JPH11295242A - X線基板検査装置とx線用可視光反射膜 - Google Patents

X線基板検査装置とx線用可視光反射膜

Info

Publication number
JPH11295242A
JPH11295242A JP10099377A JP9937798A JPH11295242A JP H11295242 A JPH11295242 A JP H11295242A JP 10099377 A JP10099377 A JP 10099377A JP 9937798 A JP9937798 A JP 9937798A JP H11295242 A JPH11295242 A JP H11295242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
inspection
visible light
inspection object
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10099377A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3883153B2 (ja
Inventor
Hideo Hongo
英男 本郷
Hiroo Uchiyama
博夫 内山
Hirokado Toba
広門 鳥羽
Isao Udagawa
勲 宇田川
Yoshio Oba
芳男 大場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP09937798A priority Critical patent/JP3883153B2/ja
Publication of JPH11295242A publication Critical patent/JPH11295242A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3883153B2 publication Critical patent/JP3883153B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 X線を用いた基板検査装置において、対象物
の検査部位の位置合わせが容易にでき、かつ同一領域の
X線検査と可視光による外観画像検査を同時に実現させ
る。 【解決手段】 X線源1と検査対象物2の間、及び検査
対象物2とX線撮像部4の間に、X線の照射線量を減衰
することなく透過させ、可視照明機器10a,10bよ
り検査対象物2へ照射された可視光を反射させるプラス
チック素材のフィルム系の反射膜5a,5bが設けられ
ている。そして検査対象物2の表面の反射光は、反射膜
5a,反射ミラー7a及びハーフミラー8を介して、ま
た検査対象物2の裏面の反射光は、反射膜5b,反射ミ
ラー7b及びハーフミラー8を介して1つの可視光用カ
メラ9により捉えられる。この可視光用カメラ9の捉え
た画像によりX線検査をしたい任意の位置への移動を基
板位置決めXYテーブル3で行う。そして上記X線を捉
えるX線撮像部4と、可視光用カメラ9の各取り込み画
像の処理をコントローラ11で行い、表示器12に画像
表示して検査を行うようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はX線を利用しプリン
ト基板の検査・計測を目的とするX線基板検査装置及び
そのX線基板検査装置に用いるX線用可視光反射膜に関
し、特にX線撮影範囲に対するプリント基板の検査部位
の位置合わせ及びX線検査と可視光による基板外観検査
を同時に可能とするものである。
【0002】
【従来の技術】従来、X線を利用したX線基板検査装置
において、基板位置決め手段として、特開平6−331
571号公報に記載されたもの等がある。また、X線検
査装置と可視光用CCDカメラを組み合わせた基板検査
方法として特開平7−294450号公報に記載された
もの等がある。
【0003】前者の特開平6−331571号公報に記
載された基板半田付け状態検査装置は、両面実装プリン
ト基板へX線を照射し、X線透過画像を生成する手段と
両面実装プリント基板の一方の面を光学的に撮像する光
学撮像手段とを備えている。
【0004】また、後者の特開平7−294450号公
報に記載されたX線検査装置と可視光用CCDカメラを
組み合わせた基板検査方法においては、X線源と検査対
象物の間に反射ミラーを配置すると、反射ミラーが光学
ガラスで構成されているため、X線を減衰させてしま
い、X線撮像画像を劣化させてしまうことを避けるた
め、X線照射領域外の位置に可視光用CCDカメラ及び
反射ミラーを配置し、傾斜的な基板画像を取り込んでい
たり、移動可能な機構を付加した反射ミラーユニットを
配置して、可視光用CCDカメラで部品面を捉えるとき
は、反射ミラーを照射領域内の位置にし、X線撮像時
は、反射ミラーをX線照射領域外に移動させ、撮像する
ようにしていた。
【0005】また、後者の特開平7−294450号公
報に記載された実装基板の半田付け検査方法としては、
X線撮像検査と可視光による光学撮像検査を別領域内で
