JPH11223462A - 乾燥炉 - Google Patents
乾燥炉Info
- Publication number
- JPH11223462A JPH11223462A JP3795998A JP3795998A JPH11223462A JP H11223462 A JPH11223462 A JP H11223462A JP 3795998 A JP3795998 A JP 3795998A JP 3795998 A JP3795998 A JP 3795998A JP H11223462 A JPH11223462 A JP H11223462A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- drying
- furnace
- roller
- drying furnace
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板を固複数箇所の乾燥ポジションに保持
し、設定時間がくると搬送手段により基板を乾燥ポジシ
ョン間を移動させるタクト搬送方式の乾燥炉において、
基板に形成した塗膜の均一な乾燥ができるようにする。 【解決手段】 乾燥炉２０内の搬送ローラー２３，２４
をそれぞれ送り方向とその反対方向に交互に回転させ、
それらの上に載っている基板を前後に揺動させる。この
ように、乾燥ポジションに保持されている基板を揺動さ
せる機構を設けることにより、基板に形成された塗膜を
均一に乾燥させることができ、その結果、一定の膜厚の
乾燥膜が形成できる。
し、設定時間がくると搬送手段により基板を乾燥ポジシ
ョン間を移動させるタクト搬送方式の乾燥炉において、
基板に形成した塗膜の均一な乾燥ができるようにする。 【解決手段】 乾燥炉２０内の搬送ローラー２３，２４
をそれぞれ送り方向とその反対方向に交互に回転させ、
それらの上に載っている基板を前後に揺動させる。この
ように、乾燥ポジションに保持されている基板を揺動さ
せる機構を設けることにより、基板に形成された塗膜を
均一に乾燥させることができ、その結果、一定の膜厚の
乾燥膜が形成できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板を炉内の複数
箇所に所定時間ずつ保持しながら順送りするタクト搬送
方式の乾燥炉に関するものである。
箇所に所定時間ずつ保持しながら順送りするタクト搬送
方式の乾燥炉に関するものである。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】従来より、塗膜を形成
した基板を連続投入して処理する乾燥炉としては、ロー
ラーやベルトで基板を一定スピードで搬送する連続搬送
方式と、予め決められた複数箇所の乾燥ポジションに基
板を保持し、設定時間がくると乾燥ポジション間を基板
が移動するタクト搬送方式の２方式がある。これら２種
類の乾燥炉のうち、タクト搬送方式の乾燥炉は、基板が
炉内の一定ポジションに所定時間停止するため、基板の
保持方式に問題が出てくる。すなわち、停止している基
板は通常ピン乃至は帯状のビーム若しくは搬送ローラー
によって裏面を保持されるが、このとき基板面内が裏面
から保持を受けている部分と炉内の雰囲気に曝されてい
る部分とに区分けされることにより、基板保持点と非保
持点で乾燥スピードが変わり、乾燥膜の膜厚が部分的に
異なってしまうという問題点がある。ホットプレートの
ように定盤上に基板を直接置くことで均一な乾燥が期待
できるが、大型基板を乾燥する装置への適用を考える
と、装置コストのアップにつながるため現実的ではな
い。
した基板を連続投入して処理する乾燥炉としては、ロー
ラーやベルトで基板を一定スピードで搬送する連続搬送
方式と、予め決められた複数箇所の乾燥ポジションに基
板を保持し、設定時間がくると乾燥ポジション間を基板
が移動するタクト搬送方式の２方式がある。これら２種
類の乾燥炉のうち、タクト搬送方式の乾燥炉は、基板が
炉内の一定ポジションに所定時間停止するため、基板の
保持方式に問題が出てくる。すなわち、停止している基
板は通常ピン乃至は帯状のビーム若しくは搬送ローラー
によって裏面を保持されるが、このとき基板面内が裏面
から保持を受けている部分と炉内の雰囲気に曝されてい
る部分とに区分けされることにより、基板保持点と非保
持点で乾燥スピードが変わり、乾燥膜の膜厚が部分的に
異なってしまうという問題点がある。ホットプレートの
ように定盤上に基板を直接置くことで均一な乾燥が期待
できるが、大型基板を乾燥する装置への適用を考える
と、装置コストのアップにつながるため現実的ではな
い。
【０００３】本発明は、上記ような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、基板に形成
した塗膜の均一な乾燥ができるタクト搬送方式の乾燥炉
を提供することにある。
れたものであり、その目的とするところは、基板に形成
した塗膜の均一な乾燥ができるタクト搬送方式の乾燥炉
を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ため、本発明は、基板を複数箇所の乾燥ポジションに保
持し、設定時間がくると搬送手段により基板を乾燥ポジ
ション間を移動させるタクト搬送方式の乾燥炉におい
て、乾燥ポジションに保持されている基板を揺動させる
機構を設けたことを特徴とするものである。
ため、本発明は、基板を複数箇所の乾燥ポジションに保
持し、設定時間がくると搬送手段により基板を乾燥ポジ
ション間を移動させるタクト搬送方式の乾燥炉におい
て、乾燥ポジションに保持されている基板を揺動させる
機構を設けたことを特徴とするものである。
【０００５】連続搬送方式の乾燥炉では、ある瞬間の基
板内の温度分布を見ると面内で温度勾配ができてしまう
原理的欠点がある。特に、昇温時や降温時にはこの現象
は防ぎようがない。しかし、タクト搬送方式の乾燥炉に
基板の揺動動作を組み合わせると、通常のタクト搬送方
式の乾燥炉と同じように基板面内の温度分布がほぼ一定
の状態で昇温・保持・降温が可能である。
板内の温度分布を見ると面内で温度勾配ができてしまう
原理的欠点がある。特に、昇温時や降温時にはこの現象
は防ぎようがない。しかし、タクト搬送方式の乾燥炉に
基板の揺動動作を組み合わせると、通常のタクト搬送方
式の乾燥炉と同じように基板面内の温度分布がほぼ一定
の状態で昇温・保持・降温が可能である。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１及び図２は本発明を適用する
乾燥炉の一例を示す外観全体図で、図１は側面図、図２
は上面図である。図１は中が一部見えるように右側の側
面パネルが一部外された状態を示している。
乾燥炉の一例を示す外観全体図で、図１は側面図、図２
は上面図である。図１は中が一部見えるように右側の側
面パネルが一部外された状態を示している。
【０００７】図１及び図２において、塗工を終えた基板
が右側の導入装置１０により乾燥炉２０の中に搬入さ
れ、炉内で乾燥されてから排出装置３０により搬出され
る。図１に示すように、乾燥炉２０は２段式で、各段と
もに４つの乾燥ステージが連続して構成されており、基
板は各ステージに対応する乾燥ポジションにそれぞれ所
定時間停止して乾燥が行われる。図中２１は各乾燥ステ
ージに配されたヒーターで、このヒーター２１により基
板を温めて塗膜を乾燥させるようになっている。また、
炉内には吸気ダクト（図示せず）からエアーが吸い込ま
れ、揮発溶剤を含んだエアーが排気ダクト２２を通って
外部に放出される。
が右側の導入装置１０により乾燥炉２０の中に搬入さ
れ、炉内で乾燥されてから排出装置３０により搬出され
る。図１に示すように、乾燥炉２０は２段式で、各段と
もに４つの乾燥ステージが連続して構成されており、基
板は各ステージに対応する乾燥ポジションにそれぞれ所
定時間停止して乾燥が行われる。図中２１は各乾燥ステ
ージに配されたヒーターで、このヒーター２１により基
板を温めて塗膜を乾燥させるようになっている。また、
炉内には吸気ダクト（図示せず）からエアーが吸い込ま
れ、揮発溶剤を含んだエアーが排気ダクト２２を通って
外部に放出される。
【０００８】導入装置１０は上下動可能なフレーム１１
を備えており、そのフレーム１１の両サイド内側にはそ
れぞれ複数個のローラー１２が取り付けられている。そ
して、乾燥炉２０の下段に基板を搬入する時は、フレー
ム１１は図１の定位置にある。すなわち、フレーム１１
のローラー１２上に搬送されてきた基板はそのまま乾燥
炉２０の下段にある搬送ローラー２３の上に送られる。
また、乾燥炉２０の上段に基板を搬入する時は、フレー
ム１１のローラー１２の上に基板がある時にフレーム１
１を上昇位置まで移動させ、そこで基板をフレーム１１
のローラー１２の上から乾燥炉２０の上段にある搬送ロ
ーラー２４の上に送る。
を備えており、そのフレーム１１の両サイド内側にはそ
れぞれ複数個のローラー１２が取り付けられている。そ
して、乾燥炉２０の下段に基板を搬入する時は、フレー
ム１１は図１の定位置にある。すなわち、フレーム１１
のローラー１２上に搬送されてきた基板はそのまま乾燥
炉２０の下段にある搬送ローラー２３の上に送られる。
また、乾燥炉２０の上段に基板を搬入する時は、フレー
ム１１のローラー１２の上に基板がある時にフレーム１
１を上昇位置まで移動させ、そこで基板をフレーム１１
のローラー１２の上から乾燥炉２０の上段にある搬送ロ
ーラー２４の上に送る。
【０００９】排出装置３０は導入装置１０と同様な上下
動可能なフレーム３１を備え、そのフレーム３１の両サ
イド内側にはそれぞれ複数個のローラー３２が取り付け
られており、導入装置１０の場合と逆の手順で基板の搬
出を行う。
動可能なフレーム３１を備え、そのフレーム３１の両サ
イド内側にはそれぞれ複数個のローラー３２が取り付け
られており、導入装置１０の場合と逆の手順で基板の搬
出を行う。
【００１０】本発明では、乾燥ポジションに保持されて
乾燥が行われている基板を揺動させるが、図示の例では
乾燥炉２０内の下段の搬送ローラー２３と上段の搬送ロ
ーラー２４をそれぞれ送り方向とその反対方向に交互に
回転させ、それらの上に載っている基板を前後に揺動さ
せる。このように乾燥ポジションにいる時に基板を揺動
させることにより、基板裏面の保持機構（搬送ローラ
ー）の有無により発生する、または基板表面に当たる風
（供給エアー）のバラツキから発生する基板面内のムラ
を低減でき、均一な塗膜の乾燥が行える。
乾燥が行われている基板を揺動させるが、図示の例では
乾燥炉２０内の下段の搬送ローラー２３と上段の搬送ロ
ーラー２４をそれぞれ送り方向とその反対方向に交互に
回転させ、それらの上に載っている基板を前後に揺動さ
せる。このように乾燥ポジションにいる時に基板を揺動
させることにより、基板裏面の保持機構（搬送ローラ
ー）の有無により発生する、または基板表面に当たる風
（供給エアー）のバラツキから発生する基板面内のムラ
を低減でき、均一な塗膜の乾燥が行える。
【００１１】なお、上記の例では２段式の乾燥炉につい
て説明したが、本発明を適用する乾燥炉の形式は１段式
でも或いは３段以上の方式でも構わない。また、搬送ロ
ーラーにより裏面を保持した状態で乾燥を行うタイプに
ついて説明したが、本発明は所定本数のピンで支えるタ
イプでも、帯状のビームで支えるタイプでも適用可能で
ある。ただし、ピンを使用するタイプでは、基板を搬送
ピンで搬送して固定ピンの上に置き換えることになるの
で、２段以上にはできないことになる。しかし、基板を
前後方向のみならず、上下方向にも揺動させることが可
能なので、より均一な塗膜の乾燥ができる。
て説明したが、本発明を適用する乾燥炉の形式は１段式
でも或いは３段以上の方式でも構わない。また、搬送ロ
ーラーにより裏面を保持した状態で乾燥を行うタイプに
ついて説明したが、本発明は所定本数のピンで支えるタ
イプでも、帯状のビームで支えるタイプでも適用可能で
ある。ただし、ピンを使用するタイプでは、基板を搬送
ピンで搬送して固定ピンの上に置き換えることになるの
で、２段以上にはできないことになる。しかし、基板を
前後方向のみならず、上下方向にも揺動させることが可
能なので、より均一な塗膜の乾燥ができる。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、基板を
複数箇所の乾燥ポジションに保持し、設定時間がくると
搬送手段により基板を乾燥ポジション間を移動させるタ
クト搬送方式の乾燥炉において、乾燥ポジションに保持
されている基板を揺動させる機構を設けたことにより、
基板に形成した塗膜の乾燥ムラが軽減し、その結果、一
定の膜厚の乾燥膜が得られるという効果がある。
複数箇所の乾燥ポジションに保持し、設定時間がくると
搬送手段により基板を乾燥ポジション間を移動させるタ
クト搬送方式の乾燥炉において、乾燥ポジションに保持
されている基板を揺動させる機構を設けたことにより、
基板に形成した塗膜の乾燥ムラが軽減し、その結果、一
定の膜厚の乾燥膜が得られるという効果がある。
【図１】本発明を適用する乾燥炉の一例を示す側面図で
ある。
ある。
【図２】本発明を適用する乾燥炉の一例を示す上面図で
ある。
ある。
１０ 導入装置 １１ フレーム １２ ローラー ２０ 乾燥炉 ２１ ヒーター ２２ 排気ダクト ２３，２４ 搬送ローラー ３０ 排出装置 ３１ フレーム ３２ ローラー
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を複数箇所の乾燥ポジションに保持
し、設定時間がくると搬送手段により基板を乾燥ポジシ
ョン間を移動させるタクト搬送方式の乾燥炉において、
乾燥ポジションに保持されている基板を揺動させる機構
を設けたことを特徴とする乾燥炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3795998A JPH11223462A (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 乾燥炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3795998A JPH11223462A (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 乾燥炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11223462A true JPH11223462A (ja) | 1999-08-17 |
Family
ID=12512108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3795998A Pending JPH11223462A (ja) | 1998-02-05 | 1998-02-05 | 乾燥炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11223462A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002179431A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Showa Mfg Co Ltd | ガラス基板の焼成方法及び装置 |
| JP2017083140A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 東京応化工業株式会社 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 |
| CN106839721A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-06-13 | 东莞市科隆威自动化设备有限公司 | 一种双炉腔烘干炉 |
-
1998
- 1998-02-05 JP JP3795998A patent/JPH11223462A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002179431A (ja) * | 2000-12-14 | 2002-06-26 | Showa Mfg Co Ltd | ガラス基板の焼成方法及び装置 |
| JP2017083140A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 東京応化工業株式会社 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 |
| TWI703688B (zh) * | 2015-10-30 | 2020-09-01 | 日商東京應化工業股份有限公司 | 基板加熱裝置及基板加熱方法 |
| CN106839721A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-06-13 | 东莞市科隆威自动化设备有限公司 | 一种双炉腔烘干炉 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050128 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20061128 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061201 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070322 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |