JPH112836A - アクティブマトリクス液晶表示装置 - Google Patents

アクティブマトリクス液晶表示装置

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Publication number
JPH112836A
JPH112836A JP9151886A JP15188697A JPH112836A JP H112836 A JPH112836 A JP H112836A JP 9151886 A JP9151886 A JP 9151886A JP 15188697 A JP15188697 A JP 15188697A JP H112836 A JPH112836 A JP H112836A
Authority
JP
Japan
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liquid crystal
electrodes
electrode
wirings
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP9151886A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsunenori Yamamoto
恒典 山本
Ritsuo Fukaya
律雄 深谷
Sukekazu Araya
介和 荒谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH112836A publication Critical patent/JPH112836A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】基板に対して支配的に平行な電界が印加される
方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置における縦
スミアの改善。 【解決手段】基板に対して支配的に平行な電界が印加さ
れる方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置におい
て、信号配線の上部に絶縁膜を介して対向電極を形成
し、下部に他の電極に接続されていない浮遊電極を形成
し、基板面に対して垂直方向に重なり合う構造とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はアクティブマトリク
ス液晶表示装置に係わり、特にIPS方式のアクティブ
マトリクス液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、薄膜トランジスタ(TFT)に代
表されるアクティブ素子を用いたアクティブマトリクス
液晶表示装置は、CRTと同等の高画質、およびCRT
より低消費電力で省スペースといった点から、パソコン
やワークステーションなどのモニターとしても使用され
つつある。このようなモニター用途に適したLCDの一
つとして、IPS(in-Plane Switching)モードのアク
ティブマトリクス液晶表示装置がある。この液晶表示装
置の構成は同一基板上に走査配線,信号配線,共通配線
を配置し、2つの電極(画素電極と対向電極)を櫛歯状
に形成して、液晶に印加する電界の方向を基板界面にほ
ぼ平行な方向としていることが特徴である。この方式に
おいては、櫛歯状電極が光を透過しないため、開口率が
低くなりがちであるという課題があるものの、従来の液
晶表示装置と比較して広視野角という特徴があり、直視
型モニター用途に最適である。
【0003】このIPSモードの液晶表示装置の課題と
して、縦スミアという画質不良が発生しやすいことがあ
る。この画質不良は信号配線の電圧変化が画素電極と対
向電極の間の液晶に雑音として影響を及ぼしているのが
原因である。このことについてはEuro Display '96
P49のElectric Field Analysis in TFT-LCDs WithIn
-Plane Switching Mode of Nematic Lcsに詳しく記載さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のアクティブマト
リクス液晶表示装置では、(1)信号配線の電位変化
と、(2)信号配線と対向電極の間隙部等の液晶印加電
圧が制御できない領域からの漏れ光の2つが縦スミアの
原因となっている。
