JPH1129559A - レゾルシニルトリアジン類 - Google Patents
レゾルシニルトリアジン類Info
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- JPH1129559A JPH1129559A JP10132786A JP13278698A JPH1129559A JP H1129559 A JPH1129559 A JP H1129559A JP 10132786 A JP10132786 A JP 10132786A JP 13278698 A JP13278698 A JP 13278698A JP H1129559 A JPH1129559 A JP H1129559A
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Abstract
リアジン化合物及びそれを用いた化粧用組成物の提供。 【解決手段】 式(1) [R1 およびR2 は各々独立にヒドロキシル、無置換ま
たは1個以上のOHで置換されたC1 −C5 アルキル、
C1 −C5 アルコキシ、アミノ、モノまたはジ−(C1
−C5 アルキル)アミノ、ビタミンA残基、dl−α−
トコフェロール残基、グリコシルアミノ基、四級アミノ
アルコキシ基、四級アミノオキシ基または、カルボキシ
アニリノ基を有するカルボニルアルキル基であり、Al
は置換アルコキシフェニル基、1−アルキル−2−ピラ
ゾリル基または置換レゾルシニル基]で表わされる新規
なレゾルシニルトリアジン化合物、その製法及びそれを
用いた化粧用組成物。
Description
ン、その製法および化粧用組成物への選んだレゾルシニ
ルトリアジンの使用に関する。新規なレゾルシニルトリ
アジンは、下記式(1)
基であり、
OHで置換されたC1 −C5 アルキル、C1 −C5 アル
コキシ、アミノ、モノ−またはジ(C1 −C5 アルキ
ル)アミノ、M、下記式(1b)乃至(1g)の基であ
り)、
1個以上のOHで置換されたC1 −C14アルキルであ
り、R4 は水素、M、C1 −C5 アルキルまたは式−
(CH2 )m2−O−T1 の基である)、A1 は下記式
(1g)乃至(1k)の基であり、
CHR6 −O)n1−R4、または式−CH2 −CH(O
H)−CH2 −O−T1 の基であり、R6 は水素または
メチルであり、T1 は水素またはC1 −C8 アルキルで
あり、Q1 はC1−C18アルキルであり、Mは金属カチ
オンであり、m1は1乃至3であり、m2は1乃至4であ
り、m3は2乃至14であり、n1は1乃至16である)〕
に相当する。C1 −C5 アルキル、C1 −C8 アルキ
ル、C1 −C18アルキルは直鎖または枝分かれアルキル
基、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチ
ル、アミル、イソアミルまたはtert−アミル、ヘプ
チル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキ
サデシル、ヘプタデシルまたはオクタデシルである。
かれ基、たとえばメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、sec−ブトキ
シ、tert−ブトキシ、アミルオキシ、イソアミルオ
キシまたはtert−アミルオキシである。モノ−また
はジ(C1 −C5 アルキル)アミノの例は、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、n−ブチルアミ
ノ、sec−ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、
ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジ
プロピルアミノ、ジブチルアミノまたはメチルエチルア
ミノである。金属カチオンの例は、リチウム、カリウ
ム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅または
亜鉛イオンである。
定義したとおりである)である式(1)のレゾルシニル
化合物が好ましい。
記式(2)
C1 −C10アルキルである〕に相当する。別の重要なレ
ゾルシニルトリアジン化合物は、下記式(3)
する。式(3)の化合物ではR1 ,R2 ,R5 が同じ基
であるものが特に好ましい。
す。
方法により製造できる。たとえば、A1 が式(1h)の
基であり、R1 ,R2 が同じ基である式(1)の化合物
は、塩化シアヌルから出発し、3工程反応で製造でき
る。その反応では、適当なフェニルマグネシウムブロミ
ド化合物と塩化シアヌルとをグリニャール反応させて、
下記式のジクロロトリアジン化合物をつくる。
EP-A-0577559に記載されている。次いで、よく知られて
いるように、ルイス酸、特に塩化アルミニウムの存在下
で、レゾルシノールのフリーデル−クラフツアシル化に
より、2個のレゾルシノール基を導入する。第3工程で
は、基R1 ,R2 の意味に依存して、アルキル化または
グリシジルエーテルの酸接触付加により、遊離のp−位
水酸基のエーテル化を行う。これに関する詳細な情報
は、製造実施例にある。
は、グリニヤール試薬を使わずに、閉環反応によっても
得られる。このためには、適当な置換ベンゾニトリルと
ジシアノジアミドとを反応させて、6−アリール−1,
3,5−トリアジン−2,4−ジオンを形成し、これを
塩化チオニルで式(1l)の塩素誘導体に変換する。ま
たは、適当に置換したN,N−ジメチルカルボン酸アミ
ドと、オキシ塩化リンとN−シアノクロロホルムアミジ
ンとの反応によっても、式(1l)の化合物が得られ
る。上記反応は既知であり、たとえばDyes and Pigment
s 7 , 419-443 (1986)に記載されている。
合物は、また下記式(1m)のフェニル−置換ベンゾキ
サジン−4−オンと、下記式(1n)のベンズアミジン
化合物との反応によっても得ることができる。
である)。上記ベンゾキサジノン中間物の製造およびア
ミジンとの反応は、Helv. Chim. Acta 55 , 1566-1595
(1972)に記載されている。
であり、R1 ,R2 が同一基であるときは、本発明のレ
ゾルシニルトリアジンは、たとえば塩化シアヌルから出
発して、3工程反応で製造できる。この反応では、適当
なアミノ安息香酸エステルと塩化シアヌルとを反応させ
て、式(10)のジクロロトリアジン化合物を形成す
る。
ミニウムの存在下で、レゾルシノールのフリーデル−ク
ラフツアシル化により、2個のレゾルシノール基を導入
する。これらの反応は、たとえばEP-A-165608 に記載さ
れている。最後に、基R1 ,R2 の意味するところに従
い、アルキル化またはグリシジルエーテルの酸接触付加
により、遊離のp−位水酸基のエーテル化を行う。これ
に関する詳細な情報は、合成実施例にある。
(1p)のジヒドロトリアジン化合物の脱水素によって
も製造できる。
である)。
クロラニルの助けをかりたジヒドロトリアジン化合物の
脱水素化による1,3,5−トリアジンの形成は、たと
えばKhim. Geteritsikl. Soedin. (2), p.350-353 (196
9)から既知である。
が同一である式(1)の化合物は、たとえば塩化シアヌ
ルから出発し、3工程反応で製造できる。この反応で
は、適当なN−アルキルピロールと塩化シアヌルとを選
択的にフリーデル−クラフツ反応させて、式(1q)の
ジクロロトリアジン化合物を形成する。
特に塩化アルミニウムの存在下で、レゾルシノールのフ
リーデル−クラフツアシル化により、2個のレゾルシノ
ール基を導入する。これらの反応は、たとえばEP-A-165
608 に記載されている。アルキル化またはグリシジルエ
ーテルの酸接触付加により、遊離のp−位水酸基のエー
テル化を行う。これに関する詳細な情報は、合成実施例
にある。
ターとして、すなわち紫外線に敏感な有機物質を保護す
るため、特に紫外線の損傷効果からヒトや動物の毛や皮
膚を保護するために、特に適している。従って、これら
の化合物は、化粧用、製薬用、獣医用組成物の、光安定
剤として適している。これらの化合物は、溶解形でおよ
び微粉状で使用できる。従って、本発明は、また少なく
とも1種の式(1)の化合物と、化粧用に許容されるキ
ャリヤーまたは補助剤からなる化粧用組成物に関する。
0.02乃至2μの、好ましくは0.05乃至1.5μ
の、特に0.1乃至1.0μの範囲の平均粒度をもつ。
本発明の不溶性UV吸収剤は、常法で、たとえばジェッ
トミル、ボールミル、振動ミルまたはハンマーミルを使
い粉砕することにより、望む粒度にすることができる。
UV吸収剤基準で、0.1乃至30重量%、特に0.5
乃至15重量%の粉砕助剤、たとえばアルキル化ビニル
ピロリドン重合体、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重
合体、グルタミン酸アシル、または特にリン脂質の存在
で、粉砕を実施するのが好ましい。
え、次に分類されるUVスクリーン剤の1種以上を含ん
でもよい。 1.p−アミノ安息香酸誘導体、たとえば4−ジメチル
アミノ安息香酸2−エチルヘキシル、 2.サリチル酸誘導体、たとえばサリチル酸2−エチル
ヘキシル、 3.ベンゾフェノン誘導体、たとえば2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノンおよびその5−スルホン酸
誘導体、 4.ジベンゾイルメタン誘導体、たとえば1−(ter
t−ブチルフェニル)−3−(4−メトキシフェニル)
プロパン−1,3−ジオン、 5.ジフェニルアクリラート、たとえば2−エチルヘキ
シル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリラートお
よび3−(ベンゾフラニル)−2−シアノアクリラー
ト、 6.3−イミダゾール−4−イルアクリル酸およびその
エステル、 7.ベンゾフラン誘導体、特にEP-A-582189, US-A-5338
539, US-A-5518713, EP-A-613893に記載の2−(p−ア
ミノフェニル)ベンゾフラン誘導体、 8.ポリマーUV吸収剤、たとえば EP-A-709080に記載
のベンジリデンマロナート誘導体、 9.ケイ皮酸誘導体、たとえば4−メトキシケイ皮酸2−
エチルヘキシルおよびイソアミルエステルまたはUS-A-5
601811, WO 97/00851 に開示のケイ皮酸誘導体、 10.ショウノウ誘導体、たとえば3−(4’−メチ
ル)ベンジリデンボルナン−2−オン、3−ベンジリデ
ンボルナン−2−オン、N−〔2(および4)−2−オ
キシボルン−3−イリデンメチル)ベンジル〕アクリル
アミド重合体、3−(4’−トリメチルアンモニウム)
ベンジリデンボルナン−2−オンメチルスルファート、
3,3’−(1,4−フェニレンジメチン)ビス(7,
7−ジメチル−2−オキソビシクロ〔2.2.1〕ヘプ
タン−1−メタンスルホン酸) およびその塩、3−
(4’−スルホ)ベンジリデンボルナン−2−オンおよ
びその塩、 11.トリアニリノ−s−トリアジン誘導体、たとえば
2,4,6−トリアニリン(p−カルボ−2’−エチル
−1’−オキシ)−1,3,5−トリアジン、US-A-533
2568, EP-A-517104, EP-A-507691, WO 93/17002, EP-A-
570838に開示のUV吸収剤、 12.2−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール誘導
体、 13.2−フェニルベンゾイミダゾール−5−スルホン
酸およびその塩、 14.o−アミノ安息香酸メンチル、 15.TiO2 (種々に被覆された)、ZnO,雲母。
ath, Marcel Dekker, Inc., (NewYorkおよびBasle )
あるいはCosmetics and Toiletries (107), 50ff (199
2) に記載のUV吸収剤も、本発明の処方物において、
追加のUVスクリーン剤として使用できる。
化防止剤、たとえばビタミンE、カロチノイドまたはH
ALS(=立体妨害のあるアミン光安定剤)化合物と共
に使用もできる。
基準で、0.1乃至15重量%の、好ましくは0.5乃
至10重量%のUV吸収剤またはその混合物、および化
粧用に許容される補助剤を含む。化粧用組物の製造は、
UV吸収剤と補助剤とを、常法で物理的に混合すること
により、たとえば単に個々の成分を撹拌することにより
実施できる。
水中油型乳濁液、アルコール中油型ローション、イオン
または非イオン両親媒性液の小胞状分散液、ゲル固形棒
またはエーロゾル処方物として処方できる。油中水型ま
たは水中油型乳濁液としては、化粧用に許容される補助
剤は、好ましくは油相5乃至50%、乳化剤5乃至20
%、水30乃至90%を含む。油相は、化粧用処方物に
適する油、たとえば1種以上の炭化水素油、ワックス、
天然油、シリコーン油、脂肪酸エステルまたは脂肪アル
コールを含む。好ましいモノまたはポリオールは、エタ
ノール、イソプロパノール、プロピレングリコール、ヘ
キシレングリコール、グリセリン、ソルビトールであ
る。普通に使用できる乳化剤ならば本発明の化粧用組成
物に使用でき、たとえば天然誘導体のエトキシル化エス
テルの1種以上、たとえば水素化ひまし油ポリエトキシ
ル化エステル、またはシリコーン油乳濁液、たとえばシ
リコーンポリオール、所望によりエトキシル化された脂
肪酸石鹸、エトキシル化脂肪アルコール、所望によりエ
トキシル化されたソルビタンエステル、エトキシル化脂
肪酸またはエトキシル化グリセリドを使用できる。
モリエント、乳化安定剤、皮膚湿潤剤、皮膚日焼け促進
剤、キサンタンのようなシックナー、グリセリンのよう
な水分保持剤、防腐剤、香料、着色剤からなることもで
きる。本発明の化粧用組成物は、日光の損傷効果からヒ
トの皮膚を保護するのに優れている。
使用したレゾルシニルトリアジンの量は純品に基づく。
(4−メトキフェニル)−1,3,5−トリアジン5.
