JP2786931B2 - コンパクトディスク対応またはコンパクトディスク−rom対応の追記型光ディスクおよびそれを使用するフタロシアニン系色素 - Google Patents

コンパクトディスク対応またはコンパクトディスク−rom対応の追記型光ディスクおよびそれを使用するフタロシアニン系色素

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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザー光による情報の記録、再生を行う
光ディスクに関する。
さらに詳しくはコンパクトディスク(CD)あるいはコ
ンパクトディスクROM(CD−ROM)対応の追記型光ディス
クに関する。
(従来の技術) 集光レーザー光による情報記録媒体の中で、オーディ
オ等の音楽再生用としてCD、コンピータ用ROMとしてCD
−ROMが広く普及している。
このようなCDおよびCD−ROMは、通常ポリカーボネー
ト等の透明基板表面にCDフォーマット信号を有するピッ
ト列を射出成形時に形成し、その上からアルミニウムま
たは金等を蒸着あるいはスパッタリングにより反射膜と
して設け、さらに保護膜をコートして作成する。
このようにして作成した光ディスクの基板の裏面から
再生レーザー光(780nm半導体レーザー光)を照射し
て、ピットの凹凸による反射率の変化から各信号を読取
り、情報を再生するものである。
しかし、このようなCD、CD−ROMは再生専用であり情
報の記録ができないため、追記型光ディスクあるいは書
換え可能な光磁気ディスク等のような編集機能がないと
いう不都合さがあった。
一方、編集機能を有する追記型光ディスクあるいは光
磁気ディスクとしては、Te等カルコケナイト系化合物、
希土類金属化合物もしくはシアニン、ナフタロシアニン
等の有機色素等を記録膜としたものが実用化されてい
る。
しかしながら、これらの光ディスクは、基板面からの
反射率が30〜40%であり、現在のCDの国際規格であるレ
ッドブックに記載されている基板面からの反射率が70%
以上には到達しておらず、現状のままCDあるいはCD−RO
Mの再生装置により信号の再生を行うことはできないと
いう問題点がある。
このような問題点を解決するために、シアニン等の記
録膜の上に金等の反射膜を設けて、基板面反射率で70%
以上を確保して780nmでCDフォーマットあるいはCD−ROM
フォーマット信号を記録し、CDまたはCD−ROMの再生装
置で情報を読み出す光ディスクおよび方法が提案されて
いる。
このようなCDおよびCD−ROM対応の追記型光ディスク
の記録膜材料としては、CDまたはCD−ROMドライブ装置
のピックアップのレーザー波長に対して吸収と反射が微
妙な割合で必要になるが、レッドブックに規定されたピ
ックアップのレーザー波長の使用可能な範囲が770〜810
nmと非常に拾いため、この範囲で安定した光学特性(吸
光度、反射率)を得ることは困難であり、現在実用化さ
れているCD対応の光ディスクにおいても、770nmでは反
射率が70%を下回っていたり、また810nmでは十分な記
録感度がなかったりしており、正確にはレッドブックの
規格を満足していないのが現状である。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は、従来の追記機能、編集機能を有するCDある
いはCD−ROMの持つ欠点を解決し、770〜810nmの波長範
囲で安定した光学特性を実現し、この波長範囲で完全に
記録再生が可能なレッドブックに準拠した光ディスクを
提供するものである。
〔発明の構成〕
(課題を解決する手段) 本発明は、従来の追記機能、編集機能を有するCDある
いはCD−ROMの持つ欠点を解決すべく、鋭意検討した結
果、基板上に特定のフタロシアニン系化合物からなる記
録膜を有するCD対応の追記型光ディスクが優れた種々の
特性を有することを見出し、本発明に至った。
本発明は、透明基板/記録膜/反射膜からなり、コン
パクトディスクフォーマットあるいはコンパクトディス
ク−ROMフォーマット信号の記録を行う追記型光ディス
クにおいて、記録膜が下記一般式[1]で示されるフタ
ロンシアニン系色素であることを特徴とするコンパクト
ディスク対応またはコンパクトディスク−ROM対応の追
記型光ディスクに関する。
一般式[1] [式中、X1〜X4はそれぞれ独立に、 を表す。
Y1〜Y4は、ぞれぞれ独立にハロゲン原子、置換基を有
していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい
シクロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール
基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有し
ていてもよい複素環残基、ニトロ基、シアノ基、スルホ
ン酸基、カルボン酸基、−OR1、−SR1、−COOR1−NHCOR1、−N=N−R1、−N=CHCOR1を表す。
ここで、R1、R2、R3は、互いに同一であっても異なっ
ていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいア
ルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換
基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有し
ていてもよいアシル基を表し、またR1、R2、R3から選ば
れる2つで3〜7員環を形成していてもよく、その際、
さらに窒素原子等のヘテロ原子を含む複素環であっても
よい。
Mは置換基Zを有するSiまたはAlを表し、Zは、 を表す。
R4は置換基を有していてもよいアリール基を表す。
l1〜l4、m1〜m4、nはそれぞれX1〜X4、Y1〜Y4、Zの
置換基の数を表す。
l1〜l4はそれぞれ独立に0〜4の整数が表すが、すべ
て同時に0となることはない。m1〜m4はそれぞれ独立に
0〜4に整数を表す。nは1または2を表す。] 一般式[1]の置換基、および、R1、R2、R3について
さらに詳しく説明すると、ハロゲン原子としては、塩
素、臭素、ヨウ素、フッ素等があり、置換基を有しても
よいアルキル基としては、メチル基、n−ブチル基、te
rt−ブチル基、ステアリル基、トリクロロメチル基、2
−メトキシエチル基、N,N−ジメチルアミノプロピル
基、N,N−ジブチルアミノプロピル基、2−(N−ビベ
ラジノ)エチル基、置換基を有してもよいアリール基と
してはフェニル基、クロロフェニル基、トルイル基、ナ
フチル基、アントリル基、ジメチルアミノフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、ジエチルアミノナフチル基、ヒ
ドロキシナフチル基、置換基を有してもよいシクロアル
キル基としては、シクロヘキシル基、シクロブチル基、
置換基を有してもよいアシル基としては、アセチル基、
トリフルオロアセチル基、置換基を有してもよい複素環
残基としては、ピリジル基、フリル基、チアゾリル基、
ピペラジニル基、モルフォリニル基、トリアジニル基等
をあらわすが、これらに限定されるものではない。
本発明で使用される一般式[1]で示されるフタロシ
アニン系化合物の代表的な例として、下記に示すフタロ
シアニン系化合物(a)〜(c)等が揚げられるが、こ
れらに限定される物ではない。
このような記録膜の成膜方法としては、ドライプロセ
ス例えば、真空蒸着法、スパッタリング法によっても可
能である。
また、ウェットプロセス、例えば、スピンコート法、
ディップ法、ロールコート法あるいはLB(ラングミュア
−ブロジェット)法によっても可能である。
記録膜材料が汎用の有機溶剤例えば、アルコール系、
ケトン系、セロソルブ系、ハロゲン系炭化水素系、フロ
ン系、等の溶剤に可溶な場合は、生産性等からスピンコ
ート法によって成膜する方法が望ましい。
このように、いわゆる塗布法で成膜する場合には、必
要に応じて高分子バインダーを加えてもよい。高分子バ
インダーとしては、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル
系樹脂、ニトロセルロース、フェノール樹脂などが挙げ
られる。
高分子バインダーを用いる場合、色素に対する高分子
バインダーの比率は10重量%以下が好ましい。
また、本発明の記録膜の厚さには特に制限はなく、最
適な膜厚も化合物系によって異なるが500〜3000Åが好
ましく、1000〜2500Åが最適膜厚範囲である。
反射膜素材としては、金、銀、銅、白金、アルミニウ
ム、コバルト、スズ、等の金属、MgO、ZnO、SnO、等の
金属酸化物、SiN4、AlN、TiN、等の窒化物等が挙げられ
るが、絶対反射率が高く安定性に優れている点から金が
最適である。
また、場合によっては、有機系の高反射膜を使用する
こともできる。
このような反射膜の成膜方法としては、ドライプロセ
ス、例えば真空蒸着法、スパッタリング法が最も好まし
いが、これに限られるものではない。
さらに、反射膜の上に化学的劣化(例えば、酸化、吸
水等)および物理的劣化(例えば傷、けずれ等)を防ぐ
目的で膜を保護するためのオーバーコート層を設けても
よい。
オーバーコート層としては、紫外線硬化型樹脂による
方法が一般的であるが、これに限られるものではない。
ディスク形態は、情報の記録後CDあるいはCD−ROMと
して機能する必要があるため、CDあるいはCD−ROMの規
格(レッドブック)およびR−CDの規格(オレンジブッ
ク)に準拠していることが好ましい。
また、本発明に用いられるディスク基板としては、信
号の書込や読み出しを行うための光の透過率が、好まし
くは85%以上であり、かつ光学異方性の小さいものが望
ましい。
例えば、ガラス、またはアクリル樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビ
ニル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、
ポリオレフィン系樹脂(ポリ−4−メチルペンテン
等)、ポリエーテルスルホン樹脂などの熱可塑性樹脂や
エポキシ樹脂、アリル樹脂等の熱硬化性樹脂からなる基
板が挙げられる。これらの中で、成形のしやすさ、案内
溝等の信号の付与のしやすさなどから熱可塑性樹脂から
なるものが好ましく、さらに光学特性や機械特性および
コストからみてアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂か
らなるものが特に好ましい。
また、案内溝などの付与は熱可塑性樹脂を成形(射出
成形、圧縮成形)する際にスタンパーなどを用いて付与
するか、またはフォトポリマー樹脂を用いるいわゆる2P
法による方法が好ましい。
(実施例) 以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、
本発明は以下の実施例に限られるものではない。
(合成例1) フタロシアニン化合物(b)の合成 (合成例2)のN,N−ジエチルアミノプロピルアミン
をN,N−ジ−ブチルアミノプロピルアミンに変えて、
(合成例2)と同様に操作して、ヒドロキシアルミニウ
ムフタロシアニンテトラスルフォン酸(N,N−ジ−ブチ
ルアミノプロピル)アミドの粗製物3.5gを得た。粗製物
3.0gを十分に脱水したピリジン100mlに溶解し、30℃以
下で、クロロジフェニルフォスフィン2.0gを滴下した。
室温で1時間撹拌した後、昇温、2時間環流した。反応
液を冷却後、氷水2.01に激しく撹拌しながら注入し、析
出した沈殿をろ取、十分に水洗した後、乾燥してフタロ
シアニン化合物(b)の粗製物3.3gを得た。精製はシラ
カゲルカラムを用いて、クロロホルム/メタノール5:2
の混合溶媒により行なった。
実施例1 深さ800Å、ピッチ1.6μmのらせん状案内溝を有する
厚さ1.2mm、外径120mm、内径15mmのポリカーボネート樹
脂基板上に化合物(b)で示されるフタロシアニン化合
物のエトキシエタノールの2.0重量%溶液を作成し、ス
ピンコーターを用いて膜厚1300Åに成膜した。
次に、このようにして得た塗布膜の上に金を膜厚800
Åで真空蒸着により成膜した。さらに、この上に紫外線
硬化型樹脂により保護層を設けて光ディスクを作成し
た。
このようにして作成した光ディスクの反射スペクトル
は770〜810nmの波長範囲で対Alの反射率で82%以上あり
CDの規格を十分満足している。
また、この光ディスクを用い、波長780nmの半導体レ
ーザーを使用して、線速1.3m/secで9mWの記録パワーでE
MF−CDフォーマット信号を記録したところ記録が可能で
あった。
記録されたピット列は、長さ0.9〜3.3μm、間隔0.9
〜3.3μmであった。
次に、この信号を市販CDプレーヤーにより、線速1.3m
/sec、再生出力0.5mWで再生を行ったところ、得られた
信号は良好であり、CDプレーヤーに十分にかかるレベル
であった。
(発明の効果) 本発明の構成により光ディスクを作成することによ
り、追記機能編集機能を有するCDあるいはCD−ROM対応
の追記型光ディスクを提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B41M 5/26

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】透明基板/記録膜/反射膜からなり、コン
    パクトディスクフォーマットあるいはコンパクトディス
    ク−ROMフォーマット信号の記録を行う追記型光ディス
    クにおいて、記録膜が下記一般式[1]で示されるフタ
    ロシアニン系色素であることを特徴とするコンパクトデ
    ィスク対応またはコンパクトディスク−ROM対応の追記
    型光ディスク。 一般式[1] [式中、X1〜X4はそれぞれ独立に、 を表す。 Y1〜Y4は、それぞれ独立にハロゲン原子、置換基を有し
    ていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシ
    クロアルキル基、置換基を有していてもよいアリール
    基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有し
    ていてもよい複素環残基、ニトロ基、シアノ基、スルホ
    ン酸基、カルボン酸基、−OR1、−SR1、−COOR1−NHCOR1、−N=N−R1、−N=CHCOR1を表す。 ここで、R1、R2、R3は、互いに同一であっても異なって
    いてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアル
    キル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基
    を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有して
    いてもよいアシル基を表し、またR1、R2、R3から選ばれ
    る2つで3〜7員環を形成していてもよく、その際、さ
    らに窒素原子等のヘテロ原子を含む複素環であってもよ
    い。 Mは置換基Zを有するSiまたはAlを表し、Zは、 を表す。 R4は置換基を有していてもよいアリール基を表す。 l1〜l4、m1〜m4、nはそれぞれX1〜X4、Y1〜Y4、Zの置
    換基の数を有す。 l1〜l4はそれぞれ独立に0〜4の整数を表すが、すべて
    同時に0となることはない。m1〜m4はそれぞれ独立に0
    〜4の整数を表す。nは1または2を表す。]
  2. 【請求項2】上記一般式[1]で表される請求項1記載
    の追記型光ディスクの記録膜形成用フタロシアニン系色
    素。
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