JPH1134489A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
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- JPH1134489A JPH1134489A JP9189595A JP18959597A JPH1134489A JP H1134489 A JPH1134489 A JP H1134489A JP 9189595 A JP9189595 A JP 9189595A JP 18959597 A JP18959597 A JP 18959597A JP H1134489 A JPH1134489 A JP H1134489A
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- JP
- Japan
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- Pending
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は光産業分野において利用される光記
録媒体に関し、高感度、高速記録、高出力、更に安定性
に優れた追記型高密度光記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に記録層２、反射層３およ
び保護層４を有し、半導体レーザー光が透明基板１を通
して入射し、情報の記録、再生を行う光記録媒体であっ
て、記録層２がスチリル系色素を主体として構成される
高密度光記録媒体。
録媒体に関し、高感度、高速記録、高出力、更に安定性
に優れた追記型高密度光記録媒体を提供する。 【解決手段】 透明基板１上に記録層２、反射層３およ
び保護層４を有し、半導体レーザー光が透明基板１を通
して入射し、情報の記録、再生を行う光記録媒体であっ
て、記録層２がスチリル系色素を主体として構成される
高密度光記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザー光により情報
を記録、再生する追記型光記録媒体に関する。
を記録、再生する追記型光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザー光により情報を再生する光記録
媒体は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭと呼ばれ音楽再生用、コン
ピュター用と現在、広く普及してきている。これらのデ
ィスク構造は、厚さ１．２ｍｍの透明基板の片側に凹凸
情報ピット列を設け、その上からアルミ、金等の反射膜
をスパッタ法あるいは蒸着法により設け、さらに保護膜
をコートして作製されている。また、これらの光ディス
クは、７８０ｎｍの半導体レーザー光を透明基板を通し
て入射し、ピットの凹凸による反射率の変化から信号を
読みとり、情報を再生している。
媒体は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭと呼ばれ音楽再生用、コン
ピュター用と現在、広く普及してきている。これらのデ
ィスク構造は、厚さ１．２ｍｍの透明基板の片側に凹凸
情報ピット列を設け、その上からアルミ、金等の反射膜
をスパッタ法あるいは蒸着法により設け、さらに保護膜
をコートして作製されている。また、これらの光ディス
クは、７８０ｎｍの半導体レーザー光を透明基板を通し
て入射し、ピットの凹凸による反射率の変化から信号を
読みとり、情報を再生している。
【０００３】しかし、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭは再生専用メ
ディアであり、編集機能を持たない。そこで、記録可能
な光ディスクとしてＣＤ−Ｒ（一度だけ記録可能）、Ｐ
Ｄ（書き換え可能型）が開発され、実用化されている。
ＣＤ−Ｒ、ＰＤは編集機能の他に先に述べたＣＤ−ＲＯ
Ｍとの互換性（再生機能）をもっている。このような光
ディスクにはテルル等のカルコゲナイト系化合物、希土
類金属化合物、シアニン系、ナフタロシアニン系、フタ
ロシアニン系等の有機化合物を記録層としたものが用い
られている。
ディアであり、編集機能を持たない。そこで、記録可能
な光ディスクとしてＣＤ−Ｒ（一度だけ記録可能）、Ｐ
Ｄ（書き換え可能型）が開発され、実用化されている。
ＣＤ−Ｒ、ＰＤは編集機能の他に先に述べたＣＤ−ＲＯ
Ｍとの互換性（再生機能）をもっている。このような光
ディスクにはテルル等のカルコゲナイト系化合物、希土
類金属化合物、シアニン系、ナフタロシアニン系、フタ
ロシアニン系等の有機化合物を記録層としたものが用い
られている。
【０００４】ＣＤ−Ｒは記録膜の微小面積にレーザー光
を集光させ、それを熱エルギーに変換し、記録膜の性状
を変える。レーザー光の出力としては、通常は書き込み
用と読みとり用は異なり、読みとり用のレーザー光の出
力は書き込み用と比較して弱いものが用いられる。ま
た、記録部分と未記録部分とのコントラストは最終的に
は電気信号として読みとられる。光学的には反射率の変
化がコントラストに反映される。
を集光させ、それを熱エルギーに変換し、記録膜の性状
を変える。レーザー光の出力としては、通常は書き込み
用と読みとり用は異なり、読みとり用のレーザー光の出
力は書き込み用と比較して弱いものが用いられる。ま
た、記録部分と未記録部分とのコントラストは最終的に
は電気信号として読みとられる。光学的には反射率の変
化がコントラストに反映される。
【０００５】最近は、さらに高密度の光記録媒体の開発
が活発に進んでいる。この高密度光記録媒体の大きな特
徴は、レーザー光の波長を６００〜６８０ｎｍにし、ト
ラックピッチの間隔、長さを短縮化することで記録密度
を向上させ、現行ＣＤ−ＲＯＭ（６５０Ｍバイト）の５
〜１０倍の３〜１０Ｇバイトのデジタルデータを扱える
ようになり、次世代の光記録媒体として非常に注目を集
めており、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭとして実用化されて
いる。しかしながら、現在の規格では、この高密度光記
録媒体も再生専用であり、編集機能をもたないものであ
る。
が活発に進んでいる。この高密度光記録媒体の大きな特
徴は、レーザー光の波長を６００〜６８０ｎｍにし、ト
ラックピッチの間隔、長さを短縮化することで記録密度
を向上させ、現行ＣＤ−ＲＯＭ（６５０Ｍバイト）の５
〜１０倍の３〜１０Ｇバイトのデジタルデータを扱える
ようになり、次世代の光記録媒体として非常に注目を集
めており、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭとして実用化されて
いる。しかしながら、現在の規格では、この高密度光記
録媒体も再生専用であり、編集機能をもたないものであ
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】そこで、この高密度光
