JPH1078309A - 撮像装置 - Google Patents

撮像装置

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JPH1078309A
JPH1078309A JP8232222A JP23222296A JPH1078309A JP H1078309 A JPH1078309 A JP H1078309A JP 8232222 A JP8232222 A JP 8232222A JP 23222296 A JP23222296 A JP 23222296A JP H1078309 A JPH1078309 A JP H1078309A
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JP8232222A
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Inventor
Hidekuni Niiyama
秀邦 新山
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Nidec Copal Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、小型化、低コスト化及び検査精度
の向上を可能にした撮像装置を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 本発明による撮像装置1は、読取り領域S
の読取り対象物6を照らす照明系3と、読取り対象物6か
らの反射光を受光して読取り対象物6を撮像する撮像系4
と、撮像系4と照明系3との間に配置されて反射光を撮像
系4上に結像させるレンズ系5とを有する撮像装置1にお
いて、レンズ系5を一つの結像レンズ手段17で構成し、
撮像系4を一つの撮像手段18で構成し、読取り領域Sに配
置させる読取り対象物6の一側面6aに対峙する位置に側
面観察ミラー8を配置し、読取り領域Sに配置させる読取
り対象物6の底面6bに対峙する位置に底面観察ミラー9を
配置し、側面観察ミラー9からの反射光を結像レンズ手
段17に入射させ、底面観察ミラー9からの反射光を結像
レンズ手段17に入射させる構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、撮像装置に係り、
特に、電子部品を回路基板に実装する過程において、リ
ードの側方観察に利用する撮像装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来から存在する撮像装置の一例とし
て、特開平6−216580号公報がある。この公報に
開示された装置は、QFP,SOP等からなる電子部品
を回路基板上に実装する際に、ノズルで真空吸引された
電子部品のリード(アウタ・リード)を、一台のカメラ
で直接観察する構成になっている。従って、パッケージ
の側面から延びたリードの曲がり状態を、側方に配置し
たカメラで光学的に且つ非接触状態で観察し得るので、
リードの浮き沈み(コプラナリティ)等を検査でき、回
路基板に部品を実装するための事前の測定が可能とな
り、リード浮きした不良部品を事前に選別することがで
きる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
撮像装置は、上述したように構成されているため、次の
ような課題が存在していた。すなわち、検査精度向上の
ために、電子部品の底面の検査を行う場合、側方に配置
したカメラとは別のカメラを下方に設置しなければなら
ず、撮像装置が大型化するといった問題点があった。
【0004】本発明は、上述の課題を解決するためにな
されたもので、特に、小型化、低コスト化及び検査精度
の向上を可能にした撮像装置を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る本発明の
撮像装置は、読取り領域に配置される読取り対象物を照
明光により照らすための光源をもった照明系と、照明系
により照らされた際に生じる読取り対象物からの反射光
を受光して読取り対象物を撮像する撮像系と、撮像系と
照明系との間に配置されて反射光を撮像系上に結像させ
るレンズ系とを有する撮像装置において、レンズ系を一
つの結像レンズ手段で構成し、撮像系を一つの撮像手段
で構成し、読取り領域に配置させる読取り対象物の一側
面に対峙する位置に側面観察ミラーを配置し、読取り領
域に配置させる読取り対象物の底面に対峙する位置に底
