JPH0927433A

JPH0927433A - 高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法

Info

Publication number: JPH0927433A
Application number: JP7199131A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Watanabe; 寛渡辺; Harumi Hiraoka; 春美平岡; Michio Yamashita; 三千雄山下
Original assignee: M ENG KK; Sumitomo Special Metals Co Ltd
Current assignee: M ENG KK; Hitachi Metals Ltd
Priority date: 1995-07-11
Filing date: 1995-07-11
Publication date: 1997-01-28

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】長時間の塩水噴霧試験でも発錆しない極めて
高い耐食性を有し、磁石表面に高密着強度で耐食性被膜
を設けるのに最適な工業的工程からなる高耐食性Ｒ−Ｆ
ｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法の提供。【解決手段】ポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に
ガラス等の無機物または樹脂を含浸処理して磁石の空孔
にガラス等の無機物または樹脂を含浸させ、さらにバレ
ル研磨処理、サンドブラスト処理などの表面研磨処理を
施すことによって、含浸効果を保持したまま表面を改質
でき、さらに、含浸処理、表面研磨処理を完了した磁石
にアルカリ性水による洗浄、あるいはアルカリ性領域の
りん酸塩水溶液によりバレル研摩することにより、磁石
表面へのめっき層の密着強度が著しく向上し、アルカリ
性のＮｉＰまたはＮｉＳｎストライクめっき層を下地層
として形成することにより、電気Ｎｉめっきなどのめっ
き浴を限定しないで効率的に高耐食性のめっき処理を可
能とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、リング状や円板
状の種々形状からなるゴム磁石あるいはプラスチック磁
石と称されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の耐食性を改善
する製造方法に係り、特にガラス等の無機物または樹脂
を含浸させて表面研磨して空孔をなくした後、アルカリ
性水溶液で洗浄し、アルカリ性浴によるＮｉＰまたはＮ
ｉＳｎストライクめっき層を下地層として形成すること
により、電気Ｎｉめっきなどのめっき浴を限定しないで
効率的に高耐食性のめっき処理を可能とし、耐食性、密
着性を著しく改善しためっき層を量産性よく形成できる
高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】今日、ゴム磁石あるいはプラスチック磁
石とよばれるボンド磁石には、従来の等方性ボンド磁石
から異方性ボンド磁石へ、また、フェライト系ボンド磁
石からより高磁力の希土類系ボンド磁石へと高性能化が
進み、さらに、Ｓｍ−Ｃｏ系磁性材から焼結磁石では最
大エネルギー積が５０ＭＧＯｅ以上の高磁気特性を発揮
するＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材を用いるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石へと高性能化が図られてきた。

【０００３】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石は、所要のＲ−
Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し鋳造後に粉砕する溶解・粉砕法
（特開昭６０−６３３０４号、特開昭６０−１１９０７
０１号）、Ｃａ還元にて直接粉末を得る直接還元拡散法
（特開昭５９−２１９４０４号、特開昭６０−７７９４
３号）、所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解しジェットキ
ャスターでリボン箔を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合
金法、及び所要のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を水素中で加熱し
て分解並びに再結晶させる方法（ＨＤＤＲ法）（特開平
１−１３２１０６号、特開平２−４９０１号）等の各種
製法で得られた種々のＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材粉を用いる
が、いずれもその組成に極めて酸化しやすい成分相及び
Ｆｅを多量にを含むため錆びやすい問題があり、表面に
種々組成からなる樹脂層を電着塗装、スプレー法、浸漬
法、含浸法等で被着していた（例えば、特開平１−１６
６５１９号、特開平１−２４５５０４号）。

【０００４】これまでの樹脂塗装方法、例えば、スプレ
ー法ではリング状の場合、塗料のロスが大きく、裏、表
を反転する必要があるため工数が多く、また、膜厚の均
一性も劣る問題があった。また、電着法では、膜厚は均
一であるが、電極部の補修、すなわち、タッチアップが
必要であり、１つずつ電極に取り付けるため、工数がか
かり小物には不適な問題がある。浸漬法では、一定の膜
厚の均一な塗膜を得るのはタレなどがあり困難で、また
ポーラスなボンド磁石では空孔が充分に埋まらず、乾燥
時に膨れたり、製品同志のくっつき等の問題がある。

