化チタンを添加し、この液をセラミ
ックビーズを用いたメディア分散を行うことが好まし
い。次にメディア分散後の分散液を濾過後、加熱処理を
しながら、減圧乾燥し、表面を有機ケイ素化合物で被覆
した酸化チタン粒子を得る。なお、有機溶剤や水に対し
て酸化チタンを分散させた懸濁液に前記反応性有機ケイ
素化合物を添加しても構わない。

【００８２】尚、本発明において酸化チタン粒子表面が
反応性有機ケイ素化合物により被覆されていることは、
光電子分光法（ＥＳＣＡ）、オージェ電子分光法（Ａｕ
ｇｅｒ）、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）や拡散反
射ＦＩ−ＩＲ等の表面分析手法を複合することによって
確認されるものである。

【００８３】前記表面処理に用いられる反応性有機ケイ
素化合物の量は、前記表面処理時の仕込量にて前記金属
酸化物で処理された酸化チタン１００質量部に対し、反
応性有機ケイ素化合物を０．１〜５０質量部、更に好ま
しくは１〜１０質量部が好ましい。表面処理量が上記範
囲よりも少ないと表面処理効果が十分に付与されず、中
間層内における酸化チタン粒子の分散性等が悪くなる。
また、上記範囲を超えてしまうと電気性能を悪化させる
結果残留電位上昇や帯電電位の低下を招いてしまう。

【００８４】本発明で用いられる反応性有機ケイ素化合
物としては下記一般式（４）で表される化合物が挙げら
れるが、酸化チタン表面の水酸基等の反応性基と縮合反
応をする化合物であれば、下記化合物に限定されない。

【００８５】一般式（４）（Ｒ）_n−Ｓｉ−（Ｘ）_4-n （式中、Ｓｉはケイ素原子、Ｒは該ケイ素原子に炭素が
直接結合した形の有機基を表し、Ｘは加水分解性基を表
し、ｎは０〜３の整数を表す。）一般式（４）で表される有機ケイ素化合物において、Ｒ
で示されるケイ素に炭素が直接結合した形の有機基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、
ヘキシル、オクチル、ドデシル等のアルキル基、フェニ
ル、トリル、ナフチル、ビフェニル等のアリール基、γ
−グリシドキシプロピル、β−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチル等の含エポキシ基、γ−アクリロキ
シプロピル、γ−メタアクリロキシプロピルの含（メ
タ）アクリロイル基、γ−ヒドロキシプロピル、２，３
−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル等の含水酸基、
ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプ
ロピル等の含メルカプト基、γ−アミノプロピル、Ｎ−
β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル等の含アミノ
基、γ−クロロプロピル、１，１，１−トリフロオロプ
ロピル、ノナフルオロヘキシル、パーフルオロオクチル
エチル等の含ハロゲン基、その他ニトロ、シアノ置換ア
ルキル基を挙げられる。また、Ｘの加水分解性基として
はメトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、ハロゲン基、
アシルオキシ基が挙げられる。

【００８６】また、一般式（４）で表される有機ケイ素
化合物は、単独でも良いし、２種以上組み合わせて使用
しても良い。

【００８７】また、一般式（４）で表される有機ケイ素
化合物の具体的化合物で、ｎが２以上の場合、複数のＲ
は同一でも異なっていても良い。同様に、ｎが２以下の
場合、複数のＸは同一でも異なっていても良い。又、一
般式（４）で表される有機ケイ素化合物を２種以上を用
いるとき、Ｒ及びＸはそれぞれの化合物間で同一でも良
く、異なっていても良い。

【００８８】ｎが０の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロ
シラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロ
シラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラ
ン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス（２−メ
トキシエトキシ）シラン、テトラブトキシシラン、テト
ラフェノキシシラン、テトラキス（２−エチルブトキ
シ）シラン、テトラキス（２−エチルヘキシロキシ）シ
ラン等が挙げられる。

【００８９】ｎが１の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。即ち、トリクロロシラン、メチルトリクロ
ロシラン、ビニルトリクロロシラン、エチルトリクロロ
シラン、アリルトリクロロシラン、ｎ−プロピルトリク
ロロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、クロロメチ
ルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
ルカプトメチルトリメトキシシラン、トリメトキシビニ
ルシラン、エチルトリメトキシシラン、３，３，４，
４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリク
ロロシラン、フェニルトリクロロシラン、３，３，３−
トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、３
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、２−アミノエチルアミノ
メチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラ
ン、メチルトリアセトキシシラン、クロロメチルトリエ
トキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、３−アリルチオプロピルトリメト
キシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−ア
リルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリ
エトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビス（エチルメチルケト
オキシム）メトキシメチルシラン、ペンチルトリエトキ
シシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリ
エトキシシラン等が挙げられる。

【００９０】ｎが２の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。ジメチルジクロロシラン、ジメトキシメチ
ルシラン、ジメトキシジメチルシラン、メチル−３，
３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、ジエト
キシシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチ
ル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−ク
ロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジ
エトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキ
シ−３−メルカプトプロピルメチルシラン、３，３，
４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメ
チルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、
ジアセトキシメチルビニルシラン、ジエトキシメチルビ
ニルシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジクロ
ロシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラ
ン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジメトキ
シメチルシラン、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、
３−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、
３−（３−シアノプロピルチオプロピル）ジメトキシメ
チルシラン、３−（２−アセトキシエチルチオプロピ
ル）ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−２−
ピペリジノエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、
３−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、
ジエトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシ−３−グ
リシドキシプロピルメチルシラン、３−（３−アセトキ
シプロピルチオ）プロピルジメトキシメチルシラン、ジ
メトキシメチル−３−ピペリジノプロピルシラン、ジエ
トキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。

【００９１】ｎが３の化合物例としては下記の化合物が
挙げられる。トリメチルクロロシラン、メトキシトリメ
チルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシジメ
チル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、３−
クロロプロピルメトキシジメチルシラン、メトキシ−３
−メルカプトプロピルメチルメチルシラン等が挙げられ
る。

【００９２】また、一般式（４）で表される有機ケイ素
化合物は、好ましくは下記一般式（５）で示される有機
ケイ素化合物が用いられる。

【００９３】一般式（５）Ｒ−Ｓｉ−Ｘ₃ 式中、Ｒはアルキル基、アリール基、Ｘはメトキシ基、
エトキシ基、ハロゲン基を表す。

【００９４】一般式（５）で表される有機ケイ素化合物
においては、更に好ましくはＲが炭素数４から８までの
アルキル基である有機ケイ素化合物が好ましく、具体的
な好ましい化合物例としては、トリメトキシｎ−ブチル
シラン、トリメトキシｉ−ブチルシラン、トリメトキシ
ヘキシルシラン、トリメトキシオクチルシランが挙げら
れる。

【００９５】又、最後の表面処理に用いる好ましい反応
性有機ケイ素化合物としてはポリシロキサン化合物が挙
げられる。該ポリシロキサン化合物の分子量は１０００
〜２００００のものが一般に入手しやすく、又、黒ポチ
発生防止機能も良好である。

【００９６】特にメチルハイドロジェンポリシロキサン
を最後の表面処理に用いると良好な効果が得られる。

【００９７】本発明の酸化チタンの表面処理の他の１つ
はフッ素原子を有する有機ケイ素化合物により表面処理
を施された酸化チタン粒子である。該フッ素原子を有す
る有機ケイ素化合物による表面処理、前記した湿式法で
行うのが好ましい。

【００９８】即ち、有機溶剤や水に対して前記フッ素原
子を有する有機ケイ素化合物を溶解または懸濁させ、こ
の中に未処理の酸化チタンを添加し、このような溶液を
メディア分散し、濾過、加熱処理を施した後に、乾燥
し、酸化チタン表面をフッ素原子を有する有機ケイ素化
合物で被覆する。なお、有機溶剤や水に対して酸化チタ
ンを分散した懸濁液に前記フッ素原子を有する有機ケイ
素化合物を添加しても構わない。

【００９９】尚、前記酸化チタン表面がフッ素原子を有
する有機ケイ素化合物によって被覆されていることは、
光電子分光法（ＥＳＣＡ）、オージェ電子分光法（Ａｕ
ｇｅｒ）、２次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）や拡散反
射ＦＩ−ＩＲ等の表面分析装置を用いて複合的に確認す
ることができる。

【０１００】本発明に用いられるフッ素原子を有する有
機ケイ素化合物としては、３，３，４，４，５，５，
６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラ
ン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロ
ロシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオ
ロプロピルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，
６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン等が挙
げられる。

【０１０１】前記ポリアミド樹脂中に分散されるＮ型半
導性粒子の量は、例えば表面処理酸化チタンの場合で
は、該バインダー樹脂１００質量部に対し、１０〜１
０，０００質量部、好ましくは５０〜１，０００質量部
である。該表面処理酸化チタンをこの範囲で用いること
により、該酸化チタンの分散性を良好に保つことがで
き、黒ポチの発生しない、良好な中間層を形成すること
ができる。

【０１０２】又、本発明の中間層は実質的に絶縁層であ
る。ここで絶縁層とは、体積抵抗が１×１０⁸〜１０¹⁵
Ω・ｃｍである。又、本発明の中間層の体積抵抗は好ま
しくは１×１０⁹〜１０¹⁴Ω・ｃｍ、更に好ましくは、
２×１０⁹〜１×１０¹³Ω・ｃｍが良い。体積抵抗は下
記のようにして測定できる。

【０１０３】測定条件；ＪＩＳ：Ｃ２３１８−１９７５に準ずる。測定器：三菱油化社製ＨｉｒｅｓｔａＩＰ測定条件：測定プローブＨＲＳ印加電圧：５００Ｖ測定環境：３０±２℃、８０±５ＲＨ％体積抵抗が１×１０⁸未満では中間層の電荷ブロッキン
グ性が低下し、黒ポチの発生が増大し、電子写真感光体
の電位保持性も劣化し、良好な画質が得られない。一方
１０¹⁵Ω・ｃｍより大きいと繰り返し画像形成で残留電
位が増大しやすく、良好な画質が得られない。

【０１０４】本発明の中間層を形成するために作製する
中間層塗布液は前記表面処理酸化チタン等の表面処理Ｎ
型半導性粒子、バインダー樹脂、分散溶媒等から構成さ
れるが、分散溶媒としては前記したポリアミド樹脂の溶
媒と同様なものが適宜用いられる。

