JPH1139940A - 高分子固体電解質薄膜の製造方法および積層方法 - Google Patents
高分子固体電解質薄膜の製造方法および積層方法Info
- Publication number
- JPH1139940A JPH1139940A JP9188230A JP18823097A JPH1139940A JP H1139940 A JPH1139940 A JP H1139940A JP 9188230 A JP9188230 A JP 9188230A JP 18823097 A JP18823097 A JP 18823097A JP H1139940 A JPH1139940 A JP H1139940A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mol
- thin film
- solid electrolyte
- polymer
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Secondary Cells (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Primary Cells (AREA)
Abstract
方法 【解決手段】 式A: 【化1】 (式中、mが50〜95モル%、nが5〜50モル%、
pが0〜10モル%、R1は炭素数1〜12のアルキル
基、R2は架橋反応性基を含む置換基、kは1〜4の整
数)で示される重量平均分子量が10万〜400万のポ
リエーテル重合体および電解質塩化合物を、沸点60℃
〜300℃の有機溶媒に溶解させ、これを離型性の基材
上に塗布した後、溶媒を除去し、高分子固体電解質薄膜
を作製し、得られた薄膜を電極上に転写する。
Description
膜の製造方法および積層方法に関する。
した電池に比べて液漏れ等の問題がなく、高信頼性を確
保できるという利点があるため、近年脚光を浴びてい
る。しかし固体電解質は、従来の電解液に比べてイオン
伝導度が低いため、内部抵抗が高くなり、電池の電解質
として用いた場合にはきわめて小容量のものしか得られ
ないという欠点を有するが、これを補うために固体電解
質の厚みを薄くするという方法がとられる。この厚さは
通常50μm以下が適当と考えられている。
て特開平5−47386の実施例に示されるように、固
体電解質溶液をガラス基板上に塗布して薄膜を作成する
方法があげられる。しかし、この方法だと基板と高分子
薄膜との密着性が高いため薄膜を単独で剥離させること
が困難になる。この問題を克服するために特開平5−1
98303では正極上に直接高分子固体電解質の溶液を
塗布し、乾燥させることにより高分子薄膜を作製すると
いう方法がとられているが、この方法は正極が膨潤す
る、あるいは正極材料が溶剤に溶けだし流れるといった
問題が生ずる。あるいは負極上に直接コーティングする
方法を用いる場合、負極に金属リチウムを用いると、溶
媒がリチウムと反応するという問題がある。また、特開
平7−161362には固体電解質ポリマー自体を溶融
させた後、Tダイスのついた押し出し機より正極上へ直
接コーティングする方法がとられているが、この方法は
高分子固体電解質として充分に薄い薄膜を作製するには
不適であり、また押し出し機に供するに必要な温度領域
で高分子固体電解質が変性あるいは分解するといった問
題が生ずる。
の高分子量のポリマーは重量平均分子量が1万以下のポ
リマーに比べて室温でも形状を保持しやすい等の利点が
あるが、コーティングに適した粘度を得るには通常10
wt.%以下の低濃度の溶液でなくてはならない。このよ
うな低濃度の溶液は、通常固体電解質として必要とされ
る膜厚の膜を得るために、比較的厚い塗布厚を必要とす
る。このため乾燥時に溶媒の蒸発に伴う多量の気泡が発
生し、固体電解質薄膜には不適なものしか得ることがで
きなかった。
本発明は優れた加工性および均一性を有する高分子固体
電解質薄膜を製造する方法を提供することを目的とす
る。
を解決することを目指して鋭意検討の結果、特定の割合
でエーテル基および/または架橋反応性を含む基を有す
るポリエーテル重合体および電解質塩化合物を沸点60
℃以上の有機溶媒に溶解させ、これを離型性の基材上に
塗布した後、溶媒を除去することにより、均一でしかも
加工性がよい高分子固体電解質薄膜が作製できることを
見出した。
pが0〜10モル%、R1は炭素数1〜12のアルキル
基、R2は架橋反応性基を含む置換基、kは1〜4の整
数)で示される重量平均分子量が10万〜400万のポ
リエーテル重合体および電解質塩化合物を、沸点60℃
〜300℃の有機溶媒に溶解させ、これを離型性の基材
上に塗布した後、溶媒を除去し、高分子薄膜を形成する
ことを特徴とする高分子固体電解質薄膜の製造方法を提
供する。
キシド繰り返し単位のモル分率が95%以下である。こ
のことは、この重合体が結晶性が低く、イオン伝導性に
優れていることを示している。さらに結晶性が低いこと
により、電極とポリマーとの接着性がよくなるので、電
極と固体電解質界面との間で、イオン伝導性が向上す
る。結晶性の指標となるポリマーの融解熱量が70J/
g以下、より好ましくは50J/g以下が好ましい。R
2基を有する架橋性繰り返し単位の割合pが10モル%
以上になると、弾力性がなくなり、表面が平滑な薄膜に
はならず、接着性がなくなる。
において、mが60〜90モル%、nが5〜40モル
%、pが0〜5モル%、R1は炭素数1〜6のアルキル
基、R2は反応性ケイ素基、エポキシ基、エチレン性不
飽和基またはハロゲン原子に結合したアルキル基である
ことが好ましい。
る繰り返し単位は、架橋反応基を含む置換基を有するモ
ノマーによって構成される。R2は架橋性反応基に結合
したアルキル基であってよい。架橋性反応基は、反応性
ケイ素、エポキシ基、エチレン性不飽和基およびハロゲ
ン原子である。架橋反応性基を含む置換基を有するモノ
マーとしては、反応性ケイ素基含有モノマー、追加的エ
ポキシ基含有モノマー、エチレン性不飽和基含有モノマ
ーまたはハロゲン原子含有モノマーであってよい。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、1,2−
エポキシブチルトリメトキシシラン、1,2−エポキシ
ペンチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げら
れる。
2,3−エポキシプロピル−2',3'−エポキシ−2'−
メチルプロピルエーテル、エチレングリコール−2,3
−エポキシプロピル−2',3'−エポキシ−2'−メチル
プロピルエーテル、ジエチレングリコール−2,3−エ
ポキシプロピル−2',3'−エポキシ−2'−メチルプロ
ピルエーテル、2−メチル−1,2,3,4−ジエポキシ
ブタン、2−メチル−1,2,4,5−ジエポキシペンタ
ン、2−メチル−1,2,5,6−ジエポキシヘキサン、
ヒドロキノン−2,3−エポキシプロピル−2',3'−エ
ポキシ−2'−メチルプロピルエーテル、カテコール-
2,3-エポキシプロピル-2',3'-エポキシ−2'−メチ
ルプロピルエーテルなどが挙げられる。
ては、アリルグリシジルエーテル、4−ビニルシクロヘ
キシルグリシジルエーテル、α−テルピニルグリシジル
エーテル、シクロヘキセニルメチルグリシジルエーテ
ル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、アリルフ
ェニルグリシジルエーテル、ビニルグリシジルエーテ
ル、3,4−エポキシ−1−ブテン、3,4−エポキシ−
1−ペンテン、4,5−エポキシ−2−ペンテン、1,2
−エポキシ−5,9−シクロドデカジエン、3,4−エポ
キシ−1−ビニルシクロヘキセン、1,2−エポキシ−
5−シクロオクテン、アクリル酸グリシジル、メタクリ
ル酸グリシジル、ソルビン酸グリシジル、ケイ皮酸グリ
シジル、クロトン酸グリシジル、グリシジル−4−ヘキ
セノエート、オリゴエピクロロヒドリンアリルグリシジ
ルエーテルなどが挙げられる。ポリエーテル重合体は、
エポキシドモノマーを重合する通常の重合方法によって
モノマーを重合することによって得られる。
としては、本発明のポリエーテル共重合体もしくは該共
重合体の架橋体、および有機溶媒あるいは数平均分子量
が200〜5000のポリアルキレングリコールの誘導
体もしくは金属塩又は該誘導体の金属塩のいずれかより
成る組成物に可溶のものならば何でもよいが、以下に挙
げるものが好ましく用いられる。
ン、アミジニウムイオン、およびグアニジウムイオンか
ら選ばれた陽イオンと、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ
素イオン、過塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、テト
ラフルオロホウ素酸イオン、硝酸イオン、AsF6 -、P
F6 -、ステアリルスルホン酸イオン、オクチルスルホン
酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ナフタ
レンスルホン酸イオン、ドデシルナフタレンスルホン酸
イオン、7,7,8,8−テトラシアノ−p−キノジメタ
ンイオン、R10SO3 -、[(R10SO2)(R11SO2)
N]-、[(R10SO2)(R11SO2)(R12SO2)C]-、およ
び[(R10SO2)(R11SO2)YC]- から選ばれた陰イオ
ンとからなる化合物が挙げられる。但し、R10、R11、
R12、およびYは電子吸引性基である。好ましくは
R10、R11、およびR12 は各々独立して炭素数が1〜
6のパーフルオロアルキル基又はパーフルオロアリール
基であり、Yはニトロ基、ニトロソ基、カルボニル基、
カルボキシル基、シアノ基、又はトリアルキルアンモニ
ウム基である。R10、R11、およびR12は各々同一であ
っても、異なっていてもよい。
を用いる事ができる。好ましくはMn、Fe、Co、Ni、
Cu、ZnおよびAg金属から選ばれた金属の陽イオンが
用いられる。又、Li、Na、K、Rb、Cs、Mg、Caお
よびBa金属から選ばれた金属の陽イオンを用いても好
ましい結果が得られる。電解質塩化合物として前述の化
合物を2種類以上併用することは自由である。
テル共重合体の主鎖および側鎖を含めたエーテル酸素原
子の総モル数に対して、モル比[(電解質塩化合物のモ
ル数)/(ポリエーテル共重合体のエーテルの酸素原子の
総モル数)]の値が0.0001〜5、好ましくは0.0
01〜0.5の範囲がよい。この値が5を越えると加工
性、成形性および得られた固体電解質の機械的強度や柔
軟性が低下し、さらにイオン伝導性も低下する。
300℃、例えば、80℃〜130℃を有する。有機溶
媒としては、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフ
ラン、2−メチルテトラヒドロフラン、tert−ブチルエ
ーテル、iso−ブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタ
ン、1,2−エトキシメトキシエタン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クメン等の炭化水素芳香族化
合物、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン
化芳香族化合物、またはこれらの2種以上の混合物が挙
げられる。しかし、これらに限定されるものではない。
また、有機溶媒の配合割合、配合方法は任意である。
族化合物含むことが好ましい。こうすることでコーティ
ング溶液としてより適した濃度および粘度の溶液を得る
ことができる。30重量%よりも低いと、コーティング
溶液の粘度が高すぎて目的の薄膜を作製することができ
ない場合がある。また、70重量%よりも多いと、電解
質塩化合物を溶解させることができなくなる、あるい
は、離型性の基材にコーティングするときに溶液がはじ
かれて均一な膜が作製できない等の問題が生ずる場合が
ある。芳香族化合物が、ベンゼン、トルエン、キシレン
のうちいずれか1種以上を含んだものであることがさら
に好ましい。
リコーン加工紙、ポリプロピレンラミネート紙、ウレタ
ンラミネート紙、シリコーン加工PET等が挙げられ
る。しかし、これらに限定されるものではない。また、
離型性の基材の表面は、シリコーン加工されたものが好
ましい。
ロールコータ、正回転ロールコータ、グラビアコータ、
ナイフコータ、ロッドコータ、カーテンコータ、ファウ
ンテンコータ、エアドクタコータ、キスコータ、ブレー
ドコータ、キャストコータ、スプレイコータ、スピンコ
ータ、押し出しコータ、ホットメルトコータ等を用いた
方法が挙げられる。
去方法であるが、真空乾燥、あるいは加熱乾燥のいずれ
でもよく、またこれらを組み合わせても良い。乾燥温度
は−40〜400℃、より好ましくは25℃〜200℃
の範囲内が好ましい。乾燥時間は2時間以内、より好ま
しくは30分以内、更に好ましくは5分以内が好まし
い。また乾燥時の雰囲気をN2、Ar等の不活性ガスで置
換しても良い。
は、ポリエーテル共重合体の架橋工程を含んでよい。架
橋は、ポリエーテル重合体、電解質塩化合物および有機
溶媒からなる薄膜用組成物を離型性基材上へ塗布する前
または後のいずれであってもよいが、塗布後が好まし
い。架橋方法は、架橋反応性を含む置換基によって異な
ってよい。例えば、反応性ケイ素基含有共重合体の架橋
方法としては、触媒量の水を添加し、加熱などの処理が
挙げれられる。側鎖のエポキシ基含有共重合体の架橋方
法としては、ポリアミン類、酸無水物類などの添加が挙
げられる。また、エチレン性不飽和基含有共重合体の架
橋方法としては、有機過酸化物、アゾ化合物等から選ば
れるラジカル開始剤、紫外線、電子線等の活性エネルギ
ー線を用いてよい。水素化ケイ素を有する架橋剤を用い
る事もできる。ハロゲン原子含有共重合体の架橋方法と
しては、ポリアミン類、メルカプトイミダゾリン類等の
架橋剤添加が挙げられる。
を含んでよい。イオン伝導性有機化合物は、液体であっ
てよい。イオン伝導性の液体としては、エチレンカーボ
ネート、ジエチレンカーボネート、プロピレンカーボネ
ート、γ−ブチルラクトン、ジメトキシエタン、ジメチ
ルスルホキシド、ジオキソラン、スルホランまたはこれ
ら2種以上の混合物が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。またイオン伝導性有機化合物の配合方
法としては、イオン伝導性有機化合物を重合体、電解質
塩化合物と一緒に有機溶媒に溶解させ、これを基材に塗
布後、150℃以下の温度で有機溶媒のみを除去する方
法や、重合体、電解質塩化合物を有機溶媒に溶解させ、
これを基材に塗布、乾燥後、イオン伝導性化合物(特
に、液体)を含浸させる等の方法があるが、これらに限
定されるものではない。イオン伝導性有機化合物の配合
割合は任意である。
の補強剤を入れても良い。補強剤としては、シリカ、ア
ルミナ、チタニア、ジルコニアの粉体状のものやあるい
は紙、不織布といったシート状のもの、またはこれら2
種以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。補強剤を高分子薄膜に組み込む方法として
は、補強剤が粉体の場合、コーティング溶液作製時に一
緒に混入させる方法や、補強剤がシート状の場合、これ
にコーティングする等の方法があげられるが、これらに
限定されるものではない。
膜を電極上に転写することを特徴とする高分子固体電解
質の電極への積層方法も提供する。転写方法は、得られ
た高分子固体電解質薄膜が基材と電極の間に位置する状
態で、高分子固体電解質薄膜を有する基材を電極と貼り
合わせた後に、基材と電極を引き離すことからなる。離
型性の基材のみが剥がれ、高分子固体電解質薄膜が付着
した電極が得られる。基材と貼り合わせる電極は、正極
であっても、負極であってもよい。
発明はこれらに限定されるものではない。
0モル%、R1=メチル基、k=2である重量平均分子
量100万の共重合体10g、コバルト酸リチウム35
g、アセチレンブラック5g、過塩素酸リチウム1.4
5gをアセトニトリル80gに溶解させ、ブレードコー
タにて幅15cm、長さ20cm、厚さ30μmのアルミ箔
上に塗布し、乾燥させ、正極を形成した。正極の厚さは
50μmであった。
0モル%、R1=メチル基、k=2である重量平均分子
量100万の共重合体10g、難黒鉛化カーボン30
g、過塩素酸リチウム1.45gをアセトニトリル80
gに溶解させ、ブレードコータにて幅15cm、長さ20
cm、厚さ30μmの銅箔上に塗布し、乾燥させ、負極を
形成した。負極の厚さは50μmであった。
0モル%、R1=メチル基、k=3である重量平均分子
量100万の共重合体(融解熱量20J/g)10g、
過塩素酸リチウム1.45gをトルエン25g、1,2−
ジメトキシエタン25gからなる溶媒に溶かした。次に
これをブレードコータにてシリコーン紙(離型紙)に塗
布し、大気中100℃で1時間乾燥し、高分子固体電解
質薄膜を作製した。高分子固体電解質薄膜の膜厚は50
μmであった。これを正極上に貼り合わせた後、離型紙
のみをはがした。すると正極上に均一に転写された高分
子固体電解質薄膜が作製された。
負極上に貼り合わせ、離型紙のみをはがした。すると負
極上に均一に転写された高分子固体電解質薄膜が作製さ
れた。
厚さ0.5mmの金属リチウム箔上に貼り合わせ、離型紙
のみをはがした。すると金属リチウム箔上に均一に転写
された固体電解質薄膜が作製された。
0モル%、R1=メチル基、k=2である重量平均分子
量100万の共重合体(融解熱量20J/g)10g、
過塩素酸リチウム1.45gをトルエン25g、1,2−
ジメトキシエタン25gからなる溶媒に溶かした。次に
これをブレードコータにてシリコン紙に塗布し、大気中
100℃で1時間乾燥し、シリコン紙上に高分子固体電
解質薄膜を作製した。高分子固体電解質薄膜の膜厚は5
0μmであった。これを正極上に貼り合わせた後、離型
紙のみをはがした。すると正極上に均一に転写された高
分子固体電解質薄膜が作製された。
=メチル基、架橋用モノマー成分としてアリルグリシジ
ルエーテル(p=3モル%)、k=2である重量平均分
子量100万の共重合体(融解熱量20J/g)10
g、過塩素酸リチウム1.45gをトルエン25g、
1,2−ジメトキシエタン25gからなる溶媒に溶かし
た。次にこれをブレードコータにてシリコン紙に塗布
し、大気中100℃で1時間乾燥し、高分子固体電解質
薄膜を作製した。高分子固体電解質薄膜の膜厚は50μ
mであった。これを正極上に貼り合わせた後、離型紙の
みをはがした。すると正極上に均一に転写された高分子
固体電解質薄膜が作製された。
=メチル基、架橋用モノマー成分としてアリルグリシジ
ルエーテル(p=3モル%)、k=2である重量平均分
子量100万の共重合体(融解熱量20J/g)10
g、過塩素酸リチウム1.45g、架橋助剤としてトリ
エチレングリコールジメタクリレート0.5g、ラジカ
ル開始剤としてジクミルパーオキサイド0.05gをト
ルエン25g、1,2−ジメトキシエタン25gからな
る溶媒に溶かした。次にこれをブレードコータにてシリ
コン紙に塗布し、大気中100℃で1時間乾燥した後、
さらに架橋するために窒素雰囲気下において150℃で
5時間処理し、高分子固体電解質薄膜を作製した。高分
子固体電解質薄膜の膜厚は50μmであった。これを正
極上に貼り合わせた後、離型紙のみをはがした。すると
正極上に均一に転写された高分子固体電解質薄膜が作製
された。
=メチル基、架橋用モノマー成分としてアリルグリシジ
ルエーテル(p=3モル%)、k=2である重量平均分
子量100万の共重合体(融解熱量20J/g)5g、
過塩素酸リチウム1.45g、イオン伝導性の液体とし
てプロピレンカーボネート5g、架橋助剤としてトリエ
チレングリコールジメタクリレート0.25g、ラジカ
ル開始剤としてジクミルパーオキサイド0.025gを
トルエン13g、1,2−ジメトキシエタン13gから
なる溶媒に溶かした。次にこれをブレードコータにてシ
