JPH1129555A - ピラゾリノン誘導体の製造法 - Google Patents
ピラゾリノン誘導体の製造法Info
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- JPH1129555A JPH1129555A JP9181069A JP18106997A JPH1129555A JP H1129555 A JPH1129555 A JP H1129555A JP 9181069 A JP9181069 A JP 9181069A JP 18106997 A JP18106997 A JP 18106997A JP H1129555 A JPH1129555 A JP H1129555A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/14—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D231/44—Oxygen and nitrogen or sulfur and nitrogen atoms
- C07D231/52—Oxygen atom in position 3 and nitrogen atom in position 5, or vice versa
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C309/00—Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
- C07C309/63—Esters of sulfonic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】一般式 化１
【化１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は置換されていてもよい炭化水素基
を表し、Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を表
す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造法。 【解決手段】一般式 化２ 【化２】 （式中、Ｒ1及びＡｒは前記と同じ意味を表す。）で示
されるピラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式 化３ 【化３】Ｒ2−Ｏ−ＳＯ2Ｒ3 （式中、Ｒ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ3はＣ１〜Ｃ１
０アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を
表す。）で示されるスルホン酸エステルとを、主反応溶
媒としてのエ−テル系溶媒の存在下に反応させることを
特徴とする、一般式 化１で示されるピラゾリノン誘導
体の製造法。
を表し、Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を表
す。）で示されるピラゾリノン誘導体の製造法。 【解決手段】一般式 化２ 【化２】 （式中、Ｒ1及びＡｒは前記と同じ意味を表す。）で示
されるピラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式 化３ 【化３】Ｒ2−Ｏ−ＳＯ2Ｒ3 （式中、Ｒ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ3はＣ１〜Ｃ１
０アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を
表す。）で示されるスルホン酸エステルとを、主反応溶
媒としてのエ−テル系溶媒の存在下に反応させることを
特徴とする、一般式 化１で示されるピラゾリノン誘導
体の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はピラゾリノン誘導体
の製造法に関する。
の製造法に関する。
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】式
化５
化５
【化５】 （式中、iPrはイソプロピル基、tBuはタ−シャリ−ブチ
ル基、sBuはセカンダリ−ブチル基、Meはメチル基を表
す。以下、同じ。）で示されるピラゾリノン誘導体等が
優れた植物病害防除活性を示すことが知られ、また、そ
の具体的な製造法として、下記式 化６に示されるよう
なアルキル化方法が知られている（特開平８−２０８６
２１公報）。
ル基、sBuはセカンダリ−ブチル基、Meはメチル基を表
す。以下、同じ。）で示されるピラゾリノン誘導体等が
優れた植物病害防除活性を示すことが知られ、また、そ
の具体的な製造法として、下記式 化６に示されるよう
なアルキル化方法が知られている（特開平８−２０８６
２１公報）。
【化６】
【０００２】しかし、該製造法では、ピラゾリノン環の
２位の窒素がアルキル化された所望の化合物（以下、Ｎ
−アルキル体と称す。）の他に、ピラゾリノン環の３位
のカルボニル酸素が置換された化合物（以下、Ｏ−アル
キル体と称す：例えば、式 化７記載の化合物。）が大
量に副生する場合があり（後記比較例１、２参照）、収
率及びアルキル化の位置選択性の向上を図るため、より
有利な製造法の開発が切望されている。
２位の窒素がアルキル化された所望の化合物（以下、Ｎ
−アルキル体と称す。）の他に、ピラゾリノン環の３位
のカルボニル酸素が置換された化合物（以下、Ｏ−アル
キル体と称す：例えば、式 化７記載の化合物。）が大
量に副生する場合があり（後記比較例１、２参照）、収
率及びアルキル化の位置選択性の向上を図るため、より
有利な製造法の開発が切望されている。
【化７】
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、一般式 化８
を解決すべく鋭意検討した結果、一般式 化８
【化８】 （式中、Ｒ1は置換されていてもよい炭化水素基を表
し、Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を表す。）
で示されるピラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式
化９
し、Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を表す。）
で示されるピラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式
化９
【化９】Ｒ2−Ｏ−ＳＯ2Ｒ3 （式中、Ｒ2は置換されていてもよい炭化水素基を表
し、Ｒ3はＣ１〜Ｃ１０アルキル基または置換されてい
てもよいフェニル基を表す。）で示されるスルホン酸エ
ステルとを、主反応溶媒としてのエ−テル系溶媒の存在
下に反応させることにより、Ｏ−アルキル体の生成が顕
著に抑制され、一般式化１０
し、Ｒ3はＣ１〜Ｃ１０アルキル基または置換されてい
てもよいフェニル基を表す。）で示されるスルホン酸エ
ステルとを、主反応溶媒としてのエ−テル系溶媒の存在
下に反応させることにより、Ｏ−アルキル体の生成が顕
著に抑制され、一般式化１０
【化１０】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＡｒは前記と同じ意味を表す。）
で示されるピラゾリノン誘導体が高収率かつ高選択的に
得られることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明
は、一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体のリチ
ウム塩と、一般式 化９で示されるスルホン酸エステル
とを、主反応溶媒としてのエ−テル系溶媒の存在下に反
応させることによる、一般式 化１０で示されるピラゾ
リノン誘導体の製造法（以下、本発明方法と記す）を提
供する。
で示されるピラゾリノン誘導体が高収率かつ高選択的に
得られることを見出し、本発明に至った。即ち、本発明
は、一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体のリチ
ウム塩と、一般式 化９で示されるスルホン酸エステル
とを、主反応溶媒としてのエ−テル系溶媒の存在下に反
応させることによる、一般式 化１０で示されるピラゾ
リノン誘導体の製造法（以下、本発明方法と記す）を提
供する。
【０００４】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳しく説明
する。一般式 化８及び一般式 化１０において、Ａｒ
で表される置換されていてもよいフェニル基としては、
例えば、下記一般式 化１１で示される基があげられ
る。
する。一般式 化８及び一般式 化１０において、Ａｒ