05g、ジメチルホルムアミド(DMF)40g、ナト
リウムメタノラート30%溶液5.1gを反応器に入
れ、減圧下95℃に加熱した。約10gのDMF/メタ
ノール混合物を留去し、減圧を窒素で解除し、DMF1
0g中にクロロ酢酸tert−ブチル3.96gをとか
した溶液を十分にかきまぜながら加える。反応混合物を
90℃で12時間撹拌する。反応物を回転蒸発器で濃縮
し、半固体残渣をアセトンで抽出する。粗生成物のアセ
トン溶液を減圧で濃縮し、残渣をトルエン/シクロヘキ
サン(17.5:12.5)混合物から2回再結晶す
る。収量 :2.6g,黄色結晶、 融点:88−94℃.
に、4−クロロアセトアミド安息香酸n−ブチル6.9
5gを用いる。粗生成物をジオキサン/水およびメトキ
シエタノールで抽出して仕上げた。下記式(102)の
化合物が得られる。
ムメタノラートを使い、トリレゾルシニルトリアジン2
2.3gとクロロ酢酸メチル16.8gを反応させる。
粗生成物を、ジオキサン/メトキシエタノール(1:1
混合物)から再結晶する。 収量:トリレゾルシニルモノグリコール酸メチル9g.
mlおよびジオキサン50mlからなる混合物中で6時
間還流下撹拌した。冷却後、反応物をHClでpH3.
0に調節する。下記式(103)
離する。 収量:3g,灰色粉末。
(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン4
0.0gをDMF750mlに溶かし、NaHCO3 2
1.8gを加え、撹拌しながら混合物を減圧(420m
bar)下121℃に加熱する。約3時間にわたり、約
100mlのDMF/水が、反応物から留去された。2
0℃に冷却後、減圧を解除し、撹拌しながらDMF15
0mlに溶かしたクロロ酢酸エチル33gを滴下する。
室温で12時間撹拌を続け、反応を完結し、反応物を8
0℃に加熱する。懸濁液を濾過し、ギ酸3gを添加後、
高真空で濃縮した。蒸発残留物をメチルエチルケトンで
抽出し、下記式(104a)の化合物34gを得る。
水分解 式(104a)の化合物22.5gを、水50mlおよ
び2N NaOH50ml中で95℃で10時間撹拌す
る。橙赤色溶液を20℃に冷し、1NHCl100ml
を加える。遊離酸が析出する。濾過残留物を減圧で乾燥
すると下記式(104b)の化合物20gが得られる。
メトキシエタノールに溶かし、トリエタノールアミン2
当量を加える。溶液を蒸発により濃縮すると下記式(1
04c)の化合物が得られる。
268 λmax2=325nm;ε=36973.
ルアミノプロピルアミン50mlに懸濁し、ナトリウム
メタノラートを加え、混合物をN2 気流下130℃で1
6時間かきまぜた。反応物を蒸発により濃縮すると下記
式(104d)の化合物が得られる。
でクロロアセトアミドと75℃で12時間かきまぜた。
反応物を蒸発により濃縮し、粗生成物をアセトンで抽出
し、下記式(104e)の化合物7.1gが得られる。
=36803 λmax 320nm;ε=32104.
で硫酸ジメチル2.64gと75℃で反応させた。反応
物を蒸発により濃縮し、アセトンで抽出し、下記式(1
04f)の化合物7.2gを得る。
763 λmax2306nm;ε=30836.
シフェニル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン40.4gと、D,L−α−トコフ
ェロールクロロアセタート(ピリジン/アセトン中トコ
フェロールと塩化アセチルから製造)137gとを反応
させる。反応物をメチルエチルケトンから結晶化し、下
記式(105)の化合物84gを得る。
=45999 λmax2306nm;ε=43748.