記録媒体においても編集機能をもち、すでに普及し始め
ているＤＶＤ再生装置と完全互換を有し、さらに高感
度、保存安定性に優れた書き込み可能な追記型高密度光
記録媒体（以下ＤＶＤ−Ｒと称す）の要望が高まってい
る。
記録媒体においても編集機能をもち、すでに普及し始め
ているＤＶＤ再生装置と完全互換を有し、さらに高感
度、保存安定性に優れた書き込み可能な追記型高密度光
記録媒体（以下ＤＶＤ−Ｒと称す）の要望が高まってい
る。
【０００７】特開平０６−２９５４６９号公報記載の記
録媒体では、繰り返し再生による読み出し破壊を防ぐた
めに、再生光波長より短波長の光で情報の記録を行う方
式を提案しているが、実際には記録用レーザー光および
再生用レーザー光の波長はコスト等を考えると同一のも
のが望ましい。
録媒体では、繰り返し再生による読み出し破壊を防ぐた
めに、再生光波長より短波長の光で情報の記録を行う方
式を提案しているが、実際には記録用レーザー光および
再生用レーザー光の波長はコスト等を考えると同一のも
のが望ましい。
【０００８】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、近年、開発された半導体レーザーに対応した追記型
高密度光記録媒体を提供することを目的とする。
で、近年、開発された半導体レーザーに対応した追記型
高密度光記録媒体を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明の光記録媒体は、透明基板上に光学的に情報
を記録する記録層が形成されてなり、この記録層は、
（化３）または（化４）で示されるスチリル系色素を少
なくとも一種以上を含有する層からなることを特徴とす
るものである。さらに、詳しくは、この材料を用いて高
性能な光記録媒体とするためには、構成材料となるアニ
オン性の材料の選択、製膜法及び条件の選択、レーザー
光波長との適合化を図るものである。
に、本発明の光記録媒体は、透明基板上に光学的に情報
を記録する記録層が形成されてなり、この記録層は、
（化３）または（化４）で示されるスチリル系色素を少
なくとも一種以上を含有する層からなることを特徴とす
るものである。さらに、詳しくは、この材料を用いて高
性能な光記録媒体とするためには、構成材料となるアニ
オン性の材料の選択、製膜法及び条件の選択、レーザー
光波長との適合化を図るものである。
【化３】
【化４】
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、透明な基板上に設けられた記録層を有する光記録媒
体であって、記録層が、一般式（化３）からなる色素材
料、または一般式（化４）からなる色素材料を少なくと
も一種以上含有することを特徴とする光記録媒体であ
る。
は、透明な基板上に設けられた記録層を有する光記録媒
体であって、記録層が、一般式（化３）からなる色素材
料、または一般式（化４）からなる色素材料を少なくと
も一種以上含有することを特徴とする光記録媒体であ
る。
【００１１】（化３）において、ＡはＯ、Ｓ、ＣＲ1 Ｒ
2 のいずれかを示し、Ｒ1 、Ｒ2 は同一、あるいは異種
の低級アルキル基、ハイドロオキシアルキル基、または
アルキレンの途中にＯ、Ｓを含んでもよく、Ｒ1 、Ｒ2
で環構造を有していてもよい。Ｒ3 は水素、低級アルキ
ル基、またはＣＮ基、Ｒ4 、Ｒ5 は同一、あるいは異種
の低級アルキル基、ハイドロオキシアルキル基、または
アルキレンの途中にＯ、Ｓを含んでもよく、いずれかあ
るいは両方ともで環構造を有してもよい。更には、次に
あるＲ6 といずれかあるいは両方ともで環構造を有して
もよい。Ｒ6 はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 Ｃ
Ｆ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、Ｙは
ＯまたはＳ、Ｚ 1 は−Ｎ−Ｃ−Ｙ−とともに環構造を形
成するに必要な炭素数が２〜４のアルキレン基を、Ｘは
水素、または、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＯＣＨ3 、−Ｓ
Ｏ2 ＣＦ 3 、−Ｓ０2 ＣＨ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2
Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、−ＮＯ2 、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 、
ハロゲン原子のいずれかを表す。
2 のいずれかを示し、Ｒ1 、Ｒ2 は同一、あるいは異種
の低級アルキル基、ハイドロオキシアルキル基、または
アルキレンの途中にＯ、Ｓを含んでもよく、Ｒ1 、Ｒ2
で環構造を有していてもよい。Ｒ3 は水素、低級アルキ
ル基、またはＣＮ基、Ｒ4 、Ｒ5 は同一、あるいは異種
の低級アルキル基、ハイドロオキシアルキル基、または
アルキレンの途中にＯ、Ｓを含んでもよく、いずれかあ
るいは両方ともで環構造を有してもよい。更には、次に
あるＲ6 といずれかあるいは両方ともで環構造を有して
もよい。Ｒ6 はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 Ｃ
Ｆ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、Ｙは
ＯまたはＳ、Ｚ 1 は−Ｎ−Ｃ−Ｙ−とともに環構造を形
成するに必要な炭素数が２〜４のアルキレン基を、Ｘは
水素、または、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＯＣＨ3 、−Ｓ
Ｏ2 ＣＦ 3 、−Ｓ０2 ＣＨ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2
Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、−ＮＯ2 、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 、
ハロゲン原子のいずれかを表す。
【００１２】（化４）において、Ｚ2 はカーボン数が１
から１８のアルキレン基で、末端あるいは間にＳまたは
０を含んでいてもよい。Ｂはハロゲン、酸根、アルコキ
シアニオン等のアニオンを表すものであり、レーザー光
による高密度な書き込み可能な光記録媒体が実現できる
という作用を有する。
から１８のアルキレン基で、末端あるいは間にＳまたは
０を含んでいてもよい。Ｂはハロゲン、酸根、アルコキ
シアニオン等のアニオンを表すものであり、レーザー光
による高密度な書き込み可能な光記録媒体が実現できる
という作用を有する。
【００１３】請求項２に記載の発明は、透明な基板上に
設けられた記録層を有する光記録媒体であって、記録層
が、−ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＯ
2 などの基を有する電子アクセプター性の強い芳香族化
合物と（化３）式に示す色素との混合物からなることを
特徴とする光記録媒体であり、レーザー光による高密度
な書き込み可能な光記録媒体が実現できるという作用を
有する。
設けられた記録層を有する光記録媒体であって、記録層
が、−ＣＮ、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＯ
2 などの基を有する電子アクセプター性の強い芳香族化
合物と（化３）式に示す色素との混合物からなることを
特徴とする光記録媒体であり、レーザー光による高密度
な書き込み可能な光記録媒体が実現できるという作用を
有する。
【００１４】請求項３に記載の発明は、アクセプター性
の化合物としてテトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）
を用いることを特徴とする請求項２記載の光記録媒体で
あり、レーザー光による高密度な書き込み可能な光記録
媒体が実現できるという作用を有する。
の化合物としてテトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）
を用いることを特徴とする請求項２記載の光記録媒体で
あり、レーザー光による高密度な書き込み可能な光記録
媒体が実現できるという作用を有する。
【００１５】請求項４に記載の発明は、透明な基板上
に、２源以上の共蒸着法により記録層を形成することを
特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒
体で、レーザー光による高密度な書き込み可能な光記録
媒体が実現できるという作用を有する。
に、２源以上の共蒸着法により記録層を形成することを
特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の光記録媒
体で、レーザー光による高密度な書き込み可能な光記録
媒体が実現できるという作用を有する。
【００１６】請求項５に記載の発明は、上記の光記録媒
体の光記録、再生を行う光源として波長が４００ｎｍか
ら６８０ｎｍ域内のレーザ光源を用いることを特徴とす
る請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体であ
り、レーザー光による高密度な書き込み可能な光記録媒
体が実現できるという作用を有する。
体の光記録、再生を行う光源として波長が４００ｎｍか
ら６８０ｎｍ域内のレーザ光源を用いることを特徴とす
る請求項１から４のいずれかに記載の光記録媒体であ
り、レーザー光による高密度な書き込み可能な光記録媒
体が実現できるという作用を有する。
【００１７】本発明が適用される光記録媒体は、透明基
板上に記録層をスピナーなどを用いた塗布法あるいは蒸
着法により製膜し、その上に反射層および保護層を順次
形成したものからなる。透明基板としては樹脂が用いら
れ、光学特性としては、４００〜８００ｎｍの範囲で高
い透過率を示すものであれば、原理上材質は問わない。
透過率は８０％以上が望ましく、９０％以上あればさら
に好ましい。本発明に有効な基板材質としては、ガラ
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル樹脂等からな
る基板が挙げられる。最近はポリカーボオネートが一般
に用いられている。
板上に記録層をスピナーなどを用いた塗布法あるいは蒸
着法により製膜し、その上に反射層および保護層を順次
形成したものからなる。透明基板としては樹脂が用いら
れ、光学特性としては、４００〜８００ｎｍの範囲で高
い透過率を示すものであれば、原理上材質は問わない。
透過率は８０％以上が望ましく、９０％以上あればさら
に好ましい。本発明に有効な基板材質としては、ガラ
ス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル樹脂等からな
る基板が挙げられる。最近はポリカーボオネートが一般
に用いられている。
【００１８】記録層の製膜方法は、ドライプロセスで
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法など、ウェッ
トプロセスでは、スピンコート法によって通常は薄膜形
成が行われる。
は、真空蒸着法、イオンプレーティング法など、ウェッ
トプロセスでは、スピンコート法によって通常は薄膜形
成が行われる。
【００１９】まず、スピンコート法の例を示す。有機色
素を溶剤に溶解し、透明基板を回転させつつ色素溶液を
滴下して記録層を形成すればよく、色素溶液は０．５〜
５重量％の色素濃度に調整されていることが望ましい。
素を溶剤に溶解し、透明基板を回転させつつ色素溶液を
滴下して記録層を形成すればよく、色素溶液は０．５〜
５重量％の色素濃度に調整されていることが望ましい。
【００２０】この色素溶液を作成する溶媒は、色素を溶
解し透明基板に無害であれば使用可能であるが、溶媒と
してはメチルアルコール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラフルオロアルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シク
ロヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエ
タン、四塩化炭素、メトキシエタノール、エトキシエタ
ノール、アセトニトリル、トリエチルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、色素
溶解性、作業性、基板への影響、経済性を考慮して決定
される。
解し透明基板に無害であれば使用可能であるが、溶媒と
してはメチルアルコール、エタノール、プロパノール、
ブタノール、テトラフルオロアルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、ジエチルエーテル、ジプロピルエー
テル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シク
ロヘキサン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエ
タン、四塩化炭素、メトキシエタノール、エトキシエタ
ノール、アセトニトリル、トリエチルアミン、ジプロピ
ルアミン、ジメチルホルムアミドなどが挙げられ、色素
溶解性、作業性、基板への影響、経済性を考慮して決定
される。
【００２１】さらに、有機溶媒に色素を溶解して色素溶
液を作成する際に、光安定剤、酸化防止剤が含まれてい
てもよく、光安定剤としては、一重項酸素クエンチャー
である金属錯体やジイモニュウム塩、ヒンダードアミン
化合物、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール化合
物、ベンゾフェノン化合物、酸化防止剤としては、一次
