JPH10101533A - リポソーム形成ｕｖ吸収剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ヒトの毛髪を紫外線照射の傷害作用から保護するための
リポソーム形成ＵＶ吸収剤の使用を提供する。このリポ
ソーム形成ＵＶ吸収剤は、親水性先端基（＝Ｚ）、スペ
ーサー（＝Ｗ）、２８５乃至４００ｎｍの領域に吸収を
もつＵＶ発色団（Ｑ）、少なくとも１つの疎水性末端基
（＝Ａ）を含み、リポソーム形成ＵＶ吸収剤は下記式で
表される。 【化５０】 本リポソーム形成ＵＶ吸収剤は、二分子層に自己組織す
ることが可能であり、その結果として高度に角質層に浸
透することができ、またそこからの洗い出しに対してき
わめて耐性である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、紫外線照射の傷害作用からヒト
の毛髪を保護するためのリポソーム形成ＵＶ吸収剤の使
用に関する。

【０００２】ヒトの毛髪が比較的長期間太陽光に曝され
ると、種々の傷害が起こる可能性がある。すなわち、相
当時間経過すると、黒髪は赤味がかった色になり、ブロ
ンドの髪は黄みがかる。毛の表面は粗くなり、かつ同時
に乾燥してしまう。さらに時間がたつにつれて、毛髪は
艶を失ってしまう。

【０００３】毛髪は、紫外線吸収剤を使用することによ
って、有害な太陽光線から効果的に保護することができ
る。しかし、残念ながら、今まで使用されてきた紫外線
吸収剤は、ヒトの毛髪に対する親和性が不十分であっ
た。すなわち、容易に洗い落とされ、したがってその作
用は短期間にすぎなかった。

【０００４】今回、誠に驚くべきことに、２８５乃至４
００ｎｍの領域に吸収をもつＵＶ発色団を含み、かつ二
分子層を自己形成できるようにする特定の化学構造エレ
メントを有する化合物が、ヒトの毛髪に非常に良好な親
和性を示し、そして同時に毛髪のための有効な対紫外線
保護を与えることが見いだされた。

【０００５】すなわち、本発明は、親水性先端基（＝
Ｚ）、スペーサー（＝Ｗ）、２８５乃至４００ｎｍの領
域に吸収をもつＵＶ発色団（Ｑ）および少なくとも１つ
の疎水性末端基（＝Ａ）を含有するリポソーム形成ＵＶ
吸収剤を、紫外線照射の傷害作用からヒトの毛髪を保護
するために使用する方法に関する。そのリポソーム形成
ＵＶ吸収剤は、下記式で表される。

【化６】 式中、Ａ₁ とＡ₂ とは互いに独立的に疎水基であり；Ｑ
はＵＶ発色団であり；Ｗは有機残基であり；Ｚ₁ とＺ₂
とは互いに独立的に親水基であり；ｎ₁ とｎ₂ とは互い
に独立的に０乃至４の数、ただしｎ₁ ＝ｎ₂ ＝０の場合
は含まれない；ｐは１または２であり；ｑは０乃至３の
数であり；r₁は１または２であり；r₂は０または１であ
り；s₁は１乃至３の数である。

【０００６】本発明による化合物は合成両親媒性化合物
であり、それ自身を組織化できる、すなわち、水中にお
いて自発的に二次元的二重層を形成することができる。

【０００７】疎水基Ａ₁ とＡ₂ とは、その鎖が少なくと
も８個の炭素原子を有するアルキル基、アルコキシ基、
アシル基またはアルキルアミノ基である。好ましくは、
アルコキシ基としてのＡ₁ とＡ₂ とは、８乃至２２個の
炭素原子を有する不飽和または好ましくは飽和脂肪族モ
ノアルコールの残基である。炭化水素残基は直鎖状また
は分枝状であることができ、直鎖状であるのが好まし
い。好ましくは、Ａ₁ とＡ₂ とは１０乃至１４個の炭素
原子を有するアルキル基またはアルケニル基である。

【０００８】脂肪族飽和モノアルコールは、天然アルコ
ールたとえばラウリルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、セチルアルコールまたはステアリルアルコール、あ
るいは合成アルコールたとえばデシルアルコール、Ｃ₁₀
- Ｃ₁₃オキソアルコール、トリデシルアルコール、イソ
トリデシルアルコール、あるいは１０乃至２２個の炭素
原子を有する線状第一アルコール（Alfol 類）である。
かかるAlfol 類の代表例は、Alfol(10-14)、Alfol(12-1
3)またはAlfol(16-18)である。("Alfol"は登録商標）。

【０００９】不飽和脂肪族モノアルコールの例は、ドデ
セニルアルコール、ヘキサデセニルアルコールまたはオ
レイルアルコールである。

【００１０】これらのアルコール残基は、単独または混
合物の形で存在しうる。混合物の例は、大豆脂肪酸、パ
ーム核脂肪酸、獣脂油から誘導された２つまたはそれ以
上の成分のアルキルおよび／またはアルケニル基の混合
物である。アルコール残基は単独であるのが好ましい。

【００１１】アルキルアミノ基であるＡ₁ およびＡ₂
は、第一または好ましくは第二Ｃ₁₂−Ｃ₂₂脂肪アミンか
ら誘導される。これらのアミンは、対応する脂肪酸か
ら、脱水とそれに続く脱水素とによって得ることかでき
る。アルキルアミノ基としてのＡ₁ およびＡ₂ は、ジ−
Ｃ₁₂−Ｃ₁₈アルキルアミノ基であるのが好ましい。アシ
ル基は、好ましくはＣ₈ −Ｃ₂₂アルキルカルボニルであ
る；たとえばオクチル−、デシル−、ドデシル−、トリ
デシル−、ヘキサデシル−またはオクタデシルカルボニ
ルである。

【００１２】好ましいリポソーム形成ＵＶ吸収剤は、式
中のｎ₁ とｎ₂ とが１または２、好ましくは２であり、
そしてＡ₁ とＡ₂ とが同じ意味を有する式（１）の化合
物である。

【００１３】ＵＶ発色団Ｑは、それ自体公知のＵＶ吸収
剤から誘導される。好ましくは、本発明によるリポソー
ム形成ＵＶ発色団は、下記のクラスからの構造エレメン
トを有する化合物である。 （Ｑ₁)ケイ皮酸エステル、（Ｑ₂)トリアジン誘導体、
（Ｑ₃)ベンゾトリアゾール、（Ｑ₄)ベンゾフェノン、
（Ｑ₅)ｐ−アミノ安息香酸誘導体、（Ｑ₆)ベンジリデン
カンファー。好ましいＵＶ発色団は、（Ｑ₁)ケイ皮酸エ
ステルおよび（Ｑ₂)トリアジン誘導体である。

【００１４】このケイ皮酸エステルＱ₁ は、下記式の化
合物である。

【化７】 式中、R'は水素、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルまたはＣ₁-Ｃ₄ アル
コキシであり；R₁はＣ₁-Ｃ₄ アルコキシ、好ましくはメ
トキシまたはエトキシであり；R₂はＣ₁-Ｃ₄ アルキルま
たは -ＣＮである。式（２）の化合物の例は、ケイ皮酸
メチルエステルまたはケイ皮酸エチルエステルである。

【００１５】トリアジン誘導体Ｑ₂ は、たとえば下記式
のヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンである。

【化８】 式中、R₃とR₄とは互いに独立的にＣ₁-Ｃ₅ アルキル；ヒ
ドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₅ アルコキシ、Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルチ
オ、アミノまたはＣ₁-Ｃ₅ モノ−または−ジアルキルア
ミノによって置換されたＣ₁-Ｃ₁₈アルキル；置換されて
いないフェニル；または塩素、ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₁₈
アルキルおよび／またはＣ₁-Ｃ₁₈アルコキシによって置
換されたフェニルであり；R₅はＣ₁-Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁-
Ｃ₁₈アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシル、式 −（Ｏ−ＣＨ₂-ＣＨ₂-)_t- Ｒ₆ （３ａ） （式中、R₆は水素またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルである）の
基、または式

【化９】 （式中、R₇はＣ₁-Ｃ₅ アルキルまたはＣ₁-Ｃ₅ アルコキ
シ−Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルであり、そしてＶ₁ はＣ₁-Ｃ₄ ア
ルキレン基である）の基であり、ｍ₁ は０、１または２
であり、ｔは１乃至５である。

【００１６】R₁乃至R₆の置換基がアルキル基である場
合、それは直鎖状または分枝状であることができる。か
かるアルキル基の例はメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ｔｅ
ｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシル、
ｎ−ヘプチル、ｎ−オルチル、イソオクチル、ｎ−ノニ
ル、イソノニル、ｎ−ドデシル、ヘプタデシル、オクタ
デシルなどである。