【0005】それに対して、従来のIPSモードを利用
したアクティブマトリクス液晶表示装置では、縦スミア
を抑制するための構造として、信号配線と画素電極の間
に対向電極を近接配置し、信号配線の電位変化を対向電
極でシールドしている。
【0006】しかし、この配置の画素構造では、各電極
間隔や各電極幅を最適化することが非常に困難であり、
信号配線と対向電極の間隙部の液晶に印加される電界を
制御することができず、この間隙部の液晶は常に透過状
態となってしまう。この信号電極と対向電極の間隙部で
液晶からの光漏れが生じ、縦スミアが発生する。
【0007】本発明の目的は、縦スミアの無い高画質な
アクティブマトリクス液晶表示装置を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】これらの課題を解決する
第1の構造として、少なくとも一方が透明な一対の基板
と、その一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前記
一対の基板の一方には、複数の走査配線と、これらの走
査配線にマトリクス状に形成された複数の信号配線と、
これらの複数の信号配線と前記複数の走査配線とのそれ
ぞれの交点に対応して形成された複数のアクティブ素子
と、それらのアクティブ素子に接続された複数の画素電
極と、前記複数の走査配線のそれぞれの間に形成された
複数の共通配線と、前記複数の共通配線に接続され、前
記複数の画素電極との間に、前記一対の基板に対して支
配的に平行な電界を生じるように形成された複数の対向
電極とを有する液晶表示装置において、前記複数の信号
配線の上方に絶縁膜を介し、それらの信号配線に重畳す
るように前記複数の対向電極が配置され、前記複数の信
号配線の下方に絶縁膜を介し、それらの信号配線に重畳
するように複数の浮遊電極が形成される構成が考えられ
る。
【0009】この構成にすると、信号配線を同一基板上
で、上下に挟み込むことができるので、信号配線と他の
電極で生じる電界を吸収することができ、それらによっ
て生じる縦スミアを抑制することができる。また、対向
電極,信号配線,浮遊電極をそれぞれの1つの電極で、
基板に対して垂直に形成しているので、従来よりも開口
率が向上する。
【0010】さらに、前記複数の浮遊電極を他の電極に
接続しない構成にすると、他の電極と容量を形成しない
ので、信号配線に印加された信号を歪ませないようにす
ることができ、縦スミアを抑制できる。
【0011】また、加える別の構造として、前記複数の
信号配線と前記複数の走査電極とで囲まれた領域に複数
の画素が構成され、走査配線方向に隣接する複数の画素
において、対応する対向電極を対応する共通電極とその
対応する共通電極と隣接する共通電極に交互に対向電極
が接続される構成を加えると、一本の共通電極の時間当
たりの全容量を減らすことができるので、走査配線の信
号遅延及び、電圧低下を防止することができ、しいて
は、縦スミアの発生を抑制することができる。
【0012】また、上記の構成では、本来、遮光層を必
要としないが、マスク合わせ等のプロセスの裕度を考え
るとあった方がよいが、従来よりも小さくてよい。ま
た、その遮光層の比抵抗を108Ω・cm 以上1014Ω・
cm以下とすると、下側基板の対向電極と浮遊電極で吸収
しきれなかった電界を吸収することができるようにな
る。
【0013】また、第2の構成として、少なくとも一方
が透明な一対の基板と、その一対の基板に挟持された液
晶層とを有し、前記一対の基板の一方には、複数の走査
配線と、これらの走査配線にマトリクス状に形成された
複数の信号配線と、これらの複数の信号配線と前記複数
の走査配線とのそれぞれの交点に対応して形成された複
数のアクティブ素子と、それらのアクティブ素子に接続
された複数の画素電極と、前記複数の走査配線に接続さ
れ、前記複数の画素電極との間に、前記一対の基板に対
して支配的に平行な電界を生じるように形成された複数
の対向電極とを有する液晶表示装置において、前記複数
の信号配線の上方に絶縁膜を介し、それらの信号配線に
重畳するように前記複数の対向電極が形成され、前記複
数の信号配線の下方に絶縁膜を介し、それらの信号配線
に重畳するように他の電極に接続されていない複数の浮
遊電極が形成される構成がある。
【0014】この構成では、共通電極を走査配線で兼用
したので、第1の構成よりもさらに高い開口率を得るこ
とができる。
【0015】この構成にも、前記複数の浮遊電極は前記
複数の走査配線に接続される構成若しくは、前記複数の
信号配線と前記複数の走査電極とで囲まれた領域に複数
の画素を構成し、それらの複数の画素において、対応す
る共通電極と隣接する共通電極に前記複数の対向電極が
接続される構成を加えても上記第1の構成と同様な効果
を得ることができる。
【0016】これらの構成でも、本来、遮光層を必要と
しないが、マスクの位置合わせ等のプロセスの裕度を考
えるとあった方がよい。しかし、従来よりもその面積を
小さくすることができる。
【0017】また、その遮光層の比抵抗を108Ω・cm
以上1014Ω・cm以下である構成にすると、さらに不要
な電界を吸収し、縦スミアの発生を抑制できる。
【0018】
【発明の実施の形態】
[実施例1]図1に本実施例におけるアクティブマトリ
クス型液晶表示装置のTFT側基板の平面構造を示す。
【0019】基板上に、走査配線102と信号配線10
3が格子状に配置されており、その交点に対応してアク
ティブ素子である薄膜トランジスタ120が形成されて
いる。
【0020】その薄膜トランジスタ120には画素電極
105が接続されており、その画素電極105と基板に
対して、支配的に平行に電界を形成するように、対向電
極106が形成されている。この対向電極106は走査
配線102と並列構造となっている共通配線104に接
続されている。ここで対向電極106は信号配線103
の直上に配置されている。
【0021】また、信号配線103の下方に信号配線1
03と重畳するように、電極が形成され、どの電極とも
接続されていない電極、つまり浮遊電極107となって
いる。
【0022】図2に図1のA−A′線における液晶パネ
ルの断面図を示す。
【0023】下側基板100はガラス板101を基板と
して、その上に浮遊電極107,SiN層108,信号
配線103,保護膜層109,対向電極106および画
素電極105,配向膜層150の積層構造となってい
る。また、ガラス基板101の反対の面には偏向板17
0が貼り付けられている。一方、上側基板200は、同
じくガラス板201を基板として、その上に、カラーフ
ィルタ203,平坦化膜204,配向膜層250の積層
になっている。またガラス基板201の反対側には偏向
板270がある。そして、この上側基板200と下側基
板100の間に液晶組成物300を挟み込んだ形で液晶
パネルを構成している。
【0024】ここでは、図3に示すように信号配線の幅
402,対向電極の幅401,浮遊電極の幅403を6
μm,10μm,10μmとした。
【0025】この信号配線103を浮遊電極107と対
向電極106で基板面に垂直方向に挟んだ形となってい
ることが本実施例の特徴である。
【0026】図3に示す電気力線701,702のよう
に、信号配線103からの電界(電気力線)は上側は対
向電極106によって押え込まれ、下側は浮遊電極10
7に収束するため、画素電極105と対向電極106と
の間の液晶300への影響は非常に少なくなる。また、
3層が垂直に重なっているため、構造的に光漏れの発生
する間隙部がなくなっており、光漏れによる縦スミアも
発生しない。
【0027】さらに本実施例の場合、浮遊電極107お
よび対向電極106がそれぞれ1つの電極で構成される
ため、それらの幅を細くすることができる。
【0028】そのうえ、画素電極105、および対向電
極106が保護膜層109上にあることから、液晶30
0に効率よく電界を印加することができ、保護膜層10
9の下に電極がある場合より、液晶駆動電圧を低電圧化
することができる。
【0029】本実施例における図3では対向電極の幅4
01と浮遊電極の幅403が信号配線の幅402より大
きくしてある。これは信号配線からの電界のシールドと
開口率とを考慮した最適化や、マスク合わせ等のプロセ
ス裕度により変化するので、信号配線若しくは対向電極
のどちらか一方の幅を(マスク合わせ等のプロセス裕
度)×2+(信号配線の幅)にすることが望ましい。ま
た、その場合、他方の配線は信号配線103と同じ幅か
それ以下にすることができる。
【0030】また、本実施例の構造は、対向基板側にB
M202を設けなくても、本来光漏れが生じないはずで
あるが、製造工程におけるフォトマスクのずれを考慮す
ると、図4のように、このBM202はあった方が確実
に光漏れなどによる縦スミアを防止することができる。
しかし、信号配線に近接する対向電極,信号配線,浮遊
電極がそれぞれ1つの電極で構成されていること、及