【０１０５】又、上記Ｎ型半導性微粒子以外に、金属酸
化物の微粒子も好ましく用いられる。金属酸化物の微粒
子としては、例えば酸化セリウム、酸化クロム、酸化ア
ルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化錫な
どの酸化物などが挙げられ、これらのうち１種を、又
は、必要に応じて２種以上の金属酸化物を用いることが
好ましい。又、これらの金属酸化物は、例えばチタンカ
ップリング剤、シランカップリング剤、高分子脂肪酸又
はその金属塩等の疎水化処理剤により疎水化されたもの
が好ましい。

【０１０６】前記チタンカップリング剤としては、テト
ラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソ
プロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピ
ルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス
（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテート
チタネートなどがある。更に、シランカップリング剤と
しては、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジ
ルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキ
シシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリ
メトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチ
ルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ド
デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチ
ルフェニルトリメトキシシランなどが挙げられる。

【０１０７】又、脂肪酸としては、ウンデシル酸、ラウ
リン酸、トリデカン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ペンタデカン酸、ステアリン酸、ヘプタデカン酸、アラ
キン酸、モンタン酸、オレイン酸、リノール酸、アラキ
ドン酸などの長鎖脂肪酸が挙げられ、その金属塩として
は亜鉛、鉄、マグネシウム、アルミニウム、カルシウ
ム、ナトリウム、リチウムなどの金属との塩が挙げられ
る。

【０１０８】上記のような微粒子を本発明のポリアミド
樹脂中に分散、含有させることにより、電子写真特性、
特に繰り返し使用時の電位の湿度依存性、更に黒ポチ、
環境メモリ等の改善効果を増大させることができる。

【０１０９】次に、中間層以外の本発明に好ましく用い
られる感光体の構成について記載する。

【０１１０】本発明の感光体としては本発明の目的から
は有機電子写真感光体（有機感光体とも云う）に本発明
の中間層を適用することが好ましい。

【０１１１】本発明において、有機感光体とは電子写真
感光体の構成に必要不可欠な電荷発生機能及び電荷輸送
機能の少なくとも一方の機能を有機化合物に持たせて構
成された電子写真感光体を意味し、公知の有機電荷発生
物質又は有機電荷輸送物質から構成された感光体、電荷
発生機能と電荷輸送機能を高分子錯体で構成した感光体
等公知の有機電子写真感光体を全て含有する。

【０１１２】有機感光体の層構成は、特に限定はない
が、基本的には電荷発生層、電荷輸送層、或いは電荷発
生・電荷輸送層（電荷発生と電荷輸送の機能を同一層に
有する層）等の感光層から構成されるが、その上に表面
層を塗設した構成でもよい。又、表面層は保護層の機能
と電荷輸送の機能を有しているので電荷輸送層の代わり
に用いてもよい。

【０１１３】以下に本発明に用いられる具体的な感光体
の構成について記載する。導電性支持体本発明の感光体に用いられる導電性支持体としてはシー
ト状或いは円筒状の導電性支持体が用いられる。

【０１１４】本発明の円筒状の導電性支持体とは回転す
ることによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円
筒状の支持体を意味し、真直度で０．１ｍｍ以下、振れ
０．１ｍｍ以下の範囲にある導電性の支持体が好まし
い。この真直度及び振れの範囲を超えると、良好な画像
形成が困難になる。

【０１１５】導電性支持体の材料としてはアルミニウ
ム、ニッケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸
化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチックド
ラム、又は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラ
ムを使用することができる。導電性支持体としては常温
で比抵抗１０³Ωｃｍ以下が好ましい。

【０１１６】本発明で用いられる導電性支持体は、その
表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを
用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム
酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等
の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最
も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場
合、硫酸濃度は１００〜２００ｇ／ｌ、アルミニウムイ
オン濃度は１〜１０ｇ／ｌ、液温は２０℃前後、印加電
圧は約２０Ｖで行うのが好ましいが、これに限定される
ものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常２
０μｍ以下、特に１０μｍ以下が好ましい。

【０１１７】中間層本発明においては導電性支持体と感光層の間に、バリヤ
ー機能を備えた前記した中間層を設ける。

【０１１８】感光層本発明の感光体の感光層構成は前記中間層上に電荷発生
機能と電荷輸送機能を１つの層に持たせた単層構造の感
光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電
荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）に分離した
構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ることに
より繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御で
き、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやす
い。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層（Ｃ
ＧＬ）、その上に電荷輸送層（ＣＴＬ）の構成を取るこ
とが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順が
負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好まし
い感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光体
構成である。

【０１１９】以下に機能分離負帯電感光体の感光層構成
について説明する。電荷発生層電荷発生層には電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する。そ
の他の物質としては必要によりバインダー樹脂、その他
添加剤を含有しても良い。

【０１２０】電荷発生物質（ＣＧＭ）としては公知の電
荷発生物質（ＣＧＭ）を用いることができる。例えばフ
タロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニ
ウム顔料などを用いることができる。これらの中で繰り
返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるＣＧＭ
は複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる立体、電位
構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を
有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のＣＧＭが挙
げられる。

