JPH11239725A - 触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法 - Google Patents
触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 Ｍｏ、Ｖ、ＮｂとＴｅおよび／またはＳ
ｂを含む酸化物で、Ｘ線回折図の回折角２θが２７．３
゜のピークと２８．２゜のピークの相対強度が特定の範
囲にある、プロパンまたはイソブタンのアンモ酸化用触
媒およびその触媒を用いる不飽和ニトリルの製造方法。 【効果】 プロパンまたはイソブタンの不飽和ニトリル
への収率が大きいばかりでなく、アンモニアの窒素への
酸化分解が抑制されて高いアンモニアの利用効率が得ら
れる。
ｂを含む酸化物で、Ｘ線回折図の回折角２θが２７．３
゜のピークと２８．２゜のピークの相対強度が特定の範
囲にある、プロパンまたはイソブタンのアンモ酸化用触
媒およびその触媒を用いる不飽和ニトリルの製造方法。 【効果】 プロパンまたはイソブタンの不飽和ニトリル
への収率が大きいばかりでなく、アンモニアの窒素への
酸化分解が抑制されて高いアンモニアの利用効率が得ら
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロパンまたはイ
ソブタンの気相接触アンモ酸化反応に用いる触媒、およ
び、これを用いるプロパンまたはイソブタンの気相接触
アンモ酸化反応による不飽和ニトリルの製造方法に関す
る。
ソブタンの気相接触アンモ酸化反応に用いる触媒、およ
び、これを用いるプロパンまたはイソブタンの気相接触
アンモ酸化反応による不飽和ニトリルの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、プロピレンまたはイソブチレンに
替わって、プロパンまたはイソブタンをアンモニアおよ
び酸素と気相接触させるアンモ酸化反応によって不飽和
ニトリルを製造する方法が着目され、この反応に用いる
触媒が多数提案されている。例えば、Ｍｏ−Ｖ−Ｎｂ−
Ｔｅを含む酸化物触媒が、特開平２−２５７号公報、特
開平５−１４８２１２号公報、特開平５−２０８１３６
号公報、特開平６−２２７８１９号公報、特開平６−２
８５３７２号公報、特開平７−１４４１３２号公報、特
開平７−２３２０７１号公報、特開平８−５７３１９号
公報、特開平８−１４１４０１号公報等に開示されてい
る。Ｍｏ−Ｖ−Ｓｂ−Ｎｂを含む酸化物触媒が特開平５
−２１３８４８号公報、特開平９−１５７２４１号公報
等に開示されている。Ｖ−Ｓｂを含む酸化物触媒が特開
昭６３−２９５５４５号公報、特開平２−９５４３９号
公報等に開示されている。
替わって、プロパンまたはイソブタンをアンモニアおよ
び酸素と気相接触させるアンモ酸化反応によって不飽和
ニトリルを製造する方法が着目され、この反応に用いる
触媒が多数提案されている。例えば、Ｍｏ−Ｖ−Ｎｂ−
Ｔｅを含む酸化物触媒が、特開平２−２５７号公報、特
開平５−１４８２１２号公報、特開平５−２０８１３６
号公報、特開平６−２２７８１９号公報、特開平６−２
８５３７２号公報、特開平７−１４４１３２号公報、特
開平７−２３２０７１号公報、特開平８−５７３１９号
公報、特開平８−１４１４０１号公報等に開示されてい
る。Ｍｏ−Ｖ−Ｓｂ−Ｎｂを含む酸化物触媒が特開平５
−２１３８４８号公報、特開平９−１５７２４１号公報
等に開示されている。Ｖ−Ｓｂを含む酸化物触媒が特開
昭６３−２９５５４５号公報、特開平２−９５４３９号
公報等に開示されている。
【０００３】これら従来技術のうち、特開平５−２０８
１３６号公報、特開平６−２８５３７２号公報および特
開平６−２２７８１９号公報は、Ｘ線回折図における回
折角２θが２２．１゜、２８．２゜、３６．２゜、４
５．２゜および５０．０゜のピークを有す結晶性金属酸
化物を、そして、特開平７−２３２０７１号公報は、回
折角２θが９．０゜、２２．１゜、２７．３゜、２９．
２゜および３５．４゜のピークを有する結晶性金属酸化
物を開示している。しかし、回折角２θが２８．２゜の
ピーク強度と２７．３゜のピーク強度の比については全
く記載がなく、唯一、Ｘ線回折図が示されている米国特
許第５，２８１，７４５号公報におけるピーク強度比
は、本願発明の範囲外である。
１３６号公報、特開平６−２８５３７２号公報および特
開平６−２２７８１９号公報は、Ｘ線回折図における回
折角２θが２２．１゜、２８．２゜、３６．２゜、４
５．２゜および５０．０゜のピークを有す結晶性金属酸
化物を、そして、特開平７−２３２０７１号公報は、回
折角２θが９．０゜、２２．１゜、２７．３゜、２９．
２゜および３５．４゜のピークを有する結晶性金属酸化
物を開示している。しかし、回折角２θが２８．２゜の
ピーク強度と２７．３゜のピーク強度の比については全
く記載がなく、唯一、Ｘ線回折図が示されている米国特
許第５，２８１，７４５号公報におけるピーク強度比
は、本願発明の範囲外である。
【０００４】これらの触媒は、未だ不飽和ニトリルの収
率が不十分である。また、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌ
ｙｓｉｓ Ａ Ｇｅｎｅｒａｌ １５７，１４３−１７
２（１９９７）に記載されているように、アンモニアは
プロパンのアンモ酸化反応の目的生成物であるアクリロ
ニトリルに転化されるだけでなく、副生物のアセトニト
リルと青酸、そして、酸化分解物としての窒素に転換さ
れる。プロパンまたはイソブタンのアンモ酸化反応にお
いて、従来触媒はアンモニアから窒素への分解率が大き
いことが難点であり、これを抑制してアンモニアの利用
効率を高めることが望まれている。他方、アンモニアを
反応器に分割供給してアンモニアの利用効率を向上させ
るアルカンのアンモ酸化方法が特開平８−２２５５０６
号公報に開示されている。この方法は、プロセスが複雑
であることに加えて効果も小さい。
率が不十分である。また、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃａｔａｌ
ｙｓｉｓ Ａ Ｇｅｎｅｒａｌ １５７，１４３−１７
２（１９９７）に記載されているように、アンモニアは
プロパンのアンモ酸化反応の目的生成物であるアクリロ
ニトリルに転化されるだけでなく、副生物のアセトニト
リルと青酸、そして、酸化分解物としての窒素に転換さ
れる。プロパンまたはイソブタンのアンモ酸化反応にお
いて、従来触媒はアンモニアから窒素への分解率が大き
いことが難点であり、これを抑制してアンモニアの利用
効率を高めることが望まれている。他方、アンモニアを
反応器に分割供給してアンモニアの利用効率を向上させ
るアルカンのアンモ酸化方法が特開平８−２２５５０６
号公報に開示されている。この方法は、プロセスが複雑
であることに加えて効果も小さい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、プロ
パンまたはイソブタンをアンモニアおよび酸素と気相接
触させるアンモ酸化反応によって不飽和ニトリルを製造
するにあたり、プロパンまたはイソブタン基準の不飽和
ニトリル収率が高く、しかも、アンモニアから窒素への
分解を抑制して、アンモニアの利用効率の高い新規な触
媒を提供することにある。
パンまたはイソブタンをアンモニアおよび酸素と気相接
触させるアンモ酸化反応によって不飽和ニトリルを製造
するにあたり、プロパンまたはイソブタン基準の不飽和
ニトリル収率が高く、しかも、アンモニアから窒素への
分解を抑制して、アンモニアの利用効率の高い新規な触
媒を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、プロパン
またはイソブタンをアンモニアと気相接触酸化させて不
飽和ニトリルを製造するためのモリブデン、バナジウ
ム、テルル、アンチモンおよびニオブを含む酸化物触媒
を鋭意検討した結果、特定の２つの結晶性酸化物が共存
する触媒を用いるとき、プロパンまたはイソブタンの不
飽和ニトリルへの収率が大きいばかりでなく、アンモニ
アの窒素への酸化分解が抑制されて、アンモニアの利用
効率が改良されることを見いだし、本発明をなすに至っ
た。
またはイソブタンをアンモニアと気相接触酸化させて不
飽和ニトリルを製造するためのモリブデン、バナジウ
ム、テルル、アンチモンおよびニオブを含む酸化物触媒
を鋭意検討した結果、特定の２つの結晶性酸化物が共存
する触媒を用いるとき、プロパンまたはイソブタンの不
飽和ニトリルへの収率が大きいばかりでなく、アンモニ
アの窒素への酸化分解が抑制されて、アンモニアの利用
効率が改良されることを見いだし、本発明をなすに至っ
た。
【０００７】すなわち、本発明は、（１）プロパンまた
はイソブタンを気相接触アンモ酸化させて、不飽和ニト
リルを製造するために用いる触媒であって、式で表現
される成分組成と式で定義されるＸ線回折ピークの相
対強度を有することを特徴とする触媒、 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、０．０１≦ｑ≦０．６、
０．０１≦ｒ≦０．６、０≦ｓ≦１、そして、ｎは構成
金属元素の酸化数によって決まる酸素の原子比であ
る。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。）
はイソブタンを気相接触アンモ酸化させて、不飽和ニト
リルを製造するために用いる触媒であって、式で表現
される成分組成と式で定義されるＸ線回折ピークの相
対強度を有することを特徴とする触媒、 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、０．０１≦ｑ≦０．６、
０．０１≦ｒ≦０．６、０≦ｓ≦１、そして、ｎは構成
金属元素の酸化数によって決まる酸素の原子比であ
る。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。）
【０００８】（２）該相対強度Ｒが０．４３〜０．７０
であることを特徴とする（１）に記載の触媒、（３）該
触媒が２０〜６０重量％のシリカに担持されていること
を特徴とする（１）または（２）に記載の触媒、（４）
触媒の存在下、プロパンまたはイソブタンを気相接触ア
ンモ酸化させて、不飽和ニトリルを製造するにあたり、
式で表現される成分組成と式で定義されるＸ線回折
ピークの相対強度を有する触媒を用いることを特徴とす
る不飽和ニトリルの製造方法、 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、０．０１≦ｑ≦０．６、