で表される置換されていてもよいフェニル基としては、
例えば、下記一般式 化１１で示される基があげられ
る。
【化１１】 （式中、Ｒ4〜Ｒ8は同一または相異なり、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキ
ルチオ基、ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
置換されていてもよいフェニル基または置換されていて
もよいフェノキシ基を表すか、あるいは、Ｒ4〜Ｒ8のう
ち隣接する２つが末端で結合して、ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝
ＣＨで示される基、ハロゲン原子で置換されていてもよ
いメチレンジオキシ基、または、１つの酸素原子を含ん
でいてもよく、アルキル基で置換されていてもよいアル
キレン基を表す。）
ロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ
基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキ
ルチオ基、ハロアルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、
置換されていてもよいフェニル基または置換されていて
もよいフェノキシ基を表すか、あるいは、Ｒ4〜Ｒ8のう
ち隣接する２つが末端で結合して、ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝
ＣＨで示される基、ハロゲン原子で置換されていてもよ
いメチレンジオキシ基、または、１つの酸素原子を含ん
でいてもよく、アルキル基で置換されていてもよいアル
キレン基を表す。）
【０００５】ここで、Ｒ4〜Ｒ8で表わされる、ハロゲン
原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子があげられ、アルキル基としては、直鎖状もしく
は分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、
タ−シャリ−ブチル基等）があげられ、ハロアルキル基
としては、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲン
原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５
アルキル基（例えば、トリフルオロメチル基、テトラフ
ルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等）があげ
られ、アルコキシ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状
のＣ１〜Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エト
キシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキ
シ基等）があげられ、アルコキシアルコキシ基として
は、直鎖状もしくは分枝鎖状の（Ｃ１〜Ｃ３）アルコキ
シ（Ｃ１〜Ｃ３）アルコキシ基（例えば、メトキシメト
キシ基等）があげられ、ハロアルコキシ基としては、同
一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲン原子で置換さ
れた直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルコキシ基
（例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、テトラフルオロエトキシ基等）があげられ、アル
キルチオ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜
Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチ
オ基等）があげられ、ハロアルキルチオ基としては、同
一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲン原子で置換さ
れた直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキルチオ
基（例えば、トリフルオロメチルチオ基等）があげら
れ、置換されていてもよいフェニル基は、同一もしくは
相異なる置換基で１〜５個置換されていてもよいフェニ
ル基を意味し、置換されていてもよいフェノキシ基、同
一もしくは相異なる置換基で１〜５個置換されていても
よいフェノキシ基を意味し、｛置換されていてもよいフ
ェニル基および置換されていてもよいフェノキシ基にお
ける置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、Ｃ１〜Ｃ５
アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ１〜
Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基
等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ
基、エチルチオ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル基好ま
しくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキル基（例えばトリフルオロ
メチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基好ましくは
Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロア
ルキルチオ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルチオ基
（例えばトリフルオロメチルチオ基等）、シアノ基等が
あげられる。｝ハロゲン原子で置換されていてもよいメ
チレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ
基、ジフルオロメチレンジオキシ基があげられ、１つの
酸素原子を含んでいてもよく、またアルキル基（例えば
メチル基等のＣ１〜Ｃ４アルキル基等）で置換されてい
てもよいアルキレン基（例えばＣ２〜Ｃ６アルキレン基
等）としては、例えばトリメチレン基、テトラメチレン
基、ＯＣＨ 2ＣＨ2で示される基、ＯＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）
で示される基等があげられる。
原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子があげられ、アルキル基としては、直鎖状もしく
は分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、
タ−シャリ−ブチル基等）があげられ、ハロアルキル基
としては、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲン
原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５
アルキル基（例えば、トリフルオロメチル基、テトラフ
ルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基等）があげ
られ、アルコキシ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状
のＣ１〜Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エト
キシ基、ノルマルプロピルオキシ基、イソプロピルオキ
シ基等）があげられ、アルコキシアルコキシ基として
は、直鎖状もしくは分枝鎖状の（Ｃ１〜Ｃ３）アルコキ
シ（Ｃ１〜Ｃ３）アルコキシ基（例えば、メトキシメト
キシ基等）があげられ、ハロアルコキシ基としては、同
一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲン原子で置換さ
れた直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルコキシ基
（例えば、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキ
シ基、テトラフルオロエトキシ基等）があげられ、アル
キルチオ基としては、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜
Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチ
オ基等）があげられ、ハロアルキルチオ基としては、同
一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲン原子で置換さ
れた直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキルチオ
基（例えば、トリフルオロメチルチオ基等）があげら
れ、置換されていてもよいフェニル基は、同一もしくは
相異なる置換基で１〜５個置換されていてもよいフェニ
ル基を意味し、置換されていてもよいフェノキシ基、同
一もしくは相異なる置換基で１〜５個置換されていても
よいフェノキシ基を意味し、｛置換されていてもよいフ
ェニル基および置換されていてもよいフェノキシ基にお
ける置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、Ｃ１〜Ｃ５
アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ１〜
Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基
等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ
基、エチルチオ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル基好ま
しくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキル基（例えばトリフルオロ
メチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基好ましくは
Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメト
キシ基、ジフルオロメトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロア
ルキルチオ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルチオ基
（例えばトリフルオロメチルチオ基等）、シアノ基等が
あげられる。｝ハロゲン原子で置換されていてもよいメ
チレンジオキシ基としては、例えばメチレンジオキシ
基、ジフルオロメチレンジオキシ基があげられ、１つの
酸素原子を含んでいてもよく、またアルキル基（例えば
メチル基等のＣ１〜Ｃ４アルキル基等）で置換されてい
てもよいアルキレン基（例えばＣ２〜Ｃ６アルキレン基
等）としては、例えばトリメチレン基、テトラメチレン
基、ＯＣＨ 2ＣＨ2で示される基、ＯＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）
で示される基等があげられる。
【０００６】一般式 化８及び一般式 化１０におい
て、Ｒ1で示される置換されていてもよい炭化水素基と
しては、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０アルキ
ル基（例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、
２−メチルブチル基、２−エチルプロピル基、タ−シャ
リ−ブチル基等）、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ
１０アルケニル基（例えば、１−メチル−２−プロぺニ
ル基等）、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アル
キニル基（例えば、１−メチル−２−プロピニル基
等）、同一もしくは相異なる１〜２１個のハロゲン原子
で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０ア
ルキル基、同一もしくは相異なる１〜１９個のハロゲン
原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１
０アルケニル基、同一もしくは相異なる１〜１７個のハ
ロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２
〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ（直鎖状
もしくは分枝鎖状の）Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、
メトキシメチル基、１−メトキシエチル基等）、Ｃ１〜
Ｃ５アルキルチオ（直鎖状もしくは分枝鎖状の）Ｃ１〜
Ｃ５アルキル基（例えば、メチルチオメチル基、１−メ
チルチオエチル基等）、同一もしくは相異なる１〜１１
個のハロゲンで置換されたＣ１〜Ｃ５アルコキシ基を有
する、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲンで置
換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル
基、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲンで置換
されたＣ１〜Ｃ５アルキルチオ基を有する、同一もしく
は相異なる１〜１１個のハロゲンで置換された直鎖状も
しくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基、シアノ基で置
換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル
基（例えば、１−シアノエチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アル
コキシカルボニル基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、１−（メトキシカ
ルボニル）エチル基等）、ハロゲン原子で置換されてい
てもよく、不飽和結合を含んでもよい、Ｃ３〜Ｃ８シク
ロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、シクロペン
チル基等）同一もしくは相異なる置換基で１〜５個置換
されていてもよいフェニル基｛該置換基としては、例え
ば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子）、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基（例えば、
メトキシ基、エトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ
基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１〜
Ｃ５ハロアルキル基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキル
基（例えばトリフルオロメチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロ
アルコキシ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基
（例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ
基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオ基好ましくはＣ１
〜Ｃ２ハロアルキルチオ基（例えばトリフルオロメチル
チオ基等）、シアノ基等があげられる。｝、同一もしく
は相異なる置換基で１〜５個置換されていてもよいＣ７
〜Ｃ１７アラルキル基（例えば、ベンジル基、α−メチ
ルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基等）｛該置
換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、Ｃ１〜Ｃ５アルキル
基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アル
コキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、Ｃ１
〜Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチル
チオ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル基好ましくはＣ１
〜Ｃ２ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基
等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基好ましくはＣ１〜Ｃ
２ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメトキシ基、
ジフルオロメトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチ
オ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルチオ基（例えば
トリフルオロメチルチオ基等）、シアノ基等があげられ
る。｝があげられる。
て、Ｒ1で示される置換されていてもよい炭化水素基と
しては、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０アルキ
ル基（例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、
２−メチルブチル基、２−エチルプロピル基、タ−シャ
リ−ブチル基等）、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ
１０アルケニル基（例えば、１−メチル−２−プロぺニ
ル基等）、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アル
キニル基（例えば、１−メチル−２−プロピニル基
等）、同一もしくは相異なる１〜２１個のハロゲン原子
で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０ア
ルキル基、同一もしくは相異なる１〜１９個のハロゲン
原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１
０アルケニル基、同一もしくは相異なる１〜１７個のハ
ロゲン原子で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ２
〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ（直鎖状
もしくは分枝鎖状の）Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、
メトキシメチル基、１−メトキシエチル基等）、Ｃ１〜
Ｃ５アルキルチオ（直鎖状もしくは分枝鎖状の）Ｃ１〜
Ｃ５アルキル基（例えば、メチルチオメチル基、１−メ
チルチオエチル基等）、同一もしくは相異なる１〜１１
個のハロゲンで置換されたＣ１〜Ｃ５アルコキシ基を有
する、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲンで置
換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル
基、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲンで置換
されたＣ１〜Ｃ５アルキルチオ基を有する、同一もしく
は相異なる１〜１１個のハロゲンで置換された直鎖状も
しくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基、シアノ基で置
換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル
基（例えば、１−シアノエチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アル
コキシカルボニル基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖
状のＣ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、１−（メトキシカ
ルボニル）エチル基等）、ハロゲン原子で置換されてい
てもよく、不飽和結合を含んでもよい、Ｃ３〜Ｃ８シク
ロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基、シクロペン
チル基等）同一もしくは相異なる置換基で１〜５個置換
されていてもよいフェニル基｛該置換基としては、例え
ば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子）、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、メチル
基、エチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基（例えば、
メトキシ基、エトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ
基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１〜
Ｃ５ハロアルキル基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキル
基（例えばトリフルオロメチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロ
アルコキシ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基
（例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ
基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチオ基好ましくはＣ１
〜Ｃ２ハロアルキルチオ基（例えばトリフルオロメチル
チオ基等）、シアノ基等があげられる。｝、同一もしく
は相異なる置換基で１〜５個置換されていてもよいＣ７
〜Ｃ１７アラルキル基（例えば、ベンジル基、α−メチ
ルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基等）｛該置
換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、Ｃ１〜Ｃ５アルキル
基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アル
コキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基等）、Ｃ１
〜Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチル
チオ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル基好ましくはＣ１
〜Ｃ２ハロアルキル基（例えばトリフルオロメチル基
等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基好ましくはＣ１〜Ｃ
２ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメトキシ基、
ジフルオロメトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキルチ
オ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルチオ基（例えば
トリフルオロメチルチオ基等）、シアノ基等があげられ
る。｝があげられる。
【０００７】一般式 化９及び一般式 化１０におい
て、Ｒ2で示される置換されていてもよい炭化水素基と
しては、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０アルキ
ル基（例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、
２−メチルブチル基、２−エチルプロピル基等）、直鎖
状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基（例え
ば、１−メチル−２−プロぺニル基等）、直鎖状もしく
は分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基（例えば、１−
メチル−２−プロピニル基等）、同一もしくは相異なる
１〜２１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは
分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、同一もしくは相異
なる１〜１９個のハロゲン原子で置換された直鎖状もし
くは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、同一もしく
は相異なる１〜１７個のハロゲン原子で置換された直鎖
状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１
〜Ｃ５アルコキシ（直鎖状もしくは分枝鎖状の）Ｃ１〜
Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−メトキシエ