【０１２１】フタロシアニン顔料としては下記化学構造
式を有するチタニルフタロシアニン顔料が電荷発生物質
として良く知られている。

【０１２２】

【化１０】

【０１２３】（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、ｎは０
〜１の数を示す）。前記Ｘが塩素原子の場合ｎは０〜
０．５が好ましく、０〜０．１がより好ましい。

【０１２４】本発明ではこのチタニルフタロシアニン顔
料の中で、Ｃｕ−ＫαＸ線に対するＸ線回折のブラッグ
角（２θ±０．２°）において、２７．２°に最大ピー
クを有するチタニルフタロシアニン（オキシチタニルフ
タロシアニン）、同２θ±０．２において、７．５°、
２８．５°に顕著なピークを有するチタニルフタロシア
ニン顔料を用いることが好ましい。これらのチタニルフ
タロシアニン顔料は温湿度の環境変動が生じた場合に、
環境メモリを発生し、黒帯状の画像欠陥を発生したり、
高温高湿環境中で黒ポチが発生したり、或いは長時間の
連続プリントにより、画像濃度の低下を発生しやすい特
性を有しているが、本発明の中間層と組み合わせた場
合、このような欠点が解消され、良好な電子写真画像を
得ることができる。

【０１２５】電荷発生層にＣＧＭの分散媒としてバイン
ダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用
いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマ
ール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコー
ン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられ
る。バインダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バイン
ダー樹脂１００質量部に対し２０〜６００質量部が好ま
しい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用
に伴う残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の
膜厚は０．１μｍ〜２μｍが好ましい。

【０１２６】電荷輸送層電荷輸送層には電荷輸送物質（ＣＴＭ）及びＣＴＭを分
散し製膜するバインダー樹脂を含有する。その他の物質
としては必要により酸化防止剤等の添加剤を含有しても
良い。

【０１２７】電荷輸送物質（ＣＴＭ）としては公知の電
荷輸送物質（ＣＴＭ）を用いることができる。例えばト
リフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル
化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物などを用
いることができる。これら電荷輸送物質は通常、適当な
バインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。これら
の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくで
きるＣＴＭは高移動度で、且つ組み合わされるＣＧＭと
のイオン化ポテンシャル差が０．５（ｅＶ）以下の特性
を有するものであり、好ましくは０．３０（ｅＶ）以下
である。

【０１２８】ＣＧＭ、ＣＴＭのイオン化ポテンシャルは
表面分析装置ＡＣ−１（理研計器社製）で測定される。

【０１２９】電荷輸送層（ＣＴＬ）に用いられる樹脂と
しては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリ
ル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フ
ェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂並
びに、これらの樹脂の繰り返し単位構造のうちの２つ以
上を含む共重合体樹脂。又これらの絶縁性樹脂の他、ポ
リ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙
げられる。

【０１３０】これらＣＴＬのバインダーとして最も好ま
しいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネ
ート樹脂はＣＴＭの分散性、電子写真特性を良好にする
ことにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸
送物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し
１０〜２００質量部が好ましい。又、電荷輸送層の膜厚
は１０〜４０μｍが好ましい。

【０１３１】表面層感光体の表面層（保護層）として、シロキサンポリカー
ボネートや架橋タイプのシロキサン系樹脂をバインダー
とした層を設けてもよい。

【０１３２】上記では本発明の最も好ましい感光体の層
構成を例示したが、本発明では上記以外の感光体層構成
でも良い。

【０１３３】感光層、中間層、表面層等の層形成に用い
られる溶媒又は分散媒としては、ｎ−ブチルアミン、ジ
エチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールア
ミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジ
クロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジク
ロロプロパン、１，１，２−トリクロロエタン、１，
１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テト
ラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、
ジオキサン、メタノール、エタノール、ブタノール、イ
ソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルス
ルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられる。本発明
はこれらに限定されるものではないが、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン等が
好ましく用いられる。また、これらの溶媒は単独或いは
２種以上の混合溶媒として用いることもできる。

【０１３４】又、これらの各層の塗布溶液は塗布工程に
入る前に、塗布溶液中の異物や凝集物を除去するため
に、金属フィルター、メンブランフィルター等で濾過す
ることが好ましい。例えば、日本ポール社製のプリーツ
タイプ（ＨＤＣ）、デプスタイプ（プロファイル）、セ
ミデプスタイプ（プロファイルスター）等を塗布液の特
性に応じて選択し、濾過をすることが好ましい。

【０１３５】次に有機電子写真感光体を製造するための
塗布加工方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、円形
量規制型塗布等の塗布加工法が用いられるが、感光層の
上層側の塗布加工は下層の膜を極力溶解させないため、
又、均一塗布加工を達成するためスプレー塗布又は円形
量規制型（円形スライドホッパ型がその代表例）塗布等
の塗布加工方法を用いるのが好ましい。なお保護層は前
記円形量規制型塗布加工方法を用いるのが最も好まし
い。前記円形量規制型塗布については例えば特開昭５８
−１８９０６１号公報に詳細に記載されている。