行っている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例においては、両面実装プリント基板の一方の面を光
学的に撮像する光学撮像手段しかないため、検査対象と
する部品面を光学撮像面側に必ずセットする必要があっ
た。光学撮像をするために、X線源と検査対象物の間に
反射ミラーを配置すると、反射ミラーが光学ガラスで構
成されているため、X線を減衰させてしまい、X線撮像
画像を劣化させ、検査に影響を与えるという問題を有し
ていた。
【0007】また、斜め方向からの光学撮像において
は、X線照射面と光学撮像面が一致せず、奥行きのある
映像になり撮像画面表示部にX線照射領域を指示する必
要があり、簡易な位置決めとしての機能でしかなかっ
た。
【0008】また、X線撮像画像を劣化させてしまうこ
とを避けるため、移動可能な機構を付加した反射ミラー
ユニットを配置したものに対しては、可視光用CCDカ
メラで部品面を捉えるときは、反射ミラーを照射領域内
に移動し、X線撮像時は、反射ミラーをX線照射領域外
に移動させ、撮像する必要があった。
【0009】また、X線検査と可視光による画像検査を
行う場合は、それぞれ別の位置に検査部位を移動させる
必要があった。
【0010】そこで、本発明は、上記従来の問題を解決
するもので、X線撮影範囲に対するプリント基板の検査
部位の位置合わせが容易にでき、X線照射量を増加させ
たり、X線撮像画像を劣化させることなく、X線照射領
域内の光学撮像画像を同時に捉えることができるX線基
板検査装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は上記問題を解決
し目的を達成するために、可視照明機器より検査対象物
へ照射された可視光を反射させるミラーとして、光学ガ
ラス系の反射ミラーではなく、ポリエチレンテレフタレ
ートのプラスチック素材の薄膜(一例として、数μ〜数
十μ)フィルムにアルミ蒸着をし、リング枠に均一に張
られた状態の反射膜を使用する。
【0012】これにより、X線照射領域内であるX線源
と検査対象物の間、及び検査対象物とX線撮像部の間に
上記の反射膜を配置することで、X線の照射量を減衰す
ることなく検査対象物にX線照射でき、検査対象物を透
過したX線も減衰することなく、X線撮像部へ取り込ま
れる。したがって、X線撮像画像劣化をさせずに、X線
領域内の検査対象物の反射光を両面からそれぞれ捉える
ことができる。
【0013】また、可視照明機器より検査対象物へ照射
された可視光は検査対象物の両面に配置された反射膜を
通して、さらに対に配置された画面選択シャッター及び
反射ミラーを介してハーフミラーによりX線照射範囲を
1つの可視光用カメラで捉えることができる。そして、
検査対象物が表面の場合は表面側の画面選択シャッター
を、検査対象物が裏面の場合は裏面側の画面選択シャッ
ターを開閉することにより可視光用カメラにより表面ま
たは裏面の画像のみを捉えることができる。
【0014】したがって、本発明によれば、上記検査対
象物へ照射された可視光を捉える可視光偏向部と、可視
光用カメラと、検査対象物を載置できる位置決めXYテ
ーブルと、検査対象物にX線を照射するX線源と、対面
配置され検査対象物の透過X線を撮像するX線撮像部を
備えることで、可視光用カメラの画像によりX線検査を
したい任意の位置へ基板セットの表裏に関係なく容易に
決定することができ、基板位置決めXYテーブルにより
容易に移動できるという作用を有する。
【0015】また、検査対象物をX線撮像と可視光によ
る光学撮像を同時に行うことができ、画像処理を備えた
コントローラにそれぞれの画像データを取り込むことに
より、X線画像検査と、可視光による外観検査を同時に
行うことができるという作用を有する。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1におけるX線基板検査装置の全体構成図である。
X線撮像する構成としては、検査対象物2にX線を照射
するX線源1と、検査対象物2を載置できる基板位置決
めXYテーブル3と、対面配置され検査対象物2の透過
X線を撮像するX線撮像部4を備える。
【0018】また、X線照射領域内の検査対象物2の外
観を捉える構成としては、X線源1と検査対象物2の
間、及び検査対象物2とX線撮像部4の間に、X線の照
射線量を減衰させることなく透過させ、可視照明機器1
0a,10bより検査対象物2へ照射された可視光を反
射させるプラスチック素材のフィルム系の反射膜5a,
5bが配置される。そして、検査対象物2の表面の反射
光は、反射膜5a,反射ミラー7a及びハーフミラー8
を介して、また検査対象物2の裏面の反射光は、反射膜
5b,反射ミラー7b及びハーフミラー8を介して1つ
の可視光用カメラ9により捉えられるように配置され
る。
【0019】また、表面及び裏面の画像は画面選択シャ
ッター6aまたは画面選択シャッター6bを開閉するこ
とにより、表面または裏面を選択することができるよう
になっている。
【0020】また、X線源1,X線撮像部4,可視光用
カメラ9及び表示器12はコントローラ11と接続さ
れ、制御及び画像表示されるようになっている。なお、
X線源1の放射方向で反射膜5aの間にX線シャッター