酸化防止剤としてフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、そして２次の酸化防止剤としては、有機イオ
ウ系２次酸化防止剤、リン系２次酸化防止剤等が挙げら
れる。なお、これら光安定剤、酸化防止剤は、単独もし
くは複合して配合してもよく、添加量は、色素重量１０
０部に対して添加剤を０．１〜２００部程度が好まし
い。
液を作成する際に、光安定剤、酸化防止剤が含まれてい
てもよく、光安定剤としては、一重項酸素クエンチャー
である金属錯体やジイモニュウム塩、ヒンダードアミン
化合物、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール化合
物、ベンゾフェノン化合物、酸化防止剤としては、一次
酸化防止剤としてフェノール系酸化防止剤、アミン系酸
化防止剤、そして２次の酸化防止剤としては、有機イオ
ウ系２次酸化防止剤、リン系２次酸化防止剤等が挙げら
れる。なお、これら光安定剤、酸化防止剤は、単独もし
くは複合して配合してもよく、添加量は、色素重量１０
０部に対して添加剤を０．１〜２００部程度が好まし
い。
【００２２】また、色素溶液に結着剤として樹脂を添加
してもよく、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫
酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・
プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどの
セルロースエステル類、メチルセルロース、エチルセル
ロース、プロピルセルロース、ブチルセルロースなどの
セルロースエーテル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドンなどのビニル樹脂類、スチレン−ブタジェンコポ
リマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、スチ
レン−ブタジェン−アクリロニトリルコポリマー、塩化
ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの共重合樹脂類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリアクリルニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポ
リオレフィン類などを用いることができ、これらの樹脂
類は、色素重量１００部に対し１〜１０００部の範囲に
わたって添加することができる。
してもよく、ニトロセルロース、リン酸セルロース、硫
酸セルロース、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、パルミチン酸セルロース、酢酸・
プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セルロースなどの
セルロースエステル類、メチルセルロース、エチルセル
ロース、プロピルセルロース、ブチルセルロースなどの
セルロースエーテル類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドンなどのビニル樹脂類、スチレン−ブタジェンコポ
リマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、スチ
レン−ブタジェン−アクリロニトリルコポリマー、塩化
ビニル−酢酸ビニルコポリマーなどの共重合樹脂類、ポ
リメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリアクリルニトリルなどのアクリル樹脂類、ポリ
エチレンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンなどのポ
リオレフィン類などを用いることができ、これらの樹脂
類は、色素重量１００部に対し１〜１０００部の範囲に
わたって添加することができる。
【００２３】そして、スピンコート法によって記録層を
形成するには、回転数と回転時間で所望の膜厚に調整す
ればよく、塗布条件は、色素溶液粘度、色素濃度などを
考慮して決定する。
形成するには、回転数と回転時間で所望の膜厚に調整す
ればよく、塗布条件は、色素溶液粘度、色素濃度などを
考慮して決定する。
【００２４】また、記録層は、５０〜４００ｎｍの範囲
に設定されることが望ましいから、回転数１０００〜５
０００ｒｐｍ程度で記録層の所望膜厚となるように、色
素溶液の濃度と粘度を調整する必要がある。
に設定されることが望ましいから、回転数１０００〜５
０００ｒｐｍ程度で記録層の所望膜厚となるように、色
素溶液の濃度と粘度を調整する必要がある。
【００２５】一方、蒸着法で記録層を形成する場合に
は、１０-2Ｐａ以下の真空度で蒸着されることが望まし
い。また、蒸着可能な光安定剤、酸化防止剤等の添加剤
と記録層色素とを所定量混合して一つの熱源で蒸着して
もよく、添加剤と色素を別々の熱源で蒸着してもよい。
なお、光安定剤、酸化防止剤などは前述した光安定剤や
酸化防止剤の化合物から選択される。
は、１０-2Ｐａ以下の真空度で蒸着されることが望まし
い。また、蒸着可能な光安定剤、酸化防止剤等の添加剤
と記録層色素とを所定量混合して一つの熱源で蒸着して
もよく、添加剤と色素を別々の熱源で蒸着してもよい。
なお、光安定剤、酸化防止剤などは前述した光安定剤や
酸化防止剤の化合物から選択される。
【００２６】反射層は使用する光源に対して反射率の高
い材料を用いる。使用する材料としては、金、銀、銅、
白金、アルミニウム、コバルト、錫、ニッケル等の金属
が好ましく、これらを単独または合金として使用できる
ことができる。これらの反射層の膜厚は２０〜２００ｎ
ｍが望ましく、形成法としてはスパッタ法、真空蒸着法
により形成される。また、反射層は、これら金属に限ら
れるものではなく有機系の高反射膜を使用することも可
能である。 保護層は記録層または反射層に対する傷や
汚れの保護や保存安定性のために設けられ無機材料とし
てはＳｉＯやＳｉＯ2 などが使用できる。有機材料では
ポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ
樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、
セルロース、脂肪族系炭化水素樹脂系、天然ゴム、ワッ
クス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、
熱溶融樹脂も用いることができる。前記保護層には必要
に応じ、難燃剤、安定剤、帯電防止剤などを添加するこ
とができる。保護膜としては、熱硬化性や光硬化性樹脂
が用いられる。
い材料を用いる。使用する材料としては、金、銀、銅、
白金、アルミニウム、コバルト、錫、ニッケル等の金属
が好ましく、これらを単独または合金として使用できる
ことができる。これらの反射層の膜厚は２０〜２００ｎ
ｍが望ましく、形成法としてはスパッタ法、真空蒸着法
により形成される。また、反射層は、これら金属に限ら
れるものではなく有機系の高反射膜を使用することも可
能である。 保護層は記録層または反射層に対する傷や
汚れの保護や保存安定性のために設けられ無機材料とし
てはＳｉＯやＳｉＯ2 などが使用できる。有機材料では
ポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エポキシ
樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル樹脂、
セルロース、脂肪族系炭化水素樹脂系、天然ゴム、ワッ
クス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、
熱溶融樹脂も用いることができる。前記保護層には必要
に応じ、難燃剤、安定剤、帯電防止剤などを添加するこ
とができる。保護膜としては、熱硬化性や光硬化性樹脂
が用いられる。
【００２７】案内溝の形状については、特に制限はない
が、平均溝幅は０．３〜０．８ミクロン、また、溝深さ
は７０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。この光記録媒体
では、透明基板を通して記録層２にレーザー光を照射
し、このときに発生する熱によりピットを形成する、ヒ
ートモード方式により記録が行われる。
が、平均溝幅は０．３〜０．８ミクロン、また、溝深さ
は７０〜２００ｎｍの範囲が好ましい。この光記録媒体
では、透明基板を通して記録層２にレーザー光を照射
し、このときに発生する熱によりピットを形成する、ヒ
ートモード方式により記録が行われる。
【００２８】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。図１は本実施例
における追記型光記録媒体の断面図を示す。１は基板、
２は基板上に設けられた記録層、３は記録層上に設けら
れた反射層、４は反射層上に設けられた保護層である。
この基板１は、ポリカーボネート製の円盤状の透明基板
を用い、厚さ０．６ｍｍ、トラックピッチ０．７４μ
ｍ、溝幅０．３μｍ、溝深さ７６ｎｍの形状に射出成形
したものである。この基板１の上部に有機記録層２を形
成し、さらに記録層２の上部に反射層３として銀をスパ
ッター法で作製し、最後にＵＶ硬化樹脂で保護層４を形
成した。
明はこれらに限定されるものではない。図１は本実施例
における追記型光記録媒体の断面図を示す。１は基板、
２は基板上に設けられた記録層、３は記録層上に設けら
れた反射層、４は反射層上に設けられた保護層である。
この基板１は、ポリカーボネート製の円盤状の透明基板
を用い、厚さ０．６ｍｍ、トラックピッチ０．７４μ
ｍ、溝幅０．３μｍ、溝深さ７６ｎｍの形状に射出成形
したものである。この基板１の上部に有機記録層２を形
成し、さらに記録層２の上部に反射層３として銀をスパ
ッター法で作製し、最後にＵＶ硬化樹脂で保護層４を形
成した。
【００２９】（実施例１）記録層２の材料としては、
（化５）に示すようなスチリル系色素を用い、アニオン
性化合物としては、ＴＣＮＱを用いた。（化５）は、一
般式（化３）のＹがＯ、Ｚ1 がＣ2 Ｈ4 、Ｒ3 は水素、
Ｒ4 およびＲ5 はＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、ＡはＣ（ＣＨ
3 ）2 、ＸはＳＯ2 ＣＨ3 である。記録層２の製膜は真
空蒸着法を用い、２源で同時蒸着法により形成した。こ
れは、一般に、ＴＣＮＱは溶剤に対する溶解性が低いた
め、通常のスピンコート法では製膜が困難であると推察
されるからである。また、ＴＣＮＱ量が少ないと色素の
発色濃度が低くなり記録感度等に影響を及ぼす可能性が
あるため、ＴＣＮＱの量は色素のモル数に対して等モル
以上は含有されるようにした。なお、このときの蒸着条
件は、基板温度は室温、真空度４×１０-4Ｐａ、蒸着速
度０．１ｎｍ／ｓであった。得られた有機薄膜の膜厚
は、ＳＬＯＡＮ社製、ＤＥＫＴＡＫ3 ＳＴを用いて計
測し、更に、薄膜有機の吸収スペクトルは日立製作所製
分光光度計（Ｕ−４０００）を用いて測定を行った。こ
の記録層の光吸収ピークは５４０ｎｍにあり、６３５ｎ
ｍの半導体レーザーの波長域には弱冠の吸収をもつもの
である。
（化５）に示すようなスチリル系色素を用い、アニオン
性化合物としては、ＴＣＮＱを用いた。（化５）は、一
般式（化３）のＹがＯ、Ｚ1 がＣ2 Ｈ4 、Ｒ3 は水素、
Ｒ4 およびＲ5 はＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、ＡはＣ（ＣＨ
3 ）2 、ＸはＳＯ2 ＣＨ3 である。記録層２の製膜は真
空蒸着法を用い、２源で同時蒸着法により形成した。こ
れは、一般に、ＴＣＮＱは溶剤に対する溶解性が低いた
め、通常のスピンコート法では製膜が困難であると推察
されるからである。また、ＴＣＮＱ量が少ないと色素の
発色濃度が低くなり記録感度等に影響を及ぼす可能性が
あるため、ＴＣＮＱの量は色素のモル数に対して等モル
以上は含有されるようにした。なお、このときの蒸着条
件は、基板温度は室温、真空度４×１０-4Ｐａ、蒸着速
度０．１ｎｍ／ｓであった。得られた有機薄膜の膜厚
は、ＳＬＯＡＮ社製、ＤＥＫＴＡＫ3 ＳＴを用いて計
測し、更に、薄膜有機の吸収スペクトルは日立製作所製
分光光度計（Ｕ−４０００）を用いて測定を行った。こ
の記録層の光吸収ピークは５４０ｎｍにあり、６３５ｎ
ｍの半導体レーザーの波長域には弱冠の吸収をもつもの
である。
【化５】
【００３０】以上のように構成された追記型光記録媒体
について、６３５ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度５ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、６３５ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読み取りを行った。この
ときの未記録部分の反射率は５０％、１４Ｔ信号Ｃ／Ｎ
出力は４６ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は４０ｄＢであっ
た。
について、６３５ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度５ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、６３５ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読み取りを行った。この
ときの未記録部分の反射率は５０％、１４Ｔ信号Ｃ／Ｎ
出力は４６ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は４０ｄＢであっ
た。
【００３１】また、本発明の記録層の光吸収は４００ｎ
ｍ〜６８０ｎｍ域にあるため、この波長領域での光記録
が可能であるということは容易に類推でき、本発明に用
いる半導体レーザー光は４００〜６８０ｎｍ域であれば
特に制限はない。
ｍ〜６８０ｎｍ域にあるため、この波長領域での光記録
が可能であるということは容易に類推でき、本発明に用
いる半導体レーザー光は４００〜６８０ｎｍ域であれば
特に制限はない。
【００３２】このように前記色素を記録層に用いた場
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好で、更に、記録に要するレーザー出力が
小さく高感度であることがわかる。
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好で、更に、記録に要するレーザー出力が
小さく高感度であることがわかる。
【００３３】（実施例２〜７）実施例１において、（化
５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、ＣＮ、ＮＯ
2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以外は実施例
１と同様にし、光ディスク特性の評価を行った。
５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、ＣＮ、ＮＯ
2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以外は実施例
１と同様にし、光ディスク特性の評価を行った。
【００３４】以下の（表１）に実施例２〜７における置
換基（Ｘ）、および記録感度、変調度（信号振幅）を示
す。
換基（Ｘ）、および記録感度、変調度（信号振幅）を示
す。
【表１】 結果としては、６３５ｎｍ半導体レーザーによる記録・
再生特性は、実施の形態１と遜色ないもであった。
再生特性は、実施の形態１と遜色ないもであった。
【００３５】なお、一般式（化３）において、ＡはＯ、
ＳまたＲ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方とも環構造を
有している場合、または、有していない場合は同一ある
いは異種の低級アルキル基あるいはハイドロオキシアル
キルキル基、Ｒ6 はアルキル基、アルコシ基、ハロゲン
基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 Ｃ
Ｆ 3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、Ｙは
Ｓなどの構造を有するスチリル系色素の合成を行い、同
様に検討を行った。置換基などの違いにより、色素の光
吸収ピークを数ｎｍから数十ｎｍの範囲で制御すること
が可能となるため、高密度、高コントラストの光記録媒
体とするためには、記録・再生に用いる半導体レーザー
の波長に適合した置換基を選ぶことが必要である。
ＳまたＲ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方とも環構造を
有している場合、または、有していない場合は同一ある
いは異種の低級アルキル基あるいはハイドロオキシアル
キルキル基、Ｒ6 はアルキル基、アルコシ基、ハロゲン
基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 Ｃ
Ｆ 3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、Ｙは
Ｓなどの構造を有するスチリル系色素の合成を行い、同
様に検討を行った。置換基などの違いにより、色素の光
吸収ピークを数ｎｍから数十ｎｍの範囲で制御すること
が可能となるため、高密度、高コントラストの光記録媒
体とするためには、記録・再生に用いる半導体レーザー
の波長に適合した置換基を選ぶことが必要である。
【００３６】（実施例８）実施例１において、（化５）
の色素のみを蒸着法、あるいはスピンコート法により製
膜を行った後、塩酸ガス雰囲気中の処理を行って色素を
十分に発色した状態をつくった後、反射膜、保護膜を形
成して、光記録媒体を作製した。（化５）の構造でアニ
オン性化合物のない状態であると光吸収ピークは４００
ｎｍ以下にあり、６００ｎｍ以上の波長域ではほとんど
光吸収がなく、６００〜６８０ｎｍ域の半導体レーザに
は感度を有さない。
の色素のみを蒸着法、あるいはスピンコート法により製
膜を行った後、塩酸ガス雰囲気中の処理を行って色素を
十分に発色した状態をつくった後、反射膜、保護膜を形
成して、光記録媒体を作製した。（化５）の構造でアニ
オン性化合物のない状態であると光吸収ピークは４００
ｎｍ以下にあり、６００ｎｍ以上の波長域ではほとんど
光吸収がなく、６００〜６８０ｎｍ域の半導体レーザに
は感度を有さない。
【００３７】このようにして作製した光記録媒体につい
て、６３５ｎｍの半導体レーザーにより記録速度１．５
ｍ／ｓ、記録感度５ｍＷで書き込みを行い、その後、同
様に、６３５ｎｍの半導体レーザーにより再生速度１．
５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。このときの
未記録部分の反射率は４８％、１４Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は
４５ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は３８ｄＢであった。
て、６３５ｎｍの半導体レーザーにより記録速度１．５
ｍ／ｓ、記録感度５ｍＷで書き込みを行い、その後、同
様に、６３５ｎｍの半導体レーザーにより再生速度１．
５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読みとりを行った。このときの
未記録部分の反射率は４８％、１４Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は
４５ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は３８ｄＢであった。
【００３８】このように前記色素を記録層に用いた場
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好であった。
合、半導体レーザーを用いた光記録媒体として、記録、
再生特性が良好であった。
【００３９】（実施例９〜１４）実施例８において、
（化５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、ＣＮ、
ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以外は実
施例８と同様にし、記録・再生特性の評価を行った。
（化５）で示されるスチリル系色素のＸを、Ｈ、ＣＮ、
ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えたこと以外は実
施例８と同様にし、記録・再生特性の評価を行った。
【００４０】以下の（表２）に実施例９〜１４における
置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
【表２】
【００４１】（実施例１５）光記録媒体の構成は実施例
１と同様にし、記録層の材料としては（化６）に示すよ
うなスチリル系色素を用いた。（化６）は、一般式（化
４）のＺ2 がＣ4 Ｈ 8 、Ｒ3 は水素、Ｒ4 およびＲ5 は
ＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、ＡはＣ（ＣＨ3 ）2、Ｘは水素
である。この色素の光吸収ピークは５３０ｎｍにあり、
６３５ｎｍ半導体レーザの波長域には弱冠の吸収をもつ
ものである。製膜は、スチリル系色素の３．０重量％フ
ッ素化アルコール溶液を５０００ｒｐｍでスピンコート
し、薄膜形成を行った。また、真空蒸着法によっても形
成した。なお、得られた有機薄膜の膜厚は、ＳＬＯＡＮ
社製、ＤＥＫＴＡＫ3 ＳＴを用いて計測した結果、スピ
ンコート膜では１２０ｎｍ、真空蒸着膜では１２６ｎｍ
であった。
１と同様にし、記録層の材料としては（化６）に示すよ
うなスチリル系色素を用いた。（化６）は、一般式（化
４）のＺ2 がＣ4 Ｈ 8 、Ｒ3 は水素、Ｒ4 およびＲ5 は
ＣＨ3 、Ｒ6 は無置換、ＡはＣ（ＣＨ3 ）2、Ｘは水素
である。この色素の光吸収ピークは５３０ｎｍにあり、
６３５ｎｍ半導体レーザの波長域には弱冠の吸収をもつ
ものである。製膜は、スチリル系色素の３．０重量％フ
ッ素化アルコール溶液を５０００ｒｐｍでスピンコート
し、薄膜形成を行った。また、真空蒸着法によっても形
成した。なお、得られた有機薄膜の膜厚は、ＳＬＯＡＮ
社製、ＤＥＫＴＡＫ3 ＳＴを用いて計測した結果、スピ
ンコート膜では１２０ｎｍ、真空蒸着膜では１２６ｎｍ
であった。
【化６】
【００４２】以上のように構成された追記型光記録媒体
について、６３５ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度５ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、６３５ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読み取りを行った。スピ
ンコート膜は、未記録部分の反射率は５４％、１４Ｔ信
号Ｃ／Ｎ出力は４８ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は４５ｄ
Ｂであり、蒸着膜でも同様の結果であった。
について、６３５ｎｍの半導体レーザーにより記録速度
１．５ｍ／ｓ、記録感度５ｍＷで書き込みを行い、その
後、同様に、６３５ｎｍの半導体レーザーにより再生速
度１．５ｍ／ｓ、０．５ｍＷで読み取りを行った。スピ
ンコート膜は、未記録部分の反射率は５４％、１４Ｔ信
号Ｃ／Ｎ出力は４８ｄＢ、３Ｔ信号Ｃ／Ｎ出力は４５ｄ
Ｂであり、蒸着膜でも同様の結果であった。
【００４３】また、本発明の記録層の光吸収は４００ｎ
ｍ〜６８０ｎｍ域にあるため、この波長領域での光記録
が可能であるということは容易に類推でき、本発明に用
いる半導体レーザー光は４００〜６８０ｎｍ域であれば
特に制限はない。
ｍ〜６８０ｎｍ域にあるため、この波長領域での光記録
が可能であるということは容易に類推でき、本発明に用
いる半導体レーザー光は４００〜６８０ｎｍ域であれば
特に制限はない。
【００４４】このようにスチリル系色素を記録層に用い
た場合、半導体レーザを用いた光記録媒体として、記
録、再生特性がが良好で、更に、記録に要するレーザー
出力が小さく高感度であることがわかる。
た場合、半導体レーザを用いた光記録媒体として、記
録、再生特性がが良好で、更に、記録に要するレーザー
出力が小さく高感度であることがわかる。
【００４５】（実施例１６〜２１）実施例１５におい
て、（化６）で示されるスチリル系色素のＸをＳ０2 Ｃ
Ｈ3、ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えた
こと以外は実施例１５と同様にし、記録・再生特性の評
価を行った。
て、（化６）で示されるスチリル系色素のＸをＳ０2 Ｃ
Ｈ3、ＣＮ、ＮＯ2 、ＣＨ3 、ＯＣＨ3 、Ｃｌに変えた
こと以外は実施例１５と同様にし、記録・再生特性の評
価を行った。
【００４６】以下の（表３）に実施例１６〜２１におけ
る置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
る置換基（Ｘ）、および記録感度、変調度を示す。
【表３】 結果としては、６３５ｎｍ半導体レーザーによる記録・
再生特性は、実施の形態１５と遜色ないものであった。
再生特性は、実施の形態１５と遜色ないものであった。
【００４７】なお、一般式（化４）において、ＡはＯ、
Ｓであってもよく、Ｒ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方
とも環構造を有している場合、または、有していない場
合は同一あるいは異種の低級アルキル基あるいはハイド
ロオキシアルキルキル基、Ｒ 6 はアルキル基、アルコシ
基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−
ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰ
ｈ、また、Ｚ2 はカーボン数が１から１８のアルキレン
基で間にＳまたは０を含んでいてもよく、Ｂはハロゲ
ン、酸根、アルコキシアニオン等のアニオンなどの構造
を有するスチリル系色素の合成を行い、同様に検討を行
った。置換基などの違いにより、色素の光吸収ピークを
数ｎｍから数十ｎｍの範囲で制御することが可能となる
ため、高密度、高コントラストの光記録媒体とするため
には、記録・再生に用いる半導体レーザーの波長に適合
した置換基を選ぶことが必要である。
Ｓであってもよく、Ｒ4 、Ｒ5 はいずれかあるいは両方
とも環構造を有している場合、または、有していない場
合は同一あるいは異種の低級アルキル基あるいはハイド
ロオキシアルキルキル基、Ｒ 6 はアルキル基、アルコシ
基、ハロゲン基、−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−
ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰ
ｈ、また、Ｚ2 はカーボン数が１から１８のアルキレン
基で間にＳまたは０を含んでいてもよく、Ｂはハロゲ
ン、酸根、アルコキシアニオン等のアニオンなどの構造
を有するスチリル系色素の合成を行い、同様に検討を行
った。置換基などの違いにより、色素の光吸収ピークを
数ｎｍから数十ｎｍの範囲で制御することが可能となる
ため、高密度、高コントラストの光記録媒体とするため
には、記録・再生に用いる半導体レーザーの波長に適合
した置換基を選ぶことが必要である。
【００４８】
【発明の効果】以上のように本発明は、透明基板上に記
録層を有す光記録媒体において、記録層に、スチリル系