び、基板に対して垂直に重畳しているので光漏れの量が
少量であることから、従来よりもBMの幅も細くできる
(または無くすことも可能)ので、開口率が向上する。
また、BMを形成する場合、比抵抗を108Ω・cm 以上
1014Ω・cm以下にすれば対向基板でもさらに電界を吸
収するので、効果的である。
【0031】次に、図5に図1のB−B′線における下
側基板100の断面図を示す。
【0032】この部分の下側基板100の断面において
はガラス基板101の上には共通配線104が配置され
ており、その上にSiN膜108,信号配線103及び
補助容量素子130,保護膜層109が積層されてい
る。この保護膜層109の上に対向電極106、および
画素電極105が配置されており、これらの電極は保護
膜層109やSiN膜108に開けられたスルーホール
を通して、それぞれ共通配線104、および補助容量素
子130に接続されている。また、下側基板の最上層に
は配向膜層150があり、反対側の面には偏向板170
が貼り付けられている。この構造により対向電極106
は共通配線104と同電位となり、画素電極105との
間の電圧を液晶に印加する。また補助容量素子130は
液晶と並列容量となるように画素電極105と接続さ
れ、表示品質をたもつために電荷を保持する。
【0033】また、図面には記載しなかったが、走査配
線方向に隣接する画素で、各画素毎に対向電極を隣接す
る共通電極に交互に接続すると、共通電極に時間当たり
に加わる容量を減らすことができるので、消費電力を減
らすことができる。
【0034】以上のように、本実施例では、対向電極1
06と浮遊電極で信号配線103を基板面に対して垂直
方向に挟んだ構造となっているため、信号配線の電界の
液晶への影響は非常に少なくなる。また、構造的に光漏
れの発生する間隙部がないことから、縦スミアは非常に
小さくなる。さらに、浮遊電極107および対向電極1
06が各1電極で構成されるため、幅を細くでき、開口
率を向上することもできる。そのうえ、画素電極10
5、および対向電極106が保護膜層109上にあるこ
とから、液晶駆動電圧を低電圧化することができる。
【0035】[従来例]図6に従来のIPSモード型の
アクティブマトリクス型液晶表示装置のTFT側基板の
平面構造を示す。
【0036】走査配線102と信号配線103が格子状
に配置されており、その交点に薄膜トランジスタ120
が構成されている。薄膜トランジスタ120には画素電
極105が接続されており、対向電極106との間の液
晶層に電圧を印加している。対向電極106は走査配線
102と並列構造となっている共通配線104に接続さ
れている。ここで対向電極106は信号配線103と平
行に配置されており、両者の間には隙間があいている。
この間隙部には画素表示用の有効な電界が印加できない
ばかりでなく、信号配線の電圧が常時変化していること
から、常に光透過状態となってしまっている。
【0037】図7に図6のC−C′線における液晶パネ
ルの断面図を示す。
【0038】下側基板100はガラス板101を基板と
して、その上に対向基板106,SiN層108,信号
配線103および画素電極105,保護膜層109,配
向膜層150の積層となっている。また、ガラス基板1
01の反対の面には偏向板170が貼り付けられてい
る。一方、上側基板200は、同じくガラス板201を
基板として、その上にBM202,カラーフィルタ20
3,平坦化膜204,配向膜層250の積層になってい
る。またガラス基板201の反対側には偏向板270が
ある。そして、この上側基板200と下側基板100の
間に液晶組成物300を挟み込んだ形で液晶パネルを構
成している。
【0039】信号配線103からの電界の影響は対向電
極106により遮られ、対向電極106と画素電極10
5の間にある液晶300への影響は少なくなり、信号配
線からの電界起因の縦スミアは小さい。一方、上記のよ
うに信号配線103と対向電極106の間は常に光透過
状態である。ここを通過してきた光はBM200で遮ら
れるはずであるが、BM202の材質として有機材料を
用いている等の理由でBM202の遮光率が高くない場
合には、上記間隙透過光を遮光しきれずに漏れ光とな
り、縦スミアとして認識されてしまう。IPSモードの
液晶表示装置の場合には、対向基板側に低抵抗率の層が
あると液晶に印加される電界の効率が悪くなることか
ら、BMとして有機材料を使用していることが多く、上
記原因による縦スミアが発生することがある。
【0040】参考例として、次に下側基板の信号配線を