リコン紙に塗布し、大気中100℃で1時間乾燥した
後、さらに架橋するために窒素雰囲気下において150
℃で5時間処理し、プロピレンカーボネートを約50重
量%含んだ高分子固体電解質薄膜を作製した。高分子固
体電解質薄膜の膜厚は50μmであった。これを正極上
に貼り合わせた後、離型紙のみをはがした。すると正極
上に均一に転写された高分子固体電解質薄膜が作製され
た。
熱量180J/g)10g、過塩素酸リチウム1.45
gをアセトニトリル50gに溶かした。 次にこれをブ
レードコータにてシリコン紙に塗布し、大気中100℃
で1時間乾燥し、高分子固体電解質薄膜を作製した。高
分子固体電解質薄膜の膜厚は50μmであった。これを
正極上に貼り合わせたが、離型紙から剥離させることが
できず、転写は不可能であった。
モル%、R1=メチル基、k=2である重量平均分子量
100万の共重合体(融解熱量90J/g)10g、過
塩素酸リチウム1.45gをトルエン25g、1,2−ジ
メトキシエタン25gからなる溶媒に溶かした。次にこ
れをブレードコータにてシリコン紙に塗布し、大気中1
00℃で1時間乾燥し、高分子固体電解質薄膜を作製し
た。高分子固体電解質薄膜の膜厚は50μmであった。
これを正極上に貼り合わせたが、離型紙から剥離させる
ことができず、転写は不可能であった。
0モル%、R1=メチル基、k=2である重量平均分子
量100万の共重合体(融解熱量20J/g)10g、
過塩素酸リチウム1.45gをトルエン25g、1,2−
ジメトキシエタン25gからなる溶媒に溶かした。次に
これをブレードコータにてガラス基板上に塗布し、大気
中100℃で1時間乾燥し、高分子固体電解質薄膜を作
製した。高分子固体電解質薄膜の膜厚は50μmであっ
た。これを正極上に貼り合わせたが、ガラス基板から剥
離させることができず、転写は不可能であった。
にコーティングされた高分子薄膜は、基材との離型性が
非常に優れるため、本発明のような結晶性の低く、強度
が劣る高分子薄膜を、薄膜の形状を保ったまま電極上に
直接転写することが容易となる。また、負極に金属リチ
ウムを用いた場合でも、負極上への直接の転写が可能で
あるという利点を有する。
Claims (8)
- 【請求項1】 式A: 【化1】 (式中、mが50〜95モル%、nが5〜50モル%、
pが0〜10モル%、R1は炭素数1〜12のアルキル
基、R2は架橋反応性基を含む置換基、kは1〜4の整
数)で示される重量平均分子量10万〜400万のポリ
エーテル重合体および電解質塩化合物を、沸点60℃〜
300℃の有機溶媒に溶解させ、これを離型性の基材上
に塗布した後、溶媒を除去し、高分子薄膜を形成するこ
とを特徴とする高分子固体電解質薄膜の製造方法。 - 【請求項2】 式Aで示されるポリエーテル重合体にお
いてmが60〜90モル%、nが5〜40モル%、pが
0〜5モル%、R1は炭素数1〜6のアルキル基、R2は
反応性ケイ素基、エポキシ基、エチレン性不飽和基また
はハロゲン原子に結合したアルキル基からなる基である
ことを特徴とする請求項1に記載の高分子固体電解質薄
膜の製造方法。 - 【請求項3】 有機溶媒が、30重量%〜70重量%の
芳香族化合物を含むことを特徴とする請求項1に記載の
高分子固体電解質薄膜の製造方法。 - 【請求項4】 芳香族化合物が、ベンゼン、トルエン、
キシレンのうちいずれか1種以上を含んだものであるこ
とを特徴とする請求項3に記載の高分子固体電解質薄膜
の製造方法。 - 【請求項5】 離型性の基材の表面が、シリコーン加工
されていることを特徴とする請求項1に記載の高分子固
体電解質薄膜の製造方法。 - 【請求項6】 離型性の基材上に塗布した後、溶媒を除
去し、さらにポリエーテル重合体を架橋することを特徴
とする請求項1に記載の高分子固体電解質薄膜の製造方
法。 - 【請求項7】 ポリエーテル重合体および電解質塩化合
物の他に、さらにイオン伝導性有機化合物を有機溶媒に
溶解させることを特徴とする請求項1に記載の高分子固
体電解質薄膜の製造方法。 - 【請求項8】 請求項1〜7にいずれかに記載の方法で
製造された高分子固体電解質薄膜を電極上に転写するこ
とを特徴とする高分子固体電解質薄膜の電極上への積層
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18823097A JP3852169B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | 高分子固体電解質薄膜の製造方法および積層方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18823097A JP3852169B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | 高分子固体電解質薄膜の製造方法および積層方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1139940A true JPH1139940A (ja) | 1999-02-12 |
JP3852169B2 JP3852169B2 (ja) | 2006-11-29 |
Family
ID=16220071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18823097A Expired - Lifetime JP3852169B2 (ja) | 1997-07-14 | 1997-07-14 | 高分子固体電解質薄膜の製造方法および積層方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3852169B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001319692A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-16 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | 固体型リチウムポリマー電池 |
US6811929B2 (en) * | 2001-01-05 | 2004-11-02 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Polymeric gel electrolyte, lithium battery using the same, and methods of manufacturing the electrolyte and the lithium battery |
JP2005347048A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Nissan Motor Co Ltd | 架橋高分子電解質を用いた電池 |
JP2019140024A (ja) * | 2018-02-14 | 2019-08-22 | トヨタ自動車株式会社 | 被転写物上に固体電解質積層体を積層する方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013211142A (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Kojima Press Industry Co Ltd | リチウムイオン二次電池 |
CN104247132A (zh) | 2012-03-30 | 2014-12-24 | 小岛冲压工业株式会社 | 锂离子二次电池的制造方法及制造装置 |
JP6017872B2 (ja) | 2012-07-26 | 2016-11-02 | 小島プレス工業株式会社 | リチウムイオン二次電池及びその製造方法並びに製造装置 |
JP2015056344A (ja) | 2013-09-13 | 2015-03-23 | 小島プレス工業株式会社 | リチウムイオン二次電池及びその製造方法 |
KR102320015B1 (ko) | 2017-09-12 | 2021-11-02 | 주식회사 엘지에너지솔루션 | 이차전지용 고분자 전해질 및 이를 포함하는 리튬 이차전지 |
-
1997
- 1997-07-14 JP JP18823097A patent/JP3852169B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001319692A (ja) * | 2000-05-08 | 2001-11-16 | Natl Inst Of Advanced Industrial Science & Technology Meti | 固体型リチウムポリマー電池 |
JP4559587B2 (ja) * | 2000-05-08 | 2010-10-06 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 固体型リチウムポリマー電池 |
US6811929B2 (en) * | 2001-01-05 | 2004-11-02 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Polymeric gel electrolyte, lithium battery using the same, and methods of manufacturing the electrolyte and the lithium battery |
JP2005347048A (ja) * | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Nissan Motor Co Ltd | 架橋高分子電解質を用いた電池 |
