JPH10319615A

JPH10319615A - 感光体表面コーティング材の製造方法

Info

Publication number: JPH10319615A
Application number: JP9235042A
Authority: JP
Inventors: Kikuko Takeuchi; 貴久子竹内; Nobuo Kushibiki; 信男櫛引; Hideki Kobayashi; 秀樹小林; Toru Masatomi; 亨正冨
Original assignee: Dow Corning Toray Silicone Co Ltd; Dow Corning Asia Ltd
Current assignee: DuPont Toray Specialty Materials KK
Priority date: 1997-03-19
Filing date: 1997-08-29
Publication date: 1998-12-04
Also published as: US6149979A

Abstract

(57)【要約】【課題】電子写真感光体に求められる機能を維持し、
光学的均一性に優れ、表面エネルギーが低く、表面硬度
に優れた保護層を形成しうるコーティング材の製法を提
供する。【解決手段】微細シリカの存在下で、一般式Ｒ² Ｓｉ
（ＯＲ³)₃（Ｒ² はＣ_3- ₁₂のフロロ炭化水素等で１〜８
０モル％がフロロ炭化水素であり、Ｒ³ はＣ_1-8の直鎖
状の飽和炭化水素基である）で表されるシラン化合物
を、アルコールと水の混合溶媒中で加水分解縮合させ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電子写真等に広く使
用されている電子写真感光体表面層に塗布し、低表面エ
ネルギー、耐摩耗性を付与することのできる感光体表面
コーティング材の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体では電子写真プロセスに
よる違いがあるものの、コロナ帯電及びローラ帯電等の
帯電プロセス、現像プロセス、転写プロセス、クリーニ
ングプロセス等の電気的あるいは機械的作用が繰り返し
感光体表面に及ぼされる。帯電時、クリーニング時の摩
擦等により、感光体表面が摩耗したり、劣化するため感
光体の耐久性向上が求められている。

【０００３】上記感光体の耐久性向上のため、感光層自
体にポリジメチルシロキサン油、ポリテトラフルオロエ
チレン等を添加して表面エネルギーを低下させることに
より、特性改善の試みが行われている。

【０００４】さらに、感光体表面に新たな保護層を形成
させる試みが検討されている。感光体に、例えば、特開
昭５７−３０８４３号公報には、種々の樹脂に導電性粒
子を分散させたコーティング材を使用することが、特公
平５−０４６９４０号公報には３官能アルコキシシラン
と４官能アルコキシシランの共加水分解縮合体からなる
架橋ポリシロキサンの表面保護層を施すことが提案され
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ポリテトラフロロエチ
レンで代表されるフッ素系高分子は溶解性が極めて悪く
光学的に均一な分散は困難であることや、樹脂に添加し
た場合フッ素系高分子は相溶性が悪いため、凝集し光散
乱を与えるとともに多くの場合これら添加された高分子
粒子は感光体表面にブリードする。又、ポリシロキサン
を添加した場合も、ブリードする傾向が強く効果は永続
しない。

【０００６】一方、金属酸化物粒子を含有する樹脂を保
護層とした場合、表面硬度は向上するものの、一般には
表面エネルギーが高くなりクリーニング特性が不良とな
り、且つ粒子が凝集し光散乱を生じる等の問題点があっ
た。また、ポリシロキサンで保護層を形成した場合、一
般にはポリシロキサンは優れた絶縁性を有するポリマー
として知られていることからも解るように、感光体の電
荷輸送性に支障が生じるという問題があった。

【０００７】本発明の目的は、電子写真感光体に求めら
れる機能を損なうことが無く、光学的均一性に優れ、表
面エネルギーが低く、表面硬度にも優れたポリシロキサ
ン系電子写真感光体保護層を形成するコーティング材の
製造方法を提供することにある。

【０００８】

〔ここでＲ¹ は独立に炭素数３〜１２のフロロ炭化水素基、炭素数１〜１８の酸素原子を有することのある飽和炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基から選ばれるものである（但し、全てのＲ¹ のうち１モル％以上、８０モル％以下は炭素数３〜１２のフロロ炭化水素基である。）。〕

一般式（２）：Ｒ² Ｓｉ（ＯＲ³)₃ 〔ここでＲ² は独立に炭素数３〜１２のフロロ炭化水素
基、炭素数１〜１８の酸素原子を有することのある飽和
炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基から
選ばれるものである（但し、全てのＲ² のうち１モル％
以上、８０モル％以下は炭素数３〜１２のフロロ炭化水
素基である。）、Ｒ³ は、炭素数１〜８の直鎖状の飽和
炭化水素基である。〕前記感光体表面コーティング材の製造方法においては、
使用される微細シリカの一次粒子の平均粒径は１００nm
以下のものが好ましい。

【０００９】前記感光体表面コーティング材は感光体ド
ラムコーティング材であることが好ましい。

【００１０】前記感光体表面コーティング材は、加熱硬
化後に９５°以上の水の接触角を有することが好まし
い。

【００１１】本発明製造方法により得られる感光体表面
コーティング材は、加水分解縮合により生じたポリシロ
キサンと微細シリカとを含むものである。この感光体表
面コーティング材は加熱により、硬化してポリシロキサ
ン樹脂を成分として含む樹脂となる。ここでポリシロキ
サン樹脂は一般式（１）：Ｒ¹ ＳｉＯ_3/2 （ここにＲ¹
は独立に炭素数３〜１２のフロロ炭化水素基、炭素数１
〜１８の酸素原子を有することのある飽和炭化水素基又
は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基から選ばれるもの
である。但し、全てのＲ¹ のうち１モル％以上、８０モ
ル％以下は炭素数３〜１２のフロロ炭化水素基であ
る。）で表されるものである。一般に、Ｒ¹ の鎖長が長
くなると、本発明コーティング材の加熱硬化体の硬さは
柔らかくなると共に、表面張力は低下する傾向にあり、
表面張力に対する効果は大きい。Ｒ¹ においてフロロ炭
化水素基が８０モル％を超えると本発明コーティング材
の硬化体の表面張力は低下するものの表面硬度が低下し
好ましくない。更に、フロロ炭化水素の鎖長が長い基を
導入すると不透明になる。電子写真感光体ではその表面
において９５°以上の水の接触角がクリーニング特性等
から求められており、Ｒ¹ におけるフロロ炭化水素が、
１モル％未満では本発明コーティング材の硬化体の表面
張力の変化は小さすぎ十分な効果、即ち水の接触角９５
°以上を得ることが期待できない。例えば、フロロ炭化
水素基以外のケイ素上の置換基がメチル基の場合に９２
°であったのがメチル基のうち５０モル％をパーフロロ
ブチルを含む基にすると１１３°になる。因に表面硬度
は９Ｈ以上であったのが７Ｈに変化する。パーフロロオ
クチルエチルの場合、２％のメチル基をこれで置換する
と水の接触角は１０５°となり、多量に置換すると硬化
後の樹脂は不透明になる。本発明コーティング材の加熱
硬化体においては特定の波長光が感光体を構成する電荷
発生層に達することが必須の要件であり、高感度、高解
像度のためには、光散乱を生じないことが好ましい。

【００１２】前記式（２）で表されるフロロ炭化水素の
結合したシラン化合物のケイ素原子上の置換基としては
Ｃ_nＦ_2n+1で表されるパーフロロ炭化水素基をエチレン
基を介してケイ素原子と結合させたものが好適に用いら
れる。上記一般式で示されるパーフロロ炭化水素基とし
ては、パーフロロメチル、パーフロロエチル、パーフロ
ロプロピル、パーフロロブチル、パーフロロアミル、パ
ーフロロヘキシル、パーフロロヘプチル、パーフロロオ
クチル等のパーフロロ炭化水素基が好適に用いられる。