【００１７】Ｃ₁-Ｃ₁₈アルコキシまたはＣ₁-Ｃ₅ アルキ
ルチオの例はメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプ
ロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキ
シ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、イソペントキ
シ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオ
クチルオキシ、ｎ−ノニルオキシ、イソノニルオキシ、
デシルオキシ、ｎ−ドデシルオキシ、ヘプタデシルオキ
シ、オクタデシルオキシであり、またメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、イソブチルチオ、ｓｅｃ−ブチルチオ、ｔｅｒｔ−
ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ｔｅｒ
ｔ−ペンチルチオなどである。

【００１８】モノアルキルアミノの例はモノメチルアミ
ノ、モノエチルアミノ、モノプロピルアミノ、モノイソ
プロピルアミノ、モノブチルアミノ、モノペンチルアミ
ノである。ジアルキルアミノの例はジメチルアミノ、メ
チルエチルアミノ、ジエチルアミノなどである。ハロゲ
ンは、たとえばフッ素、臭素、または好ましくは塩素で
ある。

【００１９】重要なｓ−トリアジン化合物は下記式のも
のである。

【化１０】 式中、R₈とR₉とは互いに独立的に、置換されていない
か、またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルおよび／またはＣ₁-Ｃ₅ ア
ルコキシによって置換されたフェニルであり、R₁₀ は水
素またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルである。

【００２０】さらに興味あるトリアジン化合物は下記式
のものである。

【化１１】 式中、R₁₁ は水素、ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₁₅アルキル、
Ｃ₁-Ｃ₁₅アルコキシまたは式（３ｂ）であり、R₁₂ とR
₁₃ とは互いに独立的に水素またはＣ₁-Ｃ₁₅アルコキシ
である。

【００２１】さらに好ましいヒドロキシフェニル−ｓ−
トリアジンは、式中のR₁₁ 、R₁₂ およびR₁₃ が互いに独
立的にＣ₅-Ｃ₁₅アルコキシであるか、または式中のR₁₁
が式（３ｂ）の残基であり、そしてR₁₂ とR₁₃ とがＣ₅-
Ｃ₁₅アルコキシである式（５）の化合物である。

【００２２】式（３）、（４）および（５）の適当な化
合物の例を以下に列挙する：２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）−４、６−ジメチル−ｓ−トリ
アジン、融点＝１３１℃，２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジメチルフェニル）−４、６−ジメチル−
ｓ−トリアジン、融点＝１７７℃，２−（２’−ヒドロ
キシ−４’，５’−ジメチルフェニル）−４、６−ジメ
チル−ｓ−トリアジン、λ＝３４９ｎｍ．Ｔ＝４８％，
２−（２’−ヒドロキシ−４’，５’−ジメチルフェニ
ル）−４、６−ジエチル−ｓ−トリアジン、融点＝９８
℃，２−（２’−ヒドロキシ−５’−クロロフェニル）
−４、６−ジエチル−ｓ−トリアジン、融点＝１６０
℃，２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジメ
チル−ｓ−トリアジン、融点＝１３３℃，２−（２’−
ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４、
６−ジメチル−ｓ−トリアジン、λ＝３５２ｎｍ．Ｔ＝
６０％，２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−
ジデシル−ｓ−トリアジン、融点＝５３℃，２−（２’
−ヒドロキシフェニル）−４、６−ジノニル−ｓ−トリ
アジン、融点＝４５℃，２−（２’−ヒドロキシフェニ
ル）−４、６−ジヘプタデシル−ｓ−トリアジン、λ＝
３３８ｎｍ．Ｔ＝８０％，２−（２’−ヒドロキシフェ
ニル）−４、６−ジプロピル−ｓ−トリアジン、融点＝
１８乃至２０℃，２−（２’−ヒドロキシフェニル）−
４、６−ビス（β−メチルメルカプトエチル）−ｓ−ト
リアジン、λ＝３４１ｎｍ．Ｔ＝６０％，２−（２’−
ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（β−ジメチルア
ミノエチル）−ｓ−トリアジン、λ＝３４０ｎｍ．Ｔ＝
６３％，２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−
ビス（β−ブチルアミノエチル）−ｓ−トリアジン、λ
＝３４１ｎｍ．Ｔ＝６６％，２−（２’−ヒドロキシフ
ェニル）−４、６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｓ−トリア
ジン、λ＝３３９ｎｍ．Ｔ＝６８％，２−（２’−ヒド
ロキシフェニル）−４、６−ジオクチル−ｓ−トリアジ
ン、融点＝４０℃，２−（２’−ヒドロキシ−４’−メ
トキシフェニル）−４、６−ジフェニル−ｓ−トリアジ
ン、融点＝２０４乃至２０５℃，２−（２’−ヒドロキ
シ−４’−エトキシフェニル）−４、６−ジフェニル−
ｓ−トリアジン、融点＝２０１乃至２０２℃，２−
（２’−ヒドロキシ−４’−イソプロピル）−４、６−
ジフェニル−ｓ−トリアジン、融点＝１８１乃至１８２
℃，２−（２’−ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス
（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’、４’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−
ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジ
ン、２−（２’−ヒドロキシ−３’−メチルフェニル）
−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５
−トリアジン、２−（２’、３’−ジヒドロキシフェニ
ル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、
３、５−トリアジン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
クロロフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニ
ル）−１、３、５−トリアジン、２−（２’−ヒドロキ
シ−４−メトキシフェニル）−４、６−ビス（４−メト
キシフェニル）−１、３、５−トリアジン、２−
（２’、４’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス
（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニ
ル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、
３、５−トリアジン、２−（２’−ヒドロキシ−４−ヘ
キシルオキシフェニル）−４、６−ビス（３−メトキシ
フェニル）−１、３、５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−メトキシフェニル）−４−（４−メトキシ
フェニル）−６−フェニル−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−［２−エチルヘキルオ
キシ］）−４，６−ビス（２−エチルヘキシルオキシ）
フェニル−１、３、５−トリアジン、２−（２’−ヒド
ロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニ
ル）−１、３、５−トリアジン、２−（２’、４’−ジ
ヒドロキシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフ
ェニル）−１、３、５−トリアジン、２−（２’−ヒド
ロキシ−３’−メチルフェニル）−４、６−ビス（４−
メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、２−
（２’、３’−ジヒドロキシフェニル）−４、６−ビス
（４−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−クロロフェニル）−
４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−１、３、５−
トリアジン、２−（２’−ヒドロキシ−４−メトキシフ
ェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニル）−
１、３、５−トリアジン、２−（２’、４’−ジヒドロ
キシフェニル）−４、６−ビス（４−メトキシフェニ
ル）−１、３、５−トリアジン、２−（２’−ヒドロキ
シ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４、６−ビス（４
−メトキシフェニル）−１、３、５−トリアジン、２−
（２’−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−
４、６−ビス（３−メトキシフェニル）−１、３、５−
トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェ
ニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル
−１、３、５−トリアジン、２−（２’−ヒドロキシ−
４’−［２−エチルヘキルオキシ］）−４，６−ビス
（２−エチルヘキシルオキシ）フェニル−１、３、５−
トリアジン、４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メト
キシフェニル）−２−（２−プロポキシエトキシ）−
１、３、５−トリアジン、４、６−ビス（２−ヒドロキ
シ−４−プロポキシフェニル）−２−（２−メトキシエ
トキシ）−１、３、５−トリアジン、４、６−ビス（２
−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２−メ
トキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、４、６−
ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２−
（２−メトキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、
４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニ
ル）−２−（２−エトキシエトキシ）−１、３、５−ト
リアジン、４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキ
シフェニル）−２−［２−（２−エトキシエトキシ）エ
トキシ］−１、３、５−トリアジン、４、６−ビス（２
−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２−エ
トキシエトキシ）−１、３、５−トリアジン、４、６−
ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−
［２−（２−エトキシエトキシ）エトキシ］−１、３、
５−トリアジン、４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−
エトキシフェニル）−２−（２−エトキシ−２−メチル
エトキシ）−１、３、５−トリアジン、４、６−ビス
（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−２−（２
−エトキシメトキシ）−１、３、５−トリアジン、４、
６−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−
２−オクチルオキシ−１、３、５−トリアジン、４、６
−ビス（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−２
−｛２−［２−（２−エトキシ）エトキシ］エトキシ｝
エトキシトリアジン、４、６−ビス（２−ヒドロキシ−
４−エトキシフェニル）−２−｛２−［２−（２−エト
キシ）エトキシ］エトキシ｝エトキシ−１、３、５−ト
リアジン、４、６−ビス（２−ヒドロキシ−４−エトキ
シフェニル）−２−ブトキシ−１、３、５−トリアジ
ン。（Ｔ＝１cmの層厚におけるクロロホルム１００ml中
の物質１mgの溶液のパーセント透過率；λ[nm]は最大吸
収波長）。

【００２３】式（３）、（４）および（５）の化合物は
公知であり、そしてそれ自体公知の方法で製造すること
ができる。たとえば、アミジンとｏ−ヒドロキシベンゼ
ンカルボン酸エステルとを、好ましくは約２：１のモル
比の量で、沸騰有機溶剤中において、加熱することによ
って製造できる［米国特許第３８９６１２５号明細書な
らびにHelv. Chim. Acta 55, 1566-1595(1972)参照］。

【００２４】さらに、使用することができるトリアジン
ＵＶ吸収剤の構造エレメント（Ｑ₂)は、下記式のもので
ある。

【化１２】 式中、R₁₄ とR₁₅ とは互いに独立的に水素、ヒドロキシ
ル、Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルまたはＣ₁-Ｃ₅ アルコキシであ
る。

【００２５】ベンゾトリアゾールＱ₃ は、下記式の化合
物である。

【化１３】 式中、R₁₆ とR₁₈ とは互いに独立的に水素；Ｃ₁-Ｃ₁₈ア
ルキルまたはＣ₁-Ｃ₈-アルコキシ（これらは、置換され
ていないか、またはフェニルによって置換されてい
る）；ハロゲンまたは下記式の基

【化１４】 （式中、R₁₉ は水素、Ｃ₁-Ｃ₁₀アルキル、Ｃ₅-Ｃ₈ シク
ロアルキル、Ｃ₇-Ｃ₁₀アラールキルまたはＣ₆-Ｃ₁₀アリ
ールであり、R₂₀ は水素、Ｃ₁-Ｃ₂₀アルキル、Ｃ₂-Ｃ₁₇
アルケニル、Ｃ₅-Ｃ₈ シクロアルキル、Ｃ₇-Ｃ₁₀アラー
ルキルまたはＣ₆-Ｃ₁₀アリールであり、そしてt₂は１ま
たは２であり、t₂＝１の場合には、R₁₉ とR₂₀ とは架橋
メンバー

【化１５】 と一緒で、単環または多環の窒素含有複素環を形成する
ことができ、そしてこの場合にR₁₉ は−ＣＯ−、または
置換されていないか、またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルによって
置換されたメチレンであり、R₂₀ はＣ₂-Ｃ₅ アルキレ
ン、Ｃ₂-Ｃ₅ アルケニレン、Ｃ₆-Ｃ₁₀アリーレンまたは
隣位結合ジ−、テトラ−またはヘキサヒドロ−Ｃ₆-Ｃ₁₀
アリーレンである）、R₁₇ はＣ₁-Ｃ₁₈アルキル、Ｃ₁-Ｃ
₁₈アルコキシ、ハロゲン、Ｃ₆-Ｃ₁₀アリール、Ｃ₇-Ｃ₁₀
アラールキルまたはＣ₅-Ｃ₈ シクロアルキルであり、そ
して環Ｂは、１、２および３の位置において、Ｃ₁-Ｃ₅
アルキル、Ｃ₁-Ｃ₅ アルコキシ、カルボキシル、Ｃ₂-Ｃ
₉ アルコキシカルボニル、Ｈ₂ ＮＣＯ-、ＳＯ₂-、Ｃ₁-Ｃ
₅ アルキルスルホニル、ハロゲン、または式

【化１６】 の基によって置換されることができる。

【００２６】R₁₉ が意味するＣ₁-Ｃ₁₀アルキルおよびR
₂₀ が意味するＣ₁-Ｃ₂₀アルキルは直鎖状または分枝状
でありうる、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−
ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、
ｔｅｒｔ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシ
ル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−
ノニル、イソノニル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、ヘプ
タデシル、オクタデシル、エイコシルである。R₁₉ とR
₂₀ とがＣ₆-Ｃ₁₀アリールである場合には、それは単環
または二環の芳香族残基、たとえば、フェニルまたはナ
フチルでありうる。R₁₉ とR₂₀ とが意味するＣ₇-Ｃ₁₀ア
ラールキルの例はベンジル、フェネチル、α−メチルフ
ェネチルまたはα、α−ジメチルベンジルである。R₁₉
とR₂₀ とが意味するＣ₅-Ｃ₈ シクロアルキルの例はシク
ロペンチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、または
好ましくはシクロヘキシルである。R₂₀ が意味するＣ₂-
Ｃ₁₇アルケニル基の例はビニル、アリル、１−プロペニ
ル、２−ブテニル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル、
２−デセニル、３、６、８−デカトリエニルまたは２−
ヘプタデセニルである。

【００２７】好ましいベンゾトリアゾール化合物は、下
記式の化合物である。

【化１７】 式中、R₂₁ はＣ₁-Ｃ₁₈アルキルまたは好ましくは水素で
あり、そしてR₂₂ は置換されていないか、またはフェニ
ルによって置換されたＣ₁-Ｃ₁₈アルキルである。

【００２８】式（７）および（８）のベンゾトリアゾー
ル化合物の例には、下記のものがある：２−（２’−ヒ
ドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５
−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−アクリロイルア
ミドメチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’−アクリロイルアミ
ドメチル−５’−ベンジルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ブトキシアセトア
ミドメチル−５’−ベンジルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅ
ｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）ベンゾトリアゾール。

【００２９】紫外線吸収剤として既知の式（７）および
（８）のベンゾトリアゾール化合物は、大部分がフラン
ス国特許第Ａ−１１９５３０７号明細書または米国特許
第３６２９１９２号明細書に記載されている。

【００３０】ベンゾフェノン（Ｑ₄)は下記式の化合物で
ある。

【化１８】 式中、R₂₃ は水素、ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₁₄アルコキ
シ、フェノキシまたはアミノであり、Ｃ₁-Ｃ₁₄アルコキ
シは、下記式の基

【化１９】 および／またはアシルオキシ基によって置換されること
ができ、R₂₄ は水素、ハロゲンまたはＣ₁-Ｃ₅ アルキル
であり、R₂₅ は水素、ヒドロキシルまたはＣ₁-Ｃ₅ アル
キルであり、そしてR₂₆ は水素またはヒドロキシルであ
る。アシルはＣ₁-Ｃ₅ アルカノイルであり、たとえばホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、アクリロイル、メタ
クリオイルまたはベンゾイルである。

【００３１】式（９）の化合物はそれ自体公知の方法に
よって、たとえば米国特許第３４６８９３８号、米国特
許第３６９６０７７号および米国特許第４６９８０６４
号各明細書に記載されている方法によって製造すること
ができる。

【００３２】ＵＶ発色団（Ｑ₅)は、下記式のパラ−アミ
ノ安息香酸誘導体である。

【化２０】 式中、R₂₇ はヒドロキシル、ハロゲン、シアノ、Ｃ₁-Ｃ
₅ アルキル、Ｃ₁-Ｃ₅ アルコキシ、モノ−Ｃ₁-Ｃ₅ アル
キルアミノまたはジ−Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルアミノであり、
R₂₈ は水素またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルであり、R₂₉ とR₃₀
とは互いに独立的に水素またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルであ
り、そしてｍ₂ は０，１または２である。

【００３３】好ましいＵＶ発色団（Ｑ₅)としては、パラ
−アミノ安息香酸またはそのメチルエステルまたはエチ
ルエステルから誘導される構造エレメントが使用され
る。

【００３４】ＵＶ発色団（Ｑ₆)はベンジリデンカンファ
ーである。これらは下記式の化合物である。

【化２１】

【００３５】本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤を
製造する場合、当該ＵＶ発色団である（Ｑ₁)−（Ｑ₆)が
水に難溶性化合物である場合には、それらは水性分散物
として使用される。この場合の適当な分散剤の例は、次
の各種化合物である。アルキレンオキシド付加物の酸エ
ステルまたはそれらの塩、ポリスチレンスルホナート、
脂肪酸タウリド、アルキル化ジフェニレンオキシドモノ
−またはジ−スルホナート、ポリカルボン酸エステルの
スルホナート、あるいは有機ジカルボン酸または無機多
塩基酸によって酸性エステルに変換された、エチレンオ
キシドおよび／またはプロピレンオキシドの１乃至６０
モル、好ましくは２乃至３０モルの、それぞれ８乃至２
２個の炭素原子を有する脂肪アミン、脂肪アミド、脂肪
酸または脂肪アルコールへの付加物、または３乃至６個
の炭素原子を有する三乃至六価アルコールへの付加物、
リグノスルホナートおよびホルムアルデヒド縮合生成
物。分散剤およＵＶ吸収剤分散物の製造の詳細は、たと
えば欧州特許第Ａ−０５２３００６号明細書に記載があ
る。

【００３６】本発明によれば、下記のいずれかの発色団
Ｑが好ましく使用される：

【化２２】 各式中、R₂、R₁₄ 、R₁₆ 、R₁₇ およびＢは式（２）、
（６）および（７）において定義した通りである。

【００３７】有機基Ｗは、原則として、少なくとも二価
のアルキレン基であり、これはカルボニル、カルボニレ
ートまたはエーテル基によって中断されていなくても、
または中断されていてもよい。特に、Ｗは１乃至８個、
好ましくは２乃至５個の炭素原子を有する分枝状、また
は好ましくは直鎖状のアルキレン基である。たとえば、
下記の基である。

【化２３】

【００３８】親水基Ｚ₁ とＺ₂ とは好ましくは下記のも
のである（Ｚ_a)アンモニアまたはアミン化合物、（Ｚ_b)
リン酸エステル化合物、（Ｚ_c)カルボン酸エステル化合
物、（Ｚ_d)ポリオール類、（Ｚ_e)硫酸エステル化合物。

【００３９】これらは、本発明によるリポソーム形成Ｕ
Ｖ吸収剤の親水性先端基を形成する。これらの構造エレ
メントの間には、陽イオン（Ｚ_a)、陰イオン〔（Ｚ_b)、
（Ｚ_c)，（Ｚ_e)〕および中性先端基〔（Ｚ_a)と（Ｚ_d)〕
の相違がある。

【００４０】陽性アンモニウム化合物（Ｚ_a)は、特に、
モノ−またはジ−Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルアンモニウム化合物
であり、これらは、さらに置換基によって変性されう
る。下記の基が例としてあげられる。

【化２４】

【００４１】中性アミン化合物の例としては下記のもの
があげられる。

【化２５】

【００４２】リン酸エステル基Ｚ_b は、特にリン酸のモ
ノエステルおよびジエステルから誘導される。この場
合、それらリン化合物は、通常ナトリウム塩の形で使用
される。

【００４３】カルボン酸エステル化合物（Ｚ_c)は、低級
モノ−またはジ−カルボン酸から誘導され、そして同様
に通常はナトリウム塩の形で使用される。

【００４４】ポリオール（Ｚ_e)の例は下記の化合物であ
る。

【化２６】

【００４５】硫酸塩エステル化合物（Ｚ_e)は、硫酸アル
キルエステルから誘導され、これは置換されていなくて
も、またはさらに置換されていてもよい。適当な硫酸エ
ステル基は、主に硫酸エステルイオンＳＯ₄ ^2- である。

【００４６】使用される出発化合物の種類によっては、
先端基（Ｚ_a)乃至（Ｚ_e)は、有機残基Ｗと一緒に、同時
に−Ｗ−Ｚ₁ 単位または−Ｗ−Ｚ₂-単位を形成できる。

【００４７】本発明により使用されるリポソーム形成Ｕ
Ｖ吸収剤は、それ自体公知の方法によって製造すること
ができる。通常、それらは縮合、アルキル化、エステル
化、加水分解等のそれ自体公知の反応工程を計画された
順序で順次実施することによって製造される。反応を実
施するための情報は、有機合成のためのモノグラム，た
とえばJ. March, Advanced Organic Chemistry, 2nd Ed
ition, McGraw-Hill,New York, 1977に見い出すことが
できる。

【００４８】疎水基Ａは、きわめて多種多様な方法で導
入することができる。たとえばＵＶ発色団のフェノール
性ＯＨ基のエステル化（実施例１、２、５および７参
照）または酸塩化物と長鎖ジアルキルアミンとの反応
（実施例４参照）によって実施することができる。親水
性先端基Ｚの導入のためにも、同じく各種の反応が適し
ており、たとえば実施例１および２（四級化）が参照さ
れる。しかしながら、ＡとＺとは、適当な反応操作を使
用すれば同時的に、すなわち、１つの反応工程で導入す
ることもできる。たとえば、これは、適当な酸無水物を
脂肪アルコールを使用して開環することによって実施さ
れる（実施例６）。

【００４９】特に好ましいリポソーム形成化合物は、下
記式の化合物である。

【化２７】 式中、Ａ₁ は疎水基であり、ＱはＵＶ発色団であり、Ｗ
は有機残基であり、Ｚ₁ は親水基であり、ｎ₁ は１乃至
４の数であり、ｐは１または２であり、ｑは１乃至３で
あり、ｒ₁ は１または２であり、そしてｓ₂ は１乃至３
である。

【００５０】さらに、好ましい化合物は下記式の化合物
である。

【化２８】 式中、Ａ₂ は疎水基であり、ＱはＵＶ発色団であり、Ｗ
は有機残基であり、Ｚ₁ は親水基であり、ｎ₂ は１また
は２であり、ｐは１または２であり、ｑは１乃至３であ
り、ｒ₂ は１または２であり、そしてｓは１または２で
ある。

【００５１】ＵＶ発色団としてケイ皮酸誘導体の構造エ
レメントを含有する本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸
収剤の中で好ましいのは、下記式の化合物である。

【化２９】 式中、Ｗ₁ は下記式の残基であり、

【化３０】 R₂₉ は水素、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルまたは−ＣＮであり；R
₃₀ とR₃₁ とは互いに独立的にＣ₁-Ｃ₅ アルキル、ヒド
ロキシル、ヒドロキシ−Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルまたはカルボ
キシルであり；R₃₂ はＣ₁-Ｃ₅ アルキル、ヒドロキシ
ル、ヒドロキシ−Ｃ₁-Ｃ₅ アルキル、カルボキシルまた
は式(15a) の残基であり；Ａ₁ とＡ₂ とは互いに独立的
に水素またはＣ₁₀−Ｃ₁₄アルコキシであって、この場
合、１つの基は常にＣ₁₀ -Ｃ₁₄アルコキシであり；Ｘは
ハロゲン原子であり；ｑは２乃至４の数であり；そして
ｗは０または１である。

【００５２】また、下記式の化合物も好ましい。

【化３１】 式中、R₂₉ は水素、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルまたは−ＣＮであ
り；Ｒ’は水素、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルまたはＣ₁-Ｃ₄ アル
コキシであり；Ａ₁ とＡ₂ とは互いに独立的にＣ₁₀−Ｃ
₁₄アルコキシ基であり；Ｗは、中断されていないか、ま
たは−Ｏ（ＣＯ）−基によって中断されているＣ₂-Ｃ₄
アルキレン基であり；Ｚ₁ とＺ₂ とは互いに独立的にＣ
₁-Ｃ₃ カルボン酸の残基であり；ｎ₁ とｎ₂ とは互いに
独立的に０，１または２であり、ｎ₁ ＝ｎ₂ ＝０の場合
は含まない；そしてｒ₂ は１または２である。

【００５３】ＵＶ発色団としてトリアジン残基を含有す
る本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の中で好まし
いものは、下記式の化合物である。

【化３２】 式中、Ａ₁ は下記式の残基、

【化３３】 または下記式の残基であり、

【化３４】 ｔ₃ とｔ₄ とは互いに独立的に５乃至１３の数である。

【００５４】さらにまた、ＵＶ発色団としてトリアジン
残基を含有する本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤
の中で好ましいものは、下記式の化合物である。

【化３５】 式中、R₁₁'は水素、ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₁₅アルキルま
たはＣ₁-Ｃ₁₅アルコキシであり；R₁₂'は水素またはＣ₁-
Ｃ₁₅アルコキシであり；A₁' とA₂' とは互いに独立的に
Ｃ₈-Ｃ₂₂アルキルであり；そしてＨａｌはハロゲンであ
る。

【００５５】ＵＶ発色団としてベンジリデンカンファー
を含有する本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の中
で好ましいものは、下記式の化合物である。

【化３６】 または

【化３７】 式中、Ａ₁ とＡ₂ 、ＷとＺ₁ は式（１）において定義し
た通りである。

【００５６】本発明によって使用されるリポソーム形成
ＵＶ吸収剤は、それらが有している下記の事実によって
特徴ずけられる： − ヒトの毛髪に対して高い親和性を有する − 毛髪に対する高い紫外線保護を保証する。

【００５７】本発明は、組成物の全量を基準にして少な
くとも０．２５乃至５重量％の式（１）のリポソーム形
成ＵＶ吸収剤と、皮膚および毛髪にとって許容される少
なくとも１種の助剤とを含有する毛髪化粧品製剤にも関
する。

【００５８】本毛髪化粧品製剤は、１種またはそれ以上
のリポソーム形成ＵＶ吸収剤と１種またはそれ以上の助
剤とを、常用方法によって、たとえば個々の成分を一緒
にして単に撹拌することによって、物理的に混合するこ
とによって製造することができる。

【００５９】毛髪化粧品に配合して使用するためには、
本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤は、それらが水
に不溶性であることを条件として、通常０．０２乃至２
μｍ、好ましくは粒子サイズは０．０５乃至１．５μ
ｍ、特に好ましくは０．１乃至１．０μｍの平均粒子サ
イズを有する。本発明による不溶性ＵＶ吸収剤は、常用
方法によって、たとえばジェットミル、ボールミル、バ
イブレーションミルまたはハンマーミルを使用して摩砕
することによって所望の粒子サイズにすることができ
る。摩砕は、好ましくは、紫外線吸収剤を基準にして、
０．１乃至３０重量％、好ましくは０．５乃至１５重量
％の摩砕助剤、たとえばアルキル化ビニルピロリドンポ
リマー、ビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体、アシ
ルグルタメートまたは特にリン脂質の存在下において実
施される。

【００６０】通常使用することができる任意の乳化剤
は、本発明による毛髪化粧品製剤の製造のために使用す
ることができる。たとえば、１種またはそれ以上の天然
誘導体のエトキシル化エステル、たとえば水素化ひまし
油のポリエトキシル化エステル；シリコーン油乳化剤、
たとえばシリコーンポリオール；非エトキシル化または
エトキシル化脂肪酸セッケン；エトキシル化脂肪アルコ
ール；非エトキシル化またはエトキシル化ソルビタンエ
ステル；エトキシル化脂肪酸またはエトキシル化グリセ
リドなどが使用できる。