チル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ（直鎖状もしくは
分枝鎖状の）Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチ
ル−２−メチルチオエチル基等）、同一もしくは相異な
る１〜１１個のハロゲンで置換されたＣ１〜Ｃ５アルコ
キシ基を有する、同一もしくは相異なる１〜１１個のハ
ロゲンで置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ
５アルキル基、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロ
ゲンで置換されたＣ１〜Ｃ５アルキルチオ基を有する、
同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲンで置換され
た直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基、シ
アノ基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ
５アルキル基（例えば、１−メチル−２−シアノエチル
基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニル基で置換され
た直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基（例
えば、２−メトキシカルボニルエチル基等）、ハロゲン
原子で置換されていてもよく、不飽和結合を含んでもよ
い、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（例えば、シクロヘキ
シル基、シクロペンチル基等）、同一もしくは相異なる
置換基で１〜５個置換されていてもよいＣ７〜Ｃ１７ア
ラルキル基（例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル
基等）｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、Ｃ１〜
Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ
１〜Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ
基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチ
オ基、エチルチオ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル基好
ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキル基（例えばトリフルオ
ロメチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基好ましく
はＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロ
アルキルチオ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルチオ
基（例えばトリフルオロメチルチオ基等）、シアノ基等
があげられる。｝があげられる。一般式 化９におい
て、Ｒ3で示される、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基として
は、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプ
ロピル基、タ−シャリ−ブチル基等があげられ、置換さ
れていてもよいフェニル基としては、フェニル基、２−
メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチル
フェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基、２−フルオロフェ
ニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニ
ル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、
４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブ
ロモフェニル基、４−ブロモフェニル基等があげられ
る。
て、Ｒ2で示される置換されていてもよい炭化水素基と
しては、直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０アルキ
ル基（例えば、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、セカンダリ−ブチル基、
２−メチルブチル基、２−エチルプロピル基等）、直鎖
状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基（例え
ば、１−メチル−２−プロぺニル基等）、直鎖状もしく
は分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基（例えば、１−
メチル−２−プロピニル基等）、同一もしくは相異なる
１〜２１個のハロゲン原子で置換された直鎖状もしくは
分枝鎖状のＣ１〜Ｃ１０アルキル基、同一もしくは相異
なる１〜１９個のハロゲン原子で置換された直鎖状もし
くは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルケニル基、同一もしく
は相異なる１〜１７個のハロゲン原子で置換された直鎖
状もしくは分枝鎖状のＣ２〜Ｃ１０アルキニル基、Ｃ１
〜Ｃ５アルコキシ（直鎖状もしくは分枝鎖状の）Ｃ１〜
Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチル−２−メトキシエ
チル基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ（直鎖状もしくは
分枝鎖状の）Ｃ１〜Ｃ５アルキル基（例えば、１−メチ
ル−２−メチルチオエチル基等）、同一もしくは相異な
る１〜１１個のハロゲンで置換されたＣ１〜Ｃ５アルコ
キシ基を有する、同一もしくは相異なる１〜１１個のハ
ロゲンで置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ
５アルキル基、同一もしくは相異なる１〜１１個のハロ
ゲンで置換されたＣ１〜Ｃ５アルキルチオ基を有する、
同一もしくは相異なる１〜１１個のハロゲンで置換され
た直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基、シ
アノ基で置換された直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ
５アルキル基（例えば、１−メチル−２−シアノエチル
基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシカルボニル基で置換され
た直鎖状もしくは分枝鎖状のＣ１〜Ｃ５アルキル基（例
えば、２−メトキシカルボニルエチル基等）、ハロゲン
原子で置換されていてもよく、不飽和結合を含んでもよ
い、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（例えば、シクロヘキ
シル基、シクロペンチル基等）、同一もしくは相異なる
置換基で１〜５個置換されていてもよいＣ７〜Ｃ１７ア
ラルキル基（例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル
基等）｛該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、Ｃ１〜
Ｃ５アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等）、Ｃ
１〜Ｃ５アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ
基等）、Ｃ１〜Ｃ５アルキルチオ基（例えば、メチルチ
オ基、エチルチオ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルキル基好
ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキル基（例えばトリフルオ
ロメチル基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロアルコキシ基好ましく
はＣ１〜Ｃ２ハロアルコキシ基（例えばトリフルオロメ
トキシ基、ジフルオロメトキシ基等）、Ｃ１〜Ｃ５ハロ
アルキルチオ基好ましくはＣ１〜Ｃ２ハロアルキルチオ
