JPH11222595A - ゼオライトim−5をベースとする触媒を用いるパラフィン仕込原料の流動点の改良方法 - Google Patents
ゼオライトim−5をベースとする触媒を用いるパラフィン仕込原料の流動点の改良方法Info
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Abstract
って低い流動点と高い粘度指数とを示す留分に転換する
方法を提供する。 【解決手段】 炭素原子数10以上のパラフィンを含む
仕込原料の流動点の改良方法であって、処理すべき仕込
原料を、仕込原料1リットル当り50〜2000リット
ルの割合の水素の存在下に、温度170〜500℃、圧
力1〜250バール、毎時空間速度0.05〜100h
−1で、ゼオライトIM−5をベースとしかつ少なくと
も1つの水素化・脱水素化元素を含む触媒に接触させ
る、流動点改良方法である。
Description
たは僅かに分枝状の(炭素原子数10以上の)長パラフ
ィンを含む仕込原料の流動点の改良方法に関し、特に高
い流動点を有する仕込原料を、高収率を伴って低い流動
点と高い粘度指数とを示す少なくとも1つの留分に転換
する方法に関する。
ラックの円滑な運転に最も重要なものである。しかしな
がら、原油から直接生じた未処理のパラフィンでありか
つ十分な潤滑剤を構成するのに適切な特性を有するパラ
フィンの量は、この分野における次第に増加する需要に
比して非常に僅かである。
きな含有量を有する重質石油留分の処理は、可能な限り
の優れた収率を伴って十分な品質の基油を製造するため
に必要である。直鎖状または極僅かに分枝状のパラフィ
ンを仕込原料から除去することを目指す操作が用いら
れ、次いで該仕込原料は、基油としてあるいはケロシン
(灯油)またはジェット燃料(jet fuel)として利用され
る。
状でありかつ油中あるいはケロシンまたはジェット燃料
中に存在する高分子量のパラフィンは高い流動点を生
じ、従ってこれらパラフィンは低温での使用に関しては
凝固現象を生じる。流動点の値を低下させるために、こ
れらの直鎖状または極僅かに分枝状のパラフィンを全部
あるいは一部除去しなければならない。
メチルエチルケトンによる抽出により行われてよい。こ
の場合、プロパンまたはメチルエチルケトン(MEK)
による脱ろうが考えられる。しかしながら、これらの技
術はコスト高でありかつ長時間に及ぶものでありまた常
に容易に行えるとは限らない。
が考慮されることにより、ゼオライトが、最も使用され
る触媒である。
11、ZSM−12、ZSM−22、ZSM−23、Z
SM−35およびZSM−38をベースとする触媒が、
これらの方法におけるその使用について記載されてい
た。
点の改良に関する触媒の開発に向けられた。
ィンを含むパラフィン仕込原料の流動点の改良方法を対
象とし、この方法において、処理すべき仕込原料は、仕
込原料1リットル当り50〜2000リットルの割合の
水素の存在下に、温度170〜500℃、圧力1〜25
0バール、毎時空間速度0.05〜100h−1で、ゼ
オライトIM−5をベースとしかつ少なくとも1つの水
素化・脱水素化元素を含む触媒に接触させられる。
合成ゼオライトIM−5の焼成および/またはイオン交
換により得られかつH−IM−5と呼ばれる水素型ゼオ
ライトIM−5、並びにその合成方法は、1996年1
0月21日付フランス特許出願番号FR−96/128
73号に記載されている。
下記式により酸化物のモル比として無水塩基について表
示される化学組成を有する: 100XO2、mY2O3、pR2/nO、 (式中、mは、10以下であり、pは、0(0を除く)
〜20であり、Rは、1つまたは複数のn価カチオンで
あり、Xは、ケイ素および/またはゲルマニウム、好ま
しくはケイ素であり、Yは、アルミニウム、鉄、ガリウ
ム、ホウ素およびチタンからなる群から選ばれ、好まし
くはYはアルミニウムである)。
に示されるスペクトル線を有するX線回折図表を示すこ
とにより特徴付けられる。
クトル線、(2) 同じ塊りに属するスペクトル線。
はイオン交換により得られる、H−IM−5と呼ばれ
る、水素形態におけるゼオライトIM−5は、表2に示
されるスペクトル線を有するX線回折図表を示す。
(2) 同じ塊りに属するスペクトル線。
の粉体方法を用いて回折計により得られる。2θ角によ
り表される回折の頂点の位置から、ブラッグの式により
試料の特徴的な結晶格子間の等距離dhklを計算す
る。強度の計算は、X線回折図表における最も強い強度
を示すスペクトル線に100の値を付与する比較強度段
階に基づいて行われる:非常に弱い(tf)は、10未
満を意味し、弱い(f)は、20未満を意味し、中程度
(m)は、20〜40を意味し、強い(F)は、40〜
60を意味し、非常に強い(TF)は、60を越えるこ
とを意味する。
が得られていたX線回折図形は、高強度の他の頂点に対
して急斜面を形成する多数の頂点による大きな反射によ
り特徴付けられる。いくつかの急斜面またはあらゆる急
斜面が決定されないこともあり得る。このことは、僅か
に結晶化した試料またはX線の明確な拡張を提供するた
めに内部の結晶が十分に小さい試料に対して生じる。さ
らに、このことは、図表を得るために使用される設備ま
たは条件が本明細書で使用されるものと異なる時の場合
でも生じ得る。
により特徴付けられる新規基本構造または新規位相構造
を有することが評価される。「粗合成形態」ゼオライト
IM−5は、表1に示される、X線回折により得られた
特徴を実質的に有するものであり、従って、このゼオラ
イトIM−5は、公知ゼオライトから区別されるもので
ある。本発明の対象もゼオライトIM−5の構造型と同
じ構造型のあらゆるゼオライトを含むものである。
IM−5」としてケイ素と、Al、Fe、Ga、B、T
iおよびZrからなる群から選ばれる少なくとも1つの
元素Tとが含まれる。
点を有する仕込原料を、より低い流動点を有しかつ高い
粘度指数を有する混合物(油)に転換することが可能に
なる。さらにこの方法は、例えばガスオイルの流動点の
低下にも適用できる。
数10、好ましくは炭素原子数15〜50、有利には炭
素原子数15〜40を含む直鎖状および/または僅かに
分枝状のパラフィンにより構成される。
化機能、例えば第VIII族の金属、あるいは第VIII族の少
なくとも1つの金属または化合物と第VI族の少なくとも
1つの金属または化合物との組合わせを含む。反応は、
後述の条件下に実施される。上記条件下での本発明によ
るゼオライトIM−5の使用により、特に低い流動点と
高い粘度指数とを有する物質の生産が高い収率を伴って
可能になる。
原子比5〜600、特に10〜300を示す。
の化学組成は、蛍光X線および原子吸収により測定され
る。
の操作条件を調整することによる直接合成への本発明に
よる触媒的適用において、所望のSi/T比を用いて得
られてよい。次いでゼオライトは、焼成され、少なくと
も1つのアンモニウム塩溶液による少なくとも1つの処
理により交換されて、ゼオライトのアンモニウム型を得
るようにする。このゼオライトのアンモニウム型は、一
度焼成されてゼオライトの水素型を生じる。
れた低いSi/Al比の増加を目的とする脱アルミニウ
ム処理、あるいはゼオライトIM−5に含まれる元素T
の少なくとも一部の除去を可能にするあらゆる処理を受
けることが可能である。Tは、Al、Fe、Ga、B、
TiまたはZrである。
IM−5を調製するために、TがAlである好ましい場
合には、有機構造化剤(すなわち有機種供与剤)を含む
粗合成ゼオライトIM−5から、2つの脱アルミニウム
方法が用いられてよい。これら2つの方法は、後述され
る。しかしながら、当業者に公知の他のあらゆる方法も
本発明の枠内に含まれる。
気流下に温度一般に450〜550℃で第一焼成工程を
含む。この工程は、ゼオライトの細孔隙内に存在する有
機構造化剤の除去を目的とする。次に、HNO3または
HClのような無機酸、あるいはCH3CO2Hのよう
な有機酸の水溶液による処理工程が続く。この処理工程
は、所望の脱アルミニウムの水準(レベル)を得るのに
必要な回数だけ繰り返されてよい。これら2つの工程の
間に、少なくとも1つのNH4NO3溶液による1つま
たは複数のイオン交換を行って、アルカリ・カチオン、
特にナトリウムの少なくとも一部、好ましくは実質上全
部を除去することが可能である。同様に、直接酸攻撃に
よる脱アルミニウム処理の終了時に、少なくとも1つの
NH4NO3溶液による1つまたは複数のイオン交換を
行って、残留アルカリ・カチオン、特にナトリウムを除
去することが可能である。
条件を十分に選択する必要がある。すなわち、この観点
から、最も決定的なパラメータは、酸の水溶液による処
理温度、この酸水溶液の濃度、その種類、酸溶液の量と
処理されるゼオライトの重量との比、処理時間、および
実施される処理の数である。
処理+酸攻撃と称される第二方法は、第一段階では乾燥
空気流下に温度一般に約450〜550℃で焼成工程を
含む。この焼成工程は、ゼオライトの細孔隙内に閉塞さ
れた有機構造化剤を除去することを目的とする。次い
で、こうして得られた固体は、少なくとも1つのNH4
NO3溶液による1つまたは複数のイオン交換に付され
て、ゼオライト中のカチオン位置に存在するアルカリ・
カチオン、特にナトリウムの少なくとも一部、好ましく
は実質上全部を除去する。こうして得られたゼオライト
は、骨格の少なくとも1つの脱アルミニウム・サイクル
に付される。このサイクルは、場合によっては、好まし
くは水蒸気の存在下に温度一般に500〜900℃で行
われる少なくとも1つの熱処理と、場合によってはその
後に、無機酸または有機酸の水溶液による少なくとも1
つの酸攻撃とを含む。水蒸気の存在下での焼成条件(温
度、水蒸気の圧力、および処理時間)、並びに焼成後酸
攻撃の条件(攻撃時間、酸濃度、使用される酸の種類、
および酸の容量と触媒の重量との比)は、所望の脱アル
ミニウム水準(レベル)を得るように適用される。同じ
目的において、行われる熱処理・酸攻撃のサイクル数も
見込むことが可能である。
よっては、好ましくは水蒸気の存在下に行われる少なく
とも1つの熱処理工程と、ゼオライトIM−5の酸媒質
での少なくとも1つの攻撃工程とを含む骨格の脱アルミ
ニウム・サイクルは、所望の特徴を有する脱アルミニウ
ム・ゼオライトIM−5を得るために必要な回数だけ繰
り返されてよい。同様に、場合によっては、好ましくは
水蒸気の存在下に行われる熱処理に次いで、連続するい
くつかの酸攻撃が、種々の濃度の酸溶液を用いて行われ
てよい。
よっては、好ましくは水蒸気の存在下に温度一般に50
0〜850℃で有機構造化剤を含むゼオライトIM−5
の熱処理を行うことからなる。この場合、有機構造化剤
の焼成工程と、骨格の脱アルミニウム工程とは、同時に
行われる。次いでゼオライトは、場合によっては無機酸
(例えばHNO3またはHCl)あるいは有機酸(例え
ばCH3CO2H)の少なくとも1つの水溶液により処
理される。最後に、こうして得られた固体は、場合によ
っては少なくとも1つのNH4NO3溶液による少なく
とも1つのイオン交換に付されて、ゼオライト中のカチ
オン位置に存在するアルカリ・カチオン、特にナトリウ
ムの実質上すべてを除去してよい。
くとも一部、好ましくは実質上全部、酸形態、すなわち
水素(H+)型である。Na/T原子比は、一般に10
%未満、好ましくは5%未満、より好ましくは1%未満
である。
5)は、一般に少なくとも1つの水素化・脱水素化元
素、例えば第VIII族の少なくとも1つの金属、好ましく
は貴金属、有利にはPtまたはPdからなる群から選ば
れる貴金属を含む。この金属は、例えば乾式含浸(英;
dry impregnation)、イオン交換あるいは当業者に公知
の他のあらゆる方法によりモレキュラー・シーブ内に導
入される。
されたモレキュラー・シーブ重量に対して重量%で表示
されて、一般に5重量%未満、好ましくは3重量%未
満、一般に0.5〜1重量%程度である。
によるモレキュラー・シーブは、予め成形されている。
第一変形例によれば、モレキュラー・シーブは、好まし
くは白金およびパラジウムからなる群から選ばれる第VI
II族の少なくとも1つの金属の担持に付されて、当業者
に公知のあらゆる技術により成形されてよい。このモレ
キュラー・シーブは、特に一般に非晶質であるマトリッ
クス、例えばアルミナ・ゲルの湿潤粉体と混合されてよ
い。次いで混合物は、例えばダイスを通す押出しにより
成形される。こうして得られた混合物のモレキュラー・
シーブ含有量は、混合物(モレキュラー・シーブ+マト
リックス)に対して一般に0.5〜99.9重量%、有
利には5〜90重量%である。
レキュラー・シーブ+マトリックスの混合物を意味す
る。
えば酸化マグネシウム、非晶質シリカ・アルミナ、天然
粘土(カオリン、ベントナイト、セピオライト(海泡石
sepiolite)およびアタパルジャイト(attapulgite) )、
シリカ、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ジルコニウム、
リン酸アルミニウム、リン酸チタン、リン酸ジルコニウ
ム、炭素(活性炭)およびこれらの混合物を用いて行わ
れてよい。押出し以外の技術、例えばペレット化または
顆粒状化が使用されてよい。
Ptおよび/またはPdは、モレキュラー・シーブ上に
金属の担持を可能にする、当業者に公知のあらゆる方法
により担体上に担持されてよい。競争剤が好ましくは硝
酸アンモニウムである競争反応を用いるカチオン交換技
術が使用されてよい。競争比は、少なくとも約20、有
利には約30〜200である。白金またはパラジウムの
場合、通常白金のテトラミン錯体またはパラジウムのテ
トラミン錯体が使用される。すなわち、この場合、これ
ら錯体は、モレキュラー・シーブ上に実質上全部担持さ
れる。さらに、このカチオン交換技術は、金属を、場合
によるマトリックスとの混合前にモレキュラー・シーブ
の粉体上に直接担持するのに使用されてよい。
の担持の後に、空気下または酸素下での焼成が、通常3
00〜600℃で0.5〜10時間、好ましくは350
〜550℃で1〜4時間行われる。次いで、一般に温度
300〜600℃で1〜10時間、好ましくは350〜
550℃で2〜5時間水素下に還元が行われてよい。さ
らに競争剤、例えば塩酸の存在下にヘキサクロロ白金
酸、ヘキサクロロパラジウム酸および/または塩化パラ
ジウムを用いるアニオン交換を行って、成形工程前また
は成形工程後に、白金および/またはパラジウムをモレ
キュラー・シーブ上に直接担持するだけでなく、マトリ
ックス(アルミナ・バインダ)上にも担持してよい。一
般に白金および/またはパラジウムの担持後に、触媒
は、前述のように焼成に付され、次いで上述のように水
素下に還元される。
少なくとも1つの金属(例えばモリブデンまたはタング
ステン)またはその化合物と、第VIII族の少なくとも1
つの金属(例えばニッケルまたはコバルト)またはその
化合物との組合わせであってよい。担体に対する酸化金
属で表示される、第VI族および第VIII族金属の総濃度
は、一般に5〜40重量%、好ましくは7〜30重量%
である。第VI族金属に対する第VIII族金属の(金属酸化
物で表示される)重量比は、0.05〜0.8、好まし
くは0.13〜0.5である。
るのに使用可能である。
い。担体に対する酸化リンP2O5で表示されるリン含
有量は、一般に15重量%未満、好ましくは10重量%
未満である。
は、有利には相対的に高い流動点を有するフラクション
であり、その値の低下が望まれるものである。
ット燃料のような相対的に軽質なフラクションからより
高沸点を有する仕込原料、例えば中間留分、減圧残渣、
ガスオイル、FCC(流動床接触クラッキング)から生
じた中間留分(軽質油留分LCOおよび重質油留分HC
O)、並びに水素化クラッキング残渣、あるいはさらに
はパラフィン臘、例えば脱パラフィン水素化クラッキン
グ残渣である「slackwax 」までの多様な仕込原料を処
理するのに使用されてよい。
いて、約175℃を越える初留点のC10 +(炭素数1
0以上の)留分、好ましくは少なくとも280℃の沸点
を有する重質留分、有利には少なくとも380℃の沸点
を有する重質留分である。本発明による方法は、例えば
ガスオイル、ケロシン、ジェット燃料を含める中間留分
および減圧留分のようなパラフィン留分、並びに規格の
枠内に含まれるように適用されねばならない流動点と粘
度とを有する他のあらゆるフラクションを処理するのに
適用される。
は、パラフィン、オレフィン、ナフテン、芳香族化合物
およびヘテロ環を、高分子量のn−パラフィンと、同様
に高分子量の非常に僅かに分枝状のパラフィンとの大き
な割合で含むものである。
仕込原料は、一般に0℃を越える流動点を有する。本方
法による処理により生じる生成物は、流動点0℃未満、
好ましくは約−10℃未満を有する。
数10以上を有するn−パラフィンと、同様に高分子量
の非常に僅かに分枝状の炭素原子数10以上を有するパ
ラフィンとの30重量%を越えて約90重量%までの含
有量を示し、さらにはいくつかの場合には、90重量%
を越える含有量を示す。本方法は、この割合が少なくと
も60重量%である場合には、特に有益である。
として、限定されないものとして、潤滑油用基油、フィ
ッシャー・トロプッシュ法により生じた合成パラフィ
ン、高い流動点を有するポリアルファオレフィン、合成
油等が挙げられる。さらに本方法は、先に定義されたよ
うにn−アルカン鎖を含む別の化合物、例えばn−アル
キルシクロアルカン化合物、あるいは少なくとも1つの
芳香族基を含む別の化合物に適用されてよい。
通りである: ・反応温度は、170〜500℃、好ましくは180〜
470℃、有利には190〜450℃である。
10〜200バールである。
当り注入される仕込原料の容積で表示されるVVH)
は、約0.05〜約100h−1、好ましくは約0.1
〜約30h−1である。
に行われる。仕込原料1リットル当り水素のリットルで
表示される、使用される水素の割合は、仕込原料1リッ
トル当り水素50〜約2000リットル、好ましくは仕
込原料1リットル当り水素100〜1500リットルで
ある。
有化合物の含有量約200重量ppm未満、好ましくは
100重量ppm未満を有する。硫黄の含有量は、10
00重量ppm未満、好ましくは500重量ppm未
満、より好ましくは200重量ppm未満である。仕込
原料の金属、例えばNiまたはVの含有量は、非常に減
少される。すなわち50重量ppm未満、好ましくは1
0重量ppm未満、より好ましくは2重量ppm未満で
ある。
が、その範囲を限定するものではない。
塩(PantPyrrと略記する)を用いるゼオライトIM−5
の合成
ニウム)臭素塩の構造は、次の通りである:
により得られる)シリカAerosil 130 3.6gと、Pent
Pyrr4.08gと、焼成されたゼオライトNU−88の
結晶核0.144gとを含む固体混合物中に注いだ。均
一混合物を得るまで攪拌し、次いで常に攪拌下に、水2
0g中にアルミン酸ナトリウムCarlo Erba(Al2O3
54%、Na2O 37%)0.32gと、水酸化ナ
トリウム(NaOH)1.22gとを溶解して得られる
溶液を添加した。このゲルを15分攪拌した後、PTF
E(ポリテトラフルオロエチレン)の被覆を備えるオー
トクレーブ内に移した。
O、10 PentPyrr、3000 H2O。
的)条件下に炉内において170℃で8日間加熱した。
濾過、水での洗浄および60℃での乾燥後、生成物2.
95gを得た。
を、原子放出(emission)スペクトロスコピにより行っ
た。次の原子組成が見出された: 100 SiO2:4.0 Al2O3:0.144
Na2O
により分析しかつゼオライトIM−5からなるものとし
て同定した。得られた図表は、表1に示した結果に合致
した。回折線パターンを、図1に記載した[縦座標には
強度I(任意の装置)および横座標には2θ(Cu K
アルファ)をとった]。
550℃で4時間の焼成後に測定し、かつ530m2/
gであることを見出した。得られた物質H−IM5は、
図2に記載した回折線パターンを有していた[縦座標に
は強度I(任意の装置)および横座標には2θ(Cu
K アルファ)をとった]。
は、乾燥空気流下に8時間、550℃で乾燥と称する焼
成を受けた。次いで得られた固体を、NH4NO3 1
0N溶液中に各交換について約100℃、4時間で4回
のイオン交換に付した。こうして得られた固体は、NH
4−IM−5/1と呼ばれ、Si/Al比=12.9
と、Na/Al比=0.005とを有していた。
を、Condea社により供給されるSB3型アルミナを用い
て混練した。次いで混練した混練物を、出口直径1.4
mmのダイスに通して押し出した。次いで押出物を、空
気下に500℃で2時間焼成し、次いで塩化白金テトラ
ミン[Pt(NH3)4]Cl2の溶液により乾式含浸
し、最後に空気下550℃で焼成した。こうして得られ
た最終触媒C1の白金含有量は、0.7重量%であり、
触媒重量全体に対して表示されるゼオライト含有量は、
20重量%であった。
調製]この実施例において使用した原料は、実施例1に
おいて調製したものと同じゼオライトIM−5であっ
た。さらにこのゼオライトを、5N硝酸溶液による処理
に約100℃で7時間付した。導入した硝酸溶液(m
l)の容量(V)は、乾燥ゼオライトIM−5の重量
(P)の10倍であった(V/P=10)。この処理
を、同じ操作条件下に再び行った。
(IM−5/2と呼ばれる)は、Si/Al全体原子比
38およびNa/Al原子比0.001未満を有してい
た。
ea社により供給されるSB3型アルミナを用いて混練し
た。次いで混練した混練物を、出口直径1.4mmのダ
イスに通して押し出した。次いで押出物を、空気下に5
00℃で2時間焼成し、次いで塩化白金テトラミン[P
t(NH3)4]Cl2の溶液により乾式含浸し、最後
に空気下550℃で焼成した。こうして得られた最終触
媒C2の白金含有量は、0.7重量%であり、触媒重量
全体に対して表示されるゼオライト含有量は、20重量
%であった。
ける触媒C1および触媒C2の評価]触媒C1および触
媒C2を、減圧留分により生じた水素化クラッキング残
渣を処理するために評価した。
た:
製が記載されている触媒C1および触媒C2を、上述の
仕込原料から基油を調製するために使用した。
u)の触媒テスト前に、水素下に450℃で予め還元し
た。この還元を段階的に行った。この還元は、150℃
で2時間の段階と、次いで速度1℃/分で温度450℃
までの上昇と、次いで450℃で2時間の段階とからな
る。この還元マニュアルの間、水素流量は、触媒1リッ
トツ当り水素(H2)1000リットルであった。
2MPa下に毎時空間速度1h−1、水素流量仕込原料
1リットル当り水素1000リットル、275℃で行っ
た。触媒C2の場合には、反応を、285℃で行った。
さらに他の操作条件は、触媒C1をテストするために用
いたものと同一であった。
を使用するあらゆる有益性が証明された。これら触媒に
より、当初仕込原料の流動点、この場合、水素化クラッ
キング残渣の流動点を、高い粘度指数(VI)を保って
低下させることが可能になった。
フである。
フである。
Claims (14)
- 【請求項1】 炭素原子数10以上のパラフィンを含む
仕込原料の流動点の改良方法であって、処理すべき仕込
原料を、仕込原料1リットル当り50〜2000リット
ルの割合の水素の存在下に、温度170〜500℃、圧
力1〜250バール、毎時空間速度0.05〜100h
−1で、ゼオライトIM−5をベースとしかつ少なくと
も1つの水素化・脱水素化元素を含む触媒に接触させ
る、流動点改良方法。 - 【請求項2】 水素化・脱水素化元素が、第VIII族に属
する、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 水素化・脱水素化元素が、第VI族の少な
くとも1つの金属または化合物と、第VIII族の少なくと
も1つの金属または化合物との組合わせである、請求項
1記載の方法。 - 【請求項4】 ゼオライトIM−5が、Si/T原子比
5〜600を示し、Tが、Al、Fe、Ga、B、Ti
およびZrからなる群から選ばれる、請求項1〜3のい
ずれか1項記載の方法。 - 【請求項5】 合成ゼオライトの元素Tの少なくとも一
部が、取り除かれており、Tが、Al、Fe、Ga、
B、TiおよびZrからなる群から選ばれる、請求項1
〜4のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項6】 ゼオライトが脱アルミニウムされてい
る、請求項1〜5のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項7】 仕込原料が、175℃を越える初留点を
有する、請求項1〜6のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項8】 仕込原料が、少なくとも280℃の初留
点を有する、請求項1〜7のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項9】 仕込原料が、少なくとも380℃の初留
点を有する、請求項1〜8のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項10】 仕込原料が、炭素原子数15〜50を
有するパラフィンを含む、請求項1〜9のいずれか1項
記載の方法。 - 【請求項11】 仕込原料が、炭素原子数15〜40を
有するパラフィンを含む、請求項1〜10のいずれか1
項記載の方法。 - 【請求項12】 処理すべき化合物が、中間留分、ガス
オイル、減圧残渣、水素化クラッキング残渣、フィッシ
ャー・トロプッシュ法により生じたパラフィン、合成
油、FCCにより生じたガスオイル留分および中間留
分、油、ポリアルファオレフィン、並びにパラフィン臘
からなる群から選ばれる炭化水素仕込原料中に存在す
る、請求項1〜11のいずれか1項記載の方法。 - 【請求項13】 触媒中のゼオライト含有量が、0.5
〜99.9重量%である、請求項1〜12のいずれか1
項記載の方法。 - 【請求項14】 触媒が、粘土、酸化マグネシウム、ア
ルミナ、シリカ、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ジルコ
ニウム、リン酸アルミニウム、リン酸チタン、リン酸ジ
ルコニウム、シリカ・アルミナおよび炭素からなる群の
元素から選ばれる少なくとも1つのマトリックスを含
む、請求項1〜13のいずれか1項記載の方法。
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