13が配置されている。したがって、このような構成に
よれば、X線源1からのX線照射と検査対象物2の可視
反射光を同一方向線上から捉えることになり、可視光用
カメラ9の画像及びX線画像を表示する表示器12によ
りX線検査をしたい任意の位置を基板セットの表裏に関
係なく容易に決定することができ、基板位置決めXYテ
ーブル3により移動させることができるものである。
【0021】また、X線源1より検査対象物2に照射さ
れ、検査対象物2を透過したX線を捉えるX線撮像部4
と、検査対象物2の表面または裏面のX線照射と同一視
野の反射光を捉える可視光用カメラ9の各取り込み画像
は、画像処理機能を有したコントローラ11に接続さ
れ、画像処理をすることにより、表示器12上に表示さ
れた画像に基づいてX線による基板検査と可視光による
外観基板検査を同時にできる。
【0022】(実施の形態2)図2は、本発明の実施の
形態2におけるX線基板検査装置の全体構成図である。
本実施の形態2は表面及び裏面の画像切り換えを、図1
に示す実施の形態1の画面選択シャッター6aまたは画
面選択シャッター6bを開閉する代わりに、可視照明機
器10a,10bに対して照射する光のON/OFF制
御機能を有した可視照明コントローラ16を介して、コ
ントローラ11から撮像したい表面または裏面の照明を
ON/OFFすることにより、選択することができるよ
うになっている。以下の動作は実施の形態1と同様であ
るので説明を省略する。
【0023】(実施の形態3)図3は、本発明の実施の
形態3におけるX線基板検査装置の全体構成図である。
X線撮像する構成としては、検査対象物2にX線を照射
するX線源1と、検査対象物2を載置できる位置決めX
Yテーブル3と、対面配置され検査対象物2の透過X線
を撮像するX線撮像部4を備える。
【0024】また、X線照射領域内の検査対象物2の外
観を捉える構成としては、X線源1と検査対象物2の
間、及び検査対象物2とX線撮像部4の間に、X線の照
射線量を減衰することなく透過させ、可視照明機器10
a,10bより検査対象物2へ照射された可視光を反射
させるプラスチック素材のフィルム系の反射膜5a,5
bが配置される。そして検査対象物2の表面の反射光
は、反射膜5a,反射ミラー7a及び反射プリズム15
を介して、また検査対象物2の裏面の反射光は、反射膜
5b,反射ミラー7b及び反射プリズム15を介して、
反射プリズム15からの光軸に対して垂直に移動するZ
テーブル14に搭載された1つの可視光用カメラ9によ
り捉えられるように配置される。そしてZテーブル14
を上下に移動させることにより、表面,裏面または図4
に示すように表示器12には表裏半分ずつの画面12
a,12bをそれぞれ選択することができるようになっ
ている。
【0025】したがって、このような構成によれば、実
施の形態1と同様に、X線源1からのX線照射と検査対
象物2の可視反射光を同一方向線上から捉えることにな
り、可視光用カメラ9の画像及びX線画像を表示する表
示器12によりX線検査をしたい任意の位置へ基板セッ
トの表裏に関係なく容易に決定することができ、基板位
置決めXYテーブル3により移動させることができるも
のである。また、X線源1より検査対象物2に照射さ
れ、検査対象物2を透過したX線を捉えるX線撮像部4
と、検査対象物2の表面または裏面のX線照射と同一視
野の反射光を捉える可視光用カメラ9の各取り込み画像
は、画像処理機能を有したコントローラ11に接続さ
れ、画像処理をすることにより、X線による基板検査と
可視光による外観基板検査を同時にできる。
【0026】(実施の形態4)図5は、本発明の実施の
形態4におけるX線基板検査装置の全体構成図である。
本実施の形態は前記図2に示す実施の形態2とほぼ同様
であるが、異なるのはズームレンズを付加した可視光用
カメラ9′とこの可視光用カメラ9′を撮像画面のXY
方向に移動できるXYテーブル17を有することによ
り、X線撮像部4からのX線画像と検査対象物2からの
反射光を撮像した可視光用カメラ9′からの外観画像と
の表示器12における画像での視野角及び倍率を重ね合
わせることが容易にできる。以下の動作は実施の形態2
と同様であるので説明を省略する。
【0027】また、本実施の形態ではX線画像検査及び
可視光による外観検査後のそれぞれの検査結果表示を画
像スケールによる位置補正せずに容易に表示器12によ
り表示されたX線画像上または、可視光画像上に表示で
きるので便利である。
【0028】(実施の形態5)前記各実施の形態1〜4
において、検査対象物2を載置し、位置決めする方法と
してXYテーブル3を例に挙げたが、図6に示すような
チャッキング構造を有するXYロボットにしてもよい。
図6の正面図(1),その側面図(2)に示すようにX
テーブル19とYテーブル20は基板チャック21と一
体に構成され、基板チャック21は検査対象物2をチャ
ッキングするものである。
【0029】図7は図6に示すチャッキング構造を有す
るXYロボット18を有する実施の形態5におけるX線
基板検査装置の全体構成図である。これは、前記図1に
示す実施の形態1のXYテーブル3の代わりにチャッキ
ング付XYロボット18を設けた場合である。X線検査