基（例えばトリフルオロメチルチオ基等）、シアノ基等
があげられる。｝があげられる。一般式 化９におい
て、Ｒ3で示される、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基として
は、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプ
ロピル基、タ−シャリ−ブチル基等があげられ、置換さ
れていてもよいフェニル基としては、フェニル基、２−
メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチル
フェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフ
ェニル基、４−メトキシフェニル基、２−フルオロフェ
ニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニ
ル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、
４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブ
ロモフェニル基、４−ブロモフェニル基等があげられ
る。
【０００８】本発明方法は、一般式 化８で示されるピ
ラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式 化９で示され
るスルホン酸エステルとを、主反応溶媒としてのエ−テ
ル系溶媒の存在下に反応させることにより行われる。該
反応の反応温度の範囲は通常６０℃〜１５０℃であり、
好ましくは８０℃〜１２０℃であり、反応時間の範囲は
通常１〜１２時間である。反応に供される試剤の量は、
一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体のリチウム
塩１モルに対し、一般式 化９で示されるスルホン酸エ
ステルは、通常１．０〜５．０モルの割合、好ましくは
１．１〜２．０モルの割合である。エ−テル系溶媒とし
ては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テト
ラヒドロピラン、ジイソプロピルエ−テル等があげら
れ、好ましくは、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピランがあげられる。また、本発明
方法の効果を損なわない範囲で、上記、エ−テル系溶媒
に、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族
炭化水素類等を混合させても良い。反応終了後の反応液
は、これを水に注加した後、有機溶媒抽出、濃縮等の通
常の後処理操作を行うことにより、一般式 化１０で示
されるピラゾリノン誘導体を得ることができる。また、
該化合物は、必要に応じて有機溶媒による洗浄、再結
晶、カラムクロマトグラフィ−等の手段により精製する
こともできる。
ラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式 化９で示され
るスルホン酸エステルとを、主反応溶媒としてのエ−テ
ル系溶媒の存在下に反応させることにより行われる。該
反応の反応温度の範囲は通常６０℃〜１５０℃であり、
好ましくは８０℃〜１２０℃であり、反応時間の範囲は
通常１〜１２時間である。反応に供される試剤の量は、
一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体のリチウム
塩１モルに対し、一般式 化９で示されるスルホン酸エ
ステルは、通常１．０〜５．０モルの割合、好ましくは
１．１〜２．０モルの割合である。エ−テル系溶媒とし
ては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テト
ラヒドロピラン、ジイソプロピルエ−テル等があげら
れ、好ましくは、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピランがあげられる。また、本発明
方法の効果を損なわない範囲で、上記、エ−テル系溶媒
に、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼ
ン等の芳香族炭化水素類、ノルマルヘキサン等の脂肪族
炭化水素類等を混合させても良い。反応終了後の反応液
は、これを水に注加した後、有機溶媒抽出、濃縮等の通
常の後処理操作を行うことにより、一般式 化１０で示
されるピラゾリノン誘導体を得ることができる。また、
該化合物は、必要に応じて有機溶媒による洗浄、再結
晶、カラムクロマトグラフィ−等の手段により精製する
こともできる。
【０００９】本発明方法において用いられる、一般式
化９で示されるスルホン酸エステルはJ.Org.Chem.,(197
0),35(9),3195.に記載の方法に準じて製造することがで
きる。また、一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導
体のリチウム塩は、一般式化８で示されるピラゾリノン
誘導体と、無水水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一
水和物とを共沸脱水条件下反応させるか、もしくは、一
般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体とリチウムヒ
ドリド、アルキルリチウムまたはリチウムジアルキルア
ミドとを反応させることにより、製造することができ
る。一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体と、無
水水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一水和物とを共
沸脱水条件下反応させる場合は、該反応の反応温度の範
囲は通常８０℃〜１４０℃であり、反応時間の範囲は通
常０．５時間〜１２時間である。反応に供される試剤の
量は、一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体１モ
ルに対し、無水水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一
水和物は、通常１．０〜５．０モルの割合、好ましくは
１．１〜２．０モルの割合である。溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼン等の芳
香族炭化水素類があげられる。
化９で示されるスルホン酸エステルはJ.Org.Chem.,(197
0),35(9),3195.に記載の方法に準じて製造することがで
きる。また、一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導
体のリチウム塩は、一般式化８で示されるピラゾリノン
誘導体と、無水水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一
水和物とを共沸脱水条件下反応させるか、もしくは、一
般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体とリチウムヒ
ドリド、アルキルリチウムまたはリチウムジアルキルア
ミドとを反応させることにより、製造することができ
る。一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体と、無
水水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一水和物とを共
沸脱水条件下反応させる場合は、該反応の反応温度の範
囲は通常８０℃〜１４０℃であり、反応時間の範囲は通
常０．５時間〜１２時間である。反応に供される試剤の
量は、一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導体１モ
ルに対し、無水水酸化リチウムまたは水酸化リチウム一
水和物は、通常１．０〜５．０モルの割合、好ましくは
１．１〜２．０モルの割合である。溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンまたはクロロベンゼン等の芳
香族炭化水素類があげられる。
【００１０】また、一般式 化８で示されるピラゾリノ
ン誘導体とリチウムヒドリド、アルキルリチウムまたは
リチウムジアルキルアミドとを反応させる場合は、該反
応の反応時間の範囲は通常１時間〜１２時間であり、反
応温度の範囲はリチウムヒドリドを用いる場合は通常６
０℃〜１２０℃であり、アルキルリチウムまたはリチウ
ムジアルキルアミドを用いる場合は通常−７８℃〜３０
℃である。反応に供される試剤の量は、一般式 化８で
示されるピラゾリノン誘導体１モルに対し、リチウムヒ