０．０１≦ｒ≦０．６、０≦ｓ≦１、そして、ｎは構成
金属元素の酸化数によって決まる酸素の原子比であ
る。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。）（５）該相対強
度Ｒが０．４３〜０．７０であることを特徴とする
（４）に記載の方法、（６）該触媒が２０〜６０重量％
のシリカに担持されていることを特徴とする（４）また
は（５）に記載の方法に関するものである。
であることを特徴とする（１）に記載の触媒、（３）該
触媒が２０〜６０重量％のシリカに担持されていること
を特徴とする（１）または（２）に記載の触媒、（４）
触媒の存在下、プロパンまたはイソブタンを気相接触ア
ンモ酸化させて、不飽和ニトリルを製造するにあたり、
式で表現される成分組成と式で定義されるＸ線回折
ピークの相対強度を有する触媒を用いることを特徴とす
る不飽和ニトリルの製造方法、 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、０．０１≦ｑ≦０．６、
０．０１≦ｒ≦０．６、０≦ｓ≦１、そして、ｎは構成
金属元素の酸化数によって決まる酸素の原子比であ
る。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。）（５）該相対強
度Ｒが０．４３〜０．７０であることを特徴とする
（４）に記載の方法、（６）該触媒が２０〜６０重量％
のシリカに担持されていることを特徴とする（４）また
は（５）に記載の方法に関するものである。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
触媒は、下記の式で表現される成分組成と式で定義
されるＸ線回折ピークの相対強度を有することを特徴と
している。 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、好ましくは０．２≦ｐ≦
０．４、０．０１≦ｑ≦０．６、好ましくは０．０５≦
ｑ≦０．３、０．０１≦ｒ≦０．６、好ましくは０．０
３≦ｒ≦０．３、０≦ｓ≦１、好ましくは０≦ｓ≦０．
１、そして、ｎは構成金属元素の酸化数によって決まる
酸素の原子比である。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。）
触媒は、下記の式で表現される成分組成と式で定義
されるＸ線回折ピークの相対強度を有することを特徴と
している。 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、好ましくは０．２≦ｐ≦
０．４、０．０１≦ｑ≦０．６、好ましくは０．０５≦
ｑ≦０．３、０．０１≦ｒ≦０．６、好ましくは０．０
３≦ｒ≦０．３、０≦ｓ≦１、好ましくは０≦ｓ≦０．
１、そして、ｎは構成金属元素の酸化数によって決まる
酸素の原子比である。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。）
【００１０】ここで、Ｘ線回折図（以下ＸＲＤと略記す
る）の回折角２θは、Ｃｕ−Ｋα線を用いて測定される
角度であり、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、２θが２７．３
゜±０．３゜と２８．２゜±０．３゜のピークの強度で
ある。これらの２つのピークの強度は、管電圧３０ｋ
Ｖ、管電流４０ｍＡ、発散スリット１度、散乱スリット
１度、受光スリット０．３ｍｍ、スキャン速度６度／分
およびサンプリング幅０．０２度の条件下で測定したと
きに得られるＸＲＤ上のピークについて、以下のように
定義される。
る）の回折角２θは、Ｃｕ−Ｋα線を用いて測定される
角度であり、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、２θが２７．３
゜±０．３゜と２８．２゜±０．３゜のピークの強度で
ある。これらの２つのピークの強度は、管電圧３０ｋ
Ｖ、管電流４０ｍＡ、発散スリット１度、散乱スリット
１度、受光スリット０．３ｍｍ、スキャン速度６度／分
およびサンプリング幅０．０２度の条件下で測定したと
きに得られるＸＲＤ上のピークについて、以下のように
定義される。
【００１１】便宜上、実施例１の触媒について、上記条
件下に測定して得たＸＲＤの拡大図（図１）を用いて定
義を説明する。ピーク強度Ｐ1 とＰ2 は、図１におい
て、それぞれ、線分Ｃ1 Ｈ1 とＣ2 Ｈ2 の長さである。
Ｈ1 とＨ2 は、それぞれ、２θが２７．３゜±０．３゜
と２８．２゜±０．３゜のピークの頂点である。Ｂ1 、
Ｂ2 およびＢ3 は、それぞれ、２θが２６．４゜±０．
３゜の範囲、２７．７゜±０．３゜の範囲および２８．
８゜±０．３゜の範囲におけるＸＲＤの接線の傾きが、
２θ軸を基準にして、負から正に変化する点かまたは０
に収束する点である。Ｃ1 はＨ1 から２θ軸に下ろした
垂線と線分Ｂ1 Ｂ2 の交点であり、そして、Ｃ2 はＨ2
から２θ軸に下ろした垂線と線分Ｂ2 Ｂ3 の交点であ
る。
件下に測定して得たＸＲＤの拡大図（図１）を用いて定
義を説明する。ピーク強度Ｐ1 とＰ2 は、図１におい
て、それぞれ、線分Ｃ1 Ｈ1 とＣ2 Ｈ2 の長さである。
Ｈ1 とＨ2 は、それぞれ、２θが２７．３゜±０．３゜
と２８．２゜±０．３゜のピークの頂点である。Ｂ1 、
Ｂ2 およびＢ3 は、それぞれ、２θが２６．４゜±０．
３゜の範囲、２７．７゜±０．３゜の範囲および２８．
８゜±０．３゜の範囲におけるＸＲＤの接線の傾きが、
２θ軸を基準にして、負から正に変化する点かまたは０
に収束する点である。Ｃ1 はＨ1 から２θ軸に下ろした
垂線と線分Ｂ1 Ｂ2 の交点であり、そして、Ｃ2 はＨ2
から２θ軸に下ろした垂線と線分Ｂ2 Ｂ3 の交点であ
る。
【００１２】式によって定義される相対強度Ｒが０．
４０より小さいか、または０．７５より大きい触媒は、
アンモニアの酸化分解が大きいだけでなく、プロパンま
たはイソブタンの不飽和ニトリルへの収率も小さい。相
対強度Ｒは、好ましくは０．４３〜０．７０、特に好ま
しくは０．５０〜０．６９である。本発明の触媒は、好
ましくは２０〜６０重量％、より好ましくは２０〜４０
重量％のシリカに担持させて用いることができる。本発
明の触媒を製造するための成分金属の原料は、下記の化
合物を用いることができる。モリブデンの原料はヘプタ
モリブデン酸アンモニウムを、バナジウムの原料はメタ
バナジン酸アンモニウムを、テルルの原料はテルル酸
を、アンチモンの原料はアンチモン酸化物を、そして、
ニオブの原料はニオブ酸を好適に用いることができる。
４０より小さいか、または０．７５より大きい触媒は、
アンモニアの酸化分解が大きいだけでなく、プロパンま
たはイソブタンの不飽和ニトリルへの収率も小さい。相
対強度Ｒは、好ましくは０．４３〜０．７０、特に好ま
しくは０．５０〜０．６９である。本発明の触媒は、好
ましくは２０〜６０重量％、より好ましくは２０〜４０
重量％のシリカに担持させて用いることができる。本発
明の触媒を製造するための成分金属の原料は、下記の化
合物を用いることができる。モリブデンの原料はヘプタ
モリブデン酸アンモニウムを、バナジウムの原料はメタ
バナジン酸アンモニウムを、テルルの原料はテルル酸
を、アンチモンの原料はアンチモン酸化物を、そして、
ニオブの原料はニオブ酸を好適に用いることができる。
【００１３】Ｔａ、Ｗ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、
Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒ
ｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、
Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類金属の原料としては、これ
らの金属の硝酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、水酸化物、酸
化物、アンモニウム塩、炭酸塩等を用いることができ
る。シリカの原料は、シリカゾルを好適に用いることが
できる。アルカリ金属イオンで安定化したシリカゾルよ
りも、アンモニウムイオンで安定化したゾルを用いるこ
とが好ましい。本発明の触媒は、下記の原料調合、乾燥
および焼成の３つの工程を経て製造することができる。
Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒ
ｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、
Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類金属の原料としては、これ
らの金属の硝酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、水酸化物、酸
化物、アンモニウム塩、炭酸塩等を用いることができ
る。シリカの原料は、シリカゾルを好適に用いることが
できる。アルカリ金属イオンで安定化したシリカゾルよ
りも、アンモニウムイオンで安定化したゾルを用いるこ
とが好ましい。本発明の触媒は、下記の原料調合、乾燥
および焼成の３つの工程を経て製造することができる。
【００１４】（原料調合工程）ヘプタモリブデン酸アン
モニウム、メタバナジン酸アンモニウムおよびテルル酸
を水に溶解して混合液（Ａ）を調製する。アンチモンを
用いる場合は、メタバナジン酸アンモニウムの水溶液に
酸化アンチモン粉末を分散したスラリ−をリフラックス
条件下に加熱して得た液に、ヘプタモリブデン酸アンモ
ニウムを添加し、場合に応じて、さらにテルル酸を添加
して混合液（Ａ’）を調製する。ニオブ酸とシュウ酸を
水またはアンモニア水に溶解して混合液（Ｂ）を調製す
る。混合液（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は１〜
４、好ましくは２〜４であり、そして、（ＮＨ3 ＋ＮＨ
4 + ）／ニオブのモル比は２以下、好ましくは１以下で
ある。
モニウム、メタバナジン酸アンモニウムおよびテルル酸
を水に溶解して混合液（Ａ）を調製する。アンチモンを
用いる場合は、メタバナジン酸アンモニウムの水溶液に
酸化アンチモン粉末を分散したスラリ−をリフラックス
条件下に加熱して得た液に、ヘプタモリブデン酸アンモ
ニウムを添加し、場合に応じて、さらにテルル酸を添加
して混合液（Ａ’）を調製する。ニオブ酸とシュウ酸を
水またはアンモニア水に溶解して混合液（Ｂ）を調製す
る。混合液（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は１〜
４、好ましくは２〜４であり、そして、（ＮＨ3 ＋ＮＨ
4 + ）／ニオブのモル比は２以下、好ましくは１以下で
ある。
【００１５】Ｔａ、Ｗ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、
Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒ
ｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、
Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類金属を用いる場合は、これ
らの金属の硝酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、水酸化物、酸
化物、アンモニウム塩、炭酸塩等を水に溶解して混合液
（Ｃ）を調製する。混合液（Ａ）または混合液（Ａ’）
に、混合液（Ｂ）と混合液（Ｃ）を順次添加して、好適
に原料調合液を得ることができる。シリカ担持触媒を製
造する場合は、上記調合順序のいずれかのステップにお
いて、シリカゾルを添加して原料調合液を得ることがで
きる。
Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒ
ｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、
Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓ
ｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類金属を用いる場合は、これ
らの金属の硝酸塩、シュウ酸塩、酢酸塩、水酸化物、酸
化物、アンモニウム塩、炭酸塩等を水に溶解して混合液
（Ｃ）を調製する。混合液（Ａ）または混合液（Ａ’）
に、混合液（Ｂ）と混合液（Ｃ）を順次添加して、好適
に原料調合液を得ることができる。シリカ担持触媒を製
造する場合は、上記調合順序のいずれかのステップにお
いて、シリカゾルを添加して原料調合液を得ることがで
きる。
【００１６】（乾燥工程）原料調合工程で得られた調合
液を噴霧乾燥して、乾燥粉体を得ることができる。噴霧
化は、遠心方式、二流体ノズル方式または高圧ノズル方
式を採用して行うことができる。乾燥熱源は、スチー
ム、電気ヒーター等によって加熱された空気を用いるこ
とができる。熱風の乾燥器入口温度は１５０〜３００℃
が好ましい。噴霧乾燥は、簡便には、１００〜３００℃
に加熱された鉄板上へ原料調合液を噴霧することによっ
て行うこともできる。
液を噴霧乾燥して、乾燥粉体を得ることができる。噴霧
化は、遠心方式、二流体ノズル方式または高圧ノズル方
式を採用して行うことができる。乾燥熱源は、スチー
ム、電気ヒーター等によって加熱された空気を用いるこ
とができる。熱風の乾燥器入口温度は１５０〜３００℃
が好ましい。噴霧乾燥は、簡便には、１００〜３００℃
に加熱された鉄板上へ原料調合液を噴霧することによっ
て行うこともできる。
【００１７】（焼成工程）乾燥工程で得られた乾燥粉体
を焼成することによって、酸化物触媒を得ることができ
る。焼成は実質的に酸素を含まない窒素等の不活性ガス
雰囲気下、好ましくは不活性ガスを流通させながら、５
００〜７００℃、好ましくは５５０〜６５０℃の条件下
に実施することができる。焼成時間は０．５〜５時間、
好ましくは１〜３時間である。不活性ガス中の酸素濃度
は、ガスクロマトグラフィーまたは微量酸素分析計で測
定して１０００ｐｐｍ以下、好ましくは１００ｐｐｍ以
下である。焼成は回転炉、トンネル炉、管状炉、流動焼
成炉等を用いて行うことができる。焼成は反復すること
ができる。この焼成の前に大気雰囲気下または空気流通
下、２００〜３５０℃で１０分〜５時間前焼成すること
ができる。また、焼成の後に大気雰囲気下で２００〜４
００℃で５分〜５時間後焼成することもできる。また、
焼成に次いで粉砕して得た酸化物微粉を再焼成すること
もできる。
を焼成することによって、酸化物触媒を得ることができ
る。焼成は実質的に酸素を含まない窒素等の不活性ガス
雰囲気下、好ましくは不活性ガスを流通させながら、５
００〜７００℃、好ましくは５５０〜６５０℃の条件下
に実施することができる。焼成時間は０．５〜５時間、
好ましくは１〜３時間である。不活性ガス中の酸素濃度
は、ガスクロマトグラフィーまたは微量酸素分析計で測
定して１０００ｐｐｍ以下、好ましくは１００ｐｐｍ以
下である。焼成は回転炉、トンネル炉、管状炉、流動焼
成炉等を用いて行うことができる。焼成は反復すること
ができる。この焼成の前に大気雰囲気下または空気流通
下、２００〜３５０℃で１０分〜５時間前焼成すること
ができる。また、焼成の後に大気雰囲気下で２００〜４
００℃で５分〜５時間後焼成することもできる。また、
焼成に次いで粉砕して得た酸化物微粉を再焼成すること
もできる。
【００１８】このようにして製造された触媒の存在下、
プロパンまたはイソブタンを気相接触アンモ酸化させ
て、不飽和ニトリルを製造することができる。プロパン
またはイソブタンとアンモニアの供給原料は、必ずしも
高純度である必要はなく、工業グレードのガスを使用で
きる。供給酸素源として空気、酸素を富化した空気、ま
たは純酸素を用いることができる。さらに、希釈ガスと
してヘリウム、アルゴン、炭酸ガス、水蒸気、窒素等を
供給してもよい。反応に供給するアンモニアのプロパン
またはイソブタンに対するモル比は０．１〜１．５、好
ましくは０．２〜１．２である。本発明の触媒は、従来
触媒に比べて相対的に小さいアンモニアのモル比を適用
してアンモ酸化反応を行うことができる。反応に供給す
る分子状酸素のプロパンまたはイソブタンに対するモル
比は０．２〜６、好ましくは０．４〜４である。
プロパンまたはイソブタンを気相接触アンモ酸化させ
て、不飽和ニトリルを製造することができる。プロパン
またはイソブタンとアンモニアの供給原料は、必ずしも
高純度である必要はなく、工業グレードのガスを使用で
きる。供給酸素源として空気、酸素を富化した空気、ま
たは純酸素を用いることができる。さらに、希釈ガスと
してヘリウム、アルゴン、炭酸ガス、水蒸気、窒素等を
供給してもよい。反応に供給するアンモニアのプロパン
またはイソブタンに対するモル比は０．１〜１．５、好
ましくは０．２〜１．２である。本発明の触媒は、従来
触媒に比べて相対的に小さいアンモニアのモル比を適用
してアンモ酸化反応を行うことができる。反応に供給す
る分子状酸素のプロパンまたはイソブタンに対するモル
比は０．２〜６、好ましくは０．４〜４である。
【００１９】反応圧力は０．１〜１０ａｔｍ、好ましく
は１〜３ａｔｍである。反応温度は３５０〜６００℃、
好ましくは３８０〜４７０℃である。接触時間は０．１
〜３０ｓｅｃ・ｇ／ｃｃ、好ましくは０．５〜１０ｓｅ
ｃ・ｇ／ｃｃである。反応方式は、固定床、流動床、移
動床等を採用できる。反応は単流方式でもリサイクル方
式でも行うことができる。
は１〜３ａｔｍである。反応温度は３５０〜６００℃、
好ましくは３８０〜４７０℃である。接触時間は０．１
〜３０ｓｅｃ・ｇ／ｃｃ、好ましくは０．５〜１０ｓｅ
ｃ・ｇ／ｃｃである。反応方式は、固定床、流動床、移
動床等を採用できる。反応は単流方式でもリサイクル方
式でも行うことができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下に本発明をプロパンのアンモ
酸化反応の実施例によって説明する。各例において、プ
ロパン転化率、アクリロニトリル選択率、アクリロニト
リル収率およびアンモニア分解率は、それぞれ、次の定
義に従う。 プロパン転化率（％）＝（反応したプロパンのモル数）
／（供給したプロパンのモル数）＊１００ アクリロニトリル選択率（％）＝（生成したアクリロニ
トリルのモル数）／（反応したプロパンのモル数）＊１
００ アクリロニトリル収率（％）＝（生成したアクリロニト
リルのモル数）／（供給したプロパンのモル数）＊１０
０ アンモニア分解率（％）＝２＊（生成した窒素のモル
数）／（供給したアンモニアのモル数）＊１００
酸化反応の実施例によって説明する。各例において、プ
ロパン転化率、アクリロニトリル選択率、アクリロニト
リル収率およびアンモニア分解率は、それぞれ、次の定
義に従う。 プロパン転化率（％）＝（反応したプロパンのモル数）
／（供給したプロパンのモル数）＊１００ アクリロニトリル選択率（％）＝（生成したアクリロニ
トリルのモル数）／（反応したプロパンのモル数）＊１
００ アクリロニトリル収率（％）＝（生成したアクリロニト
リルのモル数）／（供給したプロパンのモル数）＊１０
０ アンモニア分解率（％）＝２＊（生成した窒素のモル
数）／（供給したアンモニアのモル数）＊１００
【００２１】
【実施例１】（触媒の調製）組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３ｇお
よびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕１１．１６ｇを加え、攪
拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ5 とし
て７６重量％を含有するニオブ酸４．２５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕８．２７ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は２．７であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を、１４０℃に加熱したテフロンコ
ーティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。得られた
粉体２５ｇを内径２０ｍｍの石英管に充填し、１０００
Ｎｃｃ/ ｍｉｎ．の窒素ガス流通下、６００℃で２時間
焼成して触媒を得た。用いた窒素ガスの酸素濃度は、微
量酸素分析計（３０６ＷＡ型、テレダインアナリティカ
ルインスルーメント社製）を用いて測定した結果、１ｐ
ｐｍであった。触媒の組成と主要な製法因子（シュウ酸
／ニオブのモル比、（ＮＨ3 ＋ＮＨ4 + ）／ニオブのモ
