JPH1145900A - ボンディングワイヤ - Google Patents
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- H01L2924/01076—Osmium [Os]
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- H01L2924/01077—Iridium [Ir]
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- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
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- H01L2924/01079—Gold [Au]
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- H01L2924/20—Parameters
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- H01L2924/20752—Diameter ranges larger or equal to 20 microns less than 30 microns
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多ピン半導体デバイス用として好適な高
強度ボンディングワイヤを提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明のボンディングワイヤの第一の態
様は、Agが1〜18重量%(以下%と記す)、残部が
Au及び不可避不純物からなるものであり、第二の態様
はAgが1〜18%、Ca,Sr ,Y,La,Ce、E
u、Be、Ge、Sn、Inの内の1種以上が合計量で
0.0001〜0.01%、残部がAu及び不可避不純
物からなるものであり、第三の態様はAgが1〜18
%、Cu、Pt、Ru、Os、Rh、Irの内の1種以
上が合計量で0.1〜5%、残部がAu及び不可避不純
物からなるものであり、第四の態様はAgが1〜18
%、Ca,Sr ,Y,La,Ce、Eu、Be、Ge、
Sn、Inの内の1種以上が合計量で0.0001〜
0.01%、さらにCu、Pt、Ru、Os、Rh、I
rの内の1種以上が合計で0.1〜5%、残部がAu及
び不可避不純物であるボンディングワイヤである。
強度ボンディングワイヤを提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明のボンディングワイヤの第一の態
様は、Agが1〜18重量%(以下%と記す)、残部が
Au及び不可避不純物からなるものであり、第二の態様
はAgが1〜18%、Ca,Sr ,Y,La,Ce、E
u、Be、Ge、Sn、Inの内の1種以上が合計量で
0.0001〜0.01%、残部がAu及び不可避不純
物からなるものであり、第三の態様はAgが1〜18
%、Cu、Pt、Ru、Os、Rh、Irの内の1種以
上が合計量で0.1〜5%、残部がAu及び不可避不純
物からなるものであり、第四の態様はAgが1〜18
%、Ca,Sr ,Y,La,Ce、Eu、Be、Ge、
Sn、Inの内の1種以上が合計量で0.0001〜
0.01%、さらにCu、Pt、Ru、Os、Rh、I
rの内の1種以上が合計で0.1〜5%、残部がAu及
び不可避不純物であるボンディングワイヤである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体素子上の電極
と外部リードとを接続するために用いるボンディングワ
イヤに関する。
と外部リードとを接続するために用いるボンディングワ
イヤに関する。
【0002】
【従来の技術】IC,LSIなどの半導体素子(チッ
プ)の電極と外部リードとを接続するため直径0.02
〜0.1mmのボンディングワイヤが用いられている。
ボンディングワイヤには良好な導電性、チップや外部リ
ードとの接合性、使用雰囲気中での耐環境性が要求さ
れ、そのためボンディングワイヤとしてはAl,Au,
Cu等の純金属もしくはその合金が用いられている。
プ)の電極と外部リードとを接続するため直径0.02
〜0.1mmのボンディングワイヤが用いられている。
ボンディングワイヤには良好な導電性、チップや外部リ
ードとの接合性、使用雰囲気中での耐環境性が要求さ
れ、そのためボンディングワイヤとしてはAl,Au,
Cu等の純金属もしくはその合金が用いられている。
【0003】近年では低コスト化という観点から樹脂を
用いた半導体パッケージが多用されてきており、そのた
め耐環境性に優れるAu系ワイヤが最も多く用いられて
いる。従来より用いられているAu系ワイヤの多くは9
9.99重量%(以下単に%と記す)以上の純度を有す
る軟質のものである。
用いた半導体パッケージが多用されてきており、そのた
め耐環境性に優れるAu系ワイヤが最も多く用いられて
いる。従来より用いられているAu系ワイヤの多くは9
9.99重量%(以下単に%と記す)以上の純度を有す
る軟質のものである。
【0004】最近の半導体デバイスの発展はパッケージ
の多ピン化をもたらし、その結果としてより細いワイヤ
を狭いピッチや長い距離でのワイヤボンディングを行う
必要性が増してきた。しかしながら、従来のボンディン
グワイヤではこの目的に対してはワイヤ強度が弱いため
に、樹脂封入を始めとする半導体デバイス組み立て工程
中においてワイヤの変形不良が頻発化し、半導体デバイ
スの組み立て収率が大幅に低下するという問題がある。
の多ピン化をもたらし、その結果としてより細いワイヤ
を狭いピッチや長い距離でのワイヤボンディングを行う
必要性が増してきた。しかしながら、従来のボンディン
グワイヤではこの目的に対してはワイヤ強度が弱いため
に、樹脂封入を始めとする半導体デバイス組み立て工程
中においてワイヤの変形不良が頻発化し、半導体デバイ
スの組み立て収率が大幅に低下するという問題がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、かか
る点に鑑み、多ピン半導体デバイス用として好適な高強
度ボンディングワイヤを提供することにある。
る点に鑑み、多ピン半導体デバイス用として好適な高強
度ボンディングワイヤを提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のボンディングワイヤの第一の態様は、A
gが1〜18重量%(以下%と記す)、残部がAu及び
不可避不純物からなるものであり、第二の態様はAgが
1〜18%、Ca,Sr ,Y,La,Ce、Eu、B
e、Ge、Sn、Inの内の1種以上が合計量で0.0
001〜0.01%、残部がAu及び不可避不純物から
なるものであり、第三の態様はAgが1〜18%、C
u、Pt、Ru、Os、Rh、Irの内の1種以上が合
計量で0.1〜5%、残部がAu及び不可避不純物から
なるものであり、第四の態様はAgが1〜18%、C
a,Sr ,Y,La,Ce、Eu、Be、Ge、S
n、Inの内の1種以上が合計量で0.0001〜0.
01%、さらにCu、Pt、Ru、Os、Rh、Irの
内の1種以上が合計で0.1〜5%、残部がAu及び不
可避不純物であるボンディングワイヤである。
めに、本発明のボンディングワイヤの第一の態様は、A
gが1〜18重量%(以下%と記す)、残部がAu及び
不可避不純物からなるものであり、第二の態様はAgが
1〜18%、Ca,Sr ,Y,La,Ce、Eu、B
e、Ge、Sn、Inの内の1種以上が合計量で0.0
001〜0.01%、残部がAu及び不可避不純物から
なるものであり、第三の態様はAgが1〜18%、C
u、Pt、Ru、Os、Rh、Irの内の1種以上が合
計量で0.1〜5%、残部がAu及び不可避不純物から
なるものであり、第四の態様はAgが1〜18%、C
a,Sr ,Y,La,Ce、Eu、Be、Ge、S
n、Inの内の1種以上が合計量で0.0001〜0.
01%、さらにCu、Pt、Ru、Os、Rh、Irの
内の1種以上が合計で0.1〜5%、残部がAu及び不
可避不純物であるボンディングワイヤである。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に本発明について詳細に説明
する。
する。
【0008】Agは金に固溶することによりワイヤ強度
を向上させる元素である。Agの濃度を1〜18%とし
たのは、1%未満では強度向上の効果が不十分であり、
逆に18%を超すと導電性が低下するだけでなく、耐食
性が低下して半導体の耐環境信頼性が低下するからであ
る。
を向上させる元素である。Agの濃度を1〜18%とし
たのは、1%未満では強度向上の効果が不十分であり、
逆に18%を超すと導電性が低下するだけでなく、耐食
性が低下して半導体の耐環境信頼性が低下するからであ
る。
【0009】第二、第四の態様におけるCa,Sr ,
Y,La,Ce、Eu、Be、Ge、Sn、Inはワイ
ヤの耐熱性やルーピング性を向上するための添加元素で
あり、 Ca,Sr ,Y,La,Ce、Eu、Be、G
e、Sn、Inの1種以上を合計量で0.0001〜
0.01%添加するとしたのは、0.0001%未満で
は添加による耐熱性の向上効果が不十分であり、逆に
0.01%を超えると接合性の低下が起こるからであ
る。
Y,La,Ce、Eu、Be、Ge、Sn、Inはワイ
ヤの耐熱性やルーピング性を向上するための添加元素で
あり、 Ca,Sr ,Y,La,Ce、Eu、Be、G
e、Sn、Inの1種以上を合計量で0.0001〜
0.01%添加するとしたのは、0.0001%未満で
は添加による耐熱性の向上効果が不十分であり、逆に
0.01%を超えると接合性の低下が起こるからであ
る。
【0010】また、第三、四の態様におけるCu、P
t、Ru、Os、Rh、Irはワイヤ強度をさらに向上
させる元素であり、Cu、Pt、Ru、Os、Rh、I
rの内の1種以上を合計量で0.1〜5%添加するとし
たのは、0.1%未満では添加効果が不十分であり、逆
に5%を超えるとワイヤの加工性が低下して細線化する
のに多大な工数が必要となるからである。
t、Ru、Os、Rh、Irはワイヤ強度をさらに向上
させる元素であり、Cu、Pt、Ru、Os、Rh、I
rの内の1種以上を合計量で0.1〜5%添加するとし
たのは、0.1%未満では添加効果が不十分であり、逆
に5%を超えるとワイヤの加工性が低下して細線化する
のに多大な工数が必要となるからである。
【0011】
【実施例】次に実施例を用いて本発明をさらに説明す
る。
る。
【0012】(実施例1〜17)純度99.999%の
金、99.99%のAg、Cu、Pt、Ru、Os、R
h、Ir、及び所定の添加元素を1%含む金母合金を用
いて、表1に示す組成の金合金を溶解鋳造した。
金、99.99%のAg、Cu、Pt、Ru、Os、R
h、Ir、及び所定の添加元素を1%含む金母合金を用
いて、表1に示す組成の金合金を溶解鋳造した。
【0013】 得られた鋳塊は溝ロール加工得られた鋳塊は溝ロール加
工を施した後に、ダイヤモンドダイスを用いた伸線加工
を行って直径0.025mmの合金線を得た。得られた
合金線は熱処理を施すことによって特性を調整して試料
とした。
工を施した後に、ダイヤモンドダイスを用いた伸線加工
を行って直径0.025mmの合金線を得た。得られた
合金線は熱処理を施すことによって特性を調整して試料
とした。
【0014】このように作製された試料の評価として、
ワイヤ強度は引張り試験により求めた。導電性について
は、直流4端子法によって比抵抗を求めた。
ワイヤ強度は引張り試験により求めた。導電性について
は、直流4端子法によって比抵抗を求めた。
【0015】ボンディング接合性すなわちボンディング
ワイヤと半導体素子の電極及び外部リードとの接合性
は、ステージ温度250℃で超音波熱圧着方式によりボ
ンディングしたワイヤについて、フックを引っかけて引
張り試験を実施した場合に、破断がワイヤの部分で起こ
った場合を良、接合部で破断した場合を不良と評価し
た。
ワイヤと半導体素子の電極及び外部リードとの接合性
は、ステージ温度250℃で超音波熱圧着方式によりボ
ンディングしたワイヤについて、フックを引っかけて引
張り試験を実施した場合に、破断がワイヤの部分で起こ
った場合を良、接合部で破断した場合を不良と評価し
た。
【0016】樹脂の封入抵抗によるワイヤ変形について
は、上記と同様な方法で5mmの間隔にワイヤボンディ
ングした試料について、モールド機(トランスファーモ
ールド型)によりエポキシ樹脂(住友ベークライト製、
EME-6300)を金型温度180℃、射出圧100Kg/c
m2の条件でモールドした時のワイヤの流れ量をX線透
過装置により撮影したX線写真から求め、その値で評価
した。
は、上記と同様な方法で5mmの間隔にワイヤボンディ
ングした試料について、モールド機(トランスファーモ
ールド型)によりエポキシ樹脂(住友ベークライト製、
EME-6300)を金型温度180℃、射出圧100Kg/c
m2の条件でモールドした時のワイヤの流れ量をX線透
過装置により撮影したX線写真から求め、その値で評価
した。
【0017】ボンディング接合部の耐環境信頼性につい
ては、上記と同様な方法でワイヤボンディングと樹脂封
入した試料について、175℃の電気炉中に200時間
保持した場合のワイヤ接合部の電気抵抗値を測定し、保
持前に比較して電気抵抗値の変化が認められなかった場
合を良、電気抵抗値の増加が起こった場合を不良と評価
した。
ては、上記と同様な方法でワイヤボンディングと樹脂封
入した試料について、175℃の電気炉中に200時間
保持した場合のワイヤ接合部の電気抵抗値を測定し、保
持前に比較して電気抵抗値の変化が認められなかった場
合を良、電気抵抗値の増加が起こった場合を不良と評価
した。
【0018】表2に上記評価の結果を示した。
【0019】 (比較例1〜3)市販材(比較例3)と比較材を用いた
以外は実施例と同様にして評価した。表3に金合金の組
成、表4に特性を示した。
以外は実施例と同様にして評価した。表3に金合金の組
成、表4に特性を示した。
【0020】 第2,4表において明らかなように、本発明によるボン
ディングワイヤは、市販品に比較して強度が高く、ワイ
ヤ流れ量が小さい。また、比較材と比べるとボンディン
グ接合部分の耐環境性が良好であり、接合性にも問題の
無いことがわかる。
ディングワイヤは、市販品に比較して強度が高く、ワイ
ヤ流れ量が小さい。また、比較材と比べるとボンディン
グ接合部分の耐環境性が良好であり、接合性にも問題の
無いことがわかる。
【0021】
【発明の効果】以上から明らかなように、本発明によ
り、半導体デバイス組み立て時におけるワイヤの変形不
良が起こりにくく、かつ接合信頼性も良好である多ピン
半導体デバイス用として好適なボンディングワイヤを提
供することができる。
り、半導体デバイス組み立て時におけるワイヤの変形不
良が起こりにくく、かつ接合信頼性も良好である多ピン
半導体デバイス用として好適なボンディングワイヤを提
供することができる。
Claims (4)
- 【請求項1】 Agが1〜18重量%(以下%と記
す)、残部がAu及び不可避不純物からなるものである
ことを特徴とするボンディングワイヤ。 - 【請求項2】 Agが1〜18%、Ca,Sr ,Y,
La,Ce、Eu、Be、Ge、Sn、Inの内の1種
以上が合計量で0.0001〜0.01%、残部がAu
及び不可避不純物からなることを特徴とするボンディン
グワイヤ。 - 【請求項3】 Agが1〜18%、Cu、Pt、R
u、Os、Rh、Irの内の1種以上が合計量で0.1
〜5%、残部がAu及び不可避不純物からなることを特
徴とするボンディングワイヤ。 - 【請求項4】 Agが1〜18%、Ca,Sr ,Y,
La,Ce、Eu、Be、Ge、Sn、Inの内の1種
以上が合計量で0.0001〜0.01%、さらにC
u、Pt、Ru、Os、Rh、Irの内の1種以上が合
計で0.1〜5%、残部がAu及び不可避不純物である
ことを特徴とするボンディングワイヤ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9199513A JPH1145900A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | ボンディングワイヤ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9199513A JPH1145900A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | ボンディングワイヤ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1145900A true JPH1145900A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=16409077
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9199513A Pending JPH1145900A (ja) | 1997-07-25 | 1997-07-25 | ボンディングワイヤ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1145900A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1099674A1 (en) | 1999-11-11 | 2001-05-16 | Nichias Co., Ltd. | Porous ceramics, coating liquid retaining member, coating liquid application device and manufacturing method for porous ceramics |
JPWO2002023618A1 (ja) * | 2000-09-18 | 2004-01-22 | 新日本製鐵株式会社 | 半導体用ボンディングワイヤおよびその製造方法 |
WO2006035905A1 (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | ワイヤバンプ材料 |
WO2006134824A1 (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
WO2006134825A1 (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性、高い耐樹脂流れ性および低い比抵抗を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
WO2006134823A1 (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
JP2009033127A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-02-12 | Nippon Steel Materials Co Ltd | 半導体実装用ボンディングワイヤ |
-
1997
- 1997-07-25 JP JP9199513A patent/JPH1145900A/ja active Pending
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1099674A1 (en) | 1999-11-11 | 2001-05-16 | Nichias Co., Ltd. | Porous ceramics, coating liquid retaining member, coating liquid application device and manufacturing method for porous ceramics |
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JP2006351701A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Mitsubishi Materials Corp | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性、高い耐樹脂流れ性および低い比抵抗を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
WO2006134823A1 (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
JP2006351699A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Mitsubishi Materials Corp | 高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
JP2006351700A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Mitsubishi Materials Corp | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
WO2006134825A1 (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性、高い耐樹脂流れ性および低い比抵抗を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
US7678999B2 (en) | 2005-06-14 | 2010-03-16 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | Gold alloy wire for bonding wire having high bonding reliability, high roundness of compression ball, high straightness and high resin flowability resistance |
JP4596467B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2010-12-08 | 田中電子工業株式会社 | 高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
US7857189B2 (en) | 2005-06-14 | 2010-12-28 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | Gold alloy wire for bonding wire having high initial bondability, high bonding reliability, high roundness of compression ball, high straightness, and high resin flowability resistance |
JP4726206B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2011-07-20 | 田中電子工業株式会社 | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性、高い耐樹脂流れ性および低い比抵抗を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
JP4726205B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2011-07-20 | 田中電子工業株式会社 | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
WO2006134824A1 (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-21 | Tanaka Denshi Kogyo K.K. | 高い初期接合性、高い接合信頼性、圧着ボールの高い真円性、高い直進性および高い耐樹脂流れ性を有するボンディングワイヤ用金合金線 |
TWI407515B (zh) * | 2005-06-14 | 2013-09-01 | Tanaka Electronics Ind | Wire with gold alloy wire |
JP2009033127A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-02-12 | Nippon Steel Materials Co Ltd | 半導体実装用ボンディングワイヤ |
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