上方で挟むように対向電極を形成し、下方には浮遊電極
を形成した例を図8を元に説明する。
【0041】走査配線102と信号配線103が格子状
に配置されており、その交点に薄膜トランジスタ120
が構成されている。薄膜トランジスタ120には画素電
極105が接続されており、対向電極106との間の液
晶層に電圧を印加している。
【0042】対向電極106は走査配線102と並列構
造となっている共通配線104に接続されている。
【0043】ここで対向電極106は信号配線103と
平行で信号配線103を挟むように2本の配置となって
いる。また、浮遊電極107は信号配線103の直下に
配置されており、どの電極とも接続されていない浮遊電
極となっている。
【0044】なお、対向電極106は共通配線104に
接続されているが、この共通配線104を無くし、代り
に隣接する画素の走査配線102に接続されていてもよ
い。
【0045】図9に図8のE−E′線における液晶表示
装置の一部の断面図を示す。
【0046】下側基板100はガラス板101を基板と
して、その上に浮遊電極107,SiN層108,信号
配線103,保護膜層109,対応電極106および画
素電極105,配向膜層150の積層となっている。ま
た、ガラス基板101の反対の面には偏向板170が貼
り付けられている。一方、上側基板200は、同じくガ
ラス板201を基板として、その上にBM202,カラ
ーフィルタ203,平坦化膜204,配向膜層250の
積層になっている。またガラス基板201の反対側には
偏向板270がある。そして、この上側基板200と下
側基板100の間に液晶組成物300を挟み込んだ形で
液晶パネルを構成している。
【0047】この構成では、浮遊電極を形成しているの
で、ある程度遮光することは可能だが、図10の光漏れ
400が示すように光が透過し、縦スミアが発生してし
まう。また、図11の信号配線から生じる液晶層に印加
される電気力線703のように、信号配線からの電界が
液晶層に印加されてしまい、光漏れを生じ、縦スミアが
発生してしまう。
【0048】次の参考例として、下側基板の信号配線を
上方で挟むように対向電極を形成した例を示す。
【0049】図12に各電極構造の平面構成を示す。
【0050】走査配線102と信号配線103が格子状
に配置されており、その交点に薄膜トランジスタ120
が構成されている。薄膜トランジスタ120には画素電
極105が接続されており、対向電極106との間の液
晶層に電圧を印加している。
【0051】対向電極106は走査配線102と並列構
造となっている共通配線104に接続されている。
【0052】図13に図12のG−G′線における液晶
パネルの断面図を示す。
【0053】下側基板100はガラス板101を基板と
して、その上にSiN層108,信号配線103,保護
膜層109,画素電極105および対向基板106,配
向膜層150の積層となっている。また、ガラス基板1
01の反対の面には偏向板170が貼り付けられてい
る。一方、上側基板200は、同じくガラス板201を
基板として、その上に遮光膜を兼ねた対向電極110,
カラーフィルタ203,平坦化膜204,配向膜層25
0の積層になっている。またガラス基板201の反対側
には偏向板270がある。そして、この上側基板200
と下側基板100の間に液晶組成物300を挟み込んだ形
で液晶パネルを構成している。
【0054】しかし、この配置では、斜め方向からの光
に対して、遮蔽しておらず、また、信号配線から生じる
電気力線701,703が液晶に印加されてしまい、光
漏れが生じる。
【0055】[実施例2]図14に本実施例におけるア
クティブマトリクス型液晶表示装置のTFT側基板の平
面構造を示す。
【0056】走査配線102と信号配線103が格子状
に配置されており、その交点に薄膜トランジスタ120
が構成されている。薄膜トランジスタ120には画素電
極105が接続されており、対向電極106との間の液
晶層に電圧を印加している。対向電極106は前記走査
配線102と隣接する走査配線102に接続されてい
る。ここで対向電極106は信号配線103の直上に配
置されている。また、浮遊電極107は信号配線103
の直下に配置されており、どの電極とも接続されていな
い浮遊電極となっている。
【0057】本実施例における対向電極106/信号配
線103/浮遊電極107の断面図は図2、及び図5と
同様であるため省略する。