ル比、乾燥方法、焼成条件および粉砕の有無）を表１に
記載した。
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３ｇお
よびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕１１．１６ｇを加え、攪
拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ5 とし
て７６重量％を含有するニオブ酸４．２５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕８．２７ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は２．７であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を、１４０℃に加熱したテフロンコ
ーティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。得られた
粉体２５ｇを内径２０ｍｍの石英管に充填し、１０００
Ｎｃｃ/ ｍｉｎ．の窒素ガス流通下、６００℃で２時間
焼成して触媒を得た。用いた窒素ガスの酸素濃度は、微
量酸素分析計（３０６ＷＡ型、テレダインアナリティカ
ルインスルーメント社製）を用いて測定した結果、１ｐ
ｐｍであった。触媒の組成と主要な製法因子（シュウ酸
／ニオブのモル比、（ＮＨ3 ＋ＮＨ4 + ）／ニオブのモ
ル比、乾燥方法、焼成条件および粉砕の有無）を表１に
記載した。
【００２２】（ＸＲＤの測定）理学電機製ＲＡＤ−ＩＩ
ＩＡを用いて、得られた触媒のＸＲＤを測定した。 ＜試料作成＞得られた触媒約０．５ｇをメノウ乳鉢にと
り、メノウ乳棒を用いて人手で２分粉砕した後、分級し
て得た５３μ以下の粉体を試料として用いた。ＸＲＤ測
定用の試料台（窪みの深さ０．２ｍｍ、窪みの寸法は２
０ｍｍ×１６ｍｍ）に試料を載せ、ステンレス製の平板
状のスパチラを用いて押しつけた。 ＜測定条件＞Ｘ線はＣｕ−Ｋα1 とＣｕ−Ｋα2 の混合
線を用いた。検出器はシンチレーションカウンターを、
そして、分光結晶はグラファイトを用いた。管電圧３０
ｋＶ、管電流４０ｍＡ、発散スリット１度、散乱スリッ
ト１度、受光スリット０．３ｍｍ、スキャン速度６度／
分およびサンプリング幅０．０２度の条件下で測定し
た。スキャン法は２θ／θ法である。角度補正はシリコ
ン粉末でキャリブレーションした。スムージング処理
は、８点高周波減衰型のスムージングと２４点微分によ
って行い、高周波強調型のスムージングは行わなかっ
た。得られたＸＲＤを図２に示す。相対強度Ｒを表１に
示す。
ＩＡを用いて、得られた触媒のＸＲＤを測定した。 ＜試料作成＞得られた触媒約０．５ｇをメノウ乳鉢にと
り、メノウ乳棒を用いて人手で２分粉砕した後、分級し
て得た５３μ以下の粉体を試料として用いた。ＸＲＤ測
定用の試料台（窪みの深さ０．２ｍｍ、窪みの寸法は２
０ｍｍ×１６ｍｍ）に試料を載せ、ステンレス製の平板
状のスパチラを用いて押しつけた。 ＜測定条件＞Ｘ線はＣｕ−Ｋα1 とＣｕ−Ｋα2 の混合
線を用いた。検出器はシンチレーションカウンターを、
そして、分光結晶はグラファイトを用いた。管電圧３０
ｋＶ、管電流４０ｍＡ、発散スリット１度、散乱スリッ
ト１度、受光スリット０．３ｍｍ、スキャン速度６度／
分およびサンプリング幅０．０２度の条件下で測定し
た。スキャン法は２θ／θ法である。角度補正はシリコ
ン粉末でキャリブレーションした。スムージング処理
は、８点高周波減衰型のスムージングと２４点微分によ
って行い、高周波強調型のスムージングは行わなかっ
た。得られたＸＲＤを図２に示す。相対強度Ｒを表１に
示す。
【００２３】（プロパンのアンモ酸化反応試験）得られ
た触媒０．３ｇを内径４ｍｍの固定床反応管に充填し、
反応温度Ｔ＝４２０℃に設定し、プロパン：アンモニ
ア：酸素：ヘリウム＝１：１．２：３．０：１４．８の
モル比の混合ガスを流量Ｆ＝６Ｎｃｃ／ｍｉｎ．で流し
た。反応圧力Ｐは１ａｔｍであった。接触時間は１．２
（＝Ｗ／Ｆ＊６０＊２７３／（２７３＋Ｔ）＊Ｐ）ｓｅ
ｃ・ｇ／ｃｃであった。反応ガスの分析は、オンライン
クロマトグラフィーを用いて行った。得られた結果をプ
ロパン転化率、アクリロニトリル選択率、アクリロニト
リル収率およびアンモニア分解率を指標として表３に示
す。
た触媒０．３ｇを内径４ｍｍの固定床反応管に充填し、
反応温度Ｔ＝４２０℃に設定し、プロパン：アンモニ
ア：酸素：ヘリウム＝１：１．２：３．０：１４．８の
モル比の混合ガスを流量Ｆ＝６Ｎｃｃ／ｍｉｎ．で流し
た。反応圧力Ｐは１ａｔｍであった。接触時間は１．２
（＝Ｗ／Ｆ＊６０＊２７３／（２７３＋Ｔ）＊Ｐ）ｓｅ
ｃ・ｇ／ｃｃであった。反応ガスの分析は、オンライン
クロマトグラフィーを用いて行った。得られた結果をプ
ロパン転化率、アクリロニトリル選択率、アクリロニト
リル収率およびアンモニア分解率を指標として表３に示
す。
【００２４】
【実施例２】（触媒の調製）実施例１で得られた触媒か
ら２ｇを内径２０ｍｍの石英管に充填し、２００Ｎｃｃ
/ ｍｉｎ．の窒素ガス流通下、５５０℃で２時間再焼成
して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に
記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
ら２ｇを内径２０ｍｍの石英管に充填し、２００Ｎｃｃ
/ ｍｉｎ．の窒素ガス流通下、５５０℃で２時間再焼成
して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に
記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００２５】
【実施例３】（触媒の調製）実施例１で得られた触媒か
ら２ｇをとり、メノウ製の自動乳鉢上で４０分粉砕し
た。得られた粉砕微粉から１．５ｇを内径２０ｍｍの石
英管に充填し、２００Ｎｃｃ／ｍｉｎ．の窒素ガス流通
下、５５０℃で２時間再焼成して触媒を得た。触媒の組
成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図３
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、触媒量を０．２ｇ、混合ガスの流量を１０Ｎｃｃ／
ｍｉｎ．にした以外は、実施例１と同じ条件下にプロパ
ンのアンモ酸化反応を行った。接触時間は０．５０ｓｅ
ｃ・ｇ／ｃｃであった。得られた結果を表３に示す。
ら２ｇをとり、メノウ製の自動乳鉢上で４０分粉砕し
た。得られた粉砕微粉から１．５ｇを内径２０ｍｍの石
英管に充填し、２００Ｎｃｃ／ｍｉｎ．の窒素ガス流通
下、５５０℃で２時間再焼成して触媒を得た。触媒の組
成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図３
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、触媒量を０．２ｇ、混合ガスの流量を１０Ｎｃｃ／
ｍｉｎ．にした以外は、実施例１と同じ条件下にプロパ
ンのアンモ酸化反応を行った。接触時間は０．５０ｓｅ
ｃ・ｇ／ｃｃであった。得られた結果を表３に示す。
【００２６】
【実施例４】（触媒の調製）再焼成の時間を１時間とし
た以外は、実施例３の触媒調製を反復して触媒を得た。
触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例３と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
た以外は、実施例３の触媒調製を反復して触媒を得た。
触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例３と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００２７】
【実施例５】（触媒の調製）組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水３５０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕７８．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕１７．０６ｇ
およびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕２２．３ｇを加え、攪
拌下、７０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水１１０ｇに、Ｎｂ2Ｏ5 と
して７６重量％を含有するニオブ酸８．５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕１６．６ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は２．８であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を１４０℃に加熱したテフロンコー
ティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。乾燥粉体の
量を３ｇ、そして、窒素ガスの流通量を３３０Ｎｃｃ/
ｍｉｎ．とした以外は、実施例１と同様に焼成して触媒
を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載し
た。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水３５０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕７８．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕１７．０６ｇ
およびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕２２．３ｇを加え、攪
拌下、７０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水１１０ｇに、Ｎｂ2Ｏ5 と
して７６重量％を含有するニオブ酸８．５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕１６．６ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は２．８であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を１４０℃に加熱したテフロンコー
ティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。乾燥粉体の
量を３ｇ、そして、窒素ガスの流通量を３３０Ｎｃｃ/
ｍｉｎ．とした以外は、実施例１と同様に焼成して触媒
を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載し
た。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００２８】
【実施例６】（触媒の調製）組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３ｇお
よびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕１１．１６ｇを加え、攪
拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ 5 とし
て７６重量％を含有するニオブ酸４．２５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕７．０４ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は３．０であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を１４０℃に加熱したテフロンコー
ティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。乾燥粉体の
量を１０ｇ、そして、窒素ガスの流通量を１０００Ｎｃ
ｃ/ ｍｉｎ．とした以外は、実施例１と同様に焼成して
触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載
した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３ｇお
よびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕１１．１６ｇを加え、攪
拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ 5 とし
て７６重量％を含有するニオブ酸４．２５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕７．０４ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は３．０であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を１４０℃に加熱したテフロンコー
ティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。乾燥粉体の
量を１０ｇ、そして、窒素ガスの流通量を１０００Ｎｃ
ｃ/ ｍｉｎ．とした以外は、実施例１と同様に焼成して
触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載
した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００２９】
【実施例７】（触媒の調製）実施例６で得られた触媒１
ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３２０℃で０．３時
間後焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子
を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３２０℃で０．３時
間後焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子
を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３０】
【実施例８】（触媒の調製）実施例６で得られた触媒１
ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３３０℃で０．２時
間後焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子
を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３３０℃で０．２時
間後焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子
を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３１】
【実施例９】（触媒の調製）大気雰囲気下、２５０℃で
１時間前焼成を行った以外は、実施例１の触媒調製を反
復して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１
に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
１時間前焼成を行った以外は、実施例１の触媒調製を反
復して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１
に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３２】
【実施例１０】（触媒の調製）組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎ
ｂ0.11Ｔｅ0.22Ｚｒ0.005 Ｏn で表現される触媒を次の
ようにして調製した。 硝酸ジルコニル二水和物〔ＺｒＯ（ＮＯ3 ）2 ・２Ｈ2
Ｏ〕０．２９ｇを１０ｇの水に分散させた液を最後に添
加して原料調合液を得た以外は、実施例１の触媒調製を
反復して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表
１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
ｂ0.11Ｔｅ0.22Ｚｒ0.005 Ｏn で表現される触媒を次の
ようにして調製した。 硝酸ジルコニル二水和物〔ＺｒＯ（ＮＯ3 ）2 ・２Ｈ2
Ｏ〕０．２９ｇを１０ｇの水に分散させた液を最後に添
加して原料調合液を得た以外は、実施例１の触媒調製を
反復して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表
１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３３】
【比較例１】（触媒の調製）シュウ酸二水和物〔Ｈ2 Ｃ
2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕８．２７ｇに代わって０．６１ｇを
用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１の触媒
調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液（Ｂ）の
シュウ酸／ニオブのモル比は０．２であった。触媒の組
成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図４
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕８．２７ｇに代わって０．６１ｇを
用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１の触媒
調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液（Ｂ）の
シュウ酸／ニオブのモル比は０．２であった。触媒の組
成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図４
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３４】
【比較例２】（触媒の調製）組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３ｇお
よびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕１１．１６ｇを加え、攪
拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ5 とし
て７６重量％を含有するニオブ酸４．２５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕２２．９ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は７．５であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を１４０℃に加熱したテフロンコー
ティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。乾燥粉体の
量を１０ｇ、そして、窒素ガスの流通量を１０００Ｎｃ
ｃ/ ｍｉｎ．とした以外は、実施例１と同様に焼成して
触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載
した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤ上には２
７．３゜±０．３゜にピークは認められなかった。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
0.11Ｔｅ0.22Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３ｇお
よびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕１１．１６ｇを加え、攪
拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却
して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ5 とし
て７６重量％を含有するニオブ酸４．２５ｇとシュウ酸
二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕２２．９ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／
ニオブのモル比は７．５であった。混合液（Ａ）に混合
液（Ｂ）を添加し、約３０分間攪拌して原料調合液を得
た。得られた調合液を１４０℃に加熱したテフロンコー
ティング鉄板上に噴霧して乾燥粉体を得た。乾燥粉体の
量を１０ｇ、そして、窒素ガスの流通量を１０００Ｎｃ
ｃ/ ｍｉｎ．とした以外は、実施例１と同様に焼成して
触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載
した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤ上には２
７．３゜±０．３゜にピークは認められなかった。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３５】
【比較例３】（触媒の調製）比較例２で得られた乾燥粉
体６ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、２５０℃で２時
間前焼成して酸化物を得た。得られた酸化物３ｇを、内
径２０ｍｍの石英管に充填し、３５０Ｎｃｃ/ｍｉｎ．
の窒素ガス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得
た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
体６ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、２５０℃で２時
間前焼成して酸化物を得た。得られた酸化物３ｇを、内
径２０ｍｍの石英管に充填し、３５０Ｎｃｃ/ｍｉｎ．
の窒素ガス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得
た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３６】
【比較例４】（触媒の調製）組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ
0.11Ｔｅ0.40Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アンモニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３
ｇおよびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕２０．３０ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ
5 として７６重量％を含有するニオブ酸を４．２５ｇと
シュウ酸二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕２２．９
ｇを加え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させて混合液
（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／ニオブのモル比は
７．５であった。混合液（Ａ）に混合液（Ｂ）を添加
し、約３０分間攪拌して原料調合液を得た。得られた調
合液を１４０℃に加熱したテフロンコーティング鉄板上
に噴霧して、乾燥粉体を得た。得られた乾燥粉体６ｇを
磁性皿にとり、大気雰囲気下、２５０℃で２時間前焼成
して酸化物を得た。得られた酸化物３ｇを、内径２０ｍ
ｍの石英管に充填し、３００Ｎｃｃ/ ｍｉｎ．の窒素ガ
ス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得た。触媒
の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図５
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
0.11Ｔｅ0.40Ｏn で表現される触媒を次のようにして調
製した。水１６０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウ
ム〔（ＮＨ4 ）6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕３９．０ｇ、
メタバナジン酸アンモニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕８．５３
ｇおよびテルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕２０．３０ｇを加
え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させた後、３０℃ま
で冷却して混合液（Ａ）を得た。水５０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ
5 として７６重量％を含有するニオブ酸を４．２５ｇと
シュウ酸二水和物〔Ｈ2 Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕２２．９
ｇを加え、攪拌下、６０℃に加熱して溶解させて混合液
（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／ニオブのモル比は
７．５であった。混合液（Ａ）に混合液（Ｂ）を添加
し、約３０分間攪拌して原料調合液を得た。得られた調
合液を１４０℃に加熱したテフロンコーティング鉄板上
に噴霧して、乾燥粉体を得た。得られた乾燥粉体６ｇを
磁性皿にとり、大気雰囲気下、２５０℃で２時間前焼成
して酸化物を得た。得られた酸化物３ｇを、内径２０ｍ
ｍの石英管に充填し、３００Ｎｃｃ/ ｍｉｎ．の窒素ガ
ス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得た。触媒
の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図５
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３７】
【比較例５】（触媒の調製）実施例１で得られた乾燥粉
体５ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３８０℃で１時
間前焼成して酸化物を得た。得られた酸化物２ｇを、内
径２０ｍｍの石英管に充填し、２００Ｎｃｃ/ ｍｉｎ．
の窒素ガス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得
た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図６
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
体５ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３８０℃で１時
間前焼成して酸化物を得た。得られた酸化物２ｇを、内
径２０ｍｍの石英管に充填し、２００Ｎｃｃ/ ｍｉｎ．
の窒素ガス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得
た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図６
に、そして、相対強度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３８】
【比較例６】（触媒の調製）実施例１で得られた乾燥粉
体５ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３６０℃で２時
間前焼成して酸化物を得た。得られた酸化物２ｇを、内
径２０ｍｍの石英管に充填し、２００Ｎｃｃ/ｍｉｎ．
の窒素ガス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得
た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
体５ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、３６０℃で２時
間前焼成して酸化物を得た。得られた酸化物２ｇを、内
径２０ｍｍの石英管に充填し、２００Ｎｃｃ/ｍｉｎ．
の窒素ガス流通下、６００℃で２時間焼成して触媒を得
た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００３９】
【比較例７】（触媒の調製）実施例１で得られた触媒１
ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、４５０℃で２時間後
焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表
１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
ｇを磁性皿にとり、大気雰囲気下、４５０℃で２時間後
焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表
１に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００４０】
【比較例８】（触媒の調製）焼成時間を２時間から６時
間に変更した以外は、実施例１の触媒の調製を反復して
触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載
した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
間に変更した以外は、実施例１の触媒の調製を反復して
触媒を得た。触媒の組成と主要な製法因子を表１に記載
した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表１に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１と同じ条件下
に行った。得られた結果を表３に示す。
【００４１】
【実施例１１】（触媒の調製）３０重量％のＳｉＯ2 に
担持された、組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ0.11Ｔｅ0.22Ｏ
n で表現される触媒を次のようにして調製した。水７２
０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウム〔（ＮＨ4 ）
6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕１６４．３１ｇ、メタバナジ
ン酸アンモニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕３６．０５ｇおよび
テルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕４７．１５ｇを加え、攪拌
下、６０℃に加熱して溶解させて混合液（Ａ）を得た。
水１７０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ5 として７６．６重量％を含有
するニオブ酸１７．６４ｇとシュウ酸二水和物〔Ｈ2 Ｃ
2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇを加え、攪拌下、６０
℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却して混合液
（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／ニオブのモル比は
３．０であった。混合液（Ａ）に攪拌下シリカ含有量３
０重量％のシリカゾルを３００ｇ添加して３０℃まで冷
却後、続いて混合液（Ｂ）を添加して原料調合液を得
た。得られた調合液を遠心式噴霧乾燥器を用い、入口温
度２４０℃と出口温度１４５℃の条件で乾燥して微小球
状の乾燥粉体を得た。得られた乾燥粉体を大気雰囲気
下、２７５℃で２時間前焼成して酸化物を得た。得られ
た酸化物８０ｇを直径１インチのステンレス製管に充填
し、１５０Ｎｃｃ／ｍｉｎ．の窒素ガス流通下、６００
℃で２時間焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製
法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図７
に、そして、相対強度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）内径２５ｍｍのバイ
コールガラス流動床型反応管に得られた触媒４５ｇを充
填し、反応温度４３０℃と反応圧力１ａｔｍの条件下
に、プロパン：アンモニア：酸素：ヘリウム＝１：１．
２：３：１２のモル比の混合ガスを３５０Ｎｃｃ／ｍｉ
ｎの流量で流した。接触時間は３．０ｓｅｃ・ｇ／ｃｃ
であった。反応ガスの分析は、オンラインクロマトグラ
フィーを用いて行った。得られた結果を表４に示す。
担持された、組成式がＭｏ1 Ｖ0.33Ｎｂ0.11Ｔｅ0.22Ｏ
n で表現される触媒を次のようにして調製した。水７２
０ｇに、ヘプタモリブデン酸アンモニウム〔（ＮＨ4 ）
6 Ｍｏ7 Ｏ24・４Ｈ2 Ｏ〕１６４．３１ｇ、メタバナジ
ン酸アンモニウム〔ＮＨ4 ＶＯ3 〕３６．０５ｇおよび
テルル酸〔Ｈ6 ＴｅＯ6 〕４７．１５ｇを加え、攪拌
下、６０℃に加熱して溶解させて混合液（Ａ）を得た。
水１７０ｇに、Ｎｂ2 Ｏ5 として７６．６重量％を含有
するニオブ酸１７．６４ｇとシュウ酸二水和物〔Ｈ2 Ｃ
2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇを加え、攪拌下、６０
℃に加熱して溶解させた後、３０℃まで冷却して混合液
（Ｂ）を得た。このとき、シュウ酸／ニオブのモル比は
３．０であった。混合液（Ａ）に攪拌下シリカ含有量３
０重量％のシリカゾルを３００ｇ添加して３０℃まで冷
却後、続いて混合液（Ｂ）を添加して原料調合液を得
た。得られた調合液を遠心式噴霧乾燥器を用い、入口温
度２４０℃と出口温度１４５℃の条件で乾燥して微小球
状の乾燥粉体を得た。得られた乾燥粉体を大気雰囲気
下、２７５℃で２時間前焼成して酸化物を得た。得られ
た酸化物８０ｇを直径１インチのステンレス製管に充填
し、１５０Ｎｃｃ／ｍｉｎ．の窒素ガス流通下、６００
℃で２時間焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製
法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図７
に、そして、相対強度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）内径２５ｍｍのバイ
コールガラス流動床型反応管に得られた触媒４５ｇを充
填し、反応温度４３０℃と反応圧力１ａｔｍの条件下
に、プロパン：アンモニア：酸素：ヘリウム＝１：１．
２：３：１２のモル比の混合ガスを３５０Ｎｃｃ／ｍｉ
ｎの流量で流した。接触時間は３．０ｓｅｃ・ｇ／ｃｃ
であった。反応ガスの分析は、オンラインクロマトグラ
フィーを用いて行った。得られた結果を表４に示す。
【００４２】
【実施例１２】（触媒の調製）シュウ酸二水和物〔Ｈ2
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇに代わって３４．６
０ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１
１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は２．７であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇに代わって３４．６
０ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１
１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は２．７であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４３】
【実施例１３】（触媒の調製）シュウ酸二水和物〔Ｈ2
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇに代わって４４．８
５ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１
１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は３．５であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇに代わって４４．８
５ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１
１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は３．５であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４４】
【実施例１４】（触媒の調製）水１７０ｇに代わって１
６０ｇを用い、そして、新たに２５重量％のアンモニア
水６．９ｇを加えて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実
施例１１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、
混合液（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は３．０、そ
して、（ＮＨ3 ＋ＮＨ4 + ）／ニオブのモル比は１．０
であった。触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載し
た。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
６０ｇを用い、そして、新たに２５重量％のアンモニア
水６．９ｇを加えて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実
施例１１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、
混合液（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は３．０、そ
して、（ＮＨ3 ＋ＮＨ4 + ）／ニオブのモル比は１．０
であった。触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載し
た。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４５】
【比較例９】（触媒の調製）水１７０ｇに代わって１５
０ｇを用い、そして、新たに２５重量％のアンモニア水
１６．６ｇを加えて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実
施例１１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、
混合液（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は３．０、そ
して、（ＮＨ3 ＋ＮＨ4 + ）／ニオブのモル比は２．４
であった。触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載し
た。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
０ｇを用い、そして、新たに２５重量％のアンモニア水
１６．６ｇを加えて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実
施例１１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、
混合液（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は３．０、そ
して、（ＮＨ3 ＋ＮＨ4 + ）／ニオブのモル比は２．４
であった。触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載し
た。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４６】
【比較例１０】（触媒の調製）シュウ酸二水和物〔Ｈ2
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇに代わって９６．１
１ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１
１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は７．５であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2 Ｏ〕３８．４５ｇに代わって９６．１
１ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１
１の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は７．５であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４７】
【比較例１１】（触媒の調製）シュウ酸二水和物〔Ｈ2
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2Ｏ〕３８．４５ｇに代わって３．８４
ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１１
の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は０．３であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
Ｃ2 Ｏ4 ・２Ｈ2Ｏ〕３８．４５ｇに代わって３．８４
ｇを用いて混合液（Ｂ）を調製した以外は、実施例１１
の触媒調製を反復して触媒を得た。このとき、混合液
（Ｂ）のシュウ酸／ニオブのモル比は０．３であった。
触媒の組成と主要な製法因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤの相対強
度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４８】
【比較例１２】（触媒の調製）実施例１１で得られた触
媒から４５ｇを磁性皿にとり大気雰囲気下、４５０℃で
２時間後焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法
因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図８
に、そして、相対強度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
媒から４５ｇを磁性皿にとり大気雰囲気下、４５０℃で
２時間後焼成して触媒を得た。触媒の組成と主要な製法
因子を表２に記載した。 （ＸＲＤの測定）得られた触媒について、実施例１と同
じ条件下にＸＲＤを測定した。得られたＸＲＤを図８
に、そして、相対強度Ｒを表２に示す。 （プロパンのアンモ酸化反応試験）得られた触媒につい
て、プロパンのアンモ酸化反応を実施例１１と同じ条件
下に行った。得られた結果を表４に示す。
【００４９】
【表１】
【００５０】
【表２】
【００５１】
【表３】
【００５２】
【表４】
【００５３】
【発明の効果】本発明の触媒は、プロパンまたはイソブ
タンの不飽和ニトリルへの収率が大きいばかりでなく、
アンモニアの窒素への酸化分解が抑制されてアンモニア
の利用効率が高い。
タンの不飽和ニトリルへの収率が大きいばかりでなく、
アンモニアの窒素への酸化分解が抑制されてアンモニア
の利用効率が高い。
【図１】実施例１で得られた触媒のＸＲＤの拡大図。
【図２】実施例１で得られた触媒のＸＲＤ。
【図３】実施例３で得られた触媒のＸＲＤ。
【図４】比較例１で得られた触媒のＸＲＤ。
【図５】比較例４で得られた触媒のＸＲＤ。
【図６】比較例５で得られた触媒のＸＲＤ。
【図７】実施例１１で得られた触媒のＸＲＤ。
【図８】比較例１２で得られた触媒のＸＲＤ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 27/14 Ｂ０１Ｊ 27/14 Ｚ Ｃ０７Ｃ 253/24 Ｃ０７Ｃ 253/24 255/07 255/07 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (6)
- 【請求項１】 プロパンまたはイソブタンを気相接触ア
ンモ酸化させて不飽和ニトリルを製造するために用いる
触媒であって、式で表現される成分組成と式で定義
されるＸ線回折ピークの相対強度を有することを特徴と
する触媒。 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、０．０１≦ｑ≦０．６、
０．０１≦ｒ≦０．６、０≦ｓ≦１、そして、ｎは構成
金属元素の酸化数によって決まる酸素の原子比であ
る。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。） - 【請求項２】 該相対強度Ｒが０．４３〜０．７０であ
ることを特徴とする請求項１に記載の触媒。 - 【請求項３】 該触媒が２０〜６０重量％のシリカに担
持されていることを特徴とする請求項１または２に記載
の触媒。 - 【請求項４】 触媒の存在下、プロパンまたはイソブタ
ンを気相接触アンモ酸化させて不飽和ニトリルを製造す
るにあたり、式で表現される成分組成と式で定義さ
れるＸ線回折ピークの相対強度を有する触媒を用いるこ
とを特徴とする不飽和ニトリルの製造方法。 Ｍｏ1 Ｖp Ｘq Ｎｂr Ｚs Ｏn （式において、ＸはＴｅおよびＳｂから選択される少
なくとも１種類以上の元素であり、ＺはＴａ、Ｗ、Ｃ
ｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｙ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｎ、
Ｈｆ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐ
ｄ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｐ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄおよびアルカリ土類
金属から選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、
ｐ、ｑ、ｒ、ｓおよびｎはＭｏ１原子当たりの原子比を
表し、０．１≦ｐ≦０．６、０．０１≦ｑ≦０．６、
０．０１≦ｒ≦０．６、０≦ｓ≦１、そして、ｎは構成
金属元素の酸化数によって決まる酸素の原子比であ
る。） ０．４０≦Ｒ（＝Ｐ1 ／（Ｐ1 ＋Ｐ2 ））≦０．７５ （式において、Ｐ1 とＰ2 は、それぞれ、Ｘ線回折図
における回折角２θが２７．３゜と２８．２゜のピーク
の強度であり、Ｒは相対強度である。） - 【請求項５】 該相対強度Ｒが０．４３〜０．７０であ
ることを特徴とする請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 該触媒が２０〜６０重量％のシリカに担
持されていることを特徴とする請求項４または５に記載
の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23237898A JP4212154B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-08-05 | 触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-355496 | 1997-12-24 | ||
| JP35549697 | 1997-12-24 | ||
| JP23237898A JP4212154B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-08-05 | 触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11239725A true JPH11239725A (ja) | 1999-09-07 |
| JP4212154B2 JP4212154B2 (ja) | 2009-01-21 |
Family
ID=26530424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23237898A Expired - Lifetime JP4212154B2 (ja) | 1997-12-24 | 1998-08-05 | 触媒およびこれを用いた不飽和ニトリルの製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4212154B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2002239382A (ja) * | 2000-12-13 | 2002-08-27 | Asahi Kasei Corp | 酸化またはアンモ酸化用酸化物触媒 |
| JP2004504288A (ja) * | 2000-07-18 | 2004-02-12 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 不均一系触媒作用によりプロパンを気相酸化することによるアクリル酸の製造方法 |
| JP2007326737A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ＮｂとＶを含有する酸化物、及びその製造方法 |
| JP2008501515A (ja) * | 2004-06-09 | 2008-01-24 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 多金属酸化物材料の製造方法 |
| JP2013522038A (ja) * | 2010-03-23 | 2013-06-13 | イネオス ユーエスエイ リミテッド ライアビリティ カンパニー | 改良された混合金属酸化物アンモ酸化触媒 |
-
1998
- 1998-08-05 JP JP23237898A patent/JP4212154B2/ja not_active Expired - Lifetime
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