有機色素を含有する構成によって、低出力のレーザーで
記録が可能であり、高密度化、高速記録に対応し、すで
に普及し始めているＤＶＤ再生装置と完全互換を有し、
保存安定性に優れた書き込み可能な追記型高密度光記録
媒体を提供できる。また、スチリル系色素は容易に作成
できるため、低コスト化、生産性に優れた高密度追記型
光記録媒体が実現できる。
録層を有す光記録媒体において、記録層に、スチリル系
有機色素を含有する構成によって、低出力のレーザーで
記録が可能であり、高密度化、高速記録に対応し、すで
に普及し始めているＤＶＤ再生装置と完全互換を有し、
保存安定性に優れた書き込み可能な追記型高密度光記録
媒体を提供できる。また、スチリル系色素は容易に作成
できるため、低コスト化、生産性に優れた高密度追記型
光記録媒体が実現できる。
【図１】本発明に使用される追記型高密度光記録媒体の
構造を示す概略断面図
構造を示す概略断面図
１ 透明基板 ２ 有機記録層 ３ 反射層 ４ 保護層
フロントページの続き (72)発明者 小 野 正 志 岡山県岡山市藤田錦564番176 株式会社日 本感光色素研究所内 (72)発明者 岡 崎 庸 樹 岡山県岡山市藤田錦564番176 株式会社日 本感光色素研究所内 (72)発明者 山 本 佳 美 岡山県岡山市藤田錦564番176 株式会社日 本感光色素研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 透明な基板上に設けられた記録層を有す
る光記録媒体であって、記録層が、一般式（化１）から
なる色素材料、または一般式（化２）からなる色素材料
を少なくとも一種以上含有することを特徴とする光記録
媒体。 【化１】 【化２】 （化１）において、ＡはＯ、Ｓ、ＣＲ1 Ｒ2 のいずれか
を示し、Ｒ1 、Ｒ2 は同一、あるいは異種の低級アルキ
ル基、ハイドロオキシアルキル基、またはアルキレンの
途中にＯ、Ｓを含んでもよく、Ｒ1 、Ｒ2 で環構造を有
していてもよい。Ｒ3 は水素、低級アルキル基、または
ＣＮ基、Ｒ4 、Ｒ5 は同一、あるいは異種の低級アルキ
ル基、ハイドロオキシアルキル基、またはアルキレンの
途中にＯ、Ｓを含んでもよく、いずれかあるいは両方と
もで環構造を有してもよい。更には、次にあるＲ6 とい
ずれかあるいは両方ともで環構造を有してもよい。Ｒ6
はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、−ＣＮ、−
ＣＦ3 、−ＣＨ3 ＣＯ、−ＳＯ2 ＣＦ3 、−ＣＯＣ
Ｆ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰｈ、ＹはＯまたはＳ、Ｚ
1 は−Ｎ−Ｃ−Ｙ−とともに環構造を形成するに必要な
炭素数が２〜４のアルキレン基を、Ｘは水素、または、
−ＣＮ、−ＣＦ3 、−ＣＯＣＨ3 、−ＳＯ2 ＣＦ 3 、−
Ｓ０2 ＣＨ3 、−ＣＯＣＦ3 、−ＳＯ2 Ｐｈ、−ＣＯＰ
ｈ、−ＮＯ2 、−ＣＨ3 、−ＯＣＨ3 、ハロゲン原子の
いずれかを表す。（化２）において、Ｚ2 はカーボン数
が１から１８のアルキレン基で、末端あるいは間にＳま
たは０を含んでいてもよい。Ｂはハロゲン、酸根、アル
コキシアニオン等のアニオンを表す。 - 【請求項２】 透明な基板上に設けられた記録層を有す
る光記録媒体であって、記録層が、−ＣＮ、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＯＨ、−ＳＯ3 Ｈ、−ＮＯ2 などの基を有する電
子アクセプター性の強い芳香族化合物と（化１）式に示
す色素との混合物からなることを特徴とする光記録媒
体。 - 【請求項３】 アクセプター性の化合物としてテトラシ
アノキノジメタン（ＴＣＮＱ）を用いることを特徴とす
る請求項２記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 透明な基板上に、２源以上の共蒸着法に
より記録層を形成することを特徴とする請求項１から３
のいずれかに記載の光記録媒体。 - 【請求項５】 光記録、再生を行う光源として波長が４
００ｎｍから６８０ｎｍ域内のレーザ光源を用いること
を特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の光記録
媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9189595A JPH1134489A (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9189595A JPH1134489A (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1134489A true JPH1134489A (ja) | 1999-02-09 |
Family
ID=16243953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9189595A Pending JPH1134489A (ja) | 1997-07-15 | 1997-07-15 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1134489A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006046374A1 (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-04 | Adeka Corporation | インドリウム化合物及び光学記録材料 |
| WO2007114074A1 (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-11 | Adeka Corporation | インドリウム化合物及び光学記録材料 |
| US7354694B1 (en) * | 1999-12-02 | 2008-04-08 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyuko | Styryl dye |
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| US7598359B2 (en) | 2005-06-30 | 2009-10-06 | Industrial Technology Research Institute | Bis (indolestyryl) compound and high density recording media utilizing the same |
-
1997
- 1997-07-15 JP JP9189595A patent/JPH1134489A/ja active Pending
Cited By (14)
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