【０００５】量産性を考慮すると、焼結型のＲ−Ｆｅ−
Ｂ系磁石で行われている金属めっきを施すこと（特開昭
６０−５４４０６号、特開昭６２−１２０００３号）が
考えられるが、ポーラスなボンド磁石に金属めっきを施
すと、浸漬した表面洗浄剤やめっき液が磁石に侵入、残
留して溶損もしくは発錆により金属めっきが不可能であ
った。

【０００６】そこで、ポーラスなボンド磁石に侵入、残
留しても無害なめっき液を選定するか（特開平４−２７
６０９２号）、下地コーティングを施した後にめっきす
る（特開平３−１１７１４号、特開平４−２７６０９５
号）方法が提案されている。しかし、めっき液のｐＨ調
整や完全な無害化は困難であり、かつ成膜効率のよいめ
っき浴でない。また、下地の厚みのばらつきがめっき層
の不安定要素となり、十分な厚みの下地コーティングを
施すのであれば、表面のめっき層が不要になるという矛
盾がある。また、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に成膜効率
のよいＮｉめっきを施す方法として、特定組成のめっき
浴が提案（特開平４−９９１９２号）されているが、や
はりボンド磁石に侵入、残留して発錆させる恐れがあ
る。

【０００７】一方、構造材などにおいて、Ｎｉめっき前
に通常行われているＣｕストライクめっきは強アルカリ
か強酸性のいずれかであり、Ｒ−Ｆｅ−Ｂボンド磁石へ
の処理としては不適である。また、電子部品に耐摩耗性
を付与するため、あるいは自動車用鋼板等の防錆処理と
して、高温酸性浴タイプのＮｉＰめっき処理が実用化さ
れているが、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に適用するに
は、磁石内部を腐食させるため不適である。

【０００８】さらに、プラスチック用にアルカリ性浴タ
イプのＮｉＰめっき処理も実用化されているが、これを
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に適用してもこれ単独ですぐ
れた耐食性が得られないものであった。そこで、Ｒ−Ｆ
ｅ−Ｂ系ボンド磁石に上記のＮｉＰめっきを下地めっき
として、さらに電気Ｎｉめっきを形成してみたところ、
得られたものは全くめっき層としての機能を有せず、直
ちに発錆してしまった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】発明者の一人は先に、
めっき液や洗浄液等がポーラスなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
磁石に侵入、残留するのを防止して、効率よくＮｉめっ
き等のめっき層が形成でき、耐食性及び耐熱性を大幅に
向上させ得る構成からなるＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石並
びにその製造方法として、当該磁石にガラス等の無機物
または樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等の無機
物または樹脂を含浸させ、さらにバレル研磨処理、サン
ドブラスト処理などの表面研磨処理を施す方法を提案
（特願平５−号）した。

【００１０】上記の含浸並びに表面研磨処理により、含
浸効果を保持したままＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の表面
を改質でき、その後、直接、電解めっきあるいは無電解
めっきしても、有害なめっき液、洗浄液の侵入が防止さ
れているため、内部より発錆してめっき層が剥離するな
どの耐食性の劣化がなく、ワット浴などの一般的でかつ
成膜効率の良いめっき浴が使用でき、また、得られたボ
ンド磁石の耐食性がすぐれている。

【００１１】一方、今日Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の用
途が拡大されており、例えば、自動車に搭載する各種電
子機器に用いる用途では、高湿潤雰囲気試験で発錆しな
い耐食性からさらに長時間の塩水噴霧試験でも発錆しな
い極めて高い耐食性が要求される。かかる耐食性を考慮
した場合、上記の含浸並びに表面研磨処理により改質さ
れてめっき液等の浸入が防止された磁石表面に設ける耐
食性の被膜は、さらに密着性よく均一に設けられる必要
がある。