したB部を撹拌しながら加える。C部の成分を約80−
90℃に加熱し、激しく撹拌しながらA+B部中へ加え
て均質化する。ゆっくりかきまぜながら、混合物を室温
に冷し、その中へD部を均質にまぜ混む。日焼け止めロ
ーションは、有効な化粧用光安定性を示した。
W)の製造
して撹拌混合する。次いでC部を添加し、均質化する。
冷却後、D部を撹拌しながら加える。日焼け止めローシ
ョンは、有効な化粧用光安定性を示した。
ョナー(フォーム)の製造
後、C部および必要なときは香料油を加える。混合物
を、エーロゾル容器に導入し、推進薬を加える。
Claims (10)
- 【請求項1】 下記式(1)のレゾルシニルトリアジン 【化1】 〔式中、R1 およびR2 は各々独立に式(1a)の基で
あり、 【化2】 (式中、R3 はヒドロキシル、無置換または1個以上の
OHで置換されたC1 −C5 アルキル、C1 −C5 アル
コキシ、アミノ、モノまたはジ−(C1 −C5 アルキ
ル)アミノ、M、下記式(1b)乃至(1g)の基であ
り)、 【化3】 (式中、R’,R”,R''' は各々独立に無置換または
1個以上のOHで置換されたC1 −C5 アルキルであ
り、R4 は水素、M、C1 −C5 アルキルまたは式−
(CH2 )m2−O−T1 の基であり)、A1 は下記式
(1g)乃至(1k)の基であり、 【化4】 (式中、R5 は水素、C1 −C10アルキル、−(CH2
CHR6 −O)n1−R4または式−CH2 −CH(O
H)−CH2 −O−T1 の基であり、R6 は水素または
メチルであり、T1 は水素またはC1 −C8 アルキルで
あり、Q1 はC1−C18アルキルであり、Mは金属カチ
オンであり、m1は1乃至3であり、m2は1乃至4であ
り、m3は2乃至14であり、n1は1乃至16であ
る)〕。 - 【請求項2】 A1 が下記式の基である 【化5】 (式中、R1 、R5 は請求項1で定義したとおりであ
る)、請求項1のレゾルシニルトリアジン。 - 【請求項3】 下記式(2) 【化6】 〔式中、R1 およびR2 は各々独立に下記式の基であ
り、 【化7】 (式中、R3 は水素またはC1 −C5 アルキルであ
る)、R5 はC1 −C10アルキルである〕、の請求項1
または2のレゾルシニルトリアジン。 - 【請求項4】 下記式(3) 【化8】 〔式中、R1 ,R2 、R5 は各々独立に下記式の基であ
る、 【化9】 (式中、R3 は水素またはC1 −C5 アルキルであ
る)〕の請求項1または2のレゾルシニルトリアジン。 - 【請求項5】 R1 ,R2 ,R5 が同一基を表わす、請
求項4のレゾルシニルトリアジン。 - 【請求項6】 適当なフェニルマグネシウムブロミド化
合物と、塩化シアヌルとをグリニャール反応させて、下
記式(1l)のジクロロトリアジン化合物を形成し、 【化10】 ルイス酸、特に塩化アルミニウムの存在でレゾルシノー
ルのフリーデル−クラフツアシル化によりレゾルシノー
ル基を導入し、基R1 、R2 に応じて、アルキル化また
はグリシジルエーテルの酸接触付加により、遊離p位の
水酸基をエーテル化することからなる、A1 が式(1
a)の基であり、R1 およびR2 が同一基を表わす式
(1)のレゾルシニルトリアジンの製法。 - 【請求項7】 ヒトおよび動物の毛および皮膚を紫外線
の損傷効果から保護するための式(1)のレゾルシニル
トリアジンの使用。 - 【請求項8】 少なくとも1種以上の請求項1の式
(1)の化合物と、化粧用に許容されるキャリヤーまた
は補助剤からなる、化粧用組成物。 - 【請求項9】 更にUVスクリーン剤からなる、請求項
8の組成物。 - 【請求項10】 更に、UVスクリーン剤として、トリ
アジン、オキサニリド、トリアゾール、ビニル基含有ア
ミドまたはケイ皮酸アミドを含む、請求項8または9の
組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP97810304 | 1997-05-16 | ||
EP97810304.2 | 1997-05-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1129559A true JPH1129559A (ja) | 1999-02-02 |
Family
ID=8230232
Family Applications (1)
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