【０１３６】次に、本発明の電子写真感光体を用いた画
像形成装置について説明する。図１は本発明の画像形成
方法の１例としての画像形成装置の断面図である。

【０１３７】図１に於いて５０は像担持体である感光体
ドラム（感光体）で、有機感光層をドラム上に塗布し、
その上に本発明の樹脂層を塗設した感光体で、接地され
て時計方向に駆動回転される。５２はスコロトロンの帯
電器（帯電手段）で、感光体ドラム５０周面に対し一様
な帯電をコロナ放電によって与えられる。この帯電器５
２による帯電に先だって、前画像形成での感光体の履歴
をなくすために発光ダイオード等を用いた帯電前露光部
５１による露光を行って感光体周面の除電をしてもよ
い。

【０１３８】感光体への一様帯電の後、像露光手段とし
ての像露光器５３により画像信号に基づいた像露光が行
われる。この図の像露光器５３は図示しないレーザダイ
オードを露光光源とする。回転するポリゴンミラー５３
１、ｆθレンズ等を経て反射ミラー５３２により光路を
曲げられた光により感光体ドラム上の走査がなされ、静
電潜像が形成される。

【０１３９】ここで本発明の反転現像プロセスとは帯電
器５２により、感光体表面を一様に帯電し、像露光が行
われた領域、即ち感光体の露光部電位（露光部領域）を
現像工程（手段）により、顕像化する画像形成方法であ
る。一方未露光部電位は現像スリーブ５４１に印加され
る現像バイアス電位により現像されない。

【０１４０】その静電潜像は次いで現像手段としての現
像器５４で現像される。感光体ドラム５０周縁にはトナ
ーとキャリアとから成る現像剤を内蔵した現像器５４が
設けられていて、マグネットを内蔵し現像剤を保持して
回転する現像スリーブ５４１によって現像が行われる。
現像器５４内部は現像剤攪拌搬送部材５４４、５４３、
搬送量規制部材５４２等から構成されており、現像剤は
攪拌、搬送されて現像スリーブに供給されるが、その供
給量は該搬送量規制部材５４２により制御される。該現
像剤の搬送量は適用される有機電子写真感光体の線速及
び現像剤比重によっても異なるが、一般的には２０〜２
００ｍｇ／ｃｍ²の範囲である。

【０１４１】現像剤は、例えば前述のフェライトをコア
としてそのまわりに絶縁性樹脂をコーティングしたキャ
リアと、前述のスチレンアクリル系樹脂を主材料として
カーボンブラック等の着色剤と荷電制御剤と低分子量ポ
リオレフィンからなる着色粒子に、シリカ、酸化チタン
等を外添したトナーとからなるもので、現像剤は搬送量
規制部材によって層厚を規制されて現像域へと搬送さ
れ、現像が行われる。この時通常は感光体ドラム５０と
現像スリーブ５４１の間に直流バイアス、必要に応じて
交流バイアス電圧をかけて現像が行われる。また、現像
剤は感光体に対して接触あるいは非接触の状態で現像さ
れる。感光体の電位測定は電位センサー５４７を図１の
ように現像位置上部に設けて行う。

【０１４２】記録紙Ｐは画像形成後、転写のタイミング
の整った時点で給紙ローラー５７の回転作動により転写
域へと給紙される。

【０１４３】転写域においては転写のタイミングに同期
して感光体ドラム５０の周面に転写電極（転写手段：転
写器）５８が作動し、給紙された記録紙Ｐにトナーと反
対極性の帯電を与えてトナーを転写する。

【０１４４】次いで記録紙Ｐは分離電極（分離器）５９
によって除電がなされ、感光体ドラム５０の周面により
分離して定着装置６０に搬送され、熱ローラー６０１と
圧着ローラー６０２の加熱、加圧によってトナーを溶着
したのち排紙ローラー６１を介して装置外部に排出され
る。なお前記の転写電極５８及び分離電極５９は記録紙
Ｐの通過後、一次作動を中止し、次なるトナー像の形成
に備える。図１では転写電極５８にコロトロンの転写帯
電極を用いている。転写電極の設定条件としては、感光
体のプロセススピード（周速）等により異なり一概に規
定することはできないが、例えば、転写電流としては＋
１００〜＋４００μＡ、転写電圧としては＋５００〜＋
２０００Ｖを設定値とすることができる。

【０１４５】一方記録紙Ｐを分離した後の感光体ドラム
５０は、クリーニング器（クリーニング手段）６２のブ
レード６２１の圧接により残留トナーを除去・清掃し、
再び帯電前露光部５１による除電と帯電器５２による帯
電を受けて次なる画像形成のプロセスに入る。

【０１４６】尚、７０は感光体、帯電器、転写器、分離
器及びクリーニング器が一体化されている着脱可能なプ
ロセスカートリッジである。

【０１４７】本発明の有機電子写真感光体は電子写真複
写機、レーザプリンター、ＬＥＤプリンター及び液晶シ
ャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適応する
が、更に、電子写真技術を応用したディスプレー、記
録、軽印刷、製版及びファクシミリ等の装置にも幅広く
適用することができる。

【０１４８】

【実施例】以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の様態はこれに限定されない。尚、下記文
中「部」とは「質量部」を表す。

【０１４９】実施例１以下のようにして各実施例、比較例の中間層分散液を作
製した。

【０１５０】中間層分散液１の作製ポリアミド樹脂（例示ポリアミドＮ−１）１部微粒子：酸化チタンＳＭＴ５００ＳＡＳ（テイカ社製；表面処理は、シリカ処理、アルミナ処理、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン処理）３部イソプロピルアルコール１０部ポリアミドＮ−１をイソプロピルアルコールで加温溶解
後、定格濾過精度０．２μｍのフィルターにて濾過後、
酸化チタンＳＭＴ５００ＳＡＳを混合、該混合液を分散
部分の構造がセラミックで表面加工されたサンドミル分
散機で、分散時間１０時間、バッチ式にて分散し中間層
分散液１を作製した。

【０１５１】中間層分散液２〜１１の作製ポリアミド樹脂、微粒子及びその表面処理と粒径、及び
溶剤を表１、表２に示す様に変えた以外は、中間層分散
液１と同様に中間層分散液２〜１１（８は溶液）を作製
した。

【０１５２】感光体１の作製〈中間層（ＵＣＬ）〉下記中間層塗布液１を調製し、洗
浄済みの円筒状アルミニウム基体上に浸漬塗布法で塗布
し、乾燥膜厚２μｍの中間層１を形成した。

【０１５３】乾燥後の中間層の体積抵抗は前記測定条件
で２×１０¹⁰Ω・ｃｍあった。中間層（ＵＣＬ）塗布液１中間層分散液１を同じ混合溶媒を用いて２倍に希釈し、
一夜静置後に濾過（フィルター；日本ポール社製プロフ
ァイルスター絶対濾過精度：１．５μｍ、圧力；１００
ｋＰａ以下）した。

【０１５４】〈電荷発生層（ＣＧＬ）〉チタニルフタロシアニン（図２に示したＣｕ−Ｋα特性Ｘ線によるＸ線回折の最大ピーク角度がブラッグ２θで２７．３）２０ｇポリビニルブチラール（＃６０００−Ｃ、電気化学工業社製）１０ｇ酢酸ｔ−ブチル７００ｇ４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン３００ｇ上記組成物を混合し、サンドミルを用いて分散し、電荷
発生層塗布液を調製した。この塗布液を浸漬塗布法で塗
布し、前記中間層の上に乾燥膜厚０．３μｍの電荷発生
層を形成した。

【０１５５】〈電荷輸送層（ＣＴＬ）〉電荷輸送剤（〔４−（２，２−ジフェニルビニル）フェニル〕−ジ−ｐ−トリルアミン）７５ｇポリカーボネート樹脂（ユーピロンＺ３００：三菱ガス化学社製）１００ｇテトラヒドロフラン６００ｇトルエン１５０ｇ上記組成物を混合し、溶解して電荷輸送層塗布液を調製
した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で
塗布し、乾燥膜厚２４μｍの電荷輸送層を形成し感光体
１を作製した。

【０１５６】感光体２〜１１の作製中間層塗布液１の中間層分散液１を中間層分散液２〜１
１（８と１０は分散液でなく溶液）に変更した他は、感
光体１の作製と同様にして、それぞれ感光体２〜１１を
作製した。

【０１５７】これら中間層８と１０を除く中間層２〜１
２の体積抵抗は、前記測定条件下で０．５×１０¹⁰〜６
×１０¹⁰Ω・ｃｍであった。

【０１５８】感光体１２の作製円筒状アルミニウム基体として陽極酸化封孔処理された
アルミニウム基体を用いた以外は感光体１と同様にして
感光体１２を作製した。

【０１５９】上記各感光体の中間層の内容については、
表１、表２に記載した。尚、表１、表２中、１次処理欄
に記載のものは１次処理時の酸化チタン粒子表面に析出
した物質であり、２次処理欄に記載のものは２次処理時
に用いた物質を示す。

【０１６０】又、表１、表２中の融解熱、吸水率の測定
は以下のようにして行った。融解熱の測定条件測定機：島津製作所「島津熱流速示差走査熱量計ＤＳＣ
−５０」を用いて測定した。

【０１６１】測定条件：測定試料を上記測定機に設定
し、室温（２４℃）から測定開始、２００℃迄５℃／分
で昇温し、次いで室温まで５℃／分で冷却する。これを
２回連続で行い、２回めの昇温時の融解による吸熱ピー
ク面積より融解熱を算出する。

【０１６２】吸水率の測定条件測定対象の試料を７０〜８０℃で３〜４時間で十分に乾
燥させ、その質量を精密に秤量する。次に、２０℃に維
持したイオン交換水に試料を投入し、一定時間経過後に
引き上げ試料表面の水を清潔な布で拭き取り、質量を測
定する。以上の操作を質量増が飽和するまで繰り返し、
その結果得られた試料の増加質量（増加分）を初期の質
量で徐した値を吸水率とした。

【０１６３】

【表１】

【０１６４】

【表２】

【０１６５】表中、炭素数が７以上の単位構造の比率と
は、繰り返し単位構造のアミド結合間の炭素数が７以上
の繰り返し単位構造の比率（モル％）を示す。又、Ｎ−
１２はメトキシメチル化ナイロン６（アシド結合間の炭
素数は５であり、メトキシメチル化度は２５％）、Ｎ−
１３は下記構造のポリアミドを示す。

【０１６６】

【化１１】

【０１６７】上記Ｎ−１３構造の（）内の％は繰り返し
単位構造のアミド結合間の炭素数が７以上の繰り返し単
位構造の比率（モル％）を示す。

【０１６８】評価（画像評価）Ｋｏｎｉｃａ７０５０（コニカ社製レーザデジタル複写
機：感光体と帯電器、現像器、クリーニング装置及び除
電器とが一体となったカートリッジを備えている）に感
光体１〜１２を装着し、反転現像で評価した。帯電条件
及びクリーニング条件等の画像形成条件は下記のように
設定した。

【０１６９】帯電条件帯電器；初期帯電電位を−６５０Ｖ現像条件ＤＣバイアス；約−５００Ｖ現像剤層規制；磁性Ｈ−Ｃｕｔ方式現像スリーブ径；４０ｍｍ転写極；コロナ帯電方式、転写ダミー電流値：４５μＡクリーニング条件弾性体ゴムブレード；自由長：９ｍｍ、厚さ：２ｍｍ、
硬度：７０°、反発弾性：３５、感光体当接圧（線
圧）：１５ｇ／ｃｍ評価項目上記のように感光体１〜１２をＫｏｎｉｃａ７０５０に
装着し、３０℃、８０％ＲＨ環境下（ＨＨ）において、
Ａ４紙１万枚のコピーを行い、コピー画像の環境メモ
リ、カブリ、黒ポチ等について以下の評価基準にて目視
で画像評価を行った。

【０１７０】コピーは画素率が７％の文字画像、ハーフ
トーン画像、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ１／４
等分にあるオリジナル画像をＡ４での複写を行い評価し
た。

【０１７１】各評価項目の判定基準は、下記に示す通り
である。画像濃度（マクベス社製ＲＤ−９１８を使用し
て測定。紙の反射濃度を「０」とした相対反射濃度で測
定した。多数枚のコピーで残留電位が増加すると、画像
濃度が低下する。） ◎：黒ベタ画像が１．２以上 ○：黒ベタ画像が１．２未満〜１．０ ×：黒ベタ画像が１．０未満カブリマクベス反射濃度計「ＲＤ−９１８」を用いて、印字さ
れていないコピー用紙（白紙）の濃度を２０カ所、絶対
画像濃度で測定し、その平均値を白紙濃度とする。次
に、コピー画像の白地部分を同様に２０カ所、絶対画像
濃度で測定し、その平均濃度から前記白紙濃度を引いた
値をカブリ濃度として評価した。帯電電位の低下が大き
くなるとカブリが発生する。

【０１７２】 ◎：ベタ白画像濃度が０．００５未満（良好） ○：ベタ白画像濃度が０．００５以上０．０１未満（実
用上問題なし） ×：０．０１以上（実用上問題あり）環境メモリ：上記Ｋｏｎｉｃａ７０５０複写機をＨＨ下
に２４ｈｒ放置後、低湿低温下（ＬＬ：２０ＲＨ％、１
０℃）に置き、３０分後、コピーした。オリジナル画像
で０．４の濃度のハーフトーン画像を０．４の濃度にコ
ピー、コピー画像の濃度差（ΔＨＤ＝最大濃度−最小濃
度）で判定 ◎：ΔＨＤが０．０５以下（良好） ○：ΔＨＤが０．０５より大で０．１未満（実用上問題
なし） ×：ΔＨＤが０．１以上（実用上問題あり）黒ポチ黒ポチについては、周期性が感光体の周期と一致し、目
視できる黒ポチが、Ａ４サイズ当たり何個あるかで判定
した。

【０１７３】 ◎：０．４ｍｍ以上の黒ポチ頻度：全ての複写画像が３
個／Ａ４以下（良好） ○：０．４ｍｍ以上の黒ポチ頻度：４個／Ａ４以上、１
０個／Ａ４以下が１枚以上発生（実用上問題なし） ×：０．４ｍｍ以上の黒ポチ頻度：１１個／Ａ４以上が
１枚以上発生（実用上問題有り）評価結果を表３に示す。

【０１７４】

【表３】

【０１７５】表３より本発明の中間層を有する感光体１
〜９、１２は上記画像濃度、カブリ、環境メモリ、黒ポ
チの評価が良好な特性を示しているのに対し、本発明外
の中間層を有する感光体１０では上記全ての評価項目で
性能が低下している。環境メモリが大きく、感光体１１
では画像濃度、環境メモリ、黒ポチの評価項目で性能が
低下しており、本発明内の感光体の評価の効果が顕著に
示されている。

【０１７６】実施例２実施例１の感光体１〜１２の電荷発生層のチタニルフタ
ロシアニン（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線によるＸ線回折の最大
ピーク角度がブラッグ２θで２７．３）をＢ型チタニル
フタロシアニン顔料（図３に示したＸ線回折スペクトル
を有する顔料）に変更した以外は同様にして感光体２１
〜３２を作製した。

【０１７７】これら感光体２１〜３２を用いて、実施例
１と同様の評価を行った。その評価結果を表４に示す。

【０１７８】

【表４】

【０１７９】表４より本発明の感光体２１〜２９、３２
は上記画像濃度、カブリ、黒ポチ、環境メモリの評価が
良好な特性を示しているのに対し、本発明外の感光体３
０では画像濃度、カブリ、黒ポチの評価項目で性能が低
下している。又本発明外の感光体３１では画像濃度、黒
ポチの評価項目で性能が低下しており、本発明内の感光
体の評価の効果が顕著に示されている。

【０１８０】

【発明の効果】実施例からも明らかなように、本発明の
構成を有する電子写真感光体を用いることにより、カブ
リ、黒ポチ特性が良好であり、更に温湿度条件の環境変
化に対して発生しやすい画像不良の発生が防止され、良
好な電子写真画像を形成することができる。又該電子写
真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置及びプロ
セスカートリッジを提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の画像形成方法の１例としての画像形成
装置の断面図である。

【図２】Ｘ線回折の最大ピーク角度がブラッグ２θで２
７．３のチタニルフタロシアニンの図である。

【図３】ブラッグ角（２θ±０．２°）７．５°、２
８．７°に顕著な回折ピークを有するチタニルフタロシ
アニン顔料のＸ線回折スペクトルを示す図である。

【符号の説明】

５０感光体ドラム（又は感光体）５１帯電前露光部５２帯電器５３像露光器５４現像器５４１現像スリーブ５４３，５４４現像剤攪拌搬送部材５４７電位センサー５７給紙ローラー５８転写電極５９分離電極（分離器）６０定着装置６１排紙ローラー６２クリーニング器７０プロセスカートリッジ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H068 AA19 AA43 AA44 BA39 BB28 BB51 CA22 CA29 CA37

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水率５
質量％以下の樹脂を含有することを特徴とする電子写真
感光体。
【請求項２】導電性支持体上に中間層、感光層とを有
する電子写真感光体において、該中間層が融解熱０〜４
０Ｊ／ｇで、且つ吸水率５質量％以下の樹脂を含有する
ことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項３】前記樹脂がアルコール可溶性ポリアミド
であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写
真感光体。
【請求項４】前記中間層が数平均一次粒径１０〜４０
０ｎｍの微粒子を含有することを特徴とする請求項２又
は３に記載の電子写真感光体。
【請求項５】前記微粒子がＮ型半導性粒子であること
を特徴とする請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項６】前記Ｎ型半導性粒子が酸化チタン粒子で
あることを特徴とする請求項５に記載の電子写真感光
体。
【請求項７】前記微粒子が金属酸化物であることを特
徴とする請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項８】前記微粒子が表面処理を施されているこ
とを特徴とする請求項４〜７のいずれか１項に記載の電
子写真感光体。
【請求項９】前記樹脂が下記一般式（１）で示される
繰り返し単位構造を有するポリアミドであることを特徴
とする請求項３〜８のいずれか１項に記載の電子写真感
光体。【化１】（一般式（１）中、Ｙ₁は２価のアルキル置換されたシ
クロアルカンを含む基、Ｚ₁はメチレン基、ｍは１〜３
の自然数、ｎは３〜２０の自然数を示す。）
【請求項１０】前記Ｙ₁は下記化学構造を有すること
を特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体。【化２】（上記化学構造において、Ａは単結合又は炭素数１〜４
のアルキレン基を示し、Ｒ₄はアルキル基を示し、ｐは
１〜５の自然数を示す。）
【請求項１１】前記感光層がＣｕ−Ｋα特性Ｘ線によ
るＸ線回折スペクトルのブラッグ角（２θ±０．２°）
で、２７．３°に最大ピーク角度を有するチタニルフタ
ロシアニン顔料を含有することを特徴とする請求項１〜
１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項１２】前記感光層がＣｕ−Ｋα特性Ｘ線によ
るＸ線回折スペクトルのブラッグ角（２θ±０．２°）
で、７．５°、２８．７°に顕著な回折ピークを有する
チタニルフタロシアニン顔料を含有することを特徴とす
る請求項１〜１０のいずれか１項に記載の電子写真感光
体。
【請求項１３】融解熱０〜４０Ｊ／ｇで、且つ吸水率
５質量％以下の樹脂を含有する電子写真感光体、該電子
写真感光体を一様に帯電する帯電手段、帯電された電子
写真感光体に静電潜像を形成する潜像形成手段、電子写
真感光体上に形成された静電潜像を顕像化してトナー像
とする現像手段、顕像化して得られた該電子写真感光体
上のトナー像を転写材上に転写する転写手段及びトナー
像転写後に電子写真感光体上に残留するトナーを除去す
るクリーニング手段を有することを特徴とする画像形成
装置。
【請求項１４】請求項１３に記載の画像形成装置を用
いて、電子写真画像を形成することを特徴とする画像形
成方法。
【請求項１５】請求項１〜１２のいずれか１項に記載
の電子写真感光体と該電子写真感光体上を一様に帯電す
る帯電手段、帯電された電子写真感光体に静電潜像を形
成する潜像形成手段、該電子写真感光体上の静電潜像を
顕像化する現像手段、該電子写真感光体上に顕像化され
たトナー像を転写材上に転写する転写手段、転写後の該
電子写真感光体上の電荷を除去する除電手段及び転写後
の該電子写真感光体上の残留するトナーを除去するクリ
ーニング手段の少なくとも１つの手段とが一体的に支持
され、画像形成装置本体に着脱自在に装着されているこ
とを特徴とするプロセスカートリッジ。