及び外観基板検査の動作は前記図1の実施の形態1と同
様であるのでその説明を省略する。
【0030】(実施の形態6)これまで説明した各実施
の形態1〜5において、X線撮像の幾何学的倍率を上げ
るために、X線撮像部4を検査対象物2にできるだけ接
近させなければならない場合は、X線撮像部4を検査対
象物2に対して垂直方向へ移動させる機構を設けるとと
もに、移動するX線撮像部4の干渉を避ける領域へ反射
膜5bを検査対象物2に対して水平方向へ移動させる機
構を設けるとよい。
【0031】図8は上記のようなX線撮像の幾何学的倍
率を上げるための本発明の実施の形態6におけるX線基
板検査装置の全体構成図である。これは、前記図1に示
す実施の形態1の反射膜5bを検査対象物2に対して水
平方向へ移動させる回転ソレノイド23及びX線撮像部
4を検査対象物2に対して垂直方向へ移動させるZテー
ブル22を付加した場合のものである。これによって、
X線撮像の幾何学的倍率を任意に上げることができる。
【0032】(実施の形態7)X線基板検査装置におい
て、可視光による検査対象物の片面のみの反射光の画像
を捉えればよい場合もある。図9はこのような場合に最
適な本発明の実施の形態7におけるX線基板検査装置の
全体構成図である。
【0033】図9に示すように、反射膜5aからの反射
光を直接可視光用カメラ9で捉えるようにしてあり、前
記各実施の形態1〜6の構成に比べ、検査対象物の片面
のみでよいので簡単化され、コスト減となる。
【0034】(実施の形態8)図10は本発明の実施の
形態8における反射膜の成形工程図を示す。図10の矢
印方向に示すようなポリエチレンテレフタレート24の
薄膜(一例として、数μ〜数十μ)にアルミ蒸着したポ
リエチレンテレフタレート25にアルミリング26の枠
に均一に張り、反射膜27を形成する。
【0035】また、上記反射膜においては、ポリエチレ
ンテレフタレート24の薄膜(数μ〜数十μ)フィルム
の代わりに、ポリブチレンテレフタレートやパーフルオ
ロ;テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロプロピレ
ン等のプラスチック素材の薄膜(数μ〜数十μ)フィル
ムを利用して、アルミ蒸着し、アルミリング26の枠に
均一に張られた状態の反射膜27を形成してもよい。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、X線源か
ら検査対象物へ照射されたX線透過画像を取り込むX線
撮像部と、可視照明機器より検査対象物へ照射された可
視光を反射させるミラーとして、ポリエチレンテレフタ
レート等のプラスチック素材の薄膜(数μ〜数十μ)フ
ィルムにアルミ蒸着をし、リング枠に均一に張られた状
態の反射膜を、X線源と検査対象物の間、及び検査対象
物とX線撮像部の間に配置し、可視照明機器より検査対
象物の表面・裏面に照射された光の反射光を対に配置さ
れた反射膜と画面選択シャッター及び反射ミラーを介し
てハーフミラーによりX線照射範囲を1つの可視光用カ
メラで捉えることにより、X線照射と検査対象部の可視
反射光を同一方向線上から撮像でき、可視光用カメラの
画像及びX線撮像部のX線画像を表示する表示器により
X線検査をしたい任意の位置を基板セットの表裏に関係
なく容易に決定することができ、基板位置決めXYテー
ブルにより移動させることができる。
【0037】また、X線源より検査対象物に照射され、
検査対象物を透過したX線を捉えるX線撮像部と、検査
対象物の表面または裏面のX線照射と同一視野の反射光
を捉える可視光用カメラの各取り込み画像は、画像処理
機能を有したコントローラに接続され、画像処理するこ
とにより、X線による基板検査と可視光による外観検査
を同時にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図2】本発明の実施の形態2におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図3】本発明の実施の形態3におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図4】本発明の実施の形態3における可視光用カメラ
の撮像映像の概略図
【図5】本発明の実施の形態4におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図6】チャッキング付きXYロボットの概略図
【図7】本発明の実施の形態5におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図8】本発明の実施の形態6におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図9】本発明の実施の形態7におけるX線基板検査装
置の全体構成図
【図10】本発明の実施の形態8における反射膜の成形
工程構成図
【符号の説明】
1 X線源 2 検査対象物 3 基板位置決めXYテーブル 4 X線撮像部 5a,5b 反射膜 6a,6b 画面選択シャッター 7a,7b 反射ミラー 8 ハーフミラー 9 可視光用カメラ 9′ ズームレンズ付き可視光用カメラ 10a,10b 可視光用照明機器 11 コントローラ 12 表示器 13 X線シャッター 14,22 Zテーブル 15 反射プリズム 16 可視照明コントローラ 17 XYテーブル 18 チャッキング付きXYロボット 19 Xテーブル 20 Yテーブル 21 基板チャック 23 回転ソレノイド 24 ポリエチレンテレフタレート 25 アルミ蒸着後のポリエチレンテレフタレート 26 アルミリング 27 (アルミ蒸着ポリエチレンテレフタレート)反射
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宇田川 勲 神奈川県横浜市港北区綱島東四丁目3番1 号 松下通信工業株式会社内 (72)発明者 大場 芳男 神奈川県横浜市港北区綱島東四丁目3番1 号 松下通信工業株式会社内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線源から検査対象物へ照射されたX線
    透過画像を取り込むX線撮像部と、前記X線源と検査対
    象物の間、及び検査対象物とX線撮像部の間に設けら
    れ、かつ可視照明機器より検査対象物の表面・裏面に照
    射された光の反射光を得るための対に配置された反射膜
    と、前記表面・裏面の反射光を選択するシャッター,反
    射ミラー及びハーフミラーを介してX線照射範囲を捉え
    る1つの可視光用カメラとを有することを特徴とするX
    線基板検査装置。
  2. 【請求項2】 X線源から検査対象物へ照射されたX線
    透過画像を取り込むX線撮像部と、前記X線源と検査対
    象物の間、及び検査対象物とX線撮像部の間に設けら
    れ、かつ可視照明機器より検査対象物の表面・裏面に照
    射された光の反射光を得るための対に配置された反射膜
    と、前記表面・裏面の反射光を選択するシャッター,反
    射ミラー及びハーフミラーを介してX線照射範囲を捉え
    る1つの可視光用カメラと、前記可視照明機器に対して
    前記検査対象物の表面・裏面に対して、照明する光のO
    N/OFF制御機能を有した可視照明コントロールとを
    有し、前記可視光用カメラで撮像する面を選択するよう
    にしたことを特徴とするX線基板検査装置。
  3. 【請求項3】 X線源から検査対象物へ照射されたX線
    透過画像を取り込むX線撮像部と、前記X線源と検査対
    象物の間、及び検査対象物とX線撮像部の間に設けら
    れ、かつ可視照明機器より検査対象物の表面・裏面に照
    射された光の反射光を得るための対に配置された反射膜
    と、前記表面・裏面の反射光を選択するシャッター,反
    射ミラー及び反射プリズムを介してX線照射範囲を捉え
    る1つの可視光用カメラとを有することを特徴とするX
    線基板検査装置。
  4. 【請求項4】 ズームレンズを付加した可視光用カメラ
    と、前記可視光用カメラを撮像画面のXY方向に移動で
    きるテーブルとを有し、X線画像と検査対象物からの反
    射光を撮像した可視光用カメラとの画像の重ね合わせを
    行うようにしたことを特徴とする請求項1,2または3
    記載のX線基板検査装置。
  5. 【請求項5】 検査対象物に対して同一領域内のX線画
    像と可視照明機器より検査対象物の表面または裏面画像
    を取り込み、画像処理し、半田検査,部品有無検査等の
    基板検査を同時に行うことを特徴とする請求項1,2,
    3または4記載のX線基板検査装置。
  6. 【請求項6】 ポリエチレンテレフタレート等のプラス
    チック素材のフィルムにアルミ蒸着させた膜に、リング
    等の枠に接合・接着させた構造を有することを特徴とす
    るX線用可視光反射膜。
  7. 【請求項7】 X線源と検査対象物の間、及び検査対象
    物とX線撮像部の間のX線放射領域内の両方または一方
    に、X線の照射線量を減衰させることなく透過させ、可
    視照明機器より検査対象物へ照射された可視光を反射さ
    せる請求項6記載の反射膜を利用し、X線照射視野内の
    可視光反射画像を捉えることを特徴とするX線基板検査
    装置。
JP09937798A 1998-04-10 1998-04-10 X線基板検査装置 Expired - Fee Related JP3883153B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09937798A JP3883153B2 (ja) 1998-04-10 1998-04-10 X線基板検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP09937798A JP3883153B2 (ja) 1998-04-10 1998-04-10 X線基板検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11295242A true JPH11295242A (ja) 1999-10-29
JP3883153B2 JP3883153B2 (ja) 2007-02-21