ドリド、アルキルリチウムまたはリチウムジアルキルア
ミドの量は、１．０モル〜２．０モルの割合である。溶
媒としてはノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、あるいはジエチルエ−テ
ル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラ
ヒドロピラン、ジイソプロピルエ−テル等のエ−テル類
等があげられる。反応終了後の反応液は、溶媒を減圧留
去することにより、一般式 化８で示されるピラゾリノ
ン誘導体のリチウム塩を得ることができる。尚、上記に
おいて、反応溶媒としてエ−テル類を用いた場合は、反
応終了後、何らの後処理操作を行うことなく、反応液を
そのまま本発明方法に供することもできる。上記製造法
に用いられる一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導
体は、特開平８−２０８６２１公報に記載の方法に準じ
て製造することが出来る。
ン誘導体とリチウムヒドリド、アルキルリチウムまたは
リチウムジアルキルアミドとを反応させる場合は、該反
応の反応時間の範囲は通常１時間〜１２時間であり、反
応温度の範囲はリチウムヒドリドを用いる場合は通常６
０℃〜１２０℃であり、アルキルリチウムまたはリチウ
ムジアルキルアミドを用いる場合は通常−７８℃〜３０
℃である。反応に供される試剤の量は、一般式 化８で
示されるピラゾリノン誘導体１モルに対し、リチウムヒ
ドリド、アルキルリチウムまたはリチウムジアルキルア
ミドの量は、１．０モル〜２．０モルの割合である。溶
媒としてはノルマルヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、あるいはジエチルエ−テ
ル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラ
ヒドロピラン、ジイソプロピルエ−テル等のエ−テル類
等があげられる。反応終了後の反応液は、溶媒を減圧留
去することにより、一般式 化８で示されるピラゾリノ
ン誘導体のリチウム塩を得ることができる。尚、上記に
おいて、反応溶媒としてエ−テル類を用いた場合は、反
応終了後、何らの後処理操作を行うことなく、反応液を
そのまま本発明方法に供することもできる。上記製造法
に用いられる一般式 化８で示されるピラゾリノン誘導
体は、特開平８−２０８６２１公報に記載の方法に準じ
て製造することが出来る。
【００１１】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 製造例１ 水分分離器を装着した反応容器に、１−タ−シャリ−ブ
チル−４−（２，６−ジクロロフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン３．００ｇ、水酸化リチウム一
水和物０．８４ｇ及びトルエン１５ｍｌを加え、共沸脱
水条件下１時間攪拌した後、トルエンを減圧留去した。
残渣に１，４−ジオキサン１００ｍｌを加え、還流条件
下、該溶液に、メタンスルホン酸イソプロピルエステル
２．７７ｇを１，４−ジオキサン１５ｍｌに溶解させた
溶液を滴下した。滴下終了後、３時間還流条件下で攪拌
した後、溶媒を減圧留去し、残渣に水６０ｍｌを加え
た。これに酢酸エチル６０ｍｌを加えて抽出操作を行
い、有機層を水６０ｍｌで洗浄した後、濃縮し、黄色固
体を３．３８ｇ得た。この粗生成物を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は９５対５であった。この粗生成物をヘキサン：ジ
エチルエ−テル／２０：１混合溶媒で洗浄し、１−タ−
シャリ−ブチル−２−イソプロピル−４−（２，６−ジ
クロロフェニル）−５−アミノ−ピラゾリン−３−オン
３．０６ｇ（収率８９．５％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／ＴＭＳ）δ値（ｐｐｍ） １．３９（ｄ，６Ｈ），１．４３（ｓ，９Ｈ），３．６
４（ｑ，１Ｈ），４．２２（ｓ，２Ｈ），７．１６
（ｄ，１Ｈ），７．１９（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｄ，
１Ｈ）
く説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 製造例１ 水分分離器を装着した反応容器に、１−タ−シャリ−ブ
チル−４−（２，６−ジクロロフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン３．００ｇ、水酸化リチウム一
水和物０．８４ｇ及びトルエン１５ｍｌを加え、共沸脱
水条件下１時間攪拌した後、トルエンを減圧留去した。
残渣に１，４−ジオキサン１００ｍｌを加え、還流条件
下、該溶液に、メタンスルホン酸イソプロピルエステル
２．７７ｇを１，４−ジオキサン１５ｍｌに溶解させた
溶液を滴下した。滴下終了後、３時間還流条件下で攪拌
した後、溶媒を減圧留去し、残渣に水６０ｍｌを加え
た。これに酢酸エチル６０ｍｌを加えて抽出操作を行
い、有機層を水６０ｍｌで洗浄した後、濃縮し、黄色固
体を３．３８ｇ得た。この粗生成物を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は９５対５であった。この粗生成物をヘキサン：ジ
エチルエ−テル／２０：１混合溶媒で洗浄し、１−タ−
シャリ−ブチル−２−イソプロピル−４−（２，６−ジ
クロロフェニル）−５−アミノ−ピラゾリン−３−オン
３．０６ｇ（収率８９．５％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／ＴＭＳ）δ値（ｐｐｍ） １．３９（ｄ，６Ｈ），１．４３（ｓ，９Ｈ），３．６
４（ｑ，１Ｈ），４．２２（ｓ，２Ｈ），７．１６
（ｄ，１Ｈ），７．１９（ｄ，１Ｈ），７．３５（ｄ，
１Ｈ）
【００１２】製造例２ 水分分離器を装着した反応容器に、１−タ−シャリ−ブ
チル−４−（２−メチルフェニル）−５−アミノ−ピラ
ゾリン−３−オン３．６８ｇ、水酸化リチウム一水和物
１．２６ｇ、トルエン３０ｍｌを加え、共沸脱水条件下
１時間攪拌した後、トルエンを減圧留去した。残渣に
１，４−ジオキサン５０ｍｌを加え、還流条件下、該溶
液に、メタンスルホン酸セカンダリ−ブチルエステル
３．０４ｇを１，４−ジオキサン１０ｍｌに溶解させた
溶液を滴下した。滴下終了後、７時間還流条件下で攪拌
した後、溶媒を減圧留去し、残渣に水６０ｍｌを加え
た。これに酢酸エチル６０ｍｌを加えて抽出操作を行
い、有機層を水６０ｍｌで洗浄した後、濃縮し、黄色固
体を４．０２ｇ得た。この粗生成物を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は８０対２０であった。この粗生成物をヘキサン：
ジエチルエ−テル／２０：１混合溶媒で洗浄し、１−タ
−シャリ−ブチル−２−セカンダリ−ブチル−４−（２
−メチルフェニル）−５−アミノ−ピラゾリン−３−オ
ン３．０７ｇ（収率６７．９％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／ＴＭＳ）δ値（ｐｐｍ） ０．９３（ｔ，３Ｈ），１．２９（ｄ，３Ｈ），１．４
０（ｓ，９Ｈ），１．９５，（ｍ，２Ｈ），２．２６
（ｓ，３H），３．３７（ｑ，１Ｈ），４．１８（ｓ，
２Ｈ），７．０９−７．２５（ｍ，４Ｈ）
チル−４−（２−メチルフェニル）−５−アミノ−ピラ
ゾリン−３−オン３．６８ｇ、水酸化リチウム一水和物
１．２６ｇ、トルエン３０ｍｌを加え、共沸脱水条件下
１時間攪拌した後、トルエンを減圧留去した。残渣に
１，４−ジオキサン５０ｍｌを加え、還流条件下、該溶
液に、メタンスルホン酸セカンダリ−ブチルエステル
３．０４ｇを１，４−ジオキサン１０ｍｌに溶解させた
溶液を滴下した。滴下終了後、７時間還流条件下で攪拌
した後、溶媒を減圧留去し、残渣に水６０ｍｌを加え
た。これに酢酸エチル６０ｍｌを加えて抽出操作を行
い、有機層を水６０ｍｌで洗浄した後、濃縮し、黄色固
体を４．０２ｇ得た。この粗生成物を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は８０対２０であった。この粗生成物をヘキサン：
ジエチルエ−テル／２０：１混合溶媒で洗浄し、１−タ
−シャリ−ブチル−２−セカンダリ−ブチル−４−（２
−メチルフェニル）−５−アミノ−ピラゾリン−３−オ
ン３．０７ｇ（収率６７．９％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3／ＴＭＳ）δ値（ｐｐｍ） ０．９３（ｔ，３Ｈ），１．２９（ｄ，３Ｈ），１．４
０（ｓ，９Ｈ），１．９５，（ｍ，２Ｈ），２．２６
（ｓ，３H），３．３７（ｑ，１Ｈ），４．１８（ｓ，
２Ｈ），７．０９−７．２５（ｍ，４Ｈ）
【００１３】比較例１（式 化６記載の製造法１） １−タ−シャリ−ブチル−４−（２−メチルフェニル）
−５−アミノ−ピラゾリン−３−オン１．２３ｇ、２−
ヨ−ドブタン１．８４ｇ、炭酸カリウム２．１ｇおよび
エタノール２０mlの混合物を１０時間加熱還流させた。
溶媒を減圧下に留去した後、水を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させたの
ち、溶媒を減圧下に留去した。残渣を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は１６対８４であった。残渣をカラムクロマトグラ
フィ−に付し、１−タ−シャリ−ブチル−２−セカンダ
リ−ブチル−４−（２−メチルフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン２５０ｍｇ（収率１６％）を得
た。
−５−アミノ−ピラゾリン−３−オン１．２３ｇ、２−
ヨ−ドブタン１．８４ｇ、炭酸カリウム２．１ｇおよび
エタノール２０mlの混合物を１０時間加熱還流させた。
溶媒を減圧下に留去した後、水を加え、酢酸エチルで抽
出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させたの
ち、溶媒を減圧下に留去した。残渣を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は１６対８４であった。残渣をカラムクロマトグラ
フィ−に付し、１−タ−シャリ−ブチル−２−セカンダ
リ−ブチル−４−（２−メチルフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン２５０ｍｇ（収率１６％）を得
た。
【００１４】比較例２（式 化６記載の製造法２） 水素化ナトリウム（６０％オイルディスパージョン）１
６０ｍｇにトルエン３０ｍｌおよび１−タ−シャリ−ブ
チル−４−（２，６−ジクロロフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン１．００ｇを加え、１００℃に
て２時間加熱した。これにメタンスルホン酸イソプロピ
ルエステル５５０ｍｇを加えて、更に１００℃にて３時
間加熱した。反応終了後水を加え、酢酸エチルにて抽出
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させたの
ち、溶媒を減圧下に留去した。残渣を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は３１対６９であった。残渣をカラムクロマトグラ
フィーに付し、１−タ−シャリ−ブチル−２−イソプロ
ピル−４−（２，６−ジクロロフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン３５５ｍｇ（収率３１％）を得
た。
６０ｍｇにトルエン３０ｍｌおよび１−タ−シャリ−ブ
チル−４−（２，６−ジクロロフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン１．００ｇを加え、１００℃に
て２時間加熱した。これにメタンスルホン酸イソプロピ
ルエステル５５０ｍｇを加えて、更に１００℃にて３時
間加熱した。反応終了後水を加え、酢酸エチルにて抽出
した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させたの
ち、溶媒を減圧下に留去した。残渣を1Ｈ−ＮＭＲによ
り分析した結果、Ｎ−アルキル体とＯ−アルキル体の生
成比は３１対６９であった。残渣をカラムクロマトグラ
フィーに付し、１−タ−シャリ−ブチル−２−イソプロ
ピル−４−（２，６−ジクロロフェニル）−５−アミノ
−ピラゾリン−３−オン３５５ｍｇ（収率３１％）を得
た。
【発明の効果】本発明方法を用いれば、一般式 化１０
で示されるピラゾリノン誘導体を高収率かつ高選択的に
製造することができる。
で示されるピラゾリノン誘導体を高収率かつ高選択的に
製造することができる。
Claims (6)
- 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 （式中、Ｒ1は置換されていてもよい炭化水素基を表
し、Ａｒは置換されていてもよいフェニル基を表す。）
で示されるピラゾリノン誘導体のリチウム塩と一般式
化２ 【化２】Ｒ2−Ｏ−ＳＯ2Ｒ3 （式中、Ｒ2は置換されていてもよい炭化水素基を表
し、Ｒ3はＣ１〜Ｃ１０アルキル基または置換されてい
てもよいフェニル基を表す。）で示されるスルホン酸エ
ステルとを、主反応溶媒としてのエ−テル系溶媒の存在
下に反応させることを特徴とする、一般式 化３ 【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2及びＡｒは前記と同じ意味を表す。）
で示されるピラゾリノン誘導体の製造法。 - 【請求項２】ピラゾリノン誘導体のリチウム塩が一般式
化４ 【化４】 （式中、Ｒ1は前記と同じ意味を表し、Ｒ4〜Ｒ8は同一
または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、ハロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキ
ル基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、ハロアルキ
ルチオ基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよい
フェニル基または置換されていてもよいフェノキシ基を
表すか、あるいは、Ｒ4〜Ｒ8のうち隣接する２つが末端
で結合して、ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨで示される基、ハ
ロゲン原子で置換されていてもよいメチレンジオキシ
基、または、１つの酸素原子を含んでいてもよく、ま
た、アルキル基で置換されていてもよいアルキレン基を
表す。）で示されるピラゾリノン誘導体のリチウム塩で
ある、請求項１に記載の製造法。 - 【請求項３】上記、一般式 化４で示されるピラゾリノ
ン誘導体において、Ｒ4〜Ｒ8が同一または相異なり、水
素原子、ハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ5アルキル基、Ｃ1〜Ｃ5
ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ基、（Ｃ1〜Ｃ3）
アルコキシ（Ｃ1〜Ｃ3）アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5ハロア
ルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ5ハロア
ルキルチオ基、シアノ基、ニトロ基、フェニル基（該フ
ェニル基はハロゲン原子、Ｃ1〜Ｃ5アルキル基、Ｃ1〜
Ｃ5アルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ5
ハロアルキル基、Ｃ1〜Ｃ5ハロアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5
ハロアルキルチオ基またはシアノ基で置換されていても
よい）、またはフェノキシ基（該フェノキシ基はハロゲ
ン原子、Ｃ1〜Ｃ5アルキル基、Ｃ1 〜Ｃ5アルコキシ
基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ基、Ｃ1〜Ｃ5ハロアルキル
基、Ｃ1〜Ｃ5ハロアルコキシ基、Ｃ1〜Ｃ5ハロアルキル
チオ基またはシアノ基で置換されていてもよい）である
か、あるいは、Ｒ4〜Ｒ8のうち隣接する２つが末端で結
合して、ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨで示される基、ハロゲ
ン原子で置換されていてもよいメチレンジオキシ基、ト
リメチレン基、テトラメチレン基、ＯＣＨ2ＣＨ2で示さ
れる基またはＯＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）で示される基であ
る、請求項２に記載の製造法 - 【請求項４】エ−テル系溶媒が１，４−ジオキサン、テ
トラヒドロフランまたはテトラヒドロピランである、請
求項１、２または３に記載の製造法。 - 【請求項５】一般式 化２で示されるスルホン酸エステ
ルにおいて、Ｒ3が、メチル基、フェニル基または４−
メチルフェニル基である、請求項１、２、３または４に
記載の製造法。 - 【請求項６】一般式 化２で示されるスルホン酸エステ
ルにおいて、Ｒ2が、イソプロピル基またはセカンダリ
−ブチル基である、請求項１、２、３、４または５に記
載の製造法。
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