JPH1134497A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH1134497A JPH1134497A JP9198813A JP19881397A JPH1134497A JP H1134497 A JPH1134497 A JP H1134497A JP 9198813 A JP9198813 A JP 9198813A JP 19881397 A JP19881397 A JP 19881397A JP H1134497 A JPH1134497 A JP H1134497A
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- JP
- Japan
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- optical recording
- recording medium
- group
- recording layer
- alkylene
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光産業分野において利用される光記録媒体に
関し、高感度、高速記録、高出力、更に保存安定性に優
れた追記型光記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に記録層２、反射層３およ
び保護層４を有し、半導体レーザー光が透明基板を通し
て入射し、情報の記録、再生を行う光記録媒体であっ
て、記録層が特定のスチリル系色素を主体として構成さ
れる光記録媒体。
関し、高感度、高速記録、高出力、更に保存安定性に優
れた追記型光記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に記録層２、反射層３およ
び保護層４を有し、半導体レーザー光が透明基板を通し
て入射し、情報の記録、再生を行う光記録媒体であっ
て、記録層が特定のスチリル系色素を主体として構成さ
れる光記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光により情報
を記録、再生する追記型の光記録媒体に関する。
を記録、再生する追記型の光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光により情報を再生する光記録
媒体は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭと呼ばれ音楽再生用、コン
ピュター用と現在、広く普及してきている。これらのデ
ィスク構造は、厚さ１．２ｍｍの透明基板の片側に凹凸
情報ピット列を設け、その上からアルミ、金等の反射膜
をスパッタ法あるいは蒸着法により設け、さらに保護膜
をコートして作製されている。また、これらの光ディス
クは、７８０ｎｍの半導体レーザー光を透明基板を通し
て入射し、ピットの凹凸による反射率の変化から信号を
読みとり、情報を再生している。
媒体は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭと呼ばれ音楽再生用、コン
ピュター用と現在、広く普及してきている。これらのデ
ィスク構造は、厚さ１．２ｍｍの透明基板の片側に凹凸
情報ピット列を設け、その上からアルミ、金等の反射膜
をスパッタ法あるいは蒸着法により設け、さらに保護膜
をコートして作製されている。また、これらの光ディス
クは、７８０ｎｍの半導体レーザー光を透明基板を通し
て入射し、ピットの凹凸による反射率の変化から信号を
読みとり、情報を再生している。
【０００３】しかし、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭは再生専用メ
ディアであり、編集機能を持たない。そこで、記録可能
な光ディスクとしてＣＤ−Ｒ（一度だけ記録可能）、Ｐ
Ｄ（書き換え可能型）が開発され、実用化されている。
ＣＤ−Ｒ、ＰＤは編集機能の他に先に述べたＣＤ−ＲＯ
Ｍとの互換性（再生機能）をもっている。このような光
ディスクにはテルル等のカルコゲナイト系化合物、希土
類金属化合物、シアニン系、ナフタロシアニン系、フタ
ロシアニン系等の有機化合物を記録層としたものが用い
られている。
ディアであり、編集機能を持たない。そこで、記録可能
な光ディスクとしてＣＤ−Ｒ（一度だけ記録可能）、Ｐ
Ｄ（書き換え可能型）が開発され、実用化されている。
ＣＤ−Ｒ、ＰＤは編集機能の他に先に述べたＣＤ−ＲＯ
Ｍとの互換性（再生機能）をもっている。このような光
ディスクにはテルル等のカルコゲナイト系化合物、希土
類金属化合物、シアニン系、ナフタロシアニン系、フタ
ロシアニン系等の有機化合物を記録層としたものが用い
られている。
【０００４】ＣＤ−Ｒは、記録膜の微小面積にレーザー
光を集光させ、それを熱エルギーに変換し、記録膜の性
状を変える。レーザー光の出力としては、通常は書き込
み用と読みとり用は異なり、読みとり用のレーザー光の
出力は書き込み用と比較して弱いものが用いられる。ま
た、記録部分と未記録部分とのコントラストは最終的に
は電気信号として読みとられる。光学的には反射率の変
化がコントラストに反映される。
光を集光させ、それを熱エルギーに変換し、記録膜の性
状を変える。レーザー光の出力としては、通常は書き込
み用と読みとり用は異なり、読みとり用のレーザー光の
出力は書き込み用と比較して弱いものが用いられる。ま
た、記録部分と未記録部分とのコントラストは最終的に
は電気信号として読みとられる。光学的には反射率の変
化がコントラストに反映される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】最近では、このような
光記録媒体として、高感度、高速記録および保存安定性
に優れた書き込み可能な光記録媒体、さらに、低コスト
で生産性に優れた光記録媒体の要望が高まっている。
光記録媒体として、高感度、高速記録および保存安定性
に優れた書き込み可能な光記録媒体、さらに、低コスト
で生産性に優れた光記録媒体の要望が高まっている。
【０００６】また、特開平０６−２９５４６９号公報記
載の記録媒体では、繰り返し再生による読み出し破壊を
防ぐために、再生光波長より短波長の光で情報の記録を
行う方式を提案しているが、実際には記録用レーザー光
および再生用レーザー光の波長はコスト等を考えると同
一のものが望ましい。
載の記録媒体では、繰り返し再生による読み出し破壊を
防ぐために、再生光波長より短波長の光で情報の記録を
行う方式を提案しているが、実際には記録用レーザー光
および再生用レーザー光の波長はコスト等を考えると同
一のものが望ましい。
【０００７】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、近年、開発された半導体レーザーに対応した追記型
の光記録媒体を提供することを目的とする。
で、近年、開発された半導体レーザーに対応した追記型
の光記録媒体を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の光記録媒体は、透明基板上に光学的に情報
を記録する記録層が形成されてなり、この記録層は、
（化３）または（化４）で示されるスチリル系色素を少
なくとも一種以上を含有する層からなることを特徴とす
るものである。さらに、詳しくは、この材料を用いて高
性能な光記録媒体とするためには、構成材料となるアニ
オン性の材料の選択、製膜法および条件の選択、レーザ
ー光波長との適合化を図るものである。
に、本発明の光記録媒体は、透明基板上に光学的に情報
を記録する記録層が形成されてなり、この記録層は、
（化３）または（化４）で示されるスチリル系色素を少
なくとも一種以上を含有する層からなることを特徴とす
るものである。さらに、詳しくは、この材料を用いて高
性能な光記録媒体とするためには、構成材料となるアニ
オン性の材料の選択、製膜法および条件の選択、レーザ
ー光波長との適合化を図るものである。
【化３】
【化４】
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、透明な基板上に設けられた記録層を有する光記録媒
体であって、記録層が、一般式（化３）からなる色素材
料、または一般式（化４）からなる色素材料を少なくと
も一種以上含有することを特徴とする光記録媒体であ
る。
は、透明な基板上に設けられた記録層を有する光記録媒
体であって、記録層が、一般式（化３）からなる色素材
料、または一般式（化４）からなる色素材料を少なくと
も一種以上含有することを特徴とする光記録媒体であ
る。
【００１０】（化３）において、ＡはＯ、Ｓ、ＣＲ1 Ｒ
2 のいずれかを示し、Ｒ1 、Ｒ2 は同一、あるいは異種
の低級アルキル基、ハイドロオキシアルキル基、または
アルキレンの途中にＯ、Ｓを含んでもよく、Ｒ1 、Ｒ2
で環構造を有していてもよい。Ｒ3 は水素、低級アルキ
ル基、またはＣＮ基を表す。Ｒ4 、Ｒ5 は同一、あるい
は異種の低級アルキル基、またはアルキレンの途中に
Ｏ、Ｓを含んでもよく、末端にハロゲン基、−ＣＮ、−
Ｓ０2 ＣＨ3 を有していてもよく、いずれかあるいは両
方とも環構造を有していてもよく、Ｒ4 とＲ5 により環
構造を形成していてもよい。さらには、次にあるＲ6 と
いずれかあるいは両方ともで環構造を有してもよい。Ｒ
6はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、
−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ
3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈを表す。ＹはＯまたはＳ
を、Ｚ1は−Ｎ−Ｃ−Ｙ−とともに環構造を形成するに
必要な炭素数が２〜４のアルキレン基を、Ｘは水素、ま
たは−Ｓ０2 ＣＨ3 、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＯＣ
Ｈ3 、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、
−ＣＯＰｈ、−ＮＯ2 、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 、ハロゲ
ン原子のいずれかを表す。（化４）において、Ｚ2 はカ
ーボン数が１から１８のアルキレン基で、末端あるいは
間にＳまたは０を含んでいてもよい。Ｂはハロゲン、酸
根、アルコキシアニオン等のアニオンを表すものであ
る。以上の構成により、レーザー光による高感度、高速
書き込みが可能な光記録媒体が実現できるという作用を
有する。
2 のいずれかを示し、Ｒ1 、Ｒ2 は同一、あるいは異種
の低級アルキル基、ハイドロオキシアルキル基、または
アルキレンの途中にＯ、Ｓを含んでもよく、Ｒ1 、Ｒ2
で環構造を有していてもよい。Ｒ3 は水素、低級アルキ
ル基、またはＣＮ基を表す。Ｒ4 、Ｒ5 は同一、あるい
は異種の低級アルキル基、またはアルキレンの途中に
Ｏ、Ｓを含んでもよく、末端にハロゲン基、−ＣＮ、−
Ｓ０2 ＣＨ3 を有していてもよく、いずれかあるいは両
方とも環構造を有していてもよく、Ｒ4 とＲ5 により環
構造を形成していてもよい。さらには、次にあるＲ6 と
いずれかあるいは両方ともで環構造を有してもよい。Ｒ
6はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、
−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ
3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈを表す。ＹはＯまたはＳ
を、Ｚ1は−Ｎ−Ｃ−Ｙ−とともに環構造を形成するに
必要な炭素数が２〜４のアルキレン基を、Ｘは水素、ま
たは−Ｓ０2 ＣＨ3 、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＯＣ
Ｈ3 、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、
−ＣＯＰｈ、−ＮＯ2 、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 、ハロゲ
ン原子のいずれかを表す。（化４）において、Ｚ2 はカ
ーボン数が１から１８のアルキレン基で、末端あるいは
間にＳまたは０を含んでいてもよい。Ｂはハロゲン、酸
根、アルコキシアニオン等のアニオンを表すものであ
る。以上の構成により、レーザー光による高感度、高速
書き込みが可能な光記録媒体が実現できるという作用を
有する。
【００１１】請求項２に記載の発明は、透明な基板上に
設けられた記録層を有する光記録媒体であって、記録層
が、−ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＯ
2 などの基を有する電子アクセプター性の強い芳香族化
合物と（化３）式に示す色素との混合物からなることを
特徴とする光記録媒体であり、レーザー光による高感
度、高速記録が可能な光記録媒体が実現できるという作
用を有する。
設けられた記録層を有する光記録媒体であって、記録層
が、−ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＯ
2 などの基を有する電子アクセプター性の強い芳香族化
合物と（化３）式に示す色素との混合物からなることを
特徴とする光記録媒体であり、レーザー光による高感
度、高速記録が可能な光記録媒体が実現できるという作
用を有する。
【００１２】請求項３に記載の発明は、アクセプター性
の化合物としてテトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）
を用いることを特徴とする材料を含有する請求項２記載
の光記録媒体であり、レーザー光による高感度、高速記
録が可能な光記録媒体が実現できるという作用を有す
る。
の化合物としてテトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）
を用いることを特徴とする材料を含有する請求項２記載
の光記録媒体であり、レーザー光による高感度、高速記
録が可能な光記録媒体が実現できるという作用を有す
る。
【００１３】請求項４に記載の発明は、透明な基板上
に、２源以上の共蒸着法により記録層を形成することを