【００６１】本毛髪化粧品製剤は下記の形態でありう
る： − 洗髪の前または後、染色または漂白の前または後、
あるいはパーマネントウエーブまたはストレート整髪処
置の前または後のリンスのためのシャンプー、ローショ
ン、ゲルまたはエマルジョンの形態、 − スタイリングまたはトリートメントのためのローシ
ョン、フォームまたはゲルの形態、 − ブラッシングまたはウエービングのためのローショ
ンまたはゲルの形態、 − ヘヤーラッカーの形態、 − パーマネントウエーブのため、またはストレート整
髪のため、または毛髪の染色または漂白のための組成物
の形態。

【００６２】たとえば、下記のごとき毛髪化粧品製剤が
使用できる： （a₁) 紫外線吸収剤、ＰＥＧ６−Ｃ₁₀オキソアルコール
およびソルビタン・セスキオレートを含有し、これに水
と任意所望の第四アンモニウム化合物たとえばミンカミ
ドプロピルジメチル−２−ヒドロキシエメチルアンモニ
ウムクロライドまたはQuaternium 80 の４％とを加える
自発乳化性原液調合物； （a₂) 紫外線吸収剤、クエン酸トリブチルおよびＰＥＧ
２０−ソルビタン・モノオレートを含有し、これに水と
任意所望の第四アンモニウム化合物たとえばミンカミド
プロピルジメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウム
クロライドまたはQuaternium 80 の４％とを加える自発
乳化性原液調合物； （ｂ) ブチルトリグリコールとクエン酸トリブチルとの
中の紫外線吸収剤の第四化合物ドープ溶液； （ｃ）公知方法（溶液または溶液混合物からの沈殿、摩
砕）によって得られた、平均直径０．０５乃至１．０ｍ
ｍを有する紫外線吸収剤のＡＰＧ（たとえばPlantaren)
の中分散物と第四（quat）化合物（たとえば、ミンカミ
ドプロピル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムクロラ
イド）との水性調合物； （ｄ）紫外線吸収剤とＮ−アルキルピロリドンとの混合
物または溶液。

【００６３】本発明によるリポソーム形成ＵＶ吸収剤の
ほかに、本毛髪化粧品製剤は、１種またはそれ以上の紫
外線防御物質、たとえばオキサニリド類またはビニール
基含有アミドまたはケイ皮酸アミドをさらに付加的に含
有することができる。このような防御物質は、たとえば
英国特許第Ａ−２２８６７７４号明細書に記載されてお
り、または Cosmetics & Toiletries(107),50 頁以降(1
992)から公知である。

【００６４】本発明による組成物は、さらに他の有益な
助剤等を含有することもできる。たとえば、界面活性
剤、シックナー、ポリマー、保存剤、香料、泡安定剤、
電解質、有機溶剤、油、ワックス、脱脂剤、さらには被
処理毛髪と同じ色合いを毛髪化粧品製剤に与えるのに役
立つ染料および／または顔料、およびその他の毛髪化粧
品に常用の助剤を含有することができる。

【００６５】本発明は、また、紫外線照射の傷害作用か
ら保護するためにヒトの毛髪を処理する方法にも関す
る。その方法は、毛髪を洗髪の前または後、染色または
漂白の前または後、あるいはパーマネントウエーブまた
はストレート整髪処置の前または後のリンスのためのシ
ャンプー、ローション、ゲルまたはエマルジョンを用い
て、スタイリングのためのローション、フォームまたは
ゲルを用いて、ブラッシングまたはウエービングのため
のローション、フォームまたはゲルを用いて、ヘヤーラ
ッカーを用いて、またはパーマネントウエーブのため、
またはストレート整髪のため、または毛髪の染色または
漂白のための組成物を用いて処理することを含み、それ
らのシャンプー、ローション、ゲル、エマルジョン、ヘ
ヤーラッカー、またはパーマネントウエーブのための組
成物が、式（１）のリポソーム形成ＵＶ吸収剤を含有し
ていることを特徴とする。以下の実施例によって本発明
をさらに詳細に説明する。しかし、これらに限定される
ものではない。

【００６６】新規化合物の製造例 実施例１ ：ビス｛２−［３−（４−ドデシルオキシフェ
ニル）アクリロイルオキシ］エチル｝ジメチルアンモニ
ウムメチルサルフェート

【化３８】 ４−ドデシルオキシケイ皮酸は、一般に公知の方法によ
って、４−アルコキシベンズアルデヒドをマロン酸と縮
合するか、またはクマリン酸をドデシルブロマイドと反
応させことによって製造される。得られる無色結晶は１
５８乃至１５９℃の融点を有する。これを、ベンゼン中
において、塩化オキサリルと反応（室温で１８時間）さ
せることによって、対応する酸塩化物がほとんど定量的
に得られる。４−ドデシルオキシシンナモイルクロリド
の２８．１ｇを、撹拌しながらかつ室温に冷却しなが
ら、まず１５０mlのクロロホルム中に導入し、最初にト
リエチルアミンの４．１ｇ（０．０４モル）で処理し、
次にＮ−メチルジエタノールアミンの５．０ｇ（０．０
４モル）を加える。この混合物をさらに約４時間撹拌
し、そして１０℃に冷却する。この反応溶液を前もって
ＮＨ₃ で飽和させたクロロホルムの２５０mlへ滴下添加
して塩基を遊離させる。この懸濁物をHyflo （商標）に
２回通して濾過し、そして蒸発乾固する。得られた粗製
アミンはカラムクロマトグラフィー（シリカゲル、トル
エン／エタノール９５：５）で精製することができる。
収量は理論値の５３％である。四級化のため、このアミ
ンを最初にトルエン中に導入し、そして４０℃におい
て、当モル量の硫酸ジメチル（＝１０１ａ）またはヨウ
化メチル（＝１０１ｂ）と反応させる。３時間後、薄層
クロマトグラフィーは出発物質が存在しないことを示
す。この混合物を乾燥体まで真空濃縮し、そしてアセト
ンを加えて生成物を結晶化させる。この無色結晶をアセ
トンで、次にヘキサンで洗い、４０℃において乾燥す
る。この四級化は、ほとんど定量的に進行する。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
１３ｎｍ ε_max ＝５３５００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００６７】実施例２：｛２-[３−（３，４−ビス−ド
デシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝
-(２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウムブロマ
イド

【化３８】 ３，４−ビス−ドデシルオキシケイ皮酸および対応する
酸塩化物を、実施例１に記載された方法に準じて製造し
た。アミン塩基のエステル化および遊離のために、実施
例１と同様にして、２−ジメチルアミノエタノールとの
反応を行なった。２−ブロモエタノールによる四級化
は、トルエン中、１００℃において１２時間かけて実施
した。粗生成物はアセトンで洗滌し、次にカラムクロマ
トグラフィーにかけることによってさらに精製すること
ができる。 ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
２８ｎｍ ε_max ＝１９５００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００６８】実施例３：｛２-[３−（３，４−ビス−ド
デシルオキシフェニル）アクリロイルミノ］エチル｝-
(２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニウムブロマ
イド この化合物の合成は、実施例２に記載した方法に従って
実施した。エステル化の代わりに、２−ジメチルアミノ
エチルアミンとの反応を行ってアミドを得た。この生成
物はアセトンと共に摩砕し、そしてメタノールから再結
晶することによって精製することができる。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
２１ｎｍ ε_max ＝１９５００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００６９】実施例４：２、４−ビス［（４−カルボキ
シル）アニリノ］−６−ジオクタデシルアミノ−ｓ−ト
リアジン（ナトリウム塩）

【化４０】 最初に、塩化シアヌールの１８．５ｇ（０．１モル）を
ジオキサン／水（９：１）混合物の２５０ml中に、０乃
至５℃において、導入する。ついで撹拌しながら４−ア
ミノ安息香酸エチルの１６．５ｇ（０．１モル）を導入
し、そして温度が１５℃に上昇し、pHが０．５に低下す
る。この白色懸濁物を、３０％ＮａＯＨを使用してpH
８．０乃至８．５に調整し、そしてさらに１当量のアミ
ンを加える。この混合物をジオキサン／水の２５０mlで
希釈し、ＮａＯＨを自動供給してpHを８．５に保持しな
がら９０℃に加熱する。４時間後、固体を吸引濾別し、
ジオキサン、水、メタノールで洗う。この粗製中間生成
物を、エチルセロソルブから再結晶して精製する（収
量：２５．７ｇ，理論値の５８％；融点２６４℃）。こ
の中間物６．６３ｇ（０．０１５モル）と４−（ジメチ
ルアミノ）ピリジンの１．８３ｇ（０．０１５モル）と
を、最初にジメチルホルムアミドの７０ml中に導入し、
そしてクロロホルムの３０ml中に溶解したジオクタデシ
ルアミンの８．３ｇを６０℃において、加える。この混
合物を１００℃において３時間撹拌し、そして熱溶液を
濾過し、そして蒸発乾固する。残留物をトルエン／酢酸
エチル（８０：２０）５０mlで抽出し、そしてカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル）で精製する（収量：
４．５ｇ；理論値の３３％；無色ワックス様エステ
ル）。加水分解のために、このエチルエステルをまずエ
タノール／ＮａＯＨ混合物中に導入し、そして２時間還
流加熱する。ゼラチン様沈殿を濾別し、アセトンで洗滌
する。加水分解はほとんど定量的に遂行される。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
０１ｎｍ ε_max ＝６００００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００７０】実施例５：モノ｛３−［３−（３，４−ビ
スドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］−２
−ヒドロキシプロピル｝２，３−ジアセトキシスクシナ
ート

【化４１】 ３，４−ビス−ドデシルオキシケイ皮酸および対応する
酸塩化物を、実施例１に記載された方法に準じて製造す
る。これからモノグリセリドが、Watanabe等（J.Med. C
hem. 1980, 23, 50-59) の方法に従って、イソプロピリ
デングリセロールによるエステル化およびそれに続くホ
ウ酸による保護基の脱離によって、ほぼ定量的収量で得
られる。モノグリセリドの５．９１ｇ（０．０１モル）
と無水ジアセチル酒石酸２．１６ｇ（０，０１モル）と
の混合物を、不活性ガスの雰囲気下において２時間１２
０℃に加熱する。ガラス様粗生成物はカラムクロマトグ
ラフィー（シリカゲル；トルエン／アセトン８：２）に
よって精製することができる。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
２８ｎｍ ε_max ＝１７４００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００７１】実施例６：１−ドデシル２−［３−（４−
ドデシルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］スクシ
ナート

【化４２】 ４−ドデシルオキシシンナモイル塩化物を、実施例１に
記載されたようにして製造した。酸塩化物３０．９ｇ
（０．０８８モル）を、ＤＬ−リンゴ酸５．３６ｇ
（０．０４モル）およびクロロベンゼンの１００mlと一
緒に、最初に反応容器中に導入し、そして不活性ガス雰
囲気下において１３０℃に加熱する。この混合物を２時
間撹拌した後、ＨＣl の発生が完了する。ついで、クロ
ロベンゼンの１０ml中に溶解した１−ドデカノールの
７．７ｇ（０，０４モル）を滴下添加し、そしてこの混
合物をさらに３時間還流加熱する。冷却後、沈殿を吸引
濾別し、トルエンとヘキサンとで洗い、８０℃において
真空乾燥する。粗生成物はカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル、トルエン／アセトン８０：２０）によっ
て精製することができる。収量は１５．２ｇ（理論値の
６２％）。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
１１ｎｍ ε_max ＝２７３００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００７２】実施例７：ビス｛２−［３−（４−ドデシ
ルオキシフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝アミ
ノ酢酸

【化４３】 ４−ドデシルオキシシンナモイル塩化物（製造方法は実
施例１参照）２６．７ｇ（０．０７５モル）とＮ，Ｎ−
ビス（ヒドロキシエチル）グリシンの４．９ｇ（０．０
３モル）とをよく混合し、そして不活性ガス雰囲気下に
おいて、ゆっくりと１３０乃至１４０℃に加熱する。こ
のバッチは、８０℃以上において撹拌可能となり、ＨＣ
ｌの発生が起こる。４時間後に反応は完了する。冷却
後、アセトン／水（９５：５）１００mlを添加し、そし
てこの混合物を２時間還流加熱する。蒸発乾固し、カラ
ムクロマトグラフィー（シリカゲル、トルエン／アセト
ン８０：２０）にかけて精製する。高度に吸湿性のこの
生成物の収量は３．１ｇ（理論値の１３％）である。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
１３ｎｍ ε_max ＝２９３００Ｍ^-1ｃｍ^−１

【００７３】実施例８：１−｛２−［３−（４−メトキ
シフェニル）アクリロイルオキシ］エチル｝２−ドデセ
−２−エニルスクシナート（トリエタノールアミン塩）

【化４４】 ２−ヒドロキシエチル４−メトキシシンナメートを、文
献から公知の方法（エステル化）によって製造する。２
−ヒドロキシエチル４−メトキシシンナメートの９．０
ｇ（０．０４モル）と無水２−ドデセニルコハク酸１
０．６ｇ（０．０４モル）とをトルエンの５０ｍｌ中に
溶解し、そしてこの溶液を１００乃至１１０℃において
撹拌する。６時間後、薄層クロマトグラフィーの結果
は、ほとんど定量的な転化がなされたことを示す。この
混合物を５５乃至６０℃に冷却し、そしてトリエタノー
ルアミンの５．３５ｇ（０，０３６モル）を加える。こ
の混合物をさらに６時間撹拌し、そして溶剤を真空下で
除去する。わずかに着色した粘性の高い生成物２４．９
ｇ（理論値の９７．７％）を得る。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
１２ｎｍ ε_max ＝２６４００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００７４】実施例９：１−｛［１−ヒドロキシ−２−
（２−ベンゾトリアゾリル）−６−ｔ−ブチル−４−
（４−ヒドロキシブチル）］フェニル｝２−ドデセ−２
−エニルスクシナート

【化４５】 ２−ベンゾトリアゾール−２−イル−６−ｔ−ブチル−
４−（４−ヒドロキシブチル）フェノールを、文献から
公知の方法によって製造する。２−ベンゾトリアゾール
−２−イル−６−ｔ−ブチル−４−（４−ヒドロキシブ
チル）フェノールの８．５ｇ（０．０２５モル）と無水
２−ドデセニルコハク酸６．９ｇ（０．０２５モル）と
を、トルエンの１００ml中に溶解し、そして窒素雰囲気
下において１００乃至１１０℃で撹拌する。１８時間
後、薄層クロマトグラフィーの結果がほとんど定量的な
転化がなされたことを示す。溶剤を真空中で除去し、そ
して残留物をカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢
酸エチル＝９：１；シリカゲル４０ｘ５ｃｍ）にかけて
精製する。わずかに着色したきわめて粘性の生成物５．
４ｇ（理論値の３６％）を得る。ＵＶスペクトル （１０^-5Ｍ；エタノール）；λmax ＝３
４０ｎｍ ε_max ＝１４５００Ｍ^-1ｃｍ^-1

【００７５】実施例１０ａ：２−［４−ヒドロキシメチ
ルフェニル］−４−［４−メトキシフェニル］−６−
［２−ヒドロキシフェニル］−ｓ−トリアジン 式

【化４６】 のベンゾオキサジノン（Brunetii, Luethi; Helv. 55(1
972) 1566-1595の方法によって製造）１２．７ｇと式

【化４７】 のベンゾアミジン塩酸塩（ドイツ国特許第３５０９０１
０号明細書に記載されている）９．３ｇとを、メタノー
ルの３００ml中において撹拌して、白色懸濁物を得る。
この混合物に、ナトリウムメチラート溶液（メタノール
中３０％）９ｇを、窒素雰囲気下、室温において１０分
間かけて滴下し、そしてこの混合物を７０℃において２
時間撹拌する。冷却後、固体を吸引濾別し、メタノール
の５０mlと水２００mlとで洗い、そして６０℃において
真空乾燥する。淡黄色粉末として、下記式の化合物１
４．５ｇ（収率は７５．２％）を得る。

【化４８】 物理データ： 融点：２４０．４℃ ＵＶ（アセトニトリル）：λmax ２７９ｎｍ／ε４０３
００

【００７６】実施例１０ｂ：２−［４−ジデシルアミノ
メチル］−４−［４−メトキシル］−６−［２−ヒドロ
キシフェニル］−ｓ−トリアジン 式（１１０ｃ）の化合物７．７ｇをクロロベンゼン１０
０mlに入れて撹拌して、黄色懸濁物を得る。これを約１
００℃に加熱し、この温度において塩化チオニルの２．
８５ｇを添加する。黄色透明溶液となる。この溶液を１
００℃において２．５時間撹拌する。このあと１６０℃
の浴温度において、液体３０mlを蒸去する。１１０℃に
冷却した後、ジデシルメチルアミンの６．６ｇを滴下す
る。この混合物を一晩撹拌した後、放置して結晶を析出
させる。得られた結晶［式（１１０ｄ）の未反応中間
体］を濾別し、そして母液を回転蒸発器にかけて実質的
に蒸発乾固する。残留物から黄色沈殿が生じる。これを
濾別し、ヘキサンで洗う。黄色粉末を得る。これを酢酸
エチルから再結晶して、黄色薄片状結晶の形状を呈する
下記式の化合物４．２５ｇを得る（収率２９．７％）。

【化４９】 物理データ： 融点：１５５−１６０℃¹ Ｈ−ＮＭＲ（Ｃ₆ Ｄ₆)、δ ppm：13.04(s. 1H, -OH),
8.51(d, 1H,芳香族),8.45(d, 2H, 芳香族) 、8.31(d, 2
H, 芳香族) 、7.80(d, 2H, 芳香族) 、7.13(t, 1H, 芳
香族) 、6.96(d, 1H, 芳香族) 、6.75(t, 1H, 芳香族)
、6.66(d, 2H, 芳香族) 、5.53(s, 2H, PhCH₂NR₃ ⁺)、
3.36(s, 3H, -OCH₃ ) 、3.08(m, 4H, -⁺NCH₂R)、2.75
(s, 3H, -⁺NCH₃), 1.75-1.10(m, 32H, 脂肪族)、 0.87(t, 6H,-CH₃ ) 。反応方程式：

【化５０】

【００７７】使用例 実施例１１ ａ．リポソームの製造 式（101a）の化合物（製造法は実施例１参照）１乃至５
ｇを、Ｎ−メチルピロリドンの（ＮＭＰ）１００ml中に
溶解する。次に、この溶液を、ＮａＣl の０．９％水溶
液９００ml中に滴下添加するか、または注射器を使用し
て注入して、リポソームを形成する。得られたリポソー
ム懸濁物の容積を、透析濾過装置（Ultrasette, Skan A
G, Basle) を使用して、５０乃至１００mlに濃縮する。
この結果、リポソームは１乃至１０％に濃縮される。つ
いで、同じく透析濾過装置を使用して、溶剤を交換す
る。すなわち、さらに濾過を行い、同時に排出された濾
液の容積分を純０．９％ＮａＣl で補完する。溶剤交換
のために、濃縮されたリポソーム懸濁物を基準にして、
少なくとも５倍の容積の純ＮａＣl の０．９％溶液を使
用する。初期ＮＭＰ濃度が１０％であるとすると、この
時まだ懸濁物中に残存しているＮＭＰは多くとも０．０
７％である。ＮＭＰの残留濃度は、交換のために使用さ
れるＮａＣl の０．９％溶液の容積を増加させることに
よって、所望のごとく減少させることができる。別の方
法として、リポソームは次のようにして製造することも
できる、すなわち、式（101a）の化合物１乃至５ｇを、
最初に溶剤（ＮＭＰ、エタノールまたはジエチルエーテ
ル）の１００ml中に溶解する。次に、この溶液を丸底フ
ラスコに入れて加熱し、そして回転蒸発器にかけて溶剤
を真空蒸発させる。フラスコの内壁に形成された膜に、
ＮａＣl の０．９％溶液５０乃至１００mlを加えて、フ
ラスコを振とうする。このようにして形成されたリポソ
ームを、次に超音波ロッド（Branson Model 250 Sonifi
er, Skan AG、 Basle) を使用して、１０乃至６０分間超
音波処理する。この処理によりリポソームのサイズが縮
小される。 ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、光子相関分光分析（ALV/Monomode
Fibre Compact Gonio- meter System, ALV-Laser Gmb
H, Langen）を使用して測定する。この測定を行うため
に、リポソーム懸濁物を０．０２乃至０．１％まで希釈
し、そして散乱光の変動の自動相関関数を４つの散乱角
（３０°、６０°、９０°および１２０°）において測
定する。ＣＯＮＴＩＮソフトウェアを使用して、これか
ら平均拡散係数を求め、角度依存性の場合には、０°の
散乱角に外挿する。リポソームの直径は、得られた散乱
係数から、Stokes-Einstein 関係式を使用して得られ
る。注射方式を使用して製造された式（101a）の化合物
のリポソームの場合、下記の値が得られた：ｄ＝（２２
０±４０）ｎｍ。これは、リポソームが存在している証
拠と見なされるなる。ａ項において記載した第二番目の
リポソーム製造法の場合には、音波処理時間（１０乃至
６０分間）を変えることによって、直径は１０００乃至
２００ｎｍの範囲において調節することができる。ｃ．スペクトル特性 式（101a）の化合物の最大吸収は３１０ｎｍの波長にあ
る。この波長において、１ｃｍの光学的層厚における１
％溶液の吸収は、下記の数値を示す： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝６１２。 吸収帯の半輝度幅は５８ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクター（ＬＰＦ）は、Di
ffeyとRobsonとの方法( J. Soc.Cosmet. Chem. 40(198
9) 127) によって測定された。すなわち、Tranpore（商
標）テープ（３Ｍ）に、ｃｍ² 当り２μl の製剤を塗布
する。このあと、拡散透過（積分球を使用して測定）
を、２９０乃至４００ｎｍのスペクトル領域において、
塗布していないTranspore （商標）テープを対照とし
て、測定する。サン・プロテクション・ファクターの計
算のために、皮膚の敏感度スペクトルと日光の輝度スペ
クトルとによりウエイトをかける。各ケースについて、
測定は９回実施し、得られたサン・プロテクション・フ
ァクターの最高値と最低値とは捨て、７つの測定値から
最終的な平均をとる。しかして、式（１０１ａ）の化合
物の５％リポソーム懸濁物の場合、下記の値を得た： ＬＰＦ＝８．６±１．７。

【００７８】実施例１２ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに、式
（１０１ｂ）の化合物を使用し、そして注射用の溶剤と
して、ＮＭＰの代りに６５℃に加熱したエタノールを使
用した。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０１ｂ）の化合物のリポソームにつ
いて、下記の値を得た： ｄ＝（１９０±３０）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０１ｂ）の化合物の最大吸収は、３１０ｎｍの波
長にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚にお
ける１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝６０１。 吸収帯の半輝度幅は５８ｎｍである。ｅ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、式（１０１
ａ）の化合物の場合における実施例１１ｅに記載した方
法と同様な方法で測定した。式（１０１ｂ）の化合物の
５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝８．３±１．６。

【００７９】実施例１３ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載した方法と同様な方
法で製造した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代り
に式（１０２ａ）の化合物（この化合物の製造方法は実
施例２参照）を使用した。注射用の溶剤は、エタノール
またはＮＭＰである。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０２ａ）の化合物のリポソームにつ
いて、下記の値を得た： ｄ＝（２５０±４０）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０２ａ）の化合物の最大吸収は、３２８ｎｍの波
長にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚にお
ける１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２７３。 吸収帯の半輝度幅は７１ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｄ
に記載した方法と同様な方法で測定した。式（１０２
ａ）の化合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結
果を得た： ＬＰＦ＝３．０±０．３。

【００８０】実施例１４ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに、式
（１０２ｂ）の化合物を使用した。注射用の溶剤は、エ
タノールまたはＮＭＰであった。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０２ｂ）の化合物のリポソームにつ
いて、下記の値を得た： ｄ＝（１５０±２５）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０２ｂ）の化合物の最大吸収は、３２８ｎｍの波
長にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚にお
ける１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２７４。 吸収帯の半輝度幅は６９ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載した方法に準じて測定した。式（１０２ｂ）の化
合物の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得
た： ＬＰＦ＝３．０±０．３。

【００８１】実施例１５ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１
０４）の化合物（この化合物の製造方法は実施例４参
照）を使用した。注射のための溶剤は、エタノールまた
はＮＭＰである。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０４）の化合物のリポソームについ
て、下記の値を得た： ｄ＝（１２０±１５）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０４）の化合物の最大吸収は、３０３ｎｍの波長
にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚におけ
る１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝６５４。 吸収帯の半輝度幅は３９ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載したようにして測定した。式（１０４）の化合物
の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝５．０±０．５。

【００８２】実施例１６ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１
０５）の化合物（この化合物の製造方法は実施例５参
照）を使用した。注射用の溶剤は、エタノールまたはＮ
ＭＰである。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０５）の化合物のリポソームについ
て、下記の値を得た： ｄ＝（１５０±２５）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０５）の化合物の最大吸収は、３２８ｎｍの波長
にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚におけ
る１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２１５。 吸収帯の半輝度幅は６８ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載したようにして測定した。式（１０５）の化合物
の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝２．３±０．３。

【００８３】実施例１７ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１
０６）の化合物（この化合物の製造方法は実施例６参
照）を使用した。注射用の溶剤は、エタノールまたはＮ
ＭＰである。 ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ａに記載したようにし
て測定した。式（１０６）の化合物のリポソームについ
て、下記の値を得た： ｄ＝（１８０±３０）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０６）の化合物の最大吸収は、３１２ｎｍの波長
にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚におけ
る１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝４５１。 吸収帯の半輝度幅は５０ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載したようにして測定した。式（１０６）の化合物
の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝５．６±０．７。

【００８４】実施例１８ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１
０７）の化合物（この化合物の製造方法は実施例７参
照）を使用した。注射用の溶剤は、エタノールまたはＮ
ＭＰである。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０７）の化合物のリポソームについ
て、下記の値を得た： ｄ＝（９８０±１３０）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０７）の化合物の最大吸収は、３１３ｎｍの波長
にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚におけ
る１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝３４７。 吸収帯の半輝度幅は５２ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載したようにして測定した。式（１０７）の化合物
の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝３．８±０．４。

【００８５】実施例１９ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１
０８）の化合物（この化合物の製造方法は実施例８参
照）を使用した。注射用の溶剤は、エタノールまたはＮ
ＭＰである。ｂ．リポソームの直径の測定 リポソームの直径を、実施例１１ｂに記載したようにし
て測定した。式（１０８）の化合物のリポソームについ
て、下記の値を得た： ｄ＝（１７０±３０）ｎｍ。ｃ．スペクトル特性 式（１０８）の化合物の最大吸収は、３１０ｎｍの波長
にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚におけ
る１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝４１８。 吸収帯の半輝度幅は５３ｎｍである。ｄ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載したようにして測定した。式（１０８）の化合物
の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝４．８±０．５。

【００８６】実施例２０ ａ．リポソームの製造 リポソームを、実施例１１ａに記載したようにして製造
した。ただし、式（１０１ａ）の化合物の代りに式（１
０９）の化合物（この化合物の製造方法は実施例９参
照）を使用した。注射用の溶剤はＮＭＰである。ｂ．スペクトル特性 式（１０９）の化合物の最大吸収は、３３９ｎｍの波長
にある。この波長において、１ｃｍの光学的層厚におけ
る１％溶液の吸収は、下記の値を示した： Ｅ（１％，１ｃｍ）＝２３７。ｃ．ライト・プロテクション・ファクターの測定 ライト・プロテクション・ファクターを、実施例１１ｅ
に記載したようにして測定した。式（１０９）の化合物
の５％リポソーム懸濁物について下記の結果を得た： ＬＰＦ＝５．５。

【００８７】実施例２１ 調合物または溶液からの抽出度を測定することによる毛
髪に対する紫外線吸収剤の親和性の測定 １０ミリモルの紫外線吸収剤の溶液１０mlと毛髪束１ｇ
とを、規定された再現性のある仕方で、ガラス容器の中
で振り混ぜた。３０分後と６０分後とにおいて、分光光
度計を使用して、試験調合物または溶液中の紫外線吸収
剤の濃度の減少を測定する（表６参照）。この方法によ
って測定された抽出度が、紫外線吸収剤または紫外線吸
収剤を含む調合物の親和性の尺度である。

【表１】

【００８８】実施例２２ ：ヘヤーリンスの製造 組成 式（１１０）の紫外線吸収剤 １ｇ セチルステアリルアルコールと、セチルステアリルアルコールの１モル とエチレンオキシドの３３モルとの付加物の混合物 ２ｇ モノエタノールアミド ０．５ｇ キサンタンガム ０．８ｇ 上記の各成分を混合し、保存剤および香油を添加し、そ
して次に希塩酸によってpHを６．５に調整する。これに
より、ヒトの毛髪を紫外線から良好にかつ長期にわたっ
て保護する即時使用可能なヘヤーリンスを得る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ａ６１Ｋ 7/135 Ａ６１Ｋ 7/135 Ｃ０７Ｄ 251/14 Ｃ０７Ｄ 251/14 // Ａ６１Ｋ 7/40 Ａ６１Ｋ 7/40 7/42 7/42 Ｃ０７Ｄ 249/20 ５０２ Ｃ０７Ｄ 249/20 ５０２ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｂ (72)発明者 ディートマー ヒューグリン ドイツ国，79104 フライブルグ，ザンド シュトラーセ ６ (72)発明者 ロバート ホッホベルグ ドイツ国，79100 フライブルグ，ゲーテ シュトラーセ 13

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 親水性先端基（＝Ｚ）、スペーサー（＝
   Ｗ）、２８５乃至４００ｎｍの領域に吸収をもつＵＶ発
   色団（Ｑ）、少なくとも１つの疎水性末端基（＝Ａ）を
   含有する下記式のリポソーム形成ＵＶ吸収剤を、ヒトの
   毛髪を紫外線照射の損傷作用から保護するために使用す
   る方法 【化１】 （式中、Ａ₁ とＡ₂ とは互いに独立的に疎水基であり；
   ＱはＵＶ発色団であり；Ｗは有機残基であり；Ｚ₁ とＺ
   ₂ とは互いに独立的に親水基であり；ｎ₁ とｎ₂ とは互
   いに独立的に０乃至４の数、ただしｎ₁ ＝ｎ₂ ＝０の場
   合は含まない；ｐは１または２であり；ｑは０乃至３の
   数であり；r₁は１または２であり；r₂は０または１であ
   り；そしてs₁は１乃至３の数である）。
2. 【請求項２】 式（１）中のＵＶ発色団Ｑが、下記から
   なるクラスより選択される請求項１記載の使用方法 （Ｑ₁)ケイ皮酸エステル；および（Ｑ₂)トリアジン誘導
   体。
3. 【請求項３】 発色団（Ｑ₁)が、下記式のケイ皮酸から
   誘導される請求項１または２に記載の使用方法 【化２】 （式中、R'は水素、Ｃ₁-Ｃ₄ アルキルまたはＣ₁-Ｃ₄ ア
   ルコキシであり；R₁はＣ₁-Ｃ₄ アルコキシ、好ましくは
   メトキシまたはエトキシであり；そしてR₂は水素、Ｃ₁-
   Ｃ₄ アルキルまたは -ＣＮである）。
4. 【請求項４】 ＵＶ発色団（Ｑ₂)が、下記式のα−ヒド
   ロキシフェニル−ｓ−トリアジン化合物から誘導される
   請求項１乃至３のいずれか１項に記載の使用方法 【化３】 ［式中、R₃とR₄とは互いに独立的にＣ₁-Ｃ₅ アルキル；
   ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₅ アルコキシ、Ｃ₁-Ｃ₅ アルキル
   チオ、アミノまたはＣ₁-Ｃ₅ モノ−またはジ−アルキル
   アミノによって置換されたＣ₁-Ｃ₁₈アルキル；置換され
   ていないフェニル；または塩素、ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ
   ₁₈アルキルおよび／またはＣ₁-Ｃ₁₈アルコキシによって
   置換されたフェニルであり；R₅はＣ₁-Ｃ₁₈アルキル、Ｃ
   ₁-Ｃ₁₈アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシル、式 （３ａ） −（Ｏ−ＣＨ₂-ＣＨ₂-)_t−R₆ （式中、R₆は水素またはＣ₁-Ｃ₅ アルキルである）の
   基、または式 【化４】 （式中、R₇はＣ₁-Ｃ₅ アルキルまたはＣ₁-Ｃ₅ アルコキ
   シ−Ｃ₁-Ｃ₅ アルキルであり；そしてＶ₁ はＣ₁-Ｃ₄ ア
   ルキレン基である）の基であり；ｍ₁ は０、１または２
   であり；そしてｔは１乃至５である］。
5. 【請求項５】 組成物の全量を基準にして少なくとも
   ０．２５乃至５重量％のリポソーム形成ＵＶ吸収剤と、
   皮膚および毛髪に許容される少なくとも１種の助剤とを
   含有する毛髪化粧品製剤。
6. 【請求項６】 請求項５記載の毛髪化粧品製剤を、紫外
   線照射から毛髪を保護するために使用する方法であっ
   て、該毛髪化粧品製剤が洗髪の前または後、染色または
   漂白の前または後、あるいはパーマネントウエーブまた
   はストレート整髪処置の前または後のリンスのためのシ
   ャンプー、ローション、ゲルまたはエマルジョンの形
   態、スタイリングまたはトリートメントのためのローシ
   ョン、フォームまたはゲルの形態、ブラッシングまたは
   ウエービングのためのローション、フォームまたはゲル
   の形態、ヘヤーラッカーの形態、あるいはパーマネント
   ウエーブのため、ストレート整髪のため、あるいは毛髪
   の染色または漂白のための組成物の形態である使用方
   法。
7. 【請求項７】 紫外線照射の傷害作用から保護するため
   にヒトの毛髪を処理する方法において、毛髪を洗髪の前
   または後、染色または漂白の前または後、あるいはパー
   マネントウエーブまたはストレート整髪処置の前または
   後のリンスのためのシャンプー、ローション、ゲルまた
   はエマルジョンを用いて、スタイリングためのローショ
   ン、フォームまたはゲルを用いて、ブラッシングまたは
   ウエービングのためのローション、フォームまたはゲル
   を用いて、ヘヤーラッカーを用いて、あるいはパーマネ
   ントウエーブのため、ストレート整髪のため、あるいは
   毛髪の染色または漂白のための組成物を用いて処理する
   ことからなり、それらのシャンプー、ローション、ゲ
   ル、エマルジョン、ヘヤーラッカー、またはパーマネン
   トウエーブのための組成物が、式（１）のリポソーム形
   成ＵＶ吸収剤を含有していることを特徴とする処理方
   法。
8. 【請求項８】 下記式の化合物 【化５】 （式中、R₁₁'は水素、ヒドロキシル、Ｃ₁-Ｃ₁₅アルキル
   またはＣ₁-Ｃ₁₅アルコキシであり；R₁₂'は水素またはＣ
   ₁-Ｃ₁₅アルコキシであり；A₁' とA₂' とは互いに独立的
   にＣ₈-Ｃ₂₂アルキルであり；そしてHal はハロゲンであ
   る）。