【００１３】本発明において使用する微細シリカの量は
前記樹脂成分の重量１００部に対して１〜２００重量部
が好ましい。１重量部未満では本発明の製造方法で得ら
れるコーティング材の加熱硬化体の効果が不十分であ
り、２００重量部を超えると、前記硬化体が脆くなる。
より好ましくは１０〜１００重量部添加するのが適当で
ある。均一なコーティング膜形成のためには、添加する
微細シリカは一次粒子の平均粒径が１００nm以下、より
好ましくは５０nm以下である。溶媒中に微細シリカを、
２次粒子の形成を抑制して、均一分散させるために、微
細シリカ表面に適当な処理を施すことは本発明の目的を
損じない限り差し支えない。本発明製法に使用される微
細シリカとしては、上記の条件の満たすものであれば格
別に限定されないが、その例としてはコロイダルシリカ
やシリカゲルなどを挙げることができる。

【００１４】本発明によって製造されるコーティング材
は、硬化させて電子写真感光体上に形成させる保護膜と
して使用される。このため、この保護膜の下の電荷輸送
層を構成する化学物質に対して不活性な溶媒に分散され
ていることが必須である。電荷輸送物質としては、ピレ
ン、およびアントラセン等の多環芳香族化合物、カルバ
ゾール、インドール、オキサゾール、チアゾール、オキ
サチアゾール、ピラゾール、ピラゾリン、チアジアゾー
ルおよびトリアゾール等の複素環化合物、ｐ−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−Ｎ，Ｎ−ジフェニルヒドラゾ
ンおよびＮ，Ｎ−ジフェニルヒドラジノ−３−メチリデ
ン−９−エチルカルバゾール等のヒドラゾン系化合物、
α−フェニル−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチル
ベンおよび５−（４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）ベンジ
リデン）−５Ｈ−ジベンゾ（ａ，ｄ）シクロヘプテン等
のスチリル系化合物、ベンジジン系化合物、トリアリー
ルアミン系化合物あるいはこれらの化合物からなる基を
主鎖または側鎖に有する高分子化合物（ポリＮ−ビニル
カルバゾール、ポリビニルアントラセン等）が挙げられ
る。

【００１５】上記の電荷輸送物質で膜形成能の乏しい化
合物の場合は、これらと混合しうる高分子化合物をバイ
ンダーとして使用する。バインダーの例としては、ポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタ
クリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル等が挙げら
れる。

【００１６】電荷輸送層に用いられる電荷輸送性化合物
は電荷輸送層の固形分に対して２０重量％以上、７０重
量％以下が好ましい。２０重量％未満では十分な電荷移
動能が得られないために残留電位の増加等が生じ好まし
くない。７０重量％を超えると電荷輸送層の機械的強度
が低下してしまうために十分な耐久性が得られない。単
層感光体として用いる場合は電荷発生材料と電荷輸送性
化合物と高分子化合物を組み合わせてなる組成物を用い
ることにより良好な特性が得られる。

【００１７】光導電層には前記化合物以外にも機械的特
性の改良や耐久性向上のために添加剤を用いることがで
きる。このような添加剤としては、酸化防止剤、紫外線
吸収剤、安定化剤、架橋剤、潤滑剤、導電性制御剤等が
用いられる。以上のようにして形成された光導電層の上
に前述の本発明の表面保護層が形成される。表面保護層
を形成するための組成物に用いる溶剤は光導電層に有害
な影響を与えないものが好ましい。この保護層形成用組
成物は浸せき法やブレードコート法、ロールコート法等
により塗布される。

【００１８】従って、上記電荷輸送材及びそのバインダ
ーである高分子に対して不活性な溶媒を用いた表面保護
層を形成するための樹脂コーティング液は、これらに対
して溶解或いは膨潤させることの無い溶媒として、アル
コール特にコーティング後の乾燥を考慮すると、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等の
低級アルコールが好ましい。

【００１９】本発明の製造方法においては、合成時に使
用する溶媒を低級アルコール中から選択するのが好まし
く、一般式（２）で示されるシラン化合物の加水分解に
必要とされる十分な量の水を含む前記溶媒中に低級アル
コールに分散されている微細シリカを混合し、これに一
般式（２）で示されるシラン化合物を加え加水分解縮合
する。この加水分解縮合は触媒を添加して加速すること
ができる。本発明によって製造される樹脂は電子写真感
光体に用いられるため、電荷輸送に影響を及ぼす１級又
は２級のアミンは使用を避けるのが好ましい。前記触媒
として、有機酸、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
シュウ酸、マロン酸、グルタル酸、グリコール酸、酒石
酸等、及び、上記酸のエステル類が好適である。

【００２０】このように反応させると、微細シリカ中に
残存するシラノール基と加水分解させた前記シラン化合
物が反応し化学的にポリシロキサンにシリカが固定され
るので、コーティングし、硬化したときに被膜強度が向
上する傾向がある。前記シラン化合物から生じたポリシ
ロキサンには分子中にケイ素に結合した置換基として例
えば水酸基や加水分解性基が残存する。残存水酸基や加
水分解性基を架橋性官能基として利用することが一般的
に行なわれている。残存水酸基や加水分解性基の量が多
すぎてはポリシロキサンの保存安定性が低下する傾向が
あり、少なすぎると架橋が十分に進まない。ポリシロキ
サン中に含まれるケイ素原子に直接結合したこれらの置
換基は、好ましくは０．１〜４重量％である。これら置
換基の量は、公知の方法、例えば水酸基の場合、ポリシ
ロキサン合成中或いは合成後にアルコキシシラン等を添
加する方法によって所望の範囲に調節することができ
る。加水分解性基の量が調節されたポリシロキサンを架
橋する際に架橋剤を加え架橋することもできる。ここで
使用できる架橋剤とは１分子中に複数個の水酸基あるい
は加水分解性基を有し、シロキサン結合を有するケイ素
化合物であればよい。前記加水分解性基としては、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、アセトキシ基、ブ
トキシ基、メチルエチルケトキシム基等の基が挙げられ
る。本発明の製造方法で得られるコーティング材には、
電子写真感光体の電荷輸送を妨げない限り、硬化時に公
知の触媒を添加することができる。このような触媒の例
としては、次のようなものを挙げることができるが、こ
れらに限定されるものではない。ジメチルアミンアセテ
ート、エタノールアミンアセテート、ジメチルアニリン
ホルメート、テトラエチルアンモニウムベンゾエート、
酢酸ナトリウム、プロピオン酸ナトリウム、ギ酸ナトリ
ウム、ベンジルトリメチルアンモニウムアセテート、ジ
ブチルチンジラウレート等。

【００２１】

【発明の効果】本発明の製造方法により製造されたコー
ティング材は、これを硬化することにより電子写真の感
光体に求められる光学特性、クリーニングと帯電のくり
返しの際に表面張力を低下させない耐クリーニング性の
改善、トナーをクリーニングする際の摩耗性の改善等を
図るのに好適で表面硬度に優れた樹脂が提供される。
尚、本発明方法によって製造されるコーティング材に
は、添加剤としてポリエーテル変性シリコーン等の公知
のレベリング剤を添加配合することは、本発明の目的を
損なわない限り差支えない。

【００２２】

【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。尚、実施例１〜４と比較例１，２において
使用されるコロイダルシリカ水性分散液Ａとコロイダル
シリカイソプロピルアルコール分散液Ｂの内容は次の通
りである。コロイダルシリカ水性分散液Ａ：平均粒子径１０〜２０
nmのコロイダルシリカの水性分散液（固体重量４０％）コロイダルシリカイソプロピルアルコール分散液Ｂ：平
均粒子径１０〜２０nmのコロイダルシリカのイソプロピ
ルアルコール分散液（固体重量３０％）

【００２３】（実施例１）フラスコにコロイダルシリカ
水性分散液Ａ８．７ｇを取り、撹拌しながらコロイダル
シリカイソプロピルアルコール分散液Ｂ２０．５ｇ、メ
チルトリエトキシシラン２５．６ｇ、３，３，４，４，
５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリメトキ
シシラン５．９ｇ、酢酸３．２ｇを添加した。添加後、
混合溶液を６５〜７０℃に加熱し、２時間反応させた。
その後、イソプロピルアルコール２１．７ｇで希釈し、
ジブチルチンジラウレート２．４ｇ（固形分）を添加し
均一に混合して感光体表面コーティング材を製造した。
このものを用いてガラスおよびポリカーボネート基板上
にスピンコートし、１１０℃で乾燥させ薄膜を作った。
この薄膜の水に対する接触角を接触角測定装置（ＣＡ−
Ｄ型、協和界面科学（株）製）を用いて測定したとこ
ろ、９８．６°であった。また、ＪＩＳＫ５４００
の８．４．２（鉛筆引っかき値、手かき法）により、鉛
筆硬度を測定したところ９Ｈであった。

【００２４】（実施例２）フラスコにコロイダルシリカ
イソプロピルアルコール分散液Ｂ３２．０７ｇを取り、
撹拌しながら水５．９９ml、メチルトリエトキシシラン
３２．１３ｇ、ｎ−パーフルオロオクチルエチルトリエ
トキシシラン２．８３ｇ、酢酸６．２９ｇを添加した。
添加後、混合溶液を６５〜７０℃に加熱し、２時間反応
させた。その後、イソプロピルアルコール７．８ｇで希
釈し、硬化触媒としてジブチルチンジラウレート２．４
ｇ（固形分）を徐々に添加し均一に混合し、感光体表面
コーティング材を製造した。このコーティング材につい
て実施例１と同様の方法で得られた薄膜の水に対する接
触角と鉛筆硬度を測定したところ、それぞれ１０１．１
°、９Ｈであった。

【００２５】（比較例１）実施例１，２と同様の方法で
フルオロ炭化水素基を含有しないポリシロキサンを合成
した。フラスコにコロイダルシリカ水性分散液Ａ３０．
０ｇを取り、撹拌しながらメチルトリメトキシシラン２
１．５ｇと酢酸３．５ｇとの混合物の１／３を添加し
た。添加後、混合溶液を５５℃まで加熱し、急激な発熱
が観測されたら直ちに氷冷し、フラスコ内の温度を５０
〜６０℃に保ちながら残りの混合物を添加した。反応混
合溶液を２０℃まで冷却し、温度が安定したら３０分間
撹拌した。その後、イソプロピルアルコール１７．８ｇ
で反応溶液を希釈し、硬化触媒としてジブチルチンジラ
ウレート２．４ｇ（固形分）を徐々に添加した。得られ
た反応混合物は沈殿物を除去してコーティング材を得
た。このコーティング材について実施例１と同様の方法
で得られた薄膜の水に対する接触角と鉛筆硬度を測定し
たところ、それぞれ９０．３°、９Ｈであった。

【００２６】（実施例３）フラスコにコロイダルシリカ
水性分散液Ａ８．０ｇを取り、撹拌しながらコロイダル
シリカイソプロピルアルコール分散液Ｂ３０．２ｇ、メ
チルトリエトキシシラン１９．８ｇ、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン７．３ｇ、パーフルオロオ
クチルエチルトリエトキシシラン３．３ｇ、酢酸９．３
ｇを添加した。添加後、混合溶液を６５〜７０℃に加熱
し、２時間反応させた。その後、イソプロピルアルコー
ル２３．１ｇで希釈し、硬化触媒としてジブチルチンジ
ラウレート７．２ｇ（固形分）を徐々に添加し均一に混
合して感光体表面コーティング材を製造した。このコー
ティング材において実施例１と同様の方法で得られた薄
膜の水に対する接触角と鉛筆硬度を測定したところ、そ
れぞれ１０２．１°、８Ｈであった。

【００２７】（実施例４）フラスコにコロイダルシリカ
水性分散液Ａ１１．７ｇを取り、撹拌しながらコロイダ
ルシリカイソプロピルアルコール分散液Ｂ７５．４ｇ、
メチルトリエトキシシラン１７．４ｇ、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン２３．１ｇ、３，３，
４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルト
リメトキシシラン７．２ｇ、酢酸９．３ｇを添加した。
添加後、混合溶液を６５〜７０℃に加熱し、２時間反応
させた。その後、イソプロピルアルコール６９．９ｇで
希釈し、硬化触媒としてジブチルチンジラウレート７．
２ｇ（固形分）を徐々に添加してコーティング材を得
た。このコーティング材について実施例１と同様の方法
で得られた薄膜の水の接触角と鉛筆硬度を測定したとこ
ろ、それぞれ９５．３°、８Ｈであった。

【００２８】（比較例２）実施例３，４と同様の方法で
フルオロ炭化水素基を含有しないポリシロキサンを合成
した。フラスコにコロイダルシリカ水性分散液Ａ１４．
２ｇを取り、撹拌しながらコロイダルシリカイソプロピ
ルアルコール分散液Ｂ７９．８ｇ、メチルトリエトキシ
シラン２２．７ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン３０．２ｇ、酢酸９．６ｇを添加した。添加
後、混合溶液を６５〜７０℃に加熱し、２時間反応させ
た。その後、イソプロピルアルコール２６．２ｇで希釈
し、硬化触媒としてジブチルチンジラウレート７．４ｇ
（固形分）を徐々に添加した。実施例１と同様の方法で
得られた薄膜の水に対する接触角と鉛筆硬度を測定した
ところ、それぞれ８４．９°、９Ｈであった。

【００２９】（参考例１）実施例１の感光体表面コーテ
ィング材をガラス板にバーコートを用いて塗布し、１１
０℃で４時間乾燥熱処理した。乾燥後、１μｍの透明で
均一な膜が得られた。得られたサンプルを顕微鏡で観察
したところ均一フィルムが形成されたことが判明した。
更に、このサンプルを分光光度計にて６００nmの波長に
おける吸収を測定したところ膜厚１μｍあたりの吸光度
として０．００１が得られ透明であった。前記均一フィ
ルム部分の水に対する接触角は９９°であり、鉛筆硬度
は９Ｈと極めて硬かった。

【００３０】（参考例２）４−［２−（トリエトキシシ
リル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネー
ト樹脂（商品名Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を
固形分としてそれぞれ５０重量％及び５０重量％となる
ようにテトラハイドロフランに溶解した。これを５０μ
ｍ厚のアルミニウム板にバーコートを用いて塗布し、１
２０℃で１時間乾燥した。乾燥後、２０μｍの透明で均
一な膜が得られた。次に、実施例１の感光体表面コーテ
ィング材を前記サンプルにバーコートを用いて塗布し、
１１０℃で４時間乾燥熱処理した。乾燥後、１μｍの膜
が表面保護層として得られた。顕微鏡で観察したところ
均一フィルムが形成されたことが判明した。このサンプ
ルに導電性ゴムローラを当接させてアルミニウム板をア
ースとして導電性ゴムローラに−６００Ｖを印加して、
更にピーク間１５００Ｖ、１５００Ｈz の交流を重畳さ
せることにより帯電による劣化試験を１時間行った。劣
化試験により導電性ゴムローラが前記シートに当接して
いる部分の近傍に放電による凹みが生じ、その凹みの深
さを耐放電性の評価として測定した。その結果、前記シ
ートにおける凹みは０．１μｍ未満ときわめて小さいも
のであった。更に放電部分の水に対する接触角は劣化試
験前の９９°に対して劣化試験後も９５°と良好であっ
た。

【００３１】（参考例３）４−［２−（トリエトキシシ
リル）エチル］トリフェニルアミン及びポリカーボネー
ト樹脂（商品名Ｚ−２００、三菱瓦斯化学（株）製）を
固形分としてそれぞれ５０重量％、５０重量％となるよ
うにテトラハイドロフランに溶解した。これを厚さ５０
μｍのアルミニウム板にバーコートを用いて塗布し、１
２０℃で１時間乾燥した。乾燥後、２０μｍの透明で均
一な膜が得られた。次に、実施例１の感光体表面コーテ
ィング材を前記サンプルにバーコートを用いて塗布し、
１１０℃で４時間乾燥熱処理した。乾燥後、１μｍの膜
が表面保護層として得られた。顕微鏡で観察したところ
均一なフィルムが形成されたことが判明した。

【００３２】（参考例４）鏡面加工により作成した外径
６０mmのアルミニウムシリンダーに陽極酸化によりアル
マイトを形成したものを導電性支持体として用い、電荷
発生層として下記のビスアゾ顔料５部（重量部、以下同
様）をシクロヘキサノン９５部にポリビニルベンザール
（ベンザール化度７５重量％以上）２部を溶解した液に
加え、サンドミルで２０時間分散した。この分散液を導
電性支持体の上に乾燥後の膜厚が０．２μｍとなるよう
に浸漬コーティング法で塗工した。

【００３３】

【化１】

【００３４】次に、下記の構造式を有するトリアリール
アミン化合物５部及びポリカーボネート樹脂（商品名Ｚ
−４００、三菱瓦斯化学（株）製）５部をテトラハイド
ロフラン７０部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電
荷発生層の上に浸漬コーティング法により乾燥後１２μ
ｍの膜厚に塗工した。

【００３５】

【化２】

【００３６】次に、実施例１の感光体表面コーティング
材を前記電荷輸送層の上に浸漬コーティング法により塗
布し、１１０℃で４時間乾燥熱処理後１μｍの膜厚にし
た。−７００Ｖに帯電して波長６８０nmで電子写真特性
を測定したところ、Ｅ１／２（−３５０Ｖまで帯電電位
が減少する露光量）＝１．２μＪ／cm² 、残留電位２８
Ｖと良好であった。この電子写真感光体をキヤノン製デ
ジタル複写機ＧＰ５５（ローラー帯電方式）を前述の照
射スポット径となるように改造した評価機にて初期帯電
−６００Ｖに画像評価を行ったところ、４０００枚耐久
試験後の感光体の摩耗量は０．１μｍ未満ときわめて少
なく、耐久後の水に対する接触角も９８°と良好で、画
像の劣化もなく、６００dpi 相当の入力信号においての
ハイライト部の１画素再現性も十分であった。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）は本発明の感光体表面コーティング材を
電荷輸送層の表面保護層に用いた電子写真感光体の断面
の概略図であり、（Ｂ）は本発明の感光体表面コーティ
ング材を電荷発生層の表面保護層に用いた電子写真感光
体の断面の概略図である。

【符号の説明】

１…本発明方法で製造された感光体表面コーティング材２…電荷輸送層３…電荷発生層４…下引き層５…導電層６…支持体７…導電性支持体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小林秀樹千葉県市原市千種海岸２番２東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社研究開発本部内 (72)発明者正冨亨千葉県市原市千種海岸２番２東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社研究開発本部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（２）で表されるシラン化合
物の加水分解縮合後の加熱硬化によって生ずる下記一般
式（１）で表されるポリシロキサン樹脂成分１００重量
部に対して１重量部〜２００重量部に相当する量の微細
シリカの存在下で、下記一般式（２）で表されるシラン
化合物を、アルコールと水とを含有する混合溶媒（但
し、この溶媒に含まれる水の重量は前記シラン化合物の
加水分解縮合に必要な重量以上の量である。）中で加水
分解縮合させることを特徴とする感光体表面コーティン
グ材の製造方法。一般式（１）：Ｒ¹ ＳｉＯ_3/2 〔ここでＲ¹ は独立に炭素数３〜１２のフロロ炭化水素
基、炭素数１〜１８の酸素原子を有することのある飽和
炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基から
選ばれるものである（但し、全てのＲ¹ のうち１モル％
以上、８０モル％以下は炭素数３〜１２のフロロ炭化水
素基である。）。〕一般式（２）：Ｒ² Ｓｉ（ＯＲ³)₃ 〔ここでＲ² は独立に炭素数３〜１２のフロロ炭化水素
基、炭素数１〜１８の酸素原子を有することのある飽和
炭化水素基又は炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基から
選ばれるものである（但し、全てのＲ² のうち１モル％
以上、８０モル％以下は炭素数３〜１２のフロロ炭化水
素基である。）、Ｒ³ は、炭素数１〜８の直鎖状の飽和
炭化水素基である。〕
【請求項２】前記微細シリカが、１００nm以下の一次
粒子平均粒径のものである、請求項１の感光体表面コー
ティング材の製造方法。
【請求項３】前記感光体表面コーティング材が感光体
ドラムコーティング材である請求項１又は２の感光体表
面コーティング材の製造方法。
【請求項４】前記感光体表面コーティング材が加熱硬
化後に９５°以上の水の接触角を有するものである請求
項１，２又は３の感光体表面コーティング材の製造方
法。