面観察ミラーを配置し、側面観察ミラーからの反射光を
結像レンズ手段に入射させ、底面観察ミラーからの反射
光を結像レンズ手段に入射させることを特徴とする。
【0006】この撮像装置においては、読取り領域に配
置された読取り対象物は、照明系から出射される照明光
により照らされる。このとき、読取り対象物の側面から
の反射光は、読取り対象物の側面に対峙する位置に設け
られた側面観察ミラーで反射した後、結像レンズ手段に
入射する。また、読取り対象物の底面からの反射光は、
読取り対象物の底面に対峙する位置に設けられた底面観
察ミラーで反射した後、結像レンズ手段に入射する。そ
して、結像レンズ手段を通過した光は、撮像手段で読取
り対象物の側面の像又は底面の像として撮像される。す
なわち、構造の簡素化を図られるために採用された一つ
の撮像手段及び一つの結像レンズ手段により、読取り対
象物を、側面と底面といった全く違った角度から観察す
ることができる。特に、本発明の撮像装置は小型化が図
られているので、電子部品実装装置内での設置スペース
が他の機構との兼ね合いで制限される場合に有効であ
る。
【0007】この場合、側面観察ミラーと結像レンズ手
段との間の側面像光路上に全反射ミラーを配置し、全反
射ミラーを介して側面観察ミラーからの反射光を結像レ
ンズ手段に入射させ、撮像手段で読取り対象物の一側面
の像と底面の像とを同時に撮像すると好ましい。
【0008】このような構成を採用した場合、一つの結
像レンズ手段を通過した読取り対象物の側面像と底面像
とを、一つ撮像手段で同時に撮像することができるの
で、読取り対象物を全く違った角度から同時に観察する
ことができ、読取り対象物の側面から延びるリードの浮
き沈み量や読取り対象物の姿勢を精度良く確実に検査す
ることができる。
【0009】また、側面観察ミラーと結像レンズ手段と
の間の側面像光路と、底面観察ミラーと結像レンズ手段
との間の底面像光路との合流位置に光量分割手段を配置
し、側面像光路の途中に第1シャッタを配置し、底面像
光路の途中に第2シャッタを配置し、第1シャッタと第
2シャッタとの選択的な切替えにより、撮像手段で読取
り対象物の一側面の像と底面の像とを個別に撮像すると
好ましい。
【0010】このような構成を採用した場合、第1シャ
ッタと第2シャッタとの選択的な開閉により、撮像手段
で読取り対象物の側面像と底面像とを個別に撮像するこ
とができるので、読取り対象物の底面像と側面像を同時
に撮像する場合に比べ、撮像手段の撮像エリアが小さく
とも、所望の大きさの画像を得ることができる。従っ
て、撮像手段の撮像エリアを小さくすることができ、低
コスト化を更に促進させることができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面と共に本発明による撮
像装置の好適な実施形態について詳細に説明する。
【0012】図1は、本実施形態に係る撮像装置を示す
斜視図である。同図に示す撮像装置1は、横長の暗箱を
構成するケーシング2を備え、このケーシング2の一側
方には照明系3が配置され、その他側方で且つケーシン
グ2内には撮像系4が配置され、照明系3と撮像系4と
の間にはレンズ系5が配置されている。この撮像装置1
は、電子部品の小型化,薄型化,多機能化の要求から開
発されたパッケージをもつ電子部品(表面実装デバイ
ス)の撮像を行い、図示しない電子部品実装装置の一部
として組み込まれている。パッケージとしては、QF
P,SOP,SOJ,QFJ等がある。
【0013】図1及び図2に示すように、撮像装置1に
は、パッケージ化された読取り対象物としての電子部品
6を配置させる読取り領域Sが設けられている。この読
取り領域Sは、吸着ノズル7を利用して部品ストック場
所から回路基板(図示ぜず)上に搬送させる途中の電子
部品6を、部品検査のために一時的に取込むための部品
検査領域K内に位置し、この部品検査領域Kは、ケーシ
ング2の上壁2aと、この上壁2aの一端から立ち上が
る側壁2bとからなるL字形の領域である。
【0014】側壁2bの裏面側において、読取り領域S
の一側方には、全反射型のミラーからなる一枚の側面観
察ミラー8が配置され、ケーシング2の側壁2bには、
側面観察ミラー8と読取り領域Sとの間において側面像
光路Aの通路を確保するために、矩形の側面観察用窓1
0が設けられ、この側面観察用窓10には防塵ガラスが
嵌め込まれている。従って、水平方向において、側面観
察ミラー8を、読取り領域S内の電子部品6の一側面6
aに一対一で直接的に対峙させることができる。また、