【0058】本実施例においても、信号配線103を浮
遊電極107と対向電極106で基板面に垂直方向に挟
んだ形となっていることが特徴であり、信号配線103
からの電界(電気力線)は上側は対向電極106によっ
て押え込まれ、下側は浮遊電極107に収束するため、
画素電極105と対向電極106との間の液晶300へ
の影響は非常に少なくなる。また、3層が垂直に重なっ
ているため、構造的に光漏れの発生する間隙部がなくな
っており、光漏れによる縦スミアも発生しない。さらに
本実施例の場合、浮遊電極107および対向電極106
が各1電極で構成されるため、それらの幅を細くするこ
とができる。これにより、対向基板上のBMの幅も細く
できる(または無くすことも可能)ことから、開口率を
向上することもできる。そのうえ、画素電極105、お
よび対向電極106が保護膜層109上にあることか
ら、液晶300に効率よく電界を印加することができ、
保護膜層109の下に電極がある場合より、液晶駆動電
圧を低電圧化することができる。
【0059】以上のように、本実施例では、対向電極1
06と浮遊電極107で信号配線103を基板面に対し
て垂直方向に挟んだ構造となっているため、信号配線の
電界の液晶への影響は非常に少なくなる。また、構造的
に光漏れの発生する間隙部がないことから、縦スミアは
非常に小さくなる。さらに、浮遊電極107および対向
電極106が各1電極で構成されるため、幅を細くで
き、開口率を向上することもできる。そのうえ、画素電
極105、および対向電極106が保護膜層109上に
あることから、液晶駆動電圧を低電圧化することができ
る。
【0060】また、この実施例においても、対向電極を
隣接する走査電極に交互に接続することによって、走査
電極に印加される容量を減らすことができるので、消費
電力を抑えることができるとともに、走査信号の遅延を
防止することができる。
【0061】実施例1及び2、比較例の液晶表示装置の
全体概要図を図15に示す。
【0062】画像出力505からパネル内のコントロー
ラ501に入り、そのコントローラから、表示データ信
号とタイミング信号がそれぞれ表示出力回路404,垂
直走査回路503に入り、それらから、信号配線、及び
走査配線を通じて、液晶セル500に信号電圧が印加さ
れることによって、液晶分子を制御し、表示を行ってい
る。図面には、示していないが、透過型であれば液晶セ
ルの下方に光源を設け、反射型であれば反射板を液晶セ
ル内若しくは、液晶セルの下方に設ける。
【0063】
【発明の効果】本発明によれば、異層化された対向電極
や遮光膜を兼ねた対向電極、または電気的に接続されて
いない遮光層などを、光漏れの無いように基板に対して
垂直方向に重ねた配置としていることから、信号配線か
らの電界(電気力線)は表示部の液晶層に達する前に遮
られるため、信号配線の電位変化は縦スミアなどの表示
不良を引き起こさない。また、構造的な光り漏れもない
ため有機材料の遮光膜を用いた場合でも遮光率不足によ
る表示不良はほとんど発生しない。以上のことから、上
記2つの要因により発生する縦スミアの無い高画質なア
クティブマトリクス型液晶表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の画素部の平面構造を示す
図。
【図2】図1のA−A′線における画素部の断面構造を
示す図。
【図3】図2における電気力線の印加状況を示す図。
【図4】遮光膜を形成した場合の図1のA−A′線にお
ける画素部の断面構造を示す図。
【図5】図1のB−B′線における画素部の断面構造を
示す図。
【図6】本発明を用いない従来例の画素部の平面構造を
示す図。
【図7】図6のC−C′線における画素部の断面構造を
示す図。
【図8】画素部の平面構造を示す図。
【図9】図8のE−E′線における画素部の断面構造を
示す図。
【図10】図9における光漏れの状態を示す図。
【図11】図9における電気力線の印加状況を示す図。
【図12】本発明の比較例の画素部の平面構造を示す
図。
【図13】図12のG−G′線における画素部の断面構
造を示す図。
【図14】本発明の実施例2の画素部の平面構造を示す
図。
【図15】本発明のアクティブマトリクス液晶表示装置
の全体構成を示す図。
【符号の説明】
100…下側基板、101,201…ガラス板、102
…走査配線、103…信号配線、104…共通配線、1
05…画素電極、106…対向電極、107…浮遊電
極、108…SiN膜、109…保護膜層、110…遮
光膜を兼ねた対向電極、120…薄膜トランジスタ、1
30…補助容量素子、150,250…配向膜層、17
0,270…偏光板、200…上側基板、202…B
M、203…カラーフィルタ、204…平坦化膜、30
0…液晶組成物、401…対向電極の幅、402…信号
電極の幅、403…浮遊電極の幅、404…表示信号出
力回路、500…液晶セル、501…コントローラ、5
02…電源回路、503…垂直走査回路、505…画像
出力源、600…光漏れ、700,701,702,7
03…電気力線。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくとも一方が透明な一対の基板と、そ
    の一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前記一対の
    基板の一方には、複数の走査配線と、これらの走査配線
    にマトリクス状に形成された複数の信号配線と、これら
    の複数の信号配線と前記複数の走査配線とのそれぞれの
    交点に対応して形成された複数のアクティブ素子と、そ
    れらのアクティブ素子に接続された複数の画素電極と、
    前記複数の走査配線のそれぞれの間に形成された複数の
    共通配線と、前記複数の共通配線に接続され、前記複数
    の画素電極との間に、前記一対の基板に対して支配的に
    平行な電界を生じるように形成された複数の対向電極と
    を有するアクティブマトリクス液晶表示装置において、 前記複数の信号配線の上方に絶縁膜を介し、それらの信
    号配線に重畳するように前記複数の対向電極が配置さ
    れ、前記複数の信号配線の下方に絶縁膜を介し、それら
    の信号配線に重畳するように他の電極に接続されていな
    い複数の浮遊電極が形成されることを特徴とするアクテ
    ィブマトリクス液晶表示装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記複数の信号配線と
    前記複数の走査電極とで囲まれた領域に複数の画素が構
    成され、 それらの複数の画素において、対応する共通電極と隣接
    する共通電極に前記複数の対向電極が接続されることを
    特徴とするアクティブマトリクス液晶表示装置。
  3. 【請求項3】請求項1或いは2において、前記他方の基
    板には前記複数の信号配線の上方に遮光層を有し、その
    遮光層の比抵抗が108Ω・cm 以上1014Ω・cm以下で
    あることを特徴とするアクティブマトリクス液晶表示装
    置。
  4. 【請求項4】少なくとも一方が透明な一対の基板と、そ
    の一対の基板に挟持された液晶層とを有し、前記一対の
    基板の一方には、複数の走査配線と、これらの走査配線
    にマトリクス状に形成された複数の信号配線と、これら
    の複数の信号配線と前記複数の走査配線とのそれぞれの
    交点に対応して形成された複数のアクティブ素子と、そ
    れらのアクティブ素子に接続された複数の画素電極と、
    前記複数の走査配線に接続され、前記複数の画素電極と
    の間に、前記一対の基板に対して支配的に平行な電界を
    生じるように形成された複数の対向電極とを有するアク
    ティブマトリクス液晶表示装置において、 前記複数の信号配線の上方に絶縁膜を介し、それらの信
    号配線に重畳するように前記複数の対向電極が配置さ
    れ、前記複数の信号配線の下方に絶縁膜を介し、それら
    の信号配線に重畳するように他の電極に接続されていな
    い複数の浮遊電極が形成されることを特徴とするアクテ
    ィブマトリクス液晶表示装置。
  5. 【請求項5】請求項4において、前記複数の信号配線と
    前記複数の走査電極とで囲まれた領域に複数の画素を構
    成され、 それらの複数の画素において、対応する共通電極と隣接
    する共通電極に前記複数の対向電極が接続されることを
    特徴とするアクティブマトリクス液晶表示装置。
  6. 【請求項6】請求項4或いは5において、前記他方の基
    板には前記複数の信号配線の上方に遮光層を有し、その
    遮光層の比抵抗が108Ω・cm 以上1014Ω・cm以下で
    あることを特徴とするアクティブマトリクス液晶表示装
    置。
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