Family

ID=14245847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09937798A Expired - Fee Related JP3883153B2 (ja) 1998-04-10 1998-04-10 X線基板検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3883153B2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004340631A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Sony Corp 基板検査装置
JP2004340583A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd X線測定装置
WO2005036148A1 (en) * 2003-10-14 2005-04-21 Mirtec Co., Ltd. Printed circuit board inspection system combining x-ray inspection and visual inspection
JP2007192598A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Saki Corp:Kk 被検査体の検査装置
CN100426021C (zh) * 2005-06-17 2008-10-15 株式会社茉莉特斯 基于反射光和透射光的目视检查用照明装置
WO2012157467A1 (ja) * 2011-05-13 2012-11-22 オムロン株式会社 検査領域設定方法およびx線検査システム
WO2013105194A1 (ja) * 2012-01-12 2013-07-18 ヤマハ発動機株式会社 プリント基板の複合検査装置
JP2014008281A (ja) * 2012-06-29 2014-01-20 Rigaku Corp X線画像化装置及びx線画像化方法
KR20150128721A (ko) * 2013-03-07 2015-11-18 헬무트 휘셔 게엠베하 인스티투트 휘어 엘렉트로닉 운트 메쓰테크닉 광학 미러, 엑스선 형광 분석 장치 및 엑스선 형광 분석 방법
CN107592910A (zh) * 2015-04-15 2018-01-16 依科视朗国际有限公司 用于检查电子器件的方法
JP2018128401A (ja) * 2017-02-10 2018-08-16 東芝Itコントロールシステム株式会社 X線透視検査装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252246A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X線検査装置
JPH02107949A (ja) * 1988-10-17 1990-04-19 Nippon Steel Corp テープまたは板状体の表裏面検査装置
JPH03150450A (ja) * 1989-11-08 1991-06-26 Sanyo Electric Co Ltd 実装基板検査装置
JPH0416799A (ja) * 1990-05-11 1992-01-21 Mitsubishi Electric Corp 粒子加速装置の照射ヘッド

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252246A (ja) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X線検査装置
JPH02107949A (ja) * 1988-10-17 1990-04-19 Nippon Steel Corp テープまたは板状体の表裏面検査装置
JPH03150450A (ja) * 1989-11-08 1991-06-26 Sanyo Electric Co Ltd 実装基板検査装置
JPH0416799A (ja) * 1990-05-11 1992-01-21 Mitsubishi Electric Corp 粒子加速装置の照射ヘッド