【００１２】この発明は、長時間の塩水噴霧試験でも発
錆しない極めて高い耐食性を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石の提供を目的とし、高い耐食性を実現するための
種々の耐食性被膜が極めて高い密着強度で均一にＲ−Ｆ
ｅ−Ｂ系ボンド磁石表面に形成できる製造方法の提供を
目的としている。また、めっき液や洗浄液等がポーラス
なＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石に侵入、残留するのを防止
した磁石表面に高密着強度で耐食性被膜を設けるのに最
適な工業的工程からなる高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
磁石の製造方法の提供を目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】発明者らは、先にポーラ
スなＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石にガラス等の無機物また
は樹脂を含浸処理して磁石の空孔にガラス等の無機物ま
たは樹脂を含浸させ、さらにバレル研磨処理、サンドブ
ラスト処理などの表面研磨処理を施すことによって、含
浸効果を保持したまま表面を改質できることを知見した
が、さらに、長時間の塩水噴霧試験でも発錆しない極め
て高い耐食性を有するＲ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石を目的
に、上記の磁石改質表面に直接設けた電解めっきあるい
は無電解めっきによるめっき層の密着強度の向上を目的
に種々検討したところ、上記の改質後に、アルカリ性浴
によるストライクめっきを形成することにより、さら
に、その上にめっき浴を限定しないで効率的に高耐食性
のめっき処理ができることを知見した。

【００１４】発明者らは、上記の改質後に施すアルカリ
性浴によるストライクめっきについて種々検討した結
果、ＮｉＰまたはＮｉＳｎストライクめっきが、中性ま
たは弱アルカリであり、かつ、りん酸錆塩めっき型であ
るので短時間で均一なストライクめっきが形状の制限な
く可能であり、薄膜の電導層が形成されかつ磁石の穴う
め効果もあることを知見し、さらに、前述のごとく、従
来めっきができなかった、このストライクめっき後の電
気Ｎｉめっきが可能になり、効率よく成膜できるだけで
なく、Ｎｉめっき層の密着強度が大幅に向上して耐食性
が一段と向上し、目的の高耐食性が達成できることを知
見し、この発明を完成した。

【００１５】また発明者らは、ストライクめっき層の密
着強度を向上させることができる下地処理方法について
種々検討した結果、含浸処理、表面研磨処理を完了した
磁石にアルカリ性水による洗浄、あるいはアルカリ性領
域のりん酸塩水溶液によりバレル研摩することにより、
磁石表面への耐食性被膜の密着強度が著しく向上するこ
とを知見した。

【００１６】さらに、詳述すると、めっきなどの耐食性
被膜の密着強度を向上させる下地処理方法には、化成処
理として一般的なｐＨ２〜３のりん酸亜鉛被膜処理が提
案（特開昭６４−１３７０７号、特開昭６４−１４９０
２号）されているが、かかる処理では目的とするすぐれ
た耐食性が得られないことから、さらに検討したとこ
ろ、りん酸ナトリウムの水溶液等あるいはこれに必要に
応じて少量のりん酸亜鉛を添加したｐＨ８以上のアルカ
リ性のりん酸塩水溶液によりバレル研摩することによ
り、磁石素材表面の洗浄度が一段と向上し、又必要に応
じて防錆効果も与えられことから、めっき被膜の下地と
しての機能が十分に具備されて磁石表面へのめっき層の
密着強度が著しく向上することを知見し、この発明を完
成した。

【００１７】すなわち、この発明は、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボ
ンド磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸さ
せた後、表面研摩処理を施して磁石表面を改質し、その
後、磁石素材表面に直接ＮｉＰまたはＮｉＳｎストライ
クめっき層を形成し、さらにめっき層を形成する高耐食
性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法である。

【００１８】また、この発明は、上記の製造方法におい
て、ストライクめっき前にｐＨ７．５以上のアルカリ性
水での洗浄及び／又はｐＨ７．５以上のアルカリ性水で
のバレル研磨を行う製造方法、または、ストライクめっ
き前にアルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル研磨を
行う高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法を併
せて提案する。

【００１９】

【発明の実施の形態】この発明において、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系ボンド磁石は、等方性、異方性ボンド磁石いずれも対
象とし、例えば、圧縮成型の場合は、所要組成、性状の
磁性粉末に熱硬化性樹脂、カップリング剤、滑剤等を添
加混練したのち、圧縮成型し加熱して樹脂を硬化して得
られ、射出成型、押し出し成型、圧延成型の場合は、磁
性粉末に熱可塑性樹脂、カップリング剤、滑剤等を添加
混練したのち、射出成型、押し出し成型、圧延成型のい
ずれかの方法にて成型して得られる。

【００２０】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系磁性材粉には、所要のＲ−
Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し鋳造後に粉砕する溶解・粉砕
法、Ｃａ還元にて直接粉末を得る直接還元拡散法、所要
のＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解しジェットキャスターでリ
ボン箔を得てこれを粉砕・焼鈍する急冷合金法、所要の
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金を溶解し、これをガスアトマイズで
粉末化して熱処理するガスアトマイズ法、所要原料金属
を粉末化したのち、メカニカルアロイングにて微粉末化
して熱処理するメカニカルアロイ法及び所要のＲ−Ｆｅ
−Ｂ系合金を水素中で加熱して分解並びに再結晶させる
方法（ＨＤＤＲ法）等の各種製法で得た等方性、異方性
粉末が利用できる。

【００２１】また、バインダーには、射出成形では、６
ＰＡ、１２ＰＡ、ＰＰＳ、ＰＢＴ、ＥＶＡ等、押出成
形、カレンダーロール、圧延成形には、ＰＶＣ、ＮＢ
Ｒ、ＣＰＥ、ＮＲ、ハイパロン等、圧縮成形には、エポ
キシ樹脂、ＤＡＰ、フェノール樹脂等が利用でき、必要
に応じて、公知の金属バインダーを用いることができ
る。さらに、助材には成形を容易にする滑剤や樹脂と無
機フィラーの結合剤、シラン系、チタン系等のカップリ
ング剤などを用いることができる。

【００２２】この発明において、含浸処理するガラス等
の無機物または樹脂には、無機系の水ガラス、各種低融
点金属や金属粉、顔料、あるいは有機系のメタアクリル
酸エステル、エポキシ樹脂、ポリアセチレン、ポリアニ
リンなどの単独あるいは複合した樹脂が利用できる。

【００２３】この発明において、含浸処理方法として
は、ガラス等の無機物または樹脂に浸漬するか、密閉容
器内にボンド磁石を収納して、容器内を真空化してから
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、続いて加圧す
る、容器内を真空化してからガラス等の無機物または樹
脂に浸漬し、再度真空化し、次いで加圧する、容器内の
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、真空化し、次い
で加圧する、容器内のガラス等の無機物または樹脂に浸
漬し、真空化する、容器内を真空化してからガラス等の
無機物または樹脂に浸漬する、容器内を真空化してから
ガラス等の無機物または樹脂に浸漬し、再度真空化す
る、などの手順で含浸することができる。

【００２４】また、含浸処理後の乾燥、硬化処理には、
大気中、不活性ガス中または真空中で加熱する手段を用
いることができる。さらに、大きな空孔に含浸処理を施
すために、金属粉や顔料などをバレル中に挿入してボン
ド磁石表面にこすりつけたり、たたき込むなどの手段を
用いることによって、より効果的に含浸処理を施すこと
が可能である。

【００２５】この発明において、含浸処理後に磁石表面
に形成されたガラス等の無機物または樹脂層の除去方法
としては、バレル研磨処理、サンドブラスト処理などの
表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持した
まま表面を改質できる。バレル研磨としては、一般の回
転バレル、遠心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採
用することができ、また、サンドブラストとしては、一
般に用いられる研磨砂による表面研磨法、及び被研磨物
を容器内に投入し、その容器を回転させながらサンドブ
ラストを行う回転サンドブラスト法等を採用することが
できる。上記の表面研磨処理によって、含浸処理により
磁石表面に形成されたガラスなどの無機物または樹脂層
を除去するのみならず、磁石の表面酸化層も除去して、
活性なＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉の表面を得ることができ、
後述するアルカリ性溶液の洗浄、バレル研磨を経て、極
めて密着性にすぐれためっき層の形成が可能となる。

【００２６】この発明の特徴であるアルカリ性水での洗
浄（バレル研磨）及び／またはアルカリ性のりん酸塩水
溶液内でのバレル研磨は、上述の表面研磨処理によって
得られた活性なＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉の表面を、被覆す
るめっき層にとってより密着強度を高めることが可能な
最適化表面となすことができると考えられ、アルカリ性
水または水溶液のすぐれた洗浄効果並びバレル研磨の併
用により、被覆するめっき層の密着強度を疎外する不純
物の完全な除去並びに改質効果が発揮されると考えられ
る。

【００２７】この発明において、アルカリ性水での洗浄
並びにバレル研磨は、水のｐＨを７．５以上に調整して
行うもので、ｐＨの調整は公知の方法や薬剤の使用が可
能であり、洗浄はアルカリ性水に磁石を浸漬して、水流
による撹拌、バブリング、振動付加する他、水噴射な
ど、磁石形状寸法に応じて適宜選定すると良い。また、
アルカリ性水でのバレル研磨は、一般の回転バレル、遠
心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採用することが
でき、特に限定しないが、媒体に粒径０．５〜３ｍｍ、
好ましくは２〜３ｍｍ程度のセラミック球や金属球を用
いて、該球とアルカリ性水及び磁石との相対的な移動運
動が行われる条件で行うことが好ましく、水温は、１０
〜３０℃が好ましい。

【００２８】この発明において、アルカリ性のりん酸塩
水溶液は、ｐＨが８以上のりん酸塩水溶液であることが
望ましく、りん酸塩としては、りん酸ナトリウム、ピロ
りん酸カリなどがあり、水溶液濃度としては、りん酸塩
を０．５〜１０ｗｔ％含有してｐＨが８以上となるよう
調整されたものが好ましく、ｐＨの調整は公知の方法や
薬剤の使用が可能である。好ましいｐＨは８〜１０であ
る。また、水溶液に防錆効果を磁石に与えることを目的
にりん酸亜鉛、酸化亜鉛、鉛丹、りん酸マンガン等を適
量添加することも可能であるが、この場合も水溶液のｐ
Ｈを８以上に保持する必要がある。

【００２９】また、ｐＨが８以上のアルカリ性のりん酸
塩水溶液を用いたバレル研磨は、一般の回転バレル、遠
心回転研磨法、振動バレル研磨法などを採用することが
でき、特に限定しないが、媒体に粒径０．５〜３ｍｍ、
好ましくは２〜３ｍｍ程度のセラミック球や金属球を用
いて、該球とアルカリ性水及び磁石との相対的な移動運
動が行われる条件で行うことが好ましく、水溶液温度
は、１０〜４０℃が好ましい。

【００３０】この発明において、ストライクめっき方法
としては、ピロりん酸錯塩を用いるアルカリ性浴のＮｉ
ＰまたはＮｉＳｎのストライクめっきに限定するのは、
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系磁石にとって発錆等の問題が全くないた
めであり、先に改質処理を施すため、後述の電気Ｎｉめ
っきとの２重めっきが可能になる。また、めっき浴のｐ
Ｈは、７〜１２、好ましくは８〜９であり、ストライク
めっき厚みは、０．１〜３μｍ、好ましくは０．５〜１
μｍである。

【００３１】ＮｉＰめっき浴とめっき方法としては、浴
組成に塩化物を硫酸基に代えて使用し、成分が硫酸Ｎ
ｉ、ピロりん酸ナトリウム、次亜りん酸ナトリウムによ
るｐＨ１０〜１１のアンモニアアルカリ浴が好ましく、
温度は６０℃、装置にはバレルを用い、カーボンを陽極
として電流が０．２Ａ／ｄｍ²、めっき時間が３分間程
度の条件が好ましい。ＮｉＳｎめっき浴とめっき方法と
しては、成分が浴組成に塩化物を硫酸基に代えて使用
し、成分がＮｉＳＯ₄、ＳｎＳＯ₄、ピロりん酸カリ（Ｋ
₄Ｐ₂Ｏ₇）、グリシンによるｐＨ８．５のアルカリ浴が
好ましく、温度は４０〜５０℃、装置にはバレルを用
い、カーボンを陽極として電流が０．２Ａ／ｄｍ²、め
っき時間が３分間程度の条件が好ましい。

【００３２】この発明において、電解めっき方法として
は、Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｃｏ，Ｚｎ等から選ばれた少な
くとも１種の卑金属またはそれらの合金等、Ｂ，Ｓ，Ｐ
が含有するめっき法が好ましい。めっき厚みは５０μｍ
以下、好ましくは２０μｍ以下である。めっき浴はＰＨ
５．６以上が好ましい。この発明では、前述の含浸処理
が有効に作用するため、一般的なワット浴によってもめ
っき可能であり、十分な密着性、耐食性及び耐熱性のあ
るめっき層が得られる。

【００３３】特に、Ｎｉめっき浴とめっき方法として
は、洗浄→電気Ｎｉめっき→洗浄→乾燥の工程で行うと
よい、Ｎｉめっき浴液に塩素イオンを含まない浴が好ま
しく、硫酸ニッケル、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウ
ム、クエン酸アンモニウムまたはクエン酸ナトリウム、
硫酸コバルト、ホウ酸の６成分を、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボン
ド磁石の組成に応じて適宜選定し、Ａ成分（硫酸ニッケ
ル）を１００ｇ／ｌ〜１５０ｇ／ｌとして、Ｂ成分（硫
酸ナトリウム）、Ｃ成分（硫酸マグネシウム）との間
に、Ａ＝Ｂ＋Ｃという関係が望ましく、Ｂ、Ｃの組成比
はＢ：Ｃ＝３〜７：７〜３が好ましい。クエン酸アンモ
ニウムまたはクエン酸ナトリウムは、Ａ成分の２０〜２
５％が最適な組成範囲であり、この成分の１／３〜１／
２量のホウ酸が建浴時の添加量として適当である。硫酸
コバルトはＡ成分の１〜５％量が密着性を向上させる効
果を示すため好ましい。ｐＨ調整はアンモニア水にて行
い、ｐＨ５．４〜６．８範囲で使用し、常温状態の浴温
が好ましい。

【００３４】Ｎｉめっきは上述しためっき浴を用い、陽
極板にＳあるいはさらにＣｏ成分を含有するニッケルチ
ップを使用して所要電流を流し、電気Ｎｉめっきする
が、上記Ｎｉめっき浴のＮｉ成分の溶け出しを安定させ
るためは、電極にＳを含有するエスランドニッケルチッ
プを使用することが望ましい。めっき浴槽には、ボンド
磁石形状に応じて種々浴槽を使用することができ、特に
リング状ボンド磁石の場合、バレルめっき処理が望まし
い。

【００３５】この発明において、無電解めっき方法とし
ては、Ｎｉ，Ｃｕ，Ｓｎ，Ｃｏ等にＢ，Ｓ，Ｐが含有す
るめっき浴が好ましく、めっき厚みは１０μｍ以下が好
ましく、めっき浴はｐＨ５〜９が好ましい。

【００３６】

【実施例】

実施例１超急冷法で作製したＮｄ１２ａｔ％、Ｆｅ７７ａｔ％、
Ｂ６ａｔ％、Ｃｏ５ａｔ％の組成からなる平均粒径１５
０μｍの合金粉末に、エポキシ樹脂２ｗｔ％を加えて混
練し、７ｔｏｎ／ｃｍ²の圧力で圧縮成形した後、１５
０℃で１時間の熱処理し、外径１８×内径１６×高さ５
ｍｍのリング状ボンド磁石を作製した。得られたボンド
磁石の磁石の特性は、Ｂｒ６．９ｋＧ、（ＢＨ）ｍａｘ
９．８ＭＧＯｅ、ｉＨｃ９．５ｋＯｅ、Ｈｋ３．５ｋＯ
ｅ、密度５．９５ｇ／ｃｍ³であった。

【００３７】得られた磁石１００ケを２０ｗｔ％のケイ
酸ナトリウム水溶液に５分間浸漬後、１５０℃で１時間
加熱し、水分除去、硬化処理を行った。その後、５リッ
トルの容積の回転バレルに一辺が３ｍｍ程度のテトラ状
粒体をバレル容積の６０％投入し、磁石を回転数２０ｒ
ｐｍにて１０分間表面研磨を実施した。表面研磨後の磁
石の空孔率を、油の中に磁石を入れ、真空（０．１Ｔｏ
ｒｒ以下）に１０分間吸引による重量変化より算定した
含油量により測定したところ、０．５％であった。

【００３８】その後、２〜３分、水洗し、ＮｉＰストラ
イクめっきを行った。ＮｉＰめっきの膜厚は内径側０．
７μｍ、外径側１．２μｍであった。なお、ＮｉＰめっ
き条件は次の通りである。ストライク電流０．２Ａ／ｄｍ²、めっき時間３分めっき液組成硫酸Ｎｉ２５ｇ／ｌ、ピロりん酸ナト
リウム５０ｇ／ｌ、次亜りん酸ナトリウム２５ｇ／ｌ、浴温６０℃、ｐＨ１０

【００３９】次いで、２〜３分、ｐＨ７．８の水で水洗
後に、バレル中で電気Ｎｉめっきを行った。Ｎｉめっき
の膜厚は内径側２０μｍ、外径側３０μｍであった。な
お、電気Ｎｉめっき条件は次の通りである。極電流密度１Ａ／ｄｍ²、めっき時間３．５時間めっき液組成硫酸Ｎｉ１００ｇ／ｌ、硫酸ナトリウ
ム５０ｇ／ｌ、硫酸Ｍｇ５０ｇ／ｌ、クエン酸アンモニ
ウム２５ｇ／ｌ、硫酸Ｃｏ２ｇ／ｌ、ホウ酸１２ｇ／
ｌ、浴温２０℃、ｐＨ６．６

【００４０】比較例１実施例１と同様方法で得たリング状ボンド磁石に、直
接、実施例１と同様のＮｉＰストライクめっき処理、電
気Ｎｉめっき処理を行った。

【００４１】比較例２実施例１と同様方法で得たリング状ボンド磁石を樹脂浸
漬処理、研磨処理を行ったのち、ＮｉＰストライクめっ
きを行うことなく、直接、実施例１と同様の電気Ｎｉめ
っき処理を行った。実施例１及び比較例１で得られたリ
ング状ボンド磁石を、温度３５℃、濃度５％の塩水を噴
霧する環境に放置して４８時間後、７２時間後にボンド
磁石表面の発錆状況を観察した。比較例１の場合は２４
時間後には全て赤錆が発生しており、全くめっき層の機
能を有していなかった。比較例２の場合は４８時間後に
表面に直径１ｍｍ以上の点錆のある磁石が見られた。実
施例１の場合は４８時間後では３０倍の顕微鏡で確認で
きる直径１ｍｍ未満の点錆のある磁石が見られた。

【００４２】実施例２実施例１と同一条件で製造したリング状ボンド磁石に、
浸漬処理、硬化処理として、純水に水溶性アクリル樹脂
成分を２０％溶解した液に５分間浸漬後、９０℃で１時
間加熱する処理を行い、実施例１と同じ表面研摩処理を
施して磁石表面を改質した後、２．９リットルの容積の
振動バレルに直径３ｍｍのスチールボールを見かけ容積
１．８リットル入れて、ｐＨ７．８の水とともに磁石
を、１０分間の水バレル研磨した。

【００４３】その後、実施例１と同様のＮｉＰストライ
クめっき、電気Ｎｉめっき処理を行った。得られたリン
グ状ボンド磁石を、比較例２で説明した塩水噴霧試験に
供したところ、４８時間後は発錆は見られず、７２時間
後に表面に直径１ｍｍ以上の点錆のある磁石が見られ
た。

【００４４】実施例３実施例１と同一条件で製造したリング状ボンド磁石に、
実施例１と同様の浸漬処理、硬化処理を施した後、２．
９リットルの容積の振動バレルに直径３ｍｍのアルミナ
セラミックボールを見かけ容積１．８リットル入れて、
５ｗｔ％のりん酸ナトリウム、０．５ｗｔ％りん酸亜鉛
を添加したｐＨ９．０のりん酸塩水溶液とともに磁石
を、１０分間のバレル研磨した。

【００４５】その後、実施例１と同様のＮｉＰストライ
クめっき、電気Ｎｉめっき処理を行った。得られたリン
グ状ボンド磁石を、比較例２で説明した塩水噴霧試験に
供したところ、４８時間後、７２時間後も発錆は見られ
なかった。

【００４６】実施例４１２．５Ｎｄ−１１．５Ｃｏ−６Ｂ−１Ｇａ−６９Ｆｅ
（ａｔ％）なる組成のインゴットをＡｒ中高周波溶解し
た水冷銅鋳型に鋳造することによって得た後、水素吸蔵
粉砕法により３５ｍｅｓｈ以下に粗粉砕した。その後、
水素中８００℃で２時間加熱した後、８００℃に保存し
たまま１０^-6Ｔｏｒｒまで真空処理後、室温まで冷却し
た。この粉末を１５０μｍ以下に整粒した後、エポキシ
樹脂２ｗｔ％を加えて混練し、１０ｋＯｅの磁界中で６
ｔｏｎ／ｃｍ²の圧力で成形した後、１５０℃で１時間
熱処理することにより、１８×１６×５ｍｍの異方性ボ
ンド磁石を作成した。磁石特性は、Ｂｒ８．６ｋＧ、
（ＢＨ）ｍａｘ１７．５ＭＧＯｅ、ｉＨｃ１２．５ｋＯ
ｅ、Ｈｋ５．５ｋＯｅ、密度６．３ｇ／ｃｍ³であっ
た。

【００４７】浸漬処理、硬化処理として、油化シエル製
常温液状の硬化剤入りエポキシ樹脂（商品名エピコー
ト）に浸漬、１０分間、真空含浸後、１５０℃で１時間
硬化処理する処理を行った。その後、実施例１と同様の
回転バレルによる表面研磨を実施した。改質処理後の空
孔率は０．１％であった。

【００４８】改質処理後、２．９リットルの容積の振動
バレルに直径３ｍｍのアルミナセラミックボールを見か
け容積１．８リットル入れて、５ｗｔ％のピロりん酸カ
リ、０．５ｗｔ％りん酸亜鉛を添加した０．４リット
ル、ｐＨ９．５のりん酸塩水溶液とともに磁石を、１０
分間のバレル研磨した。

【００４９】その後、２〜３分、水洗し、ＮｉＳｎスト
ライクめっきを行った。ＮｉＳｎめっきの膜厚は内径側
０．７μｍ、外径側１．２μｍであった。なお、ＮｉＳ
ｎめっき条件は次の通りである。ストライク電流０．２Ａ／ｄｍ²、めっき時間３分めっき液組成硫酸Ｎｉ４８ｇ／ｌ、ＳｎＳＯ₄
３２ｇ／ｌ、ピロりん酸カリ１６０ｇ／ｌ、グリシン
１８ｇ／ｌ、浴温４５℃、ｐＨ８．５

【００５０】その後、実施例１と同様電気Ｎｉめっき処
理を行った。得られたリング状ボンド磁石を、比較例２
で説明した塩水噴霧試験に供したところ、４８時間後、
７２時間後も発錆は見られなかった。

【００５１】

【発明の効果】この発明により、ポーラスなＲ−Ｆｅ−
Ｂ系ボンド磁石にガラス等の無機物または樹脂を含浸処
理して磁石の空孔にガラス等の無機物または樹脂を含浸
させ、さらにバレル研磨処理、サンドブラスト処理など
の表面研磨処理を施すことによって、含浸効果を保持し
たまま表面を改質でき、さらに、含浸処理、表面研磨処
理を完了した磁石にアルカリ性水による洗浄、あるいは
アルカリ性領域のりん酸塩水溶液によりバレル研摩する
ことにより、磁石表面へのめっき層の密着強度が著しく
向上し、アルカリ性のＮｉＰまたはＮｉＳｎストライク
めっき層を下地層として形成することにより、電気Ｎｉ
めっきなどのめっき浴を限定しないで効率的に高耐食性
のめっき処理を可能とし、長時間の塩水噴霧試験で発錆
しない耐食性が得られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ２５Ｄ 5/10 Ｃ２５Ｄ 5/10 Ｈ０１Ｆ 1/053 Ｈ０１Ｆ 1/04 Ｈ 1/08 1/08 Ａ (72)発明者山下三千雄大阪府三島郡島本町江川２丁目15ー17 住友特殊金属株式会社山崎製作所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の空孔にガラ
ス等の無機物または樹脂を含浸させた後、表面研摩処理
を施して磁石表面を改質し、その後、磁石素材表面に直
接、アルカリ性浴によるＮｉＰまたはＮｉＳｎストライ
クめっき層を形成し、さらにめっき層を形成する高耐食
性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
【請求項２】請求項１において、ストライクめっき浴
がｐＨ７〜１２である高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁
石の製造方法。
【請求項３】請求項１において、ストライクめっき前
にｐＨが７．５以上のアルカリ性水での洗浄及び／又は
ｐＨが７．５以上のアルカリ性水でのバレル研磨を行う
高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
【請求項４】請求項１において、ストライクめっき前
にアルカリ性のりん酸塩水溶液内でのバレル研磨を行う
高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の製造方法。
【請求項５】請求項４において、りん酸塩水溶液のｐ
Ｈが８以上である高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド磁石の
製造方法。
【請求項６】請求項１〜５において、改質後の磁石の
空孔率が３％以下である高耐食性Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系ボンド
磁石の製造方法。