上壁2aの裏面側において、読取り領域Sの下方には、
全反射型のミラーからなる一枚の底面観察ミラー9が配
置され、ケーシング2の上面2aには,底面観察ミラー
9と読取り領域Sとの間において底面像光路Bの通路を
確保するために、矩形の底面観察用窓11が設けられ、
この底面観察用窓11には防塵ガラスが嵌め込まれてい
る。従って、鉛直方向において、底面観察ミラー9を、
読取り領域S内の電子部品6の底面6bに一対一で直接
的に対峙させることができる。
【0015】前述の読取り領域Sの下方及び側方には照
明系3が配置され、照明系3は、電子部品6の一側面6
aを横から照らすための側面用光源12を有している。
この側面用光源12は、LEDの列として構成されると
共に、側面観察用窓10を上下で挟むようにして、ケー
シング2の側壁2bの表面に配置されている。従って、
側面像光路Aを確保しつつ、電子部品6の一側面6a側
を斜め上方及び下方から確実に照らすことができる。
【0016】更に、照明系3は、電子部品6の底面6b
を下から照らすための底面用光源13を有している。こ
の底面用光源13は、LEDの列として環状に配列され
ると共に、矩形の底面観察用窓11を取り囲むようにし
て、ケーシング2の上壁2aの表面に配置されている。
従って、底面像光路Bを確保しつつ、電子部品6の底面
6b側を真下から確実に照らすことができる。
【0017】また、ケーシング2内に収容された底面観
察ミラー9は、所定の反射角βをもってケーシング2の
内壁面に固定され、この反射角βによって、底面観察用
窓11からケーシング2内に入射する鉛直な光を水平方
向に反射させている。その結果、上方から底面観察ミラ
ー9に入射する底面像光路Bは、底面観察ミラー9で直
角に折り曲げられて水平に向く。更に、ケーシング2内
に収容された側面観察ミラー8は、所定の反射角αをも
ってケーシング2の内壁面に固定され、この反射角αに
よって、側面観察用窓10からケーシング2内に入射す
る水平な光を斜め下方に反射させている。その結果、側
方から側面観察ミラー8に入射する側面像光路Aは、側
面観察ミラー8で鋭角に折り曲げられて斜め下方に向
く。
【0018】ここで、側面観察ミラー8で反射した後の
側面像光路Aと、底面観察ミラー9で反射した後の底面
像光路Bとの合流位置には、光量分割手段14が配置さ
れ、この光量分割手段14はハーフミラーからなる。こ
の光量分割手段14は、側面像光路Aを反射させ且つ底
面像光路Bを透過させる機能と、側面像光路A及び底面
像光路Bをレンズ系5に入射させる機能との二つの機能
を有するように、所定の反射角γをもってケーシング2
内に固定されている。更に、側面像光路Aと底面像光路
Bとの合流前において、側面像光路Aの途中には、ソレ
ノイド(図示せず)等の所定の駆動手段により光路開閉
を行う第1のシャッタ15が配置され、底面像光路Bの
途中にも、所定の駆動手段により光路開閉を可能にした
第2のシャッタ16が配置されている。
【0019】そこで、第1のシャッタ15と第2のシャ
ッタ16とを選択的に切り替えることで、側面像光路A
と底面像光路Bとの何れかを光量分割手段14に入射さ
せることができる。すなわち、第1のシャッタ15と第
2のシャッタ16の一方を閉鎖し他方を開放すること
で、光量分割手段14とレンズ系5との間において、側
面像光路Aと底面像光路Bとが重なり合うことがない。
その結果、側面像光路Aと底面像光路Bとの何れか一方
のみをレンズ系5に入射させることができる。
【0020】このレンズ系5は、一つの結像レンズ手段
17からなると共に、固定焦点型であり所望の焦点距離
を有している。撮像系4は一つのCCD(撮像手段)1
8からなり、このCCD18を結像レンズ手段17の焦
点位置に配設させることにより、結像レンズ手段17を
通過した電子部品6の側面像及び底面像を、CCD18
で選択的に撮像することができる。
【0021】次に、四つの側面6aのそれぞれに複数の
リードLが配列されたQFPタイプの電子部品6を、撮
像装置1で撮像する際の動作説明をする。
【0022】先ず、電子部品実装装置(図示せず)の吸
着ノズル7により真空吸引されて所定場所から搬送され
た電子部品6を撮像装置1の読取り領域S内に配置させ
る。そして、LEDからなる側面用光源12及び底面用
光源13を同時に点灯させることにより、電子部品6の
一側面6a側及び底面6b側が照らされる。このとき、
側面用光源12側の一側面6a及びリードLの反射光
は、側面観察用窓10を通って側面観察ミラー8に入射
する。また、電子部品6の底面6bは、水平なフラット
面からなるので、底面6b及びリードLでの反射光は、
真下に反射すると同時に、底面観察用窓11を通って底
面観察ミラー9に入射する。ここで、第1シャッタ15
は予め開かれ、第2シャッタ16は閉じられているの
で、光量分割手段14には、光路Aに沿った光のみが達
し、光量分割手段14で反射した光は結像レンズ手段1
7に集光する。そして、結像レンズ手段17を透過した
光はCCD18に入射し、図3に示すように、CCD1
8の中央では、電子部品6の一つの側面像19が撮像さ
れる。更に、電子部品6の四つの側面6aを観察する場
合、吸着ノズル7を90度ずつ回転させながら、その都
度、CCD18で電子部品6の各側面6aを撮像させ
る。
【0023】また、第1シャッタ15を閉じ、第2シャ
ッタ16を開いた場合、光量分割手段14には、光路B
に沿った光のみが達し、光量分割手段14で反射した光
は結像レンズ手段17に集光する。そして、結像レンズ
手段17を透過した光はCCD18に入射し、図4に示
すように、CCD18の中央では、電子部品6の底面像
20が撮像される。このように、CCD18上では、側
面像19と底面像20とが個別的に撮像される。そし
て、CCD18で撮像された側面像19は、図示しない
画像処理装置にデータとして送り込まれることで、各リ
ードLにおける浮き沈み量の検査や、吸着ノズル7によ
る吸着姿勢の良否チャックに利用される。また、CCD
18で撮像された底面像20も、画像処理装置にデータ
として送り込まれることで、吸着ノズル7に対する電子
部品6の位置ズレや、吸着姿勢の検査として利用され
る。この段階で、リード配列の悪い不良品や吸着姿勢の
悪い電子部品6を事前に選別する。このように、電子部
品6の側面像19と底面像20とを、第1シャッタ15
と第2シャッタ16との切替えのみで撮像することで、
電子部品6の検査スピードや検査精度が飛躍的に向上す
る。
【0024】本発明は、前述した実施形態に限定される
ものではなく、前述の光量分割手段14は、ハーフミラ
ーに限定されることなく、反射と透過との比率が異なる
ものであってもよい。また、光量分割手段14におい
て、限定された波長領域を反射させるダイクロイックミ
ラーにした場合、ダイクロイックミラーの反射波長に合
致する波長をもったLEDを側面用光源12とし、ダイ
クロイックミラーの反射波長以外の波長をもったLED
を底面用光源13とすることもできる。また、光量分割
手段14において、限定された波長領域を透過させるダ
イクロイックミラーを用いてもよい。その場合、このダ
イクロイックミラーの特性に合わせて、光源12,13
を適宜選択することは言うまでもない。
【0025】本発明の更に他の実施形態として、図5に
示すように、撮像装置1Aでは、図2の光量分割手段1
4に代えて、全反射ミラー21が配置され、この全反射
ミラー21は、底面観察ミラー9と結像レンズ手段17
との間の底面像光路Bを避けるようにして、側面観察ミ
ラー8と結像レンズ手段17との間の側面像光路A上に
配置され、この部分で側面像光路Aを結像レンズ手段1
7に向けて直角に曲げている。そして、結像レンズ手段
17には、その上下位置において、側面像光路Aと底面
像光路Bとが同時に取り込まれる。そこで、側面用光源
12と底面用光源13とを同時に点灯させることで、図
6に示すように、CCD18上で側面像19と底面像2
0とを同時に撮像することができる。このような構成を
採用した場合、図1の撮像装置1のようなシャッタを設
ける必要がなく、撮像装置1Aの構造を極めて簡単にす
ることができる。なお、図5に示した撮像装置1Aにお
いて、図1に示した撮像装置1の構成と同一又は同等な
部分には、同一の符号を付し、その説明は省略する。
【0026】また、本発明の撮像装置は、電子部品6の
撮像に限らず、吸着ノズル7の先端に設けられた吸着面
を読取り対象物として、その水平度や高さレベルをチェ
ックする場合にも利用される。
【0027】
【発明の効果】本発明による撮像装置は、以上のように
構成されているため、次のような効果を得る。すなわ
ち、レンズ系を一つの結像レンズ手段で構成し、撮像系
を一つの撮像手段で構成し、読取り領域に配置させる読
取り対象物の一側面に対峙する位置に側面観察ミラーを
配置し、読取り領域に配置させる読取り対象物の底面に
対峙する位置に底面観察ミラーを配置し、側面観察ミラ
ーからの反射光を結像レンズ手段に入射させ、底面観察
ミラーからの反射光を結像レンズ手段に入射させること
により、撮像装置を小型化することができ、部品点数を
減らすことでコストの低減を図り、しかも、一つの撮像
装置により、読取り対象物を、側面と底面といった全く
違った角度から観察することができるので、読取り対象
物の検査精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る撮像装置の一実施形態を示す斜視
図である。
【図2】図1に示した撮像装置の構成を示す概略図であ
る。
【図3】図1の撮像装置により得られた電子部品の側面
画像を示す図である。
【図4】図1の撮像装置により得られた電子部品の底面
画像を示す図である。
【図5】本発明に係る撮像装置の他の実施形態を示す概
略図である。
【図6】図5の撮像装置により得られた電子部品の画像
を示す図である。
【符号の説明】
S…読取り領域、A…側面像光路、B…底面像光路、
1,1A…撮像装置、3…照明系、4…撮像系、5…レ
ンズ系、6…読取り対象物、6a…読取り対象物の側
面、6b…読取り対象物の底面、8…側面観察ミラー、
9…底面観察ミラー、12…側面用光源(光源)、13
…底面用光源(光源)、14…光量分割手段(ハーフミ
ラー,ダイクロイックミラー)、15…第1シャッタ、
16…第2シャッタ、17…結像レンズ手段、18…撮
像手段(CCD)、21…全反射ミラー。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 読取り領域に配置される読取り対象物を
    照明光により照らすための光源をもった照明系と、前記
    照明系により照らされた際に生じる前記読取り対象物か
    らの反射光を受光して前記読取り対象物を撮像する撮像
    系と、前記撮像系と前記照明系との間に配置されて前記
    反射光を前記撮像系上に結像させるレンズ系とを有する
    撮像装置において、 前記レンズ系を一つの結像レンズ手段で構成し、前記撮
    像系を一つの撮像手段で構成し、前記読取り領域に配置
    させる前記読取り対象物の一側面に対峙する位置に側面
    観察ミラーを配置し、前記読取り領域に配置させる前記
    読取り対象物の底面に対峙する位置に底面観察ミラーを
    配置し、前記側面観察ミラーからの反射光を前記結像レ
    ンズ手段に入射させ、前記底面観察ミラーからの反射光
    を前記結像レンズ手段に入射させることを特徴とする請
    求項1記載の撮像装置。
  2. 【請求項2】 前記側面観察ミラーと前記結像レンズ手
    段との間の側面像光路上に全反射ミラーを配置し、前記
    全反射ミラーを介して前記側面観察ミラーからの反射光
    を前記結像レンズ手段に入射させ、前記撮像手段で前記
    読取り対象物の一側面の像と前記底面の像とを同時に撮
    像することを特徴とする請求項1記載の撮像装置。
  3. 【請求項3】 前記側面観察ミラーと前記結像レンズ手
    段との間の側面像光路と、前記底面観察ミラーと前記結
    像レンズ手段との間の底面像光路との合流位置に光量分
    割手段を配置し、前記側面像光路の途中に第1シャッタ
    を配置し、前記底面像光路の途中に第2シャッタを配置
    し、前記第1シャッタと第2シャッタとの選択的な切替
    えにより、前記撮像手段で前記読取り対象物の一側面の
    像と前記底面の像とを個別に撮像することを特徴とする
    請求項1記載の撮像装置。
JP8232222A 1996-09-02 1996-09-02 撮像装置 Pending JPH1078309A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010014735A (ja) * 2009-10-20 2010-01-21 Daiichi Jitsugyo Viswill Co Ltd 外観検査装置
JP2010027903A (ja) * 2008-07-22 2010-02-04 Fuji Mach Mfg Co Ltd 吸着部品の欠損判定方法、体積計算方法及び実装装置
US8359735B2 (en) 2009-04-17 2013-01-29 Samsung Techwin Co., Ltd. Head assembly for chip mounter
JP2017102078A (ja) * 2015-12-04 2017-06-08 新電元工業株式会社 外観検査装置及び外観検査方法

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