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004340631A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Sony Corp 基板検査装置
JP2004340583A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd X線測定装置
WO2005036148A1 (en) * 2003-10-14 2005-04-21 Mirtec Co., Ltd. Printed circuit board inspection system combining x-ray inspection and visual inspection
US7369644B2 (en) 2003-10-14 2008-05-06 Mirtec Co., Ltd. Printed circuit board inspection system combining X-ray inspection and visual inspection
CN100426021C (zh) * 2005-06-17 2008-10-15 株式会社茉莉特斯 基于反射光和透射光的目视检查用照明装置
JP2007192598A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Saki Corp:Kk 被検査体の検査装置
WO2012157467A1 (ja) * 2011-05-13 2012-11-22 オムロン株式会社 検査領域設定方法およびx線検査システム
JP2012237729A (ja) * 2011-05-13 2012-12-06 Omron Corp 検査領域設定方法およびx線検査システム
WO2013105194A1 (ja) * 2012-01-12 2013-07-18 ヤマハ発動機株式会社 プリント基板の複合検査装置
JP2013142678A (ja) * 2012-01-12 2013-07-22 Yamaha Motor Co Ltd プリント基板の複合検査装置
EP2803980A4 (en) * 2012-01-12 2016-03-23 Yamaha Motor Co Ltd COMPLEX INSPECTION DEVICE FOR PRINTED CIRCUIT BOARD
CN104081193A (zh) * 2012-01-12 2014-10-01 雅马哈发动机株式会社 印刷基板的复合检查装置
US9329139B2 (en) 2012-01-12 2016-05-03 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Complex inspection device for printed-substrate
JP2014008281A (ja) * 2012-06-29 2014-01-20 Rigaku Corp X線画像化装置及びx線画像化方法
US9250199B2 (en) 2012-06-29 2016-02-02 Rigaku Corporation X-ray imaging apparatus, and X-ray imaging method
JP2016509231A (ja) * 2013-03-07 2016-03-24 ヘルムート・フィッシャー・ゲーエムベーハー・インスティテュート・フューア・エレクトロニク・ウント・メステクニク 光学ミラー、x線蛍光分析デバイス及びx線蛍光分析のための方法
KR20150128721A (ko) * 2013-03-07 2015-11-18 헬무트 휘셔 게엠베하 인스티투트 휘어 엘렉트로닉 운트 메쓰테크닉 광학 미러, 엑스선 형광 분석 장치 및 엑스선 형광 분석 방법
CN107592910A (zh) * 2015-04-15 2018-01-16 依科视朗国际有限公司 用于检查电子器件的方法
CN107592910B (zh) * 2015-04-15 2021-08-13 依科视朗国际有限公司 用于检查电子器件的方法
JP2018128401A (ja) * 2017-02-10 2018-08-16 東芝Itコントロールシステム株式会社 X線透視検査装置
CN108414541A (zh) * 2017-02-10 2018-08-17 东芝It·控制系统株式会社 X射线透视检查装置
KR20180092801A (ko) 2017-02-10 2018-08-20 도시바 아이티 앤 콘트롤 시스템 가부시키가이샤 X선 투시 검사 장치

Also Published As

Publication number Publication date
JP3883153B2 (ja) 2007-02-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW548405B (en) Apparatus and method for fabricating flat workpieces
TW200932409A (en) Laser processing device
JPH0252246A (ja) X線検査装置
JPH11295242A (ja) X線基板検査装置とx線用可視光反射膜
JP2000111502A (ja) 断層検査装置
JP4739803B2 (ja) X線ステレオ透視装置及びそれを用いたステレオ観察方法
KR101416860B1 (ko) 카메라 렌즈 모듈 이물 검사 시스템
JPH07324923A (ja) 被験表面にテストパターンを投影する装置
JPH059780B2 (ja)
JPH0411485A (ja) 画像表示/撮像装置
KR101447857B1 (ko) 렌즈 모듈 이물 검사 시스템
JPH10136237A (ja) 撮像装置
JP2002512365A (ja) 対象物の輝度特性特に方向に依存する輝度を有する対象物の輝度特性を測定するシステム
JP2005241586A (ja) 光学フィルムの検査装置および光学フィルムの検査方法
JPH05145226A (ja) 半田付状態のx線検査装置
TW560236B (en) Observation device using light and X-ray, exposure device and exposure method
JP2006106388A (ja) 撮影範囲投影表示装置及び電子機器
JP2008175768A (ja) 表示パネルの欠陥検査装置および欠陥検査方法
JPH04308890A (ja) 投写形画像表示装置
JP2000333047A (ja) 光学的撮像装置および光学的撮像方法
JPH09282444A (ja) 視覚認識装置
JPH03210410A (ja) ピングリッドアレイ検査装置
JPH1078309A (ja) 撮像装置
JP3436817B2 (ja) 検査装置の視野位置表示装置
JP2009109276A (ja) 検査装置及び検査方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041207

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060110

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060309

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060310

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060411

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060608

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060801

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060919

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061017

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061113

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091124

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101124

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101124

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111124

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121124

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121124

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131124

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees