JPH11233325A - 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 めっき液や洗浄液などがポーラスなＲ−Ｆｅ
−Ｂ系ボンド磁石に侵入、残留するのを防止した磁石表
面に高密着強度で寸法精度よく耐食性被膜を設ける。 【解決手段】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石を研磨材と植
物性媒体の混合物を用いて乾式法にてバレル研磨を施す
ことで、研磨粉及び研磨屑をボンド磁石の空孔部に植物
性媒体の油脂分で固着、封孔することができ、同時に表
面平滑化処理が可能で改質できる。更に、このボンド磁
石を所要寸法の球状、塊状あるいは針状等の不定形金属
片、すなわちビッカース硬度値が８０以下のＳｎ、Ｚ
ｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及びその合金を用い
て乾式法にてバレル研磨を施し、磨砕された金属微片を
ボンド磁石表面の樹脂面および封孔部に圧入被覆し、磁
粉面に金属微片を被覆することで、ボンド磁石表面にＣ
ｕ被覆膜を形成して高い導電性を付与することができ、
緻密でピンホールのない電解めっき層を形成可能とな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系
ボンド磁石の耐食性を改善する製造方法に係り、特に乾
式バレル研磨により研磨材の粉末及びボンド磁石の研磨
屑、さらに無機質粉体を空孔部に埋め込んで封孔しかつ
表面平滑化処理した後、大きさ０．１ｍｍ〜１０ｍｍの
球状、塊状あるいは針状（ワイヤー）等のビッカース硬
度値が８０以下の不定形金属片を用いてバレル装置にて
前記磁石素材を乾式法にてバレル研磨し、磨砕された前
記金属微片を樹脂面および封孔部に圧入かつ被覆し、ま
た磁粉面に前記金属微片を被覆することによりＲ−Ｆｅ
−Ｂ系ボンド磁石表面に導電性を付与して、後処理の電
気Ｎｉめっきなどのめっき浴を限定することなく、効率
的に量産性良く形成可能な高耐食性めっき層を設けて、
耐食性、密着性を著しく改善した高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】今日、リング状や円板状の種々の形状か
らなるゴム磁石あるいはプラスチック磁石と呼ばれるボ
ンド磁石には、従来の等方性ボンド磁石から異方性ボン
ド磁石へ、また、フェライト系ボンド磁石からより高磁
力の希土類系ボンド磁石へと高性能化が進み、さらに、
焼結磁石では最大エネルギー積が５０ＭＧＯｅ以上の高
磁気特性を発揮するＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材を用いるＲ−
Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石へと高性能化が図られてきた。

【０００３】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石は、その磁粉組
成に極めて酸化しやすい成分相及びＦｅを多量に含むた
めに錆びやすい問題があり、表面に種々組成からなる樹
脂層を電着塗装、スプレー法、浸漬法、含浸法等で被着
していた（例えば、特開平１−１６６５１９号、特開平
１−２４５５０４号）。

【０００４】これまでＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の耐食
性向上のために用いられてきた樹脂塗装法、例えば、ス
プレー法ではリング状ボンド磁石の場合、塗料のロスが
大きく、裏、表を反転する必要があるため工数が多く、
また、膜厚の均一性も劣る問題があった。

【０００５】また、電着塗装法では、膜厚は均一である
が、磁石の１個にそれぞれ電極に取り付ける必要があ
り、さらに塗装後に外した電極部跡の補修、すなわちタ
ッチアップが必要であり、多大の工数を要して特に小物
には不適であるという問題がある。

【０００６】浸漬法では、一定の均一な膜厚の塗膜を得
るにはタレ等の問題により困難であり、またポーラスな
ボンド磁石では空孔部が十分に埋まらず、乾燥時に膨れ
たり、製品同士の付着等の問題がある。

【０００７】金属被膜の生成方法については量産性を考
慮すると、焼結Ｒ−Ｆｅ−Ｂ磁石で行われている電気金
属めっきを施すこと（特開昭６０−５４４０６号、特開
昭６２−１２０００３号）が考えられるが、Ｒ−Ｆｅ−
Ｂ系ボンド磁石表面はポーラスでかつ導電性の低い樹脂
部分が露出しているため、めっき液が残存したり、樹脂
部にめっき被膜が十分に生成せずピンホール（無めっき
部）が生じて、発錆が起こる。

【０００８】そこで、ポーラスなボンド磁石に侵入、残
留しても無害なめっき液を選定する方法（特開平４−２
７６０９２号）や下地に樹脂コーティングを施した後に
めっきする方法（特開平３−１１７１４号、特開平４−
２７６０９５号）が提案されている。

【０００９】しかし、めっき液のｐＨ調整や完全な無害
化は困難であり、かつ成膜効率のよいめっき浴は見出さ
れてなく、また、下地の厚みのばらつきがめっき層の不
安定要素となり、十分な厚みの下地コーティングを施す
のであれば、表面のめっき層は不要になるという矛盾が
ある。

【００１０】また、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に成膜効
率のよいＮｉめっきを施す方法として、特定組成のめっ
き浴が提案（特開平４−９９１９２号）されているが、
やはりボンド磁石に侵入、残留して発錆させる恐れがあ
る。

【００１１】一方、構造材などにおいて、Ｎｉめっき前
に通常行われているＣｕストライクめっきは強アルカリ
性か強酸性のいずれかであり、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁
石への処理としては不適である。

【００１２】また、電子部品に耐磨耗性を付与するた
め、あるいは自動車用鋼板等の防錆処理として、高温酸
性浴タイプのＮｉＰめっき処理が実用化されているが、
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に適用するには、磁石内部を
腐食させるため不適である。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】そこで、めっき液や洗
浄液などがポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に侵
入、残留するのを防止して、効率よく電気Ｎｉめっき等
のめっき層が形成でき、耐食性を向上させ得る構成から
なるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法として、 （１） Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の表面に樹脂と導電
性粉末との混合物を塗装し素材表面に導電性被膜層を形
成する方法。 （２） Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の表面に粘着性を有
する樹脂層を形成し、金属粉体を付着させて素材表面に
導電性被膜層を形成する方法（特開平５−３０２１７６
号）。 （３） Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の表面に樹脂と導電
性粉末との混合物を塗装して導電性被膜層を形成した
後、表面平滑処理を施す方法（特開平９−１８６０１６
号）。 が提案されている。

【００１４】しかし上記３つの方法は素材の気孔部を封
孔するために種々の樹脂を用いており、必然的に樹脂の
塗布（含侵）、硬化（平滑化処理）と工程が煩雑になり
好ましくない。

【００１５】また、素材の樹脂を塗布（含侵）する方法
では、樹脂を素材表面に均一に塗布することは困難であ
り、たとえ後工程でバレル研磨を行っても寸法精度に優
れためっき品を得ることは難しい。さらに前記導電被膜
層は樹脂層の中に導電性物質あるいは金属粉を含有させ
たものであり、表面においてボンド磁石の樹脂露出部は
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石素材に比べると改善されてい
るものの、製法上被膜樹脂露出部が少なからず存在し、
表面に導電性の低い部分が存在することから、均一な良
好な導電性の表面を得るのは困難であり、電気めっき時
にピンホールが生じ易くなるなどの問題がある。

【００１６】そこで発明者は、植物性媒体または無機質
粉体にて表面を改質された植物性媒体と研磨材との混合
物をメディアとして乾式法でバレル研磨し、研磨材の粉
末とボンド磁石の研磨屑をボンド磁石の空孔部に植物性
媒体の油脂分で固着、封孔するとともに表面平滑して、
アルカリ性浴による無電解銅めっきにより導電層を形成
する方法を提案（３０Ｐ９７０６０）した。

【００１７】しかし、無電解銅めっきはめっき液寿命が
短く良好な鍍金被膜を得るための液管理が難しいという
問題点がある。さらに従来に比べ耐食性、寸法精度は優
れるものの、今日の様々な用途に対応していくためには
さらに高い耐食性が要求される。

【００１８】この発明は、長時間の高温高湿試験でも発
錆しない極めて高い耐食性を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石の提供を目的とし、高い耐食性を実現するため極
めて高い密着強度で、種々の耐食性被膜が均一にＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系ボンド磁石に形成できる製造方法の提供を目的
としている。

【００１９】また、この発明は、従来の無電解めっき法
において、めっき液や洗浄液などがポーラスなＲ−Ｆｅ
−Ｂ系ボンド磁石に侵入、残留するのを防止した磁石表
面に高密着強度で寸法精度よく耐食性被膜を設けるのに
最適な工業的工程からなる高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石の製造方法の提供を目的としている。

【００２０】

【課題を解決するための手段】かかる問題を解決すべく
発明者らは、ポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石をＡ
ｌ₂Ｏ₃、ＳｉＣなどの無機質粉体を焼き固めた研磨材と
果実の殻、トウモロコシの芯などの植物性媒体の混合
物、または上記研磨材と上記無機質粉体にて表面を改質
された植物性媒体の混合物をメディアとして用いて乾式
法にてバレル研磨を施すことによって、研磨材の粉末及
び改質用の無機質粉体並びにボンド磁石を構成する磁粉
の表面酸化層などの研磨屑を、植物性媒体の油脂分によ
り当該磁石の空孔部に固着、封孔することが可能であ
り、同時に表面を平滑化処理することも可能であること
から、乾式バレル研磨後に磁石素材表面に直接導電性膜
を形成できることを知見した。

【００２１】さらに、発明者らは、その導電性膜の形成
方法について種々検討した結果、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
磁石を、所要寸法の球状、塊状あるいは針状（ワイヤ
ー）等のビッカース硬度値が８０以下の不定形金属片を
メディアとして用いて、バレル装置にて乾式法にてバレ
ル研磨を施すことにより、磨砕された前記金属微片がボ
ンド磁石表面の樹脂面および封孔部に圧入、被覆され、
また磁粉面にも同様に前記金属微片が被覆されてＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系ボンド磁石表面に極めて均一に導電性膜が付与
でき、良好な電気めっきが可能となり、耐食性に優れ、
磁気特性劣化の少ないＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石めっき
被膜品を得ることができることを知見し、この発明を完
成した。

【００２２】すなわち、この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボ
ンド磁石の表面を構成する樹脂面及び空孔部が、研磨材
の粉末とボンド磁石の研磨屑、さらに無機質粉体を植物
性媒体の油脂分にて固着、封孔された後、表面を構成す
る樹脂面および前記封孔部にビッカース硬度値８０以下
の金属微片が圧入かつ被覆され、また表面を構成する磁
粉面に前記金属微片が被覆されて形成された当該磁石表
面の金属被覆層とこの金属被覆層を介して形成された電
解めっき層とを有することを特徴とする高耐食性Ｒ−Ｆ
ｅ−Ｂ系ボンド磁石である。

【００２３】また、発明者らは、上記構成の高耐食性Ｒ
−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石において、樹脂面および封孔部
に形成された金属微片の圧入被覆層の厚さが０．１μｍ
以上２μｍ以下であること、磁粉面上に被覆される金属
被覆層の厚さが１μｍ以下であこと、金属微片が、Ｓ
ｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及びその合金
で、前記合金にはＳｎ、Ｚｎと５０％以下のＣｕとの合
金も包含する、を各々特徴とする高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石を併せて提案する。

【００２４】また、この発明は、植物性媒体または無機
質粉体にて表面を改質された植物性媒体と研磨材との混
合物をメディアとして、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石を乾
式法にてバレル研磨し、前記研磨材の粉末とボンド磁石
の研磨屑、さらに前記無機質粉体をＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石の空孔部に植物性媒体の油脂分で固着、封孔する
とともに表面平滑化して改質した後、当該ボンド磁石を
ビッカース硬度値が８０以下の不定形金属片を用いてバ
レル装置にて乾式法にてバレル研磨し、磨砕された金属
微片を前記磁石の樹脂面および前記封孔部に圧入かつ被
覆し、また磁粉面に金属微片を被覆することによりＲ−
Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石表面に導電性を付与した後、電解
めっき層を形成する高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石
の製造方法である。

【００２５】また、発明者らは、上記構成の高耐食性Ｒ
−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法において、研磨材は
無機質粉体を焼き固めた研磨石あるいは金属ボールであ
ること、植物性媒体は植物性の皮屑、おが屑、果実の
殻、トウモロコシの芯であること、不定形金属片が大き
さ０．１ｍｍ〜１０ｍｍの球状、塊状あるいは針状であ
ること、バレル研磨にて磨砕された金属微片の大きさは
長径５μｍ以下であること、回転、振動、遠心バレル内
に磁石と金属片の容積比率（磁石／金属）を３以下に装
入してバレル研磨を行うこと、不定形金属片が、Ｓｎ、
Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及びその合金で、
前記合金にはＳｎ、Ｚｎと５０％以下のＣｕとの合金も
包含する、をそれぞれ特徴とする高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石の製造方法を併せて提案する。

【００２６】

【発明の実施の形態】この発明において、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石は等方性、異方性ボンド磁石のいずれも対
象とし、例えば圧縮成型の場合は、所要組成、性状の磁
性粉末の熱硬化性樹脂、カップリング剤、潤滑等を添加
混練した後、圧縮成型し加熱して樹脂を硬化して得ら
れ、射出成型、押し出し成型、圧延成型の場合は、磁性
粉末に熱可塑性樹脂、カップリング剤、潤滑等を添加混
練したのち、射出成型、押し出し成型、圧延成型のいず
れかの方法にて成型して得られる。

【００２７】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材粉には、所要のＲ−
Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し鋳造後に粉砕する溶解粉砕法、
Ｃａ還元にて直接粉末を得る直接還元拡散法、所要のＲ
−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解ジェットキャスターでリボン箔
を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合金法、所要のＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系合金を溶解し、これをガスアトマイズで粉末化
して熱処理するガスアトマイズ法、所要原料金属を粉末
化したのち、メカニカルアロイングにて微粉末化して熱
処理するメカニカルアロイ法及び所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系
合金を水素中で加熱して分解並びに再結晶させる方法
（ＨＤＤＲ法）などの各種製法で得た等方性、異方性粉
末が利用できる。

【００２８】この発明において、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系磁石粉
末に用いる希土類元素Ｒは、組成の１０原子％〜３０原
子％を占めるが、Ｎｄ，Ｐｒ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｔｂのうち
少なくとも１種、あるいはさらに、Ｌａ，Ｃｅ，Ｓｍ，
Ｇｄ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｙのうち少なく
とも１種を含むものが好ましい。また、通常Ｒのうち１
種をもって足りるが、実用上は２種以上の混合物（ミッ
シュメタル、シジム等）を入手上の便宜等の理由により
用いることができる。なお、このＲは純希土類元素でな
くてもよく、工業上入手可能な範囲で製造上不可避な不
純物を含有するものでも差し支えない。

【００２９】Ｒは、上記系磁石粉末における必須元素で
あって、１０原子％未満では結晶構造がα−鉄と同一構
造の立方晶組織となるため、高磁気特性、特に高保磁力
が得られず、３０原子％を超えるとＲリッチな非磁性相
が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）が低下してすぐれた
特性の永久磁石が得られない。よって、Ｒは、１０原子
％〜３０原子％の範囲が望ましい。

【００３０】Ｂは、上記系磁石粉末における必須元素で
あって、２原子％未満では菱面体構造が主相となり、高
い保磁力（ｉＨｃ）は得られず、２８原子％を超えると
Ｂリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度（Ｂｒ）
が低下するため、すぐれた永久磁石が得られない。よっ
て、Ｂは２原子％〜２８原子％の範囲が望ましい。

【００３１】Ｆｅは、上記系磁石粉末において必須元素
であり、６５原子％未満では残留磁束密度（Ｂｒ）が低
下し、８０原子％を超えると高い保磁力が得られないの
で、Ｆｅは６５原子％〜８０原子％の含有が望ましい。

【００３２】また、Ｆｅの一部をＣｏで置換すること
は、得られる磁石の磁気特性を損なうことなく、温度特
性を改善することができるが、Ｃｏ置換量がＦｅの２０
％を超えると、逆に磁気特性が劣化するため、好ましく
ない。Ｃｏの置換量がＦｅとＣｏの合計量で５原子％〜
１５原子％の場合は、（Ｂｒ）は置換しない場合に比較
して増加するため、高磁束密度を得るために好ましい。

【００３３】また、Ｒ，Ｂ，Ｆｅのほか、工業的生産上
不可避的不純物の存在を許容でき、例えば、Ｂの一部を
４．０ｗｔ％以下のＣ、２．０ｗｔ％以下のＰ、２．０
ｗｔ％以下のＳ、２．０ｗｔ％以下のＣｕのうち少なく
とも１種、合計量で２．０ｗｔ％以下で置換することに
より、永久磁石の製造性改善、低価格化が可能である。

【００３４】さらに、Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｂ
ｉ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｗ，Ｓｂ，Ｇｅ，Ｇａ，Ｓｎ，
Ｚｒ，Ｎｉ，Ｓｉ，Ｚｎ，Ｈｆのうち少なくとも１種
は、磁石粉末に対してその保磁力、減磁曲線の角型性を
改善あるいは製造性の改善、低価格化に効果があるため
添加することができる。なお、添加量の上限は、ボンド
磁石の（ＢＨ）ｍａｘや（Ｂｒ）値を所要値とするに必
要な該条件を満たす範囲が望ましい。

【００３５】またこの発明において、バインダーには射
出成形では、樹脂として６Ｐａ、１２Ｐａ、ＰＰＳ、Ｐ
ＢＴ、ＥＶＡ等、又押出成形、カレンダーロール、圧延
成形ではＰＶＣ、ＮＢＲ、ＣＰＥ、ＮＲ、ハイパロン
等、又圧縮成形には、エポキシ樹脂、ＤＡＰ、フェノー
ル樹脂等が利用でき、必要に応じて、公知の金属バイン
ダーを用いることができる。さらに、助材には成形を容
易にする滑剤や樹脂と無機フィラーの結合剤、シラン
系、チタン系等のカップリング剤などを用いることがで
きる。

【００３６】この発明において、バレル研磨する際のメ
ディアとしては、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＣなどの無機質粉体を
焼き固めたセラミックス、あるいは金属ボールなどの研
磨材と、植物性の皮屑、おが屑、果実の殻、トウモロコ
シの芯などの植物性媒体の混合物、または上記の研磨材
と上記Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＣなどの無機質粉体にて表面を改
質された上記の植物性媒体の混合物を用いる。この混合
物をメディアとしてバレル研磨処理を行うことにより、
ボンド磁石の平滑封孔処理を行うことが可能となる。

【００３７】この発明の封孔、平滑化処理、及びボンド
磁石表面にビッカース硬度値８０以下の金属被覆層を形
成するための乾式バレル研磨には、公知のバレルが使用
でき、一般の回転数２０〜５０ｒｐｍの回転バレル、回
転数７０〜２００ｒｐｍの遠心バレル、振動振幅０．５
ｍｍ以上５０ｍｍ未満の振動バレル研磨法などを採用す
ることができる。

【００３８】この発明の封孔、平滑化処理のとき、使用
する回転バレル、振動バレルの場合、バレル内に装入す
るボンド磁石と研磨材と植物性媒体の総量は、内容積の
２０％〜９０％が好ましい。２０％未満では処理量が少
なすぎて実用的でなく、９０％を越えると撹拌が不十分
で、十分な研磨ができない問題がある。

【００３９】この発明の封孔、平滑化処理における、研
磨材は特に限定しないが、粒径１〜７ｍｍ、好ましくは
３〜５ｍｍ程度の研磨材と長径０．５〜３ｍｍ、好まし
くは長径１〜２ｍｍ程度の植物性媒体、もしくは上記研
磨材と無機質粉体にて表面を改質された上記の植物性媒
体の混合物を用いて、磁石とメディアの混合物が均一に
撹拌され、相対的な移動運動が行われる条件で行うこと
が好ましい。

【００４０】また、上記無機質粉体にて表面を改質され
た植物性媒体としては、植物性媒体表面にワックスなど
の油脂分を混練被覆した後、粒径０．０１〜３μｍのＡ
ｌ₂Ｏ₃、ＳｉＣ、ＺｒＯ、ＭｇＯの無機質粉体を表面に
均一にまぶし、固着したものを用いる。封孔物である上
記研磨材の粉末および植物性媒体表面を改質するための
無機質粉体ならびにボンド磁石の研磨くずは、粒径０．
０１〜３μｍである。

【００４１】メディアにおける植物性媒体と研磨材との
比率（植物性媒体／研磨材）は１／５〜２とし、好まし
くは比率１の混合物がよい。また、ボンド磁石とメディ
アとの混合比率（ボンド磁石／メディア）は３以下とす
る。

【００４２】この発明において、上記の研磨材は当該磁
石の表面酸化層を有効に研削除去し、表面を平滑化し、
研磨材の粉末および植物性媒体表面を改質するための無
機質粉体ならびにボンド磁石の研磨屑などの封孔物を叩
いて固める効果を担い、上記植物性媒体はその油脂分を
効果的に放出することにより、封孔物の固着力を高める
効果を担う。

【００４３】この発明において、表面平滑化処理後のボ
ンド磁石の空孔率は３％以下にすることが可能で、ボン
ド磁石表面の平滑封孔処理のみならず、磁石の表面酸化
層も除去して活性なＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉の表面を得る
ことができる。

【００４４】この発明において、ビッカース硬度値が８
０以下のＳｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及
びその合金からなる金属片を用いる乾式バレルには、回
転式、振動式、遠心式等の公知のバレルが使用できる。
金属片の形状については球状、塊状あるいは針状（ワイ
ヤー）等の不定形金属が使用できる。金属片の大きさ
は、０．１ｍｍ未満では十分な圧入、被覆に長時間を要
して実用的でなく、また１０ｍｍを越えると表面凹凸が
大きくなり、表面全体に金属を被覆することができない
ため、金属の大きさは０．１ｍｍ〜１０ｍｍが望まし
く、さらに好ましい範囲は０．５ｍｍ〜５ｍｍである。
又、この発明において、乾式バレル内に装入される前記
金属片は同一形状、寸法でもよく、又異形状、異寸法の
ものを混合してもよい。又不定形金属片に金属微粉を混
入してもよい。

【００４５】また、乾式バレル研磨にて磁石表面にビッ
カース硬度値が８０以下の金属を被覆する場合のバレル
内に投入する比率、磁石と金属片の容積比率（磁石／金
属）を３以下に限定したのは、３を越えると金属の圧
入、被覆に時間を要し実用的でなく、またボンド磁石表
面からの磁粉の脱粒が生じるため、３以下とした。また
バレル研磨機内に装入するボンド磁石及び金属片の量は
研磨機内容積の２０％〜９０％が好ましく、２０％未満
では、処理量が少なすぎて実用的でなく、９０％を越え
ると、撹拌が不十分で、十分な研磨ができない問題があ
る。

【００４６】圧入、被覆される金属微片は微粉末又は針
状片でその大きさについては、長径５μｍを越えると、
磁石表面との密着性が良くなく、電気めっき時に密着不
良、剥離等が生じるため長径５μｍ以下とした。好まし
い範囲は長径２μｍ以下である。

【００４７】この発明において、金属微片の圧入、被覆
に関し、金属微片はボンド磁石表面の樹脂面及び封孔部
と磁粉面においては、柔らかい樹脂面及び封孔部には圧
入、被覆され、磁粉面には被覆される。樹脂面及び封孔
部に圧入される量は表面ほど多く、樹脂層内部に漸次的
に含有量が減少している。樹脂面及び封孔部の金属の圧
入層の厚さを０．１μｍ以上２μｍ以下に限定したの
は、０．１μｍ未満では充分な導電性が得られず、２μ
ｍを越えると性能上の問題はないが作業に時間を要し、
実用的でない。また、ボンド磁石表面の磁粉面の金属の
被覆層の厚さを１．０μｍ以下に限定したのは、磁粉面
表面と金属微片の反応は一種のメカノケミカル的反応で
あり、１．０μｍを越えると密着性が劣るためである。

【００４８】金属片を用いる乾式法バレル研磨の場合の
回転数は、回転バレルの場合は回転数２０〜５０ｒｐ
ｍ、遠心バレルの場合は回転数７０〜２００ｒｐｍ、ま
た振動バレル研磨法の場合は振動数６０Ｈｚ、振動振幅
３〜５０ｍｍが好ましい。

【００４９】この発明において、電気めっき方法には、
Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｚｎ，Ｃｒ，Ａｇ，Ａｕ，Ｐ
ｂ，Ｐｔ等から選ばれた少なくとも１種の金属またはそ
れらの合金にＢ，Ｓ，Ｐが含有されるめっき法が好まし
く、特にＣｕ、Ｎｉめっきが好ましい。めっき厚は５０
μｍ以下、好ましくは１０〜３０μｍである。この発明
では前述の樹脂面及び封孔部に金属微粉の圧入、被覆が
有効な作用をするため一般的なめっきが可能であり、優
れた密着性、耐食性が得られる。

【００５０】Ｃｕ、Ｎｉめっき浴のめっき方法としては
洗浄→電気めっき→洗浄→乾燥の工程で行うのがよく、
乾燥は７０℃以上の処理が好ましい。

【００５１】めっき浴槽にはボンド磁石の形状に応じ
て、種々の浴槽を使用することができ、リング形状のボ
ンド磁石の場合、ひっかけめっき処理、バレルめっき処
理が好ましい。

【００５２】

【実施例】実施例１ 超急冷法で作製したＮｄ１２ａｔ％、Ｆｅ７７ａｔ％、
Ｂ６ａｔ％、Ｃｏ５ａｔ％の組成からなる平均粒径１５
０μｍの合金粉末にエポキシ樹脂２ｗｔ％を加えて混練
し、７ｔｏｎ／ｃｍ²の圧力で圧縮成型した後、１７０
℃で１時間キュアーし、外径３４ｍｍ×内径３１ｍｍ×
高さ８ｍｍのリング状ボンド磁石を作製した。得られた
ボンド磁石の特性はＢｒ６．７ｋＧ、ｉＨｃ９．１ｋＯ
ｅ、（ＢＨ）ｍａｘ９．１ＭＧＯｅであった。

【００５３】得られた磁石１００ケ（２００ｇ）を２０
ｌの容積の振動バレルに平均直径３ｍｍのＡｌ₂Ｏ₃系球
状バレル石とともに投入後、粒径１μｍ程度のＡｌ₂Ｏ₃
粉体によって表面を改質された直径１ｍｍ程度のクルミ
の実からなる植物性媒体をバレル容積の５０％投入して
１２０分間振幅２０ｍｍにて乾式法で表面研磨をし、封
孔するとともに平滑処理した。

【００５４】ついでボンド磁石を振動バレルにて入れ、
直径１ｍｍ長さ１ｍｍの短円柱状のＳｎ，Ｚｎ，Ｐｂ片
を用い、乾式バレル研磨処理を行い、金属微片による導
電被覆層を形成した。金属微片の樹脂面、封孔部での圧
入深さ、磁粉面での被覆厚さを表１に示す。

【００５５】なおバレル研磨の処理条件は、容積３．５
ｌの振動バレルに、５０ケのボンド磁石（見かけ容積
０．１５ｌ、重量１００ｇ）と前記寸法の金属片（見か
け容積２ｌ、重量１０ｋｇ）を装入し、振幅２０ｍｍに
て２時間の処理を行った。

【００５６】その後洗浄を行い、ひっかけめっき方式で
電気Ｎｉめっきを行い、その後Ｎｉめっきを行った。め
っき後の膜厚は内径側２１μｍ、外径側２２μｍであっ
た。得られたリング状ボンド磁石を８０℃、相対湿度９
０％、１０００時間にて環境試験（耐湿試験）を行っ
た。その結果及び膜厚寸法精度を表２〜表４に示す。

【００５７】なお、電気Ｃｕめっきの条件は、電流密度
２．５Ａ／ｄｍ²、めっき時間５分、ｐＨ１０、浴温４
０℃であり、めっき液組成は銅２０ｇ／ｌ、遊離シアン
１０ｇ／ｌであった。

【００５８】なお、電気Ｎｉめっきの条件は、電流密度
２Ａ／ｄｍ²、めっき時間６０分、ｐＨ４．２、浴温５
５℃であり、めっき液組成は硫酸ニッケル２４５ｇ／
ｌ、塩化ニッケル４５ｇ／ｌ、炭酸ニッケル適量（ｐＨ
調整）、ほう酸３２ｇ／ｌであった。

【００５９】比較例１ 実施例１と同様方法で得たリング状ボンド磁石を洗浄
後、実施例１と同様の封孔、表面平滑化処理を行って洗
浄後、無電解銅めっきを行った。めっき厚は５μｍであ
った。無電解銅めっき後、実施例１と同一の条件でＣｕ
めっき、Ｎｉめっきを行った。得られたリング状ボンド
磁石を実施例１と同一条件の環境試験（耐湿試験）を行
った。その結果および膜厚寸法精度（耐湿試験）を行っ
た。その結果を表２〜表４に示す。

【００６０】なお、無電解銅めっきの条件は、めっき時
間２０分、ｐＨ１１．５、浴温２０℃であり、めっき液
組成は硫酸銅２９ｇ／ｌ、炭酸ナトリウム２５ｇ／ｌ、
酒石酸塩１４０ｇ／ｌ、水酸化ナトリウム４０ｇ／ｌ、
３７％ホルムアルデヒド１５０ｍｌであった。

【００６１】比較例２ 実施例１と同様方法で得たリング状ボンド磁石を洗浄
後、下記条件にてフェノール樹脂とＮｉ粉を混合して塗
布して１０μｍの導電樹脂被膜を形成し、振動バレルに
前記磁石と５ｍｍのスチールボールをバレル容積の６０
％装入し振幅２０ｍｍにて６０分間バレル研磨にて平滑
研磨した。

【００６２】その後、実施例１と同一の条件でＣｕめっ
き、Ｎｉめっきを行った。得られたリング状ボンド磁石
を実施例１と同一の条件の環境試験（耐湿試験）を行っ
た。その結果および膜厚寸法精度（耐湿試験）を行っ
た。その結果を表２〜表４に示す。

【００６３】なお導電被膜処理条件は処理時間３０分、
処理液組成はフェノール樹脂 ５ｗｔ％、Ｎｉ粉（粒径０．７μｍ以下） ５ｗｔ％、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）９０ｗｔ％で
あった。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【表２】

【００６６】

【表３】

【００６７】

【表４】

【００６８】表４より比較例１は約８００時間後に点錆
が認められ、比較例２においても６００時間後、点錆が
認められた。それに比べ実施例１は１０００時間後にお
いても３０倍の顕微鏡で認められる点錆はなかった。

【００６９】

【発明の効果】この発明は、ポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系
ボンド磁石を研磨材と植物性媒体の混合物、または研磨
材と無機質粉体にて改質された植物性媒体の混合物をメ
ディアとして用いて乾式法にてバレル研磨を施すことに
より、研磨粉並びに無機質粉体及び研磨屑をＲ−Ｆｅ−
Ｂ系ボンド磁石の空孔部に植物性媒体の油脂分で固着、
封孔することができ、同時に表面平滑化処理が可能で改
質でき、さらに、このＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石を所要
寸法の球状、塊状あるいは針状（ワイヤー）等の不定形
金属、すなわちビッカース硬度値が８０以下のＳｎ、Ｚ
ｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及びその合金を用い
てバレル装置にて乾式法にてバレル研磨を施し、磨砕さ
れた金属微片をボンド磁石表面の樹脂面および封孔部に
圧入被覆し、また磁粉面に金属微片を被覆することによ
り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石表面に前記金属被覆膜を
形成して極めて高い導電性を付与することができ、その
ため緻密でピンホールのない電解めっき層を形成可能と
なり、極めて優れた耐食性を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石を得ることができる。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の表面に形成
   される空孔部が、研磨材の粉末とボンド磁石の研磨屑、
   さらに無機質粉体を植物性媒体の油脂分にて固着、封孔
   された後、表面を構成する樹脂面および前記封孔部にビ
   ッカース硬度値が８０以下の金属微片が圧入かつ被覆さ
   れ、また表面を構成する磁粉面にビッカース硬度値が８
   ０以下の金属微片が被覆されて形成された当該磁石表面
   の金属被覆層とこの金属被覆層を介して形成された電解
   めっき層とを有する高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁
   石。
2. 【請求項２】 請求項１において、樹脂面および封孔部
   に形成された金属微片の圧入被覆層の厚さが０．１μｍ
   以上２μｍ以下である高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁
   石。
3. 【請求項３】 請求項１において、磁粉面上に被覆され
   る金属被覆層の厚さが１．０μｍ以下である高耐食性Ｒ
   −Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石。
4. 【請求項４】 請求項１において、金属微片が、Ｓｎ、
   Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及びその合金であ
   る高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石。
5. 【請求項５】 植物性媒体または無機質粉体にて表面を
   改質された植物性媒体と研磨材との混合物をメディアと
   して、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石を乾式法にてバレル研
   磨し、前記研磨材の粉末とボンド磁石の研磨屑、さらに
   前記無機質粉体をＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の空孔部に
   植物性媒体の油脂分で固着、封孔するとともに表面平滑
   化して改質した後、当該ボンド磁石をビッカース硬度値
   が８０以下の不定形金属片を用いてバレル装置にて乾式
   法にてバレル研磨し、磨砕された金属微片を前記磁石の
   樹脂面および前記封孔部に圧入かつ被覆し、また磁粉面
   に金属微片を被覆することによりＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
   磁石表面に導電性を付与した後、電解めっき層を形成す
   る高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
6. 【請求項６】 請求項５において、研磨材は無機質粉体
   を焼き固めた研磨石あるいは金属ボールである高耐食性
   Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
7. 【請求項７】 請求項５において、植物性媒体は植物性
   の皮屑、おが屑、果実の殻、トウモロコシの芯である高
   耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項５において、不定形金属片が大き
   さ０．１ｍｍ〜１０ｍｍの球状、塊状あるいは針状であ
   る高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項５において、バレル研磨にて磨砕
   された金属微片の大きさは長径５μｍ以下である高耐食
   性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項５において、回転、振動、遠心
    バレル内に磁石と金属片の容積比率（磁石／金属）を３
    以下に装入してバレル研磨を行う高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
    系ボンド磁石の製造方法。
11. 【請求項１１】 請求項５において、不定形金属片が、
    Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ａｕ、Ａｇ及びその合
    金である高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方
    法。