特徴とする請求項１または２または３記載の光記録媒体
であり、レーザー光による高感度、高速記録が可能な光
記録媒体が実現できるという作用を有する。
に、２源以上の共蒸着法により記録層を形成することを
特徴とする請求項１または２または３記載の光記録媒体
であり、レーザー光による高感度、高速記録が可能な光
記録媒体が実現できるという作用を有する。
【００１４】請求項５に記載の発明は、光記録、再生を
行う光源として、波長が５００ｎｍから８００ｎｍ域内
のレーザ光源を用いることを特徴とする請求項１から４
の何れかに記載の光記録媒体であり、レーザー光による
高感度、高速記録が可能な光記録媒体が実現できるとい
う作用を有する。
行う光源として、波長が５００ｎｍから８００ｎｍ域内
のレーザ光源を用いることを特徴とする請求項１から４
の何れかに記載の光記録媒体であり、レーザー光による
高感度、高速記録が可能な光記録媒体が実現できるとい
う作用を有する。
【００１５】本発明が適用される光記録媒体は、透明基
板上に記録層をスピナーなどを用いた塗布法、あるいは
蒸着法により製膜し、その上に反射層および保護層を順
次形成したものからなる。透明基板としては樹脂が用い
られ、光学特性としては、４００〜８００ｎｍの範囲で
高い透過率を示すものであれば原理上材質は問わない。
透過率は８０％以上が望ましく、９０％以上あればさら
に好ましい。本発明に有効な基板材質としては、ガラ
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル樹脂等からな
る基板が挙げられる。最近はポリカーボオネートが一般
に用いられている。
板上に記録層をスピナーなどを用いた塗布法、あるいは
蒸着法により製膜し、その上に反射層および保護層を順
次形成したものからなる。透明基板としては樹脂が用い
られ、光学特性としては、４００〜８００ｎｍの範囲で
高い透過率を示すものであれば原理上材質は問わない。
透過率は８０％以上が望ましく、９０％以上あればさら
に好ましい。本発明に有効な基板材質としては、ガラ
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル樹脂等からな
る基板が挙げられる。最近はポリカーボオネートが一般
に用いられている。
【００１６】記録層の製膜方法は、ドライプロセスで
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法など、ウェッ
トプロセスでは、スピンコート法によって通常は薄膜形
成が行われる。
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法など、ウェッ
トプロセスでは、スピンコート法によって通常は薄膜形
成が行われる。
【００１７】まず、スピンコート法の例を示す。有機色
素を溶剤に溶解し、透明基板を回転させつつ色素溶液を
滴下して記録層を形成すればよく、色素溶液は０．５〜
５重量％の色素濃度に調整されていることが望ましい。
素を溶剤に溶解し、透明基板を回転させつつ色素溶液を
滴下して記録層を形成すればよく、色素溶液は０．５〜
５重量％の色素濃度に調整されていることが望ましい。
【００１８】この色素溶液を作成する溶媒は、色素を溶
解し透明基板に無害であれば使用可能であるが、溶媒と
してはメチルアルコール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラフルオロアルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シク
ロヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエ
タン、四塩化炭素、メトキシエタノール、エトキシエタ
ノール、アセトニトリル、トリエチルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、色素
溶解性、作業性、基板への影響、経済性を考慮して決定
される。
解し透明基板に無害であれば使用可能であるが、溶媒と
してはメチルアルコール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラフルオロアルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シク
ロヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエ
タン、四塩化炭素、メトキシエタノール、エトキシエタ
ノール、アセトニトリル、トリエチルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、色素
溶解性、作業性、基板への影響、経済性を考慮して決定
される。
【００１９】さらに、有機溶媒に色素を溶解して色素溶
液を作成する際に、光安定剤、酸化防止剤が含まれてい
てもよく、光安定剤としては、一重項酸素クエンチャー
である金属錯体やジイモニュウム塩、ヒンダードアミン
化合物、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール化合
物、ベンゾフェノン化合物、酸化防止剤としては、一次
酸化防止剤としてフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、そして２次の酸化防止剤としては、有機イオ
ウ系２次酸化防止剤、リン系２次酸化防止剤等が挙げら
れる。なお、これら光安定剤、酸化防止剤は、単独もし
くは複合して配合してもよく、添加量は、色素重量１０
０部に対して添加剤を０．１〜２００部程度が好まし
い。
液を作成する際に、光安定剤、酸化防止剤が含まれてい
てもよく、光安定剤としては、一重項酸素クエンチャー
である金属錯体やジイモニュウム塩、ヒンダードアミン
化合物、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール化合
物、ベンゾフェノン化合物、酸化防止剤としては、一次
酸化防止剤としてフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、そして２次の酸化防止剤としては、有機イオ
ウ系２次酸化防止剤、リン系２次酸化防止剤等が挙げら
れる。なお、これら光安定剤、酸化防止剤は、単独もし
くは複合して配合してもよく、添加量は、色素重量１０
０部に対して添加剤を０．１〜２００部程度が好まし
い。
【００２０】また、色素溶液に結着剤として樹脂を添加
してもよく、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫
酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・
プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどの
セルロースエステル類、メチルセルロース、エチルセル
ロース、プロピルセルロース、ブチルセルロースなどの
セルロースエーテル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドンなどのビニル樹脂類、スチレン−ブタジェンコポ
リマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、スチ
レン−ブタジェン−アクリロニトリルコポリマー、塩化
ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの共重合樹脂類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリアクリルニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポ
リオレフィン類などを用いることができ、これらの樹脂
類は、色素重量１００部に対し１〜１０００部の範囲に
わたって添加することができる。
してもよく、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫
酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・
プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどの
セルロースエステル類、メチルセルロース、エチルセル
ロース、プロピルセルロース、ブチルセルロースなどの
セルロースエーテル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドンなどのビニル樹脂類、スチレン−ブタジェンコポ
リマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、スチ
レン−ブタジェン−アクリロニトリルコポリマー、塩化
ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの共重合樹脂類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリアクリルニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポ
リオレフィン類などを用いることができ、これらの樹脂
類は、色素重量１００部に対し１〜１０００部の範囲に
わたって添加することができる。
【００２１】そして、スピンコート法によって記録層を
形成するには、回転数と回転時間で所望の膜厚に調整す
ればよく、塗布条件は、色素溶液粘度、色素濃度などを
考慮して決定する。
形成するには、回転数と回転時間で所望の膜厚に調整す
ればよく、塗布条件は、色素溶液粘度、色素濃度などを
考慮して決定する。
【００２２】また、記録層は、５０〜４００ｎｍの範囲
に設定されることが望ましいから、回転数１０００〜５
０００ｒｐｍ程度で記録層の所望膜厚となるように、色
素溶液の濃度と粘度を調整する必要がある。
に設定されることが望ましいから、回転数１０００〜５
０００ｒｐｍ程度で記録層の所望膜厚となるように、色
素溶液の濃度と粘度を調整する必要がある。
【００２３】一方、蒸着法で記録層を形成する場合に
は、１０-2Ｐａ以下の真空度で蒸着されることが望まし
い。また、蒸着可能な光安定剤、酸化防止剤等の添加剤
と記録層色素とを所定量混合して一つの熱源で蒸着して
もよく、添加剤と色素を別々の熱源で蒸着してもよい。
なお、光安定剤、酸化防止剤などは前述した光安定剤や
酸化防止剤の化合物から選択される。
は、１０-2Ｐａ以下の真空度で蒸着されることが望まし
い。また、蒸着可能な光安定剤、酸化防止剤等の添加剤
と記録層色素とを所定量混合して一つの熱源で蒸着して
もよく、添加剤と色素を別々の熱源で蒸着してもよい。
なお、光安定剤、酸化防止剤などは前述した光安定剤や
酸化防止剤の化合物から選択される。
【００２４】反射層は使用する光源に対して反射率の高
い材料を用いる。使用する材料としては、金、銀、銅、
白金、アルミニウム、コバルト、錫、ニッケル等の金属
が好ましく、これらを単独または合金として使用できる
ことができる。これらの反射層の膜厚は２０〜２００ｎ
ｍが望ましく、形成法としてはスパッタ法、真空蒸着法
により形成される。また、反射層は、これら金属に限ら
れるものではなく有機系の高反射膜を使用することも可
能である。 保護層は記録層または反射層に対する傷や
汚れの保護や保存安定性のために設けられ無機材料とし
てはＳｉＯやＳｉＯ2 などが使用できる。有機材料では
ポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ
樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、
セルロース、脂肪族系炭化水素樹脂系、天然ゴム、ワッ
クス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、
熱溶融樹脂も用いることができる。前記保護層には必要
に応じ、難燃剤、安定剤、帯電防止剤などを添加するこ
とができる。保護膜としては、熱硬化性や光硬化性樹脂
が用いられる。
い材料を用いる。使用する材料としては、金、銀、銅、
白金、アルミニウム、コバルト、錫、ニッケル等の金属
が好ましく、これらを単独または合金として使用できる
ことができる。これらの反射層の膜厚は２０〜２００ｎ
ｍが望ましく、形成法としてはスパッタ法、真空蒸着法
により形成される。また、反射層は、これら金属に限ら
れるものではなく有機系の高反射膜を使用することも可
能である。 保護層は記録層または反射層に対する傷や
汚れの保護や保存安定性のために設けられ無機材料とし
てはＳｉＯやＳｉＯ2 などが使用できる。有機材料では
ポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ
樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、
セルロース、脂肪族系炭化水素樹脂系、天然ゴム、ワッ
クス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、
熱溶融樹脂も用いることができる。前記保護層には必要
に応じ、難燃剤、安定剤、帯電防止剤などを添加するこ
とができる。保護膜としては、熱硬化性や光硬化性樹脂
が用いられる。
【００２５】案内溝の形状については、特に制限はない
が、平均溝幅は０．３〜１．２ミクロン、また、溝深さ
は７０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。この光記録媒体
では、透明基板を通して記録層２にレーザー光を照射
し、このときに発生する熱によりピットを形成する、ヒ
ートモード方式により記録が行われる。
が、平均溝幅は０．３〜１．２ミクロン、また、溝深さ
は７０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。この光記録媒体
では、透明基板を通して記録層２にレーザー光を照射
し、このときに発生する熱によりピットを形成する、ヒ
ートモード方式により記録が行われる。
【００２６】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。（実施例１）図
１は、実施例１における追記型光記録媒体の断面図を示
す。１は基板、２は基板上に設けられた記録層、３は記
録層上に設けられた反射層、４は反射層上に設けられた
保護層である。基板１は、ポリカーボネート製の円盤状
の透明基板を用い、厚さ１．２ｍｍ、トラックピッチ
１．６μｍ、溝幅０．６μｍ、溝深さ７６ｎｍの形状に
射出成形したものである。この基板１の上部に有機記録
層２を形成し、さらに記録層２の上部に反射層３として
銀をスパッター法で作製し、最後にＵＶ硬化樹脂で保護
層４を形成した。
明はこれらに限定されるものではない。（実施例１）図
１は、実施例１における追記型光記録媒体の断面図を示
す。１は基板、２は基板上に設けられた記録層、３は記
録層上に設けられた反射層、４は反射層上に設けられた
保護層である。基板１は、ポリカーボネート製の円盤状
の透明基板を用い、厚さ１．２ｍｍ、トラックピッチ
１．６μｍ、溝幅０．６μｍ、溝深さ７６ｎｍの形状に
射出成形したものである。この基板１の上部に有機記録
層２を形成し、さらに記録層２の上部に反射層３として
銀をスパッター法で作製し、最後にＵＶ硬化樹脂で保護
層４を形成した。
【００２７】記録層２の材料としては、（化５）に示す
ようなスチリル系色素を用い、アニオン性化合物として
は、ＴＣＮＱを用いた。（化５）は、一般式（化３）の
ＹがＯ、Ｚ1 がＣ2 Ｈ4 、Ｒ3 は水素、Ｒ4 およびＲ5
はＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、ＡはＣ（ＣＨ3 ）2 、ＸはＳ
Ｏ2 ＣＨ3 である。記録層２の製膜は真空蒸着法を用
い、２源で同時蒸着法により形成した。これは、一般
に、ＴＣＮＱは溶剤に対する溶解性が低いため、通常の
スピンコート法では製膜が困難であると推察されるから
である。また、ＴＣＮＱ量が少ないと色素の発色濃度が
低くなり記録感度等に影響を及ぼす可能性があるため、
ＴＣＮＱの量は色素のモル数に対して等モル以上は含有
されるようにした。なお、このときの蒸着条件は、基板
温度は室温、真空度１×１０-3Ｐａ、蒸着速度０．１ｎ
ｍ／ｓであった。得られた有機薄膜の膜厚は、ＳＬＯＡ
Ｎ社製、ＤＥＫＴＡＫ3 ＳＴを用いて計測し、さらに、
薄膜有機の吸収スペクトルは日立製作所製分光光度計
（Ｕ−４０００）を用いて測定を行った。この記録層の
光吸収ピークは５８０ｎｍにあり、７８０ｎｍの半導体
レーザーの波長域には若干の吸収をもつものである。
ようなスチリル系色素を用い、アニオン性化合物として
は、ＴＣＮＱを用いた。（化５）は、一般式（化３）の
ＹがＯ、Ｚ1 がＣ2 Ｈ4 、Ｒ3 は水素、Ｒ4 およびＲ5
はＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、ＡはＣ（ＣＨ3 ）2 、ＸはＳ
Ｏ2 ＣＨ3 である。記録層２の製膜は真空蒸着法を用
い、２源で同時蒸着法により形成した。これは、一般
に、ＴＣＮＱは溶剤に対する溶解性が低いため、通常の
スピンコート法では製膜が困難であると推察されるから
である。また、ＴＣＮＱ量が少ないと色素の発色濃度が
低くなり記録感度等に影響を及ぼす可能性があるため、
ＴＣＮＱの量は色素のモル数に対して等モル以上は含有
されるようにした。なお、このときの蒸着条件は、基板
温度は室温、真空度１×１０-3Ｐａ、蒸着速度０．１ｎ
ｍ／ｓであった。得られた有機薄膜の膜厚は、ＳＬＯＡ
Ｎ社製、ＤＥＫＴＡＫ3 ＳＴを用いて計測し、さらに、
薄膜有機の吸収スペクトルは日立製作所製分光光度計
（Ｕ−４０００）を用いて測定を行った。この記録層の
光吸収ピークは５８０ｎｍにあり、７８０ｎｍの半導体
レーザーの波長域には若干の吸収をもつものである。
【化５】
【００２８】以上のように構成された追記型光記録媒体
について、７８０ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度８ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、７８０ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。この
ときの未記録部分の反射率は７０％、１１Ｔ信号Ｃ／Ｎ
出力は４５ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は３８ｄＢであっ
た。
について、７８０ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度８ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、７８０ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。この
ときの未記録部分の反射率は７０％、１１Ｔ信号Ｃ／Ｎ
出力は４５ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は３８ｄＢであっ
た。
【００２９】このように、上記色素を記録層に用いた場
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好で、さらに、記録に要するレーザー出力
が小さく高感度であることがわかる。
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好で、さらに、記録に要するレーザー出力
が小さく高感度であることがわかる。
【００３０】（実施例２〜７）実施例２〜７において
は、（化５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、Ｃ
Ｎ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以外
は、実施例１と同様にして作製し、光ディスク特性の評
価を行った。
は、（化５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、Ｃ
Ｎ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以外
は、実施例１と同様にして作製し、光ディスク特性の評
価を行った。
【００３１】以下の（表１）に実施例２〜７における置
換基（Ｘ）、および記録感度、変調度（信号振幅）を示
す。
換基（Ｘ）、および記録感度、変調度（信号振幅）を示
す。
【表１】 結果として、７８０ｎｍ半導体レーザーによる記録・再
生特性は、実施例１と遜色ないものであった。
生特性は、実施例１と遜色ないものであった。
【００３２】なお、一般式化（化３）において、Ａは
Ｏ、Ｓ、またＲ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方とも環
構造を有している場合、または、有していない場合は同
一あるいは異種の低級アルキル基、Ｒ6はアルキル基、
アルコシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3
ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、
−ＣＯＰｈ、ＹはＳなどの構造を有するスチリル系色素
の合成を行い、同様に検討を行った。置換基などの違い
により、色素の光吸収ピークを数ｎｍから数十ｎｍの範
囲で制御することが可能となるため、高密度、高コント
ラストの光記録媒体とするためには、記録・再生に用い
る半導体レーザーの波長に適合した置換基を選ぶことが
必要である。
Ｏ、Ｓ、またＲ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方とも環
構造を有している場合、または、有していない場合は同
一あるいは異種の低級アルキル基、Ｒ6はアルキル基、
アルコシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3
ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、
−ＣＯＰｈ、ＹはＳなどの構造を有するスチリル系色素
の合成を行い、同様に検討を行った。置換基などの違い
により、色素の光吸収ピークを数ｎｍから数十ｎｍの範
囲で制御することが可能となるため、高密度、高コント
ラストの光記録媒体とするためには、記録・再生に用い
る半導体レーザーの波長に適合した置換基を選ぶことが
必要である。
【００３３】（実施例８）実施例８においては、実施例
１における（化５）の色素のみを蒸着法により製膜を行
った後、塩酸ガス雰囲気中の処理を行って色素を十分に
発色した状態を作り、その後、反射膜、保護膜を形成し
て、光記録媒体を作製した。（化５）の構造でアニオン
性化合物のない状態であると、光吸収ピークは４００ｎ
ｍ以下にあり、６００ｎｍ以上の波長域ではほとんど光
吸収がなく、７８０ｎｍの半導体レーザには感度を有さ
ない。
１における（化５）の色素のみを蒸着法により製膜を行
った後、塩酸ガス雰囲気中の処理を行って色素を十分に
発色した状態を作り、その後、反射膜、保護膜を形成し
て、光記録媒体を作製した。（化５）の構造でアニオン
性化合物のない状態であると、光吸収ピークは４００ｎ
ｍ以下にあり、６００ｎｍ以上の波長域ではほとんど光
吸収がなく、７８０ｎｍの半導体レーザには感度を有さ
ない。
【００３４】このようにして作製した光記録媒体につい
て、７８０ｎｍの半導体レーザーにより記録速度１．５
ｍ／ｓ、記録感度８ｍＷで書き込みを行い、その後、同
様に、７８０ｎｍの半導体レーザーにより再生速度１．
５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。このときの
未記録部分の反射率は７０％、１１Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は
４３ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は３７ｄＢであった。
て、７８０ｎｍの半導体レーザーにより記録速度１．５
ｍ／ｓ、記録感度８ｍＷで書き込みを行い、その後、同
様に、７８０ｎｍの半導体レーザーにより再生速度１．
５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。このときの
未記録部分の反射率は７０％、１１Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は
４３ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は３７ｄＢであった。
【００３５】このように、上記色素を記録層に用いた場
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好であった。
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好であった。
【００３６】（実施例９〜１４）実施例９〜１４におい
ては、（化５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、
ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以
外は、実施例８と同様にして作製し、記録・再生特性の
評価を行った。
ては、（化５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、
ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以
外は、実施例８と同様にして作製し、記録・再生特性の
評価を行った。
【００３７】以下の（表２）に実施例９〜１４における
置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
【表２】
【００３８】（実施例１５）実施例１５における光記録
媒体の構成は、実施例１と同様にし、記録層の材料とし
ては、（化６）に示すようなスチリル系色素を用いた。
（化６）は、一般式（化４）のＺ2 がＣ2 Ｈ4 Ｏ、Ｒ3
は水素、Ｒ4 およびＲ5 はＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、Ａは
Ｃ（ＣＨ3 ）2 、Ｘは水素である。また、ＢはＢｒであ
る。この色素の光吸収ピークは５９０ｎｍにあり、７８
０ｎｍ半導体レーザの波長域には弱冠の吸収をもつもの
である。製膜は、スチリル系色素の３．０重量％フッ素
化アルコール溶液を５０００ｒｐｍでスピンコートし、
薄膜形成を行った。また、真空蒸着法によっても形成し
た。
媒体の構成は、実施例１と同様にし、記録層の材料とし
ては、（化６）に示すようなスチリル系色素を用いた。
（化６）は、一般式（化４）のＺ2 がＣ2 Ｈ4 Ｏ、Ｒ3
は水素、Ｒ4 およびＲ5 はＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、Ａは
Ｃ（ＣＨ3 ）2 、Ｘは水素である。また、ＢはＢｒであ
る。この色素の光吸収ピークは５９０ｎｍにあり、７８
０ｎｍ半導体レーザの波長域には弱冠の吸収をもつもの
である。製膜は、スチリル系色素の３．０重量％フッ素
化アルコール溶液を５０００ｒｐｍでスピンコートし、
薄膜形成を行った。また、真空蒸着法によっても形成し
た。
【化６】
【００３９】以上のように構成された追記型光記録媒体
について、７８０ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度７ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、７８０ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。スピ
ンコート膜は、未記録部分の反射率は７５％、１１Ｔ信
号Ｃ／Ｎ出力は４５ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は４０ｄ
Ｂであった。
について、７８０ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度７ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、７８０ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。スピ
ンコート膜は、未記録部分の反射率は７５％、１１Ｔ信
号Ｃ／Ｎ出力は４５ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は４０ｄ
Ｂであった。
【００４０】このように、スチリル系色素を記録層に用
いた場合、半導体レーザを用いた光記録媒体として、記
録、再生特性がが良好で、さらに、記録に要するレーザ
ー出力が小さく高感度であることがわかる。
いた場合、半導体レーザを用いた光記録媒体として、記
録、再生特性がが良好で、さらに、記録に要するレーザ
ー出力が小さく高感度であることがわかる。
【００４１】（実施例１６〜２１）実施例１６〜２１に
おいては、（化６）で示されるスチリル系色素のＸをＳ
０ 2 ＣＨ3 、ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに
変えたこと以外は、実施例１５と同様にして作製し、記
録・再生特性の評価を行った。
おいては、（化６）で示されるスチリル系色素のＸをＳ
０ 2 ＣＨ3 、ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに
変えたこと以外は、実施例１５と同様にして作製し、記
録・再生特性の評価を行った。
【００４２】以下の（表３）に実施例１６〜２１におけ
る置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
る置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
【表３】 結果として、７８０ｎｍ半導体レーザーによる記録・再
生特性は、実施例１５と遜色ないものであった。
生特性は、実施例１５と遜色ないものであった。
【００４３】なお、一般式（化４）において、ＡはＯ、
Ｓであってもよく、Ｒ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方
とも環構造を有している場合、または、有していない場
合は同一あるいは異種の低級アルキル基、Ｒ6 はアルキ
ル基、アルコシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−
ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ 2
Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、また、Ｚ2 はカーボン数が１から１
８のアルキレン基で間にＳまたは０を含んでいてもよ
く、Ｂはハロゲン、酸根、アルコキシアニオン等のアニ
オンなどの構造を有するスチリル系色素の合成を行い、
同様に検討を行った。置換基などの違いにより、色素の
光吸収ピークを数ｎｍから数十ｎｍの範囲で制御するこ
とが可能となるため、高密度、高コントラストの光記録
媒体とするためには、記録・再生に用いる半導体レーザ
ーの波長に適合した置換基を選ぶことが必要である。
Ｓであってもよく、Ｒ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方
とも環構造を有している場合、または、有していない場
合は同一あるいは異種の低級アルキル基、Ｒ6 はアルキ
ル基、アルコシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−
ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ 2
Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、また、Ｚ2 はカーボン数が１から１
８のアルキレン基で間にＳまたは０を含んでいてもよ
く、Ｂはハロゲン、酸根、アルコキシアニオン等のアニ
オンなどの構造を有するスチリル系色素の合成を行い、
同様に検討を行った。置換基などの違いにより、色素の
光吸収ピークを数ｎｍから数十ｎｍの範囲で制御するこ
とが可能となるため、高密度、高コントラストの光記録
媒体とするためには、記録・再生に用いる半導体レーザ
ーの波長に適合した置換基を選ぶことが必要である。
【００４４】
【発明の効果】以上のように本発明は、透明基板上に記
録層を有する光記録媒体において、記録層に、スチリル
系有機色素を含有する構成によって、低出力のレーザー
で記録が可能であり、高感度、高速記録に対応し、さら
に、保存安定性に優れた書き込み可能な追記型光記録媒
体が提供できる。また、スチリル系色素は容易に作成で
きるため、低コスト化、生産性に優れた追記型光記録媒
体が実現できる。
録層を有する光記録媒体において、記録層に、スチリル
系有機色素を含有する構成によって、低出力のレーザー
で記録が可能であり、高感度、高速記録に対応し、さら
に、保存安定性に優れた書き込み可能な追記型光記録媒
体が提供できる。また、スチリル系色素は容易に作成で
きるため、低コスト化、生産性に優れた追記型光記録媒
体が実現できる。
【図１】本発明に使用される追記型光記録媒体の構造を
示す概略断面図
示す概略断面図
１ 透明基板 ２ 有機記録層 ３ 反射層 ４ 保護層
フロントページの続き (72)発明者 山 本 佳 美 岡山県岡山市藤田錦564番176 株式会社日 本感光色素研究所内 (72)発明者 小 野 正 志 岡山県岡山市藤田錦564番176 株式会社日 本感光色素研究所内 (72)発明者 岡 崎 庸 樹 岡山県岡山市藤田錦564番176 株式会社日 本感光色素研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 透明な基板上に設けられた記録層を有す
る光記録媒体であって、記録層が、一般式（化１）から
なる色素材料、または一般式（化２）からなる色素材料
を少なくとも一種以上含有することを特徴とする光記録
媒体。 【化１】 【化２】 （化１）において、ＡはＯ、Ｓ、ＣＲ1 Ｒ2 のいずれか
を示し、Ｒ1 、Ｒ2 は同一、あるいは異種の低級アルキ
ル基、ハイドロオキシアルキル基、またはアルキレンの
途中にＯ、Ｓを含んでもよく、Ｒ1 、Ｒ2 で環構造を有
していてもよい。Ｒ3 は水素、低級アルキル基、または
ＣＮ基を表す。Ｒ4 、Ｒ5 は同一、あるいは異種の低級
アルキル基、またはアルキレンの途中にＯ、Ｓを含んで
もよく、末端にハロゲン基、−ＣＮ、−Ｓ０2 ＣＨ3 を
有していてもよく、いずれかあるいは両方とも環構造を
有していてもよく、Ｒ4 とＲ5 により環構造を形成して
いてもよい。さらには、次にあるＲ6といずれかあるい
は両方ともで環構造を有してもよい。Ｒ6 はアルキル
基、アルコキシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−
ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2
Ｐｈ、−ＣＯＰｈを表す。ＹはＯまたはＳを、Ｚ1 は−
Ｎ−Ｃ−Ｙ−とともに環構造を形成するに必要な炭素数
が２〜４のアルキレン基を、Ｘは水素、または−Ｓ０2
ＣＨ3 、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＯＣＨ3 、−ＳＯ2 Ｃ
Ｆ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、−Ｎ
Ｏ2 、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 、ハロゲン原子のいずれか
を表す。（化２）において、Ｚ2 はカーボン数が１から
１８のアルキレン基で、末端あるいは間にＳまたは０を
含んでいてもよい。Ｂはハロゲン、酸根、アルコキシア
ニオン等のアニオンを表す。 - 【請求項２】 透明な基板上に設けられた記録層を有す
る光記録媒体であって、記録層が、−ＣＮ、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＯ2 などの基を有する電
子アクセプター性の強い芳香族化合物と（化１）式に示
す色素との混合物からなることを特徴とする光記録媒
体。 - 【請求項３】 アクセプター性の化合物としてテトラシ
アノキノジメタン（ＴＣＮＱ）を用いることを特徴とす
る請求項２記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 透明な基板上に、２源以上の共蒸着法に
より記録層を形成することを特徴とする請求項１または
２または３記載の光記録媒体。 - 【請求項５】 光記録、再生を行う光源として、波長が
５００ｎｍから８００ｎｍ域内のレーザ光源を用いるこ
とを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の光記
録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9198813A JPH1134497A (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9198813A JPH1134497A (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1134497A true JPH1134497A (ja) | 1999-02-09 |
Family
ID=16397348
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9198813A Pending JPH1134497A (ja) | 1997-07-24 | 1997-07-24 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1134497A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1191526A2 (en) * | 2000-08-25 | 2002-03-27 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Optical recording media |
| WO2002086879A1 (de) * | 2001-03-28 | 2002-10-31 | Bayer Aktiengesellschaft | Optischer datenträger enthaltend in der informationsschicht einen hemicyaninfarbstoff als lichtabsorbierende verbindung |
| US7399319B2 (en) | 2005-07-22 | 2008-07-15 | L'oreal S.A. | Dyeing composition comprising a dye chosen from styryl and imine dyes and methods for dyeing keratin fibers |
| US7527654B2 (en) | 2006-10-13 | 2009-05-05 | L'oreal S.A. | Dyeing process using a dye of styryl or imine type in combination with a weak acid, and device for implementing the process |
| US7585332B2 (en) | 2006-10-13 | 2009-09-08 | L'oreal S.A. | Composition containing a styryl or imine type dye and a thiol compound, hair coloring process and device |
-
1997
- 1997-07-24 JP JP9198813A patent/JPH1134497A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1191526A2 (en) * | 2000-08-25 | 2002-03-27 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Optical recording media |
| EP1191526A3 (en) * | 2000-08-25 | 2002-04-17 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Optical recording media |
| EP1369861A3 (en) * | 2000-08-25 | 2003-12-17 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Optical recording media |
| WO2002086879A1 (de) * | 2001-03-28 | 2002-10-31 | Bayer Aktiengesellschaft | Optischer datenträger enthaltend in der informationsschicht einen hemicyaninfarbstoff als lichtabsorbierende verbindung |
| US7399319B2 (en) | 2005-07-22 | 2008-07-15 | L'oreal S.A. | Dyeing composition comprising a dye chosen from styryl and imine dyes and methods for dyeing keratin fibers |
| US7527654B2 (en) | 2006-10-13 | 2009-05-05 | L'oreal S.A. | Dyeing process using a dye of styryl or imine type in combination with a weak acid, and device for implementing the process |
| US7585332B2 (en) | 2006-10-13 | 2009-09-08 | L'oreal S.A. | Composition containing a styryl or imine type dye and a thiol compound, hair coloring process and device |
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