JP2019140024A (ja) * | 2018-02-14 | 2019-08-22 | トヨタ自動車株式会社 | 被転写物上に固体電解質積層体を積層する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3852169B2 (ja) | 2006-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3215440B2 (ja) | 高分子固体電解質 | |
JP3215436B2 (ja) | 架橋高分子固体電解質及びその用途 | |
JP3301378B2 (ja) | ポリエーテル共重合体および架橋高分子固体電解質 | |
KR102066490B1 (ko) | 2 차 전지용 다공막 세퍼레이터 및 그 제조 방법, 그리고 2 차 전지 | |
JP5035909B2 (ja) | 電解質組成物 | |
JP2002100405A (ja) | ゲル状高分子固体電解質用樹脂組成物およびゲル状高分子固体電解質 | |
JP2000123632A (ja) | 高分子固体電解質及びその用途 | |
JP4005192B2 (ja) | 固体電池 | |
CN105359306A (zh) | 光化辐射和电子束辐射可固化的水基电极粘合剂和包含其的电极 | |
JP2003197030A (ja) | 高分子固体電解質および電池 | |
KR20160045142A (ko) | 비수계 전지 전극용 바인더 조성물, 비수계 전지 전극용 슬러리, 비수계 전지 전극 및 비수계 전지 | |
JP3724252B2 (ja) | 架橋高分子固体電解質及びその用途 | |
JP3852169B2 (ja) | 高分子固体電解質薄膜の製造方法および積層方法 | |
WO1998058983A1 (fr) | Copolymere de polyether, electrolyte a polymere solide, et batterie | |
JP3484974B2 (ja) | 新規なリチウムポリマー電池 | |
JP3282565B2 (ja) | 架橋高分子固体電解質及びその用途 | |
JP2002100404A (ja) | ゲル状高分子固体電解質用樹脂組成物、ゲル状高分子固体電解質用組成物、および、これを用いたゲル状高分子固体電解質、複合電極、電気化学的デバイス | |
JP3022317B2 (ja) | 高分子固体電解質 | |
JP2010277959A (ja) | 二次電池電極用バインダー用樹脂組成物、二次電池電極用バインダー、二次電池電極用バインダーを用いてなる電極及び二次電池 | |
JP4164005B2 (ja) | 電解質組成物 | |
JP2003003031A (ja) | カルボキシル基含有樹脂組成物およびこれを用いた電池用バインダ樹脂組成物、電極および電池 | |
JPH10176105A (ja) | 高分子固体電解質 | |
JPH03238704A (ja) | 高分子固体電解質 | |
JP3427730B2 (ja) | リチウムポリマー電池 | |
CN101303910A (zh) | 导电性复合材料及电容器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040420 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060427 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060516 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060712 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060815 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060828 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090915 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100915 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110915 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110915 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120915 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120915 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130915 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140915 Year of fee payment: 8 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |