JPH11236674A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
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- JPH11236674A JPH11236674A JP4057398A JP4057398A JPH11236674A JP H11236674 A JPH11236674 A JP H11236674A JP 4057398 A JP4057398 A JP 4057398A JP 4057398 A JP4057398 A JP 4057398A JP H11236674 A JPH11236674 A JP H11236674A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハを確実に保持することが可能な成膜装
置を提供する。 【解決手段】 材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドお
よびガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを
保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜
装置において、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差
を形成するとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫
通し両雰囲気間を連通する連通穴を設ける。
置を提供する。 【解決手段】 材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドお
よびガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを
保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜
装置において、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差
を形成するとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫
通し両雰囲気間を連通する連通穴を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ＣＶＤ（Chemic
al Vapor Deposition）法により薄膜を形成する成膜
装置に係り、特にウェハを保持して回転するウェハ保持
台の構造に関するものである。
al Vapor Deposition）法により薄膜を形成する成膜
装置に係り、特にウェハを保持して回転するウェハ保持
台の構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１４は例えば特開平１−１６２７７２
号公報等に示された従来の成膜装置の構成を示す断面図
である。図において、１は反応室２を形成する容器、３
はこの容器１を貫通するガス供給管４と連結して反応室
２内に配設されるガス供給ヘッドで、ガス供給管４によ
り供給される例えばシラン（ＳｉＨ4）、ホスフィン
（ＰＨ3）等の材料ガス５を反応室２内に噴出させる多
数のガス噴出穴３ａが下部に形成されている。６はウェ
ハ７を例えば上面に形成された座ぐり等により保持して
回転するウェハ保持台で、ウェハ７を保持する近傍には
ヒータ８が埋設されている。９は容器１の下部に形成さ
れた排気口、１０はこの排気口９に連結された配管１１
の途中に接続される排気装置である。
号公報等に示された従来の成膜装置の構成を示す断面図
である。図において、１は反応室２を形成する容器、３
はこの容器１を貫通するガス供給管４と連結して反応室
２内に配設されるガス供給ヘッドで、ガス供給管４によ
り供給される例えばシラン（ＳｉＨ4）、ホスフィン
（ＰＨ3）等の材料ガス５を反応室２内に噴出させる多
数のガス噴出穴３ａが下部に形成されている。６はウェ
ハ７を例えば上面に形成された座ぐり等により保持して
回転するウェハ保持台で、ウェハ７を保持する近傍には
ヒータ８が埋設されている。９は容器１の下部に形成さ
れた排気口、１０はこの排気口９に連結された配管１１
の途中に接続される排気装置である。
【０００３】上記のように構成された従来の成膜装置に
おいては、ガス供給口４から供給される材料ガス５がガ
ス供給ヘッド３の各ガス噴出穴３ａから噴出されて反応
室２内に導入されると、主にヒータ８で加熱されたウェ
ハ７に接する気相中で熱分解される。そして、この熱分
解により生じた反応生成物がウェハ７上に堆積すること
により薄膜が形成される。反応後のガスは排気口９から
配管１１を介して排気装置１０により排出される。
おいては、ガス供給口４から供給される材料ガス５がガ
ス供給ヘッド３の各ガス噴出穴３ａから噴出されて反応
室２内に導入されると、主にヒータ８で加熱されたウェ
ハ７に接する気相中で熱分解される。そして、この熱分
解により生じた反応生成物がウェハ７上に堆積すること
により薄膜が形成される。反応後のガスは排気口９から
配管１１を介して排気装置１０により排出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の成膜装置は以上
のように構成され、ウェハ７をウェハ保持台６の上面に
形成された座ぐり等で保持するようにしているので、薄
膜の均一性や均質性を向上させるためにウェハ保持台６
を１０００〜１５００回／分で回転させる場合、排気装
置１０からの振動等のような外乱によりウェハ保持台６
の回転のバランスが崩れると、ウェハ保持台６上のウェ
ハ７が離脱して反応室２内に飛散する等の恐れがあると
いう問題点があった。
のように構成され、ウェハ７をウェハ保持台６の上面に
形成された座ぐり等で保持するようにしているので、薄
膜の均一性や均質性を向上させるためにウェハ保持台６
を１０００〜１５００回／分で回転させる場合、排気装
置１０からの振動等のような外乱によりウェハ保持台６
の回転のバランスが崩れると、ウェハ保持台６上のウェ
ハ７が離脱して反応室２内に飛散する等の恐れがあると
いう問題点があった。
【０００５】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ウェハを確実に保持して飛散を
防止することが可能な成膜装置を提供することを目的と
するものである。
ためになされたもので、ウェハを確実に保持して飛散を
防止することが可能な成膜装置を提供することを目的と
するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
る成膜装置は、材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドお
よびガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを
保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜
装置において、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差
を形成するとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫
通し両雰囲気間を連通する連通穴を設けたものである。
る成膜装置は、材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドお
よびガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを
保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜
装置において、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差
を形成するとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫
通し両雰囲気間を連通する連通穴を設けたものである。
【０００７】また、この発明の請求項２に係る成膜装置
は、請求項１において、ウェハ保持台を回転中心から放
射状に延びる複数の分岐部材で形成するとともに各分岐
部材の回転方向の投影断面を翼状に形成したものであ
る。
は、請求項１において、ウェハ保持台を回転中心から放
射状に延びる複数の分岐部材で形成するとともに各分岐
部材の回転方向の投影断面を翼状に形成したものであ
る。
【０００８】また、この発明の請求項３に係る成膜装置
は、請求項１において、ウェハ保持台の他方の面に突出
し回転中心から放射状にそれぞれ延びる羽根部材および
羽根部材と所定の間隔を介して配設されウェハ保持台の
他方の面との間に流路を形成する流路形成部材をそれぞ
れ設けたものである。
は、請求項１において、ウェハ保持台の他方の面に突出
し回転中心から放射状にそれぞれ延びる羽根部材および
羽根部材と所定の間隔を介して配設されウェハ保持台の
他方の面との間に流路を形成する流路形成部材をそれぞ
れ設けたものである。
【０００９】また、この発明の請求項４に係る成膜装置
は、請求項１において、ウェハ保持台の周囲に排気側と
連通して形成される流路を狭小に絞ったものである。
は、請求項１において、ウェハ保持台の周囲に排気側と
連通して形成される流路を狭小に絞ったものである。
【００１０】また、この発明の請求項５に係る成膜装置
は、請求項１ないし４のいずれかにおいて、ウェハ保持
台の一方の面のウェハを保持する部分に凹凸を形成した
ものである。
は、請求項１ないし４のいずれかにおいて、ウェハ保持
台の一方の面のウェハを保持する部分に凹凸を形成した
ものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】実施の形態１．以下、この発明の
実施の形態を図に基づいて説明する。図１はこの発明の
実施の形態１における成膜装置の構成を示す断面図、図
２は図１におけるウェハ保持台の構成を示す平面図、図
３は図２における線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面を示す
断面図である。
実施の形態を図に基づいて説明する。図１はこの発明の
実施の形態１における成膜装置の構成を示す断面図、図
２は図１におけるウェハ保持台の構成を示す平面図、図
３は図２における線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面を示す
断面図である。
【００１２】図において、１２は反応室１３を形成する
容器、１４はこの容器１２を貫通するガス供給管１５と
連結して反応室１３内に配設されるガス供給ヘッドで、
後述のウェハ保持台と対向する部分には、ガス供給管１
５を介して供給される例えばシラン（ＳｉＨ4）、ホス
フィン（ＰＨ3）等の材料ガス１６を反応室１３内に噴
出させる多数のガス噴出穴１４ａが形成されている。１
７は図２に示すように中央部から放射状に延び、図３に
示すように投影断面が翼状に形成された３個の分岐部材
１８で構成されるウェハ保持台で、駆動源（図示せず）
により回転駆動される。
容器、１４はこの容器１２を貫通するガス供給管１５と
連結して反応室１３内に配設されるガス供給ヘッドで、
後述のウェハ保持台と対向する部分には、ガス供給管１
５を介して供給される例えばシラン（ＳｉＨ4）、ホス
フィン（ＰＨ3）等の材料ガス１６を反応室１３内に噴
出させる多数のガス噴出穴１４ａが形成されている。１
７は図２に示すように中央部から放射状に延び、図３に
示すように投影断面が翼状に形成された３個の分岐部材
１８で構成されるウェハ保持台で、駆動源（図示せず）
により回転駆動される。
【００１３】１９は各分岐部材１８のガス供給ヘッド１
４と対向する一方の面にそれぞれ形成されウェハ２０を
保持する座ぐり部で、底部から分岐部材１８の他方の面
側に貫通する連通穴２１が複数箇所に形成されている。
２２は各分岐部材１８の座ぐり部１９近傍に埋設される
ヒータ、２３は容器１２の下部に形成された排気口、２
４はこの排気口２３に連結された配管２５の途中に接続
される排気装置である。
４と対向する一方の面にそれぞれ形成されウェハ２０を
保持する座ぐり部で、底部から分岐部材１８の他方の面
側に貫通する連通穴２１が複数箇所に形成されている。
２２は各分岐部材１８の座ぐり部１９近傍に埋設される
ヒータ、２３は容器１２の下部に形成された排気口、２
４はこの排気口２３に連結された配管２５の途中に接続
される排気装置である。
【００１４】次に、上記のように構成された実施の形態
１における成膜装置の動作について説明する。まず、ウ
ェハ保持台１７を駆動源（図示せず）により駆動回転さ
せながら、ガス供給口１５から材料ガス１６をガス供給
ヘッド１４内に導入し、各ガス噴出穴１４ａから反応室
１３内に噴出させる。すると、この材料ガス１６は主に
ヒータ２２で加熱されたウェハ２０に接する気相中で熱
分解されるとともに、この熱分解により生じた反応生成
物がウェハ２０上に堆積することにより薄膜が形成され
る。そして、反応後のガスは排気口２３から配管２５を
介して排気装置２４により排出される。
１における成膜装置の動作について説明する。まず、ウ
ェハ保持台１７を駆動源（図示せず）により駆動回転さ
せながら、ガス供給口１５から材料ガス１６をガス供給
ヘッド１４内に導入し、各ガス噴出穴１４ａから反応室
１３内に噴出させる。すると、この材料ガス１６は主に
ヒータ２２で加熱されたウェハ２０に接する気相中で熱
分解されるとともに、この熱分解により生じた反応生成
物がウェハ２０上に堆積することにより薄膜が形成され
る。そして、反応後のガスは排気口２３から配管２５を
介して排気装置２４により排出される。
【００１５】このように上記実施の形態１によれば、中
央部から放射状に延び、回転方向の投影断面が翼状に形
成された複数の分岐部材１８でウェハ保持台１７を構成
しているので、ウェハ保持台１７の回転時には分岐部材
１８のウェハ２０を保持する一方の面側より他方の面側
の方が負圧となるため両面間に差圧が生じ、さらに、連
通穴２１により両面間が連通されているので、座ぐり部
１９内に装着されたウェハ２０の裏面は分岐部材１８の
他方の面側の負圧により確実に保持され、また、分岐部
材１８の断面形状が翼状になっているため、ウェハ２０
の表面側の境界層（ガス濃度）が薄く且つ均一になり、
堆積速度や膜の均一性が向上する。
央部から放射状に延び、回転方向の投影断面が翼状に形
成された複数の分岐部材１８でウェハ保持台１７を構成
しているので、ウェハ保持台１７の回転時には分岐部材
１８のウェハ２０を保持する一方の面側より他方の面側
の方が負圧となるため両面間に差圧が生じ、さらに、連
通穴２１により両面間が連通されているので、座ぐり部
１９内に装着されたウェハ２０の裏面は分岐部材１８の
他方の面側の負圧により確実に保持され、また、分岐部
材１８の断面形状が翼状になっているため、ウェハ２０
の表面側の境界層（ガス濃度）が薄く且つ均一になり、
堆積速度や膜の均一性が向上する。
【００１６】実施の形態２．図４はこの発明の実施の形
態２における成膜装置の構成を示す断面図、図５は図４
におけるウェハ保持台の構成を示す平面図、図６は図４
におけるウェハ保持台の構成を示す断面図である。図に
おいて、上記実施の形態１におけると同様の部分は同一
符号を付して説明を省略する。
態２における成膜装置の構成を示す断面図、図５は図４
におけるウェハ保持台の構成を示す平面図、図６は図４
におけるウェハ保持台の構成を示す断面図である。図に
おいて、上記実施の形態１におけると同様の部分は同一
符号を付して説明を省略する。
【００１７】２６はガス供給ヘッド１４と対応する側の
一方の面の円周方向に所定の間隔を介して複数の座ぐり
部２７が形成されるとともに、この座ぐり部２７の底面
から他方の面に複数の連通穴２８が貫通して形成された
ウェハ保持台で、駆動源（図示せず）により回転駆動さ
れる。３０はこのウェハ保持台２６の他方の面に突出し
回転中心から図５に示すような形状で放射状に延びる複
数の羽根部材で、座ぐり部２７とは円周方向に交互に配
置されている。３１はウェハ保持台２６の回転軸に中心
部が羽根部材３０の下面と所定の間隔を介して固着さ
れ、ウェハ保持台２６の他方の面との間に流路を形成す
る円板状の流路形成部材である。
一方の面の円周方向に所定の間隔を介して複数の座ぐり
部２７が形成されるとともに、この座ぐり部２７の底面
から他方の面に複数の連通穴２８が貫通して形成された
ウェハ保持台で、駆動源（図示せず）により回転駆動さ
れる。３０はこのウェハ保持台２６の他方の面に突出し
回転中心から図５に示すような形状で放射状に延びる複
数の羽根部材で、座ぐり部２７とは円周方向に交互に配
置されている。３１はウェハ保持台２６の回転軸に中心
部が羽根部材３０の下面と所定の間隔を介して固着さ
れ、ウェハ保持台２６の他方の面との間に流路を形成す
る円板状の流路形成部材である。
【００１８】このように上記実施の形態２によれば、ウ
ェハ保持台２６の他方の面に突出し回転中心から放射状
に延びる複数の羽根部材３０と、ウェハ保持台２６の回
転軸に中心部が羽根部材３０の下面と所定の間隔を介し
て固着され、ウェハ保持台２６の他方の面との間に流路
を形成する円板状の流路形成部材３１とを設ける構成と
したので、ウェハ保持台２６の回転時には羽根部材３０
と流路形成部材３１とが協働してポンプ作用を行い、両
部材３０、３１間に形成される流路内のガスが排出され
るため、上記実施の形態１におけると同様に、ウェハ保
持台２６の一方の面側より他方の面側の方が負圧となる
ため両面間に差圧が生じ、さらに、連通穴２８により両
面間が連通されているので、座ぐり部２７内に装着され
たウェハ２０の裏面はウェハ保持台２６の他方の面側の
負圧により確実に保持される。
ェハ保持台２６の他方の面に突出し回転中心から放射状
に延びる複数の羽根部材３０と、ウェハ保持台２６の回
転軸に中心部が羽根部材３０の下面と所定の間隔を介し
て固着され、ウェハ保持台２６の他方の面との間に流路
を形成する円板状の流路形成部材３１とを設ける構成と
したので、ウェハ保持台２６の回転時には羽根部材３０
と流路形成部材３１とが協働してポンプ作用を行い、両
部材３０、３１間に形成される流路内のガスが排出され
るため、上記実施の形態１におけると同様に、ウェハ保
持台２６の一方の面側より他方の面側の方が負圧となる
ため両面間に差圧が生じ、さらに、連通穴２８により両
面間が連通されているので、座ぐり部２７内に装着され
たウェハ２０の裏面はウェハ保持台２６の他方の面側の
負圧により確実に保持される。
【００１９】また、この実施の形態によればウェハ保持
台２６を円板状にできるため、座ぐり部２７の数を十分
に設けることが可能となりウェハ２０の処理枚数の増大
を図ることができる。なお、上記構成では流路形成部材
３１をウェハ保持台２６の回転軸に固着して、ウェハ保
持台２６と一体に回転させるようにしているが、容器１
２側に固定して回転できない構成にしても同様の効果を
発揮しうることは言うまでもない。
台２６を円板状にできるため、座ぐり部２７の数を十分
に設けることが可能となりウェハ２０の処理枚数の増大
を図ることができる。なお、上記構成では流路形成部材
３１をウェハ保持台２６の回転軸に固着して、ウェハ保
持台２６と一体に回転させるようにしているが、容器１
２側に固定して回転できない構成にしても同様の効果を
発揮しうることは言うまでもない。
【００２０】実施の形態３．図７はこの発明の実施の形
態３における成膜装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、上記各実施の形態１、２におけると同様な部分
は同一符号を付して説明を省略する。３２は外周側が容
器１２の内壁面に固着され、内周側はウェハ保持台２５
の外周と所定の間隙３３を介して配置されるコンダクタ
ンスフランジである。
態３における成膜装置の構成を示す断面図である。図に
おいて、上記各実施の形態１、２におけると同様な部分
は同一符号を付して説明を省略する。３２は外周側が容
器１２の内壁面に固着され、内周側はウェハ保持台２５
の外周と所定の間隙３３を介して配置されるコンダクタ
ンスフランジである。
【００２１】このように上記実施の形態３によれば、コ
ンダクタンスフランジ３２によりウェハ保持台２６の外
周との間に、所定の間隙３３を形成して排気口２３と連
通する流路を狭小に絞っているので、排気装置２４の動
作だけでウェハ保持台２６の両面間に差圧を生じさせる
ことができ、上記各実施の形態１、２におけると同様
に、座ぐり部２７内に装着されたウェハ２０の裏面は、
ウェハ保持台２６の他方の面側に負圧により確実に保持
される。
ンダクタンスフランジ３２によりウェハ保持台２６の外
周との間に、所定の間隙３３を形成して排気口２３と連
通する流路を狭小に絞っているので、排気装置２４の動
作だけでウェハ保持台２６の両面間に差圧を生じさせる
ことができ、上記各実施の形態１、２におけると同様
に、座ぐり部２７内に装着されたウェハ２０の裏面は、
ウェハ保持台２６の他方の面側に負圧により確実に保持
される。
【００２２】実施の形態４．図８はこの発明の実施の形
態４における成膜装置の要部の構成を示す平面図、図９
は図８における線ＩＸ−ＩＸに沿う断面を示す断面図、
図１０はこの発明の実施の形態４における成膜装置の要
部図８におけるとは異なる構成を示す平面図、図１１は
図１０における線ＸＩ−ＸＩに沿う断面を示す断面図、
図１２はこの発明の実施の形態４における成膜装置の要
部の図８におけるとはさらに異なる構成を示す平面図、
図１３は図１２における線ＸＩＩＩ−ＸＩＩＩに沿う断
面を示す断面図である。
態４における成膜装置の要部の構成を示す平面図、図９
は図８における線ＩＸ−ＩＸに沿う断面を示す断面図、
図１０はこの発明の実施の形態４における成膜装置の要
部図８におけるとは異なる構成を示す平面図、図１１は
図１０における線ＸＩ−ＸＩに沿う断面を示す断面図、
図１２はこの発明の実施の形態４における成膜装置の要
部の図８におけるとはさらに異なる構成を示す平面図、
図１３は図１２における線ＸＩＩＩ−ＸＩＩＩに沿う断
面を示す断面図である。
【００２３】図８および図９において、上記各実施の形
態１ないし３におけると同様な部分は同一符号を付して
説明を省略する。３４はウェハ保持台２６の座ぐり部２
７の底面に、連通穴２８を取り囲むように突出して形成
された環状の第１の突起帯で、円周上複数箇所に切り欠
き３４ａが形成されている。３５は座ぐり部２７の外周
壁に沿って底面に突出して形成された環状の第２の突起
帯で、円周上複数箇所に切り欠き３５ａが形成されてい
る。
態１ないし３におけると同様な部分は同一符号を付して
説明を省略する。３４はウェハ保持台２６の座ぐり部２
７の底面に、連通穴２８を取り囲むように突出して形成
された環状の第１の突起帯で、円周上複数箇所に切り欠
き３４ａが形成されている。３５は座ぐり部２７の外周
壁に沿って底面に突出して形成された環状の第２の突起
帯で、円周上複数箇所に切り欠き３５ａが形成されてい
る。
【００２４】このように上記実施の形態４によれば、座
ぐり部２７の底面に第１および第２の突起帯３４、３５
を形成し、これら各突起帯３４、３５の上面でウェハの
裏面を受けるようにしているので、ウェハの裏面全域に
連通穴２８を連通する隙間が形成され、ウェハの全裏面
にわたって負圧がかかるため、ウェハはより確実に保持
される。
ぐり部２７の底面に第１および第２の突起帯３４、３５
を形成し、これら各突起帯３４、３５の上面でウェハの
裏面を受けるようにしているので、ウェハの裏面全域に
連通穴２８を連通する隙間が形成され、ウェハの全裏面
にわたって負圧がかかるため、ウェハはより確実に保持
される。
【００２５】また、図１０および図１１に示すように、
ウェハ保持台２６の座ぐり部２７の底面に、座ぐり部２
７の外周壁に沿って環状の第１の溝３６、および連通穴
２８を中心にして放射状に第１の溝３６に連通して複数
の直線状の第２の溝３７をそれぞれ形成し、ウェハの裏
面の両溝３６、３７と対応する部分に隙間を形成するよ
うにしても、さらにまた、図１２および図１３に示すよ
うに、座ぐり部２７の底面に複数の突起３８を形成し、
ウェハの裏面に隙間を形成するようにしても、上記図８
および図９に示す場合と同様に、それぞれの隙間を介し
てウェハの裏面に負圧がかかるため、ウェハはより確実
に保持される。
ウェハ保持台２６の座ぐり部２７の底面に、座ぐり部２
７の外周壁に沿って環状の第１の溝３６、および連通穴
２８を中心にして放射状に第１の溝３６に連通して複数
の直線状の第２の溝３７をそれぞれ形成し、ウェハの裏
面の両溝３６、３７と対応する部分に隙間を形成するよ
うにしても、さらにまた、図１２および図１３に示すよ
うに、座ぐり部２７の底面に複数の突起３８を形成し、
ウェハの裏面に隙間を形成するようにしても、上記図８
および図９に示す場合と同様に、それぞれの隙間を介し
てウェハの裏面に負圧がかかるため、ウェハはより確実
に保持される。
【００２６】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項１によ
れば、材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドおよびガス
供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを保持して
回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜装置にお
いて、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差を形成す
るとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫通し両雰
囲気間を連通する連通穴を設けたので、ウェハの裏面を
負圧により確実に保持することが可能な成膜装置を提供
することができる。
れば、材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドおよびガス
供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェハを保持して
回転するウェハ保持台を反応室内に備えた成膜装置にお
いて、ウェハ保持台の両面上の雰囲気に圧力差を形成す
るとともにウェハ保持台にウェハの保持部を貫通し両雰
囲気間を連通する連通穴を設けたので、ウェハの裏面を
負圧により確実に保持することが可能な成膜装置を提供
することができる。
【００２７】また、この発明の請求項２によれば、請求
項１において、ウェハ保持台を回転中心から放射状に延
びる複数の分岐部材で形成するとともに各分岐部材の回
転方向の投影断面を翼状に形成したので、ウェハの裏面
を負圧により確実に保持することが可能な成膜装置を提
供することができる。
項１において、ウェハ保持台を回転中心から放射状に延
びる複数の分岐部材で形成するとともに各分岐部材の回
転方向の投影断面を翼状に形成したので、ウェハの裏面
を負圧により確実に保持することが可能な成膜装置を提
供することができる。
【００２８】また、この発明の請求項３によれば、請求
項１において、ウェハ保持台の他方の面に突出し回転中
心から放射状にそれぞれ延びる羽根部材および羽根部材
と所定の間隔を介して配設されウェハ保持台の他方の面
との間に流路を形成する流路形成部材をそれぞれ設けた
ので、ウェハの裏面を負圧により確実に保持することが
可能な成膜装置を提供することができる。
項１において、ウェハ保持台の他方の面に突出し回転中
心から放射状にそれぞれ延びる羽根部材および羽根部材
と所定の間隔を介して配設されウェハ保持台の他方の面
との間に流路を形成する流路形成部材をそれぞれ設けた
ので、ウェハの裏面を負圧により確実に保持することが
可能な成膜装置を提供することができる。
【００２９】また、この発明の請求項４によれば、請求
項１において、ウェハ保持台の周囲に排気側と連通して
形成される流路を狭小に絞ったので、ウェハの裏面を負
圧により確実に保持することが可能な成膜装置を提供す
ることができる。
項１において、ウェハ保持台の周囲に排気側と連通して
形成される流路を狭小に絞ったので、ウェハの裏面を負
圧により確実に保持することが可能な成膜装置を提供す
ることができる。
【００３０】また、この発明の請求項５によれば、請求
項１ないし４のいずれかにおいて、ウェハ保持台の一方
の面のウェハを保持する部分に凹凸を形成したので、ウ
ェハの裏面を負圧により更に確実に保持することが可能
な成膜装置を提供することができる。
項１ないし４のいずれかにおいて、ウェハ保持台の一方
の面のウェハを保持する部分に凹凸を形成したので、ウ
ェハの裏面を負圧により更に確実に保持することが可能
な成膜装置を提供することができる。
【図１】 この発明の実施の形態１における成膜装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図２】 図１におけるウェハ保持台の構成を示す平面
図である。
図である。
【図３】 図２における線ＩＩＩ−ＩＩＩ沿った断面を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図４】 この発明の実施の形態２における成膜装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図５】 図４におけるウェハ保持台の構成を示す平面
図である。
図である。
【図６】 図４におけるウェハ保持台の構成を示す断面
図である。
図である。
【図７】 この発明の実施の形態３における成膜装置の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図８】 この発明の実施の形態４における成膜装置の
要部の構成を示す平面図である。
要部の構成を示す平面図である。
【図９】 図８における線ＩＸ−ＩＸに沿う断面を示す
断面図である。
断面図である。
【図１０】 この発明の実施の形態４における成膜装置
の要部の図８におけるとは異なる構成を示す平面図であ
る。
の要部の図８におけるとは異なる構成を示す平面図であ
る。
【図１１】 図１０における線ＸＩ−ＸＩに沿う断面を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図１２】 この発明の実施の形態４における成膜装置
の要部の図８におけるとはさらに異なる構成を示す平面
図である。
の要部の図８におけるとはさらに異なる構成を示す平面
図である。
【図１３】 図１２における線ＸＩＩＩ−ＸＩＩＩに沿
う断面を示す断面図である。
う断面を示す断面図である。
【図１４】 従来の成膜装置の構成を示す断面図であ
る。
る。
【符号の説明】 １４ ガス供給ヘッド、１４ａ ガス噴出口、１６ 材
料ガス、１７，２６ ウェハ保持台、１８ 分岐部材、
１９，２７ 座ぐり部、２０ ウェハ、２１，２８ 連
通穴、２９ ヒータ、３０ 羽根部材、３１ 流路形成
部材、３２ コンダクタンスフランジ、３３ 間隙、３
４ 第１の突起帯、３５ 第２の突起帯、３４ａ，３５
ａ 切り欠き、３６ 第１の溝、３７ 第２の溝、３８
突起。
料ガス、１７，２６ ウェハ保持台、１８ 分岐部材、
１９，２７ 座ぐり部、２０ ウェハ、２１，２８ 連
通穴、２９ ヒータ、３０ 羽根部材、３１ 流路形成
部材、３２ コンダクタンスフランジ、３３ 間隙、３
４ 第１の突起帯、３５ 第２の突起帯、３４ａ，３５
ａ 切り欠き、３６ 第１の溝、３７ 第２の溝、３８
突起。
Claims (5)
- 【請求項１】 材料ガスを噴出させるガス供給ヘッドお
よび上記ガス供給ヘッドと対向する側の一方の面にウェ
ハを保持して回転するウェハ保持台を反応室内に備えた
成膜装置において、上記ウェハ保持台の両面上の雰囲気
に圧力差を形成するとともに上記ウェハ保持台に上記ウ
ェハの保持部を貫通し上記両雰囲気間を連通する連通穴
を設けたことを特徴とする成膜装置。 - 【請求項２】 ウェハ保持台を回転中心から放射状に延
びる複数の分岐部材で形成するとともに上記各分岐部材
の回転方向の投影断面を翼状に形成したことを特徴とす
る請求項１記載の成膜装置。 - 【請求項３】 ウェハ保持台の他方の面に突出し回転中
心から放射状にそれぞれ延びる羽根部材および上記羽根
部材と所定の間隔を介して配設され上記ウェハ保持台の
他方の面との間に流路を形成する流路形成部材をそれぞ
れ設けたことを特徴とする請求項１記載の成膜装置。 - 【請求項４】 ウェハ保持台の周囲に排気側と連通して
形成される流路を狭小に絞ったことを特徴とする請求項
１記載の成膜装置。 - 【請求項５】 ウェハ保持台の一方の面のウェハを保持
する部分に凹凸を形成したことを特徴とする請求項１な
いし４のいずれかに記載の成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4057398A JPH11236674A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4057398A JPH11236674A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11236674A true JPH11236674A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12584234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4057398A Pending JPH11236674A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11236674A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007518249A (ja) * | 2003-08-01 | 2007-07-05 | エスゲーエル カーボン アクチエンゲゼルシャフト | 半導体製造時にウェハを支持するホルダ |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4057398A patent/JPH11236674A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007518249A (ja) * | 2003-08-01 | 2007-07-05 | エスゲーエル カーボン アクチエンゲゼルシャフト | 半導体製造時にウェハを支持するホルダ |
| JP4669476B2 (ja) * | 2003-08-01 | 2011-04-13 | エスゲーエル カーボン ソシエタス ヨーロピア | 半導体製造時にウェハを支持するホルダ |
| KR101116510B1 (ko) | 2003-08-01 | 2012-02-28 | 에스지엘 카본 에스이 | 반도체 제조시 웨이퍼를 지지하는 홀더 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040727 |