JPH11209338A - スルホンイミドの製造方法 - Google Patents
スルホンイミドの製造方法Info
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- JPH11209338A JPH11209338A JP10008141A JP814198A JPH11209338A JP H11209338 A JPH11209338 A JP H11209338A JP 10008141 A JP10008141 A JP 10008141A JP 814198 A JP814198 A JP 814198A JP H11209338 A JPH11209338 A JP H11209338A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機合成や電解質等の分野において、ルイス
酸触媒やイオン伝導材として有用な物質であるスルホン
イミドの製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）Ｍ〔Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2
Ｒf2〕n （式中、Ｒf1及びＲf2は、同じかまたは異な
り、炭素原子数１〜１２までの直鎖状または分岐状のペ
ルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロ
アルケニル基、またはフルオロアリル基のいずれかで、
Ｍは陽イオンを表し、ｎは該当する陽イオンの価数と同
数の整数を表す）で示されるスルホンイミドの製造法に
おいて、一般式（II）ＲfＳＯ2Ｃｌ（式中、Ｒfは、一
般式（Ｉ）のＲf1またはＲf2と同様の基を表す）で示さ
れるスルホニルクロリドの１種または２種と無水アンモ
ニアと、一般式（III)（Ｒ1）3Ｎ（式中、Ｒ1は、炭素
原子数１〜５のアルキル基を表す）で示される第３アミ
ンまたは複素環式アミンと反応させる。
酸触媒やイオン伝導材として有用な物質であるスルホン
イミドの製造方法を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ）Ｍ〔Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2
Ｒf2〕n （式中、Ｒf1及びＲf2は、同じかまたは異な
り、炭素原子数１〜１２までの直鎖状または分岐状のペ
ルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロ
アルケニル基、またはフルオロアリル基のいずれかで、
Ｍは陽イオンを表し、ｎは該当する陽イオンの価数と同
数の整数を表す）で示されるスルホンイミドの製造法に
おいて、一般式（II）ＲfＳＯ2Ｃｌ（式中、Ｒfは、一
般式（Ｉ）のＲf1またはＲf2と同様の基を表す）で示さ
れるスルホニルクロリドの１種または２種と無水アンモ
ニアと、一般式（III)（Ｒ1）3Ｎ（式中、Ｒ1は、炭素
原子数１〜５のアルキル基を表す）で示される第３アミ
ンまたは複素環式アミンと反応させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般式（Ｉ）Ｍ
［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］n で示されるスルホンイ
ミドの製造法に関するものである。
［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］n で示されるスルホンイ
ミドの製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術および解決すべき問題点】スルホンイミド
の化合物は、ルイス酸触媒やイオン伝導材として、有機
合成および電解質等の分野において有用な物質である。
の化合物は、ルイス酸触媒やイオン伝導材として、有機
合成および電解質等の分野において有用な物質である。
【０００３】前記、一般式のスルホンイミドは、Ｄ．
Ｄ．ＤＥＳＭＡＲＴＥＡＵら〔ＩＮＯＲＧＡＮＩＣ Ｃ
ＨＥＭＩＳＴＲＹ ＶＯＬ．２３，Ｎｏ２３，３７２０
〜３７２３（１９８４）〕によって提案された合成法で
製造することができる。
Ｄ．ＤＥＳＭＡＲＴＥＡＵら〔ＩＮＯＲＧＡＮＩＣ Ｃ
ＨＥＭＩＳＴＲＹ ＶＯＬ．２３，Ｎｏ２３，３７２０
〜３７２３（１９８４）〕によって提案された合成法で
製造することができる。
【０００４】この方法は、反応の工程が多く、ヘキサメ
チルジシラザンのような高価な物質を利用することや収
率が５０％程度と小さいことから工業的な製造法ではな
い。また、特表平３−５０１８６０号公報では、ペルフ
ルオロアルカンスルホニルフロリドにシラザン金属化合
物、またはシラザン誘導体と金属フッ化物とを反応させ
ることにより合成する方法が開示されているが、この方
法はＮ源に高価なシラザン誘導体を使用するため安価な
製造法とはいえない。
チルジシラザンのような高価な物質を利用することや収
率が５０％程度と小さいことから工業的な製造法ではな
い。また、特表平３−５０１８６０号公報では、ペルフ
ルオロアルカンスルホニルフロリドにシラザン金属化合
物、またはシラザン誘導体と金属フッ化物とを反応させ
ることにより合成する方法が開示されているが、この方
法はＮ源に高価なシラザン誘導体を使用するため安価な
製造法とはいえない。
【０００５】本発明の目的とするところは、上記問題点
に鑑み、スルホンイミドを工業的で安価に製造する方法
を提供するものである。
に鑑み、スルホンイミドを工業的で安価に製造する方法
を提供するものである。
【０００６】
【問題点を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検
討の結果、第３アミンまたは複素環式アミンを用いるこ
とによりかかる問題点のないスルホンイミドの工業的な
製造法を見いだし、本発明に到達した。
討の結果、第３アミンまたは複素環式アミンを用いるこ
とによりかかる問題点のないスルホンイミドの工業的な
製造法を見いだし、本発明に到達した。
【０００７】すなわち、本発明は、一般式（II）ＲfＳ
Ｏ2Ｃｌ［式中、Ｒfは、炭素原子数１から１２までの直
鎖、分岐状のペルフルオロアルキル基、フルオロアルキ
ル基、フルオロアルケニル基、またはフルオロアリル基
を表す］で示されるスルホニルクロリドと無水アンモニ
ア（ＮＨ3）と、一般式（III)（Ｒ1）3Ｎ［式中、Ｒ
1は、炭素原子数が１から５のアルキル基を表す］で示
される第３アミンまたはピリジン、ピコリン、ジアザビ
シクロウンデセンのような複素環式アミンとを反応させ
る方法、または、一般式（II）ＲfＳＯ2Ｃｌのスルホニ
ルクロリドと一般式（IV）ＲfＳＯ2ＮＨ2［式中、Ｒf
は、炭素子数１から１２までの直鎖、分岐状のペルフル
オロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルケ
ニル基、またはフルオロアリル基を表す］で示されるス
ルホンアミドと、一般式（III)（Ｒ1）3Ｎで示される第
３アミンまたは複素環式アミンとを反応させる方法によ
り、スルホンイミド酸〔Ｈ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒ
f2］〕［式中、Ｒf1及びＲf2は、一般式（Ｉ）と同様の
基を表す］とアミンとの塩を製造する方法に関する。ま
た本発明は、前記の方法で製造されたスルホンイミド酸
とアミンとの塩であるスルホンイミド置換アンモニウム
塩またはスルホンイミド酸と複素環式アミンとの塩と、
アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化
物、炭酸塩の中から選ばれる化合物を水溶液で反応させ
ることによってアミンを遊離させ、そのアミンを留出さ
せることにより一般式（Ｉ）Ｍ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2
Ｒf2］n［式中、Ｒf1及びＲf2は、同じかまたは異な
り、炭素原子数１から１２までの直鎖状または分岐状の
ペルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオ
ロアルケニル基、またはフルオロアリル基のいずれか
で、Ｍは陽イオンを表し、ｎは該当する陽イオンの価数
と同数の整数を表す］で示されるスルホンイミドの製造
方法を提供するものである。
Ｏ2Ｃｌ［式中、Ｒfは、炭素原子数１から１２までの直
鎖、分岐状のペルフルオロアルキル基、フルオロアルキ
ル基、フルオロアルケニル基、またはフルオロアリル基
を表す］で示されるスルホニルクロリドと無水アンモニ
ア（ＮＨ3）と、一般式（III)（Ｒ1）3Ｎ［式中、Ｒ
1は、炭素原子数が１から５のアルキル基を表す］で示
される第３アミンまたはピリジン、ピコリン、ジアザビ
シクロウンデセンのような複素環式アミンとを反応させ
る方法、または、一般式（II）ＲfＳＯ2Ｃｌのスルホニ
ルクロリドと一般式（IV）ＲfＳＯ2ＮＨ2［式中、Ｒf
は、炭素子数１から１２までの直鎖、分岐状のペルフル
オロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルケ
ニル基、またはフルオロアリル基を表す］で示されるス
ルホンアミドと、一般式（III)（Ｒ1）3Ｎで示される第
３アミンまたは複素環式アミンとを反応させる方法によ
り、スルホンイミド酸〔Ｈ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒ
f2］〕［式中、Ｒf1及びＲf2は、一般式（Ｉ）と同様の
基を表す］とアミンとの塩を製造する方法に関する。ま
た本発明は、前記の方法で製造されたスルホンイミド酸
とアミンとの塩であるスルホンイミド置換アンモニウム
塩またはスルホンイミド酸と複素環式アミンとの塩と、
アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化
物、炭酸塩の中から選ばれる化合物を水溶液で反応させ
ることによってアミンを遊離させ、そのアミンを留出さ
せることにより一般式（Ｉ）Ｍ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2
Ｒf2］n［式中、Ｒf1及びＲf2は、同じかまたは異な
り、炭素原子数１から１２までの直鎖状または分岐状の
ペルフルオロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオ
ロアルケニル基、またはフルオロアリル基のいずれか
で、Ｍは陽イオンを表し、ｎは該当する陽イオンの価数
と同数の整数を表す］で示されるスルホンイミドの製造
方法を提供するものである。
【０００８】一般式（Ｉ）で示されるスルホンイミドを
合成するにあたって、実施態様の１として、スルホンイ
ミド置換アンモニウム塩あるいはスルホンイミド酸と複
素環式アミンとの塩は、一般式（Ｉ）で示されるスルホ
ンイミドのＲf1とＲf2が同じ化合物を製造する場合に
は、１種のスルホニルクロリド、またスルホンイミドの
Ｒf1とＲf2が異なる化合物を製造する場合には、２種の
スルホニルクロリドと、無水アンモニアまたは第３アミ
ンあるいは複素環式アミンを不活性溶媒に導入し反応さ
せることによって製造することができる。
合成するにあたって、実施態様の１として、スルホンイ
ミド置換アンモニウム塩あるいはスルホンイミド酸と複
素環式アミンとの塩は、一般式（Ｉ）で示されるスルホ
ンイミドのＲf1とＲf2が同じ化合物を製造する場合に
は、１種のスルホニルクロリド、またスルホンイミドの
Ｒf1とＲf2が異なる化合物を製造する場合には、２種の
スルホニルクロリドと、無水アンモニアまたは第３アミ
ンあるいは複素環式アミンを不活性溶媒に導入し反応さ
せることによって製造することができる。
【０００９】更に、高収率を得るためには、スルホンイ
ミドのＲf1とＲf2が同じ化合物である場合は、１種の１
モルのスルホニルクロリドに対し約１モルのアンモニア
と約１モルのアミンを反応させることが必要である。
ミドのＲf1とＲf2が同じ化合物である場合は、１種の１
モルのスルホニルクロリドに対し約１モルのアンモニア
と約１モルのアミンを反応させることが必要である。
【００１０】反応方法としては、溶媒中で１モルのスル
ホニルクロリドに対し約１モルのアンモニアを加え、そ
の後、約１モルのアミンをゆっくり加えるか、アミンを
溶媒で希釈することにより目的とするイミドのアミン塩
が高収率で得られる。
ホニルクロリドに対し約１モルのアンモニアを加え、そ
の後、約１モルのアミンをゆっくり加えるか、アミンを
溶媒で希釈することにより目的とするイミドのアミン塩
が高収率で得られる。
【００１１】無水アンモニアを過剰に加えるとスルホン
アミドが多く生成し、スルホンイミドの収率が低下す
る。アミンは過剰に加えて良い。副生物は、ＮＨ4Ｃｌ
および塩化水素酸と使用したアミンとの塩が得られる。
以下に第３アミンを使用した場合の反応式を示す。
アミドが多く生成し、スルホンイミドの収率が低下す
る。アミンは過剰に加えて良い。副生物は、ＮＨ4Ｃｌ
および塩化水素酸と使用したアミンとの塩が得られる。
以下に第３アミンを使用した場合の反応式を示す。
【００１２】2RfSO2Cl +2NH3 +2(R1)3N →(R1)3NH+(R
fSO2)2N- +(R1)3NH+Cl- +NH4Cl この反応は、約−２０℃から２００℃の温度範囲で可能
であり、それ以下の温度であれば反応速度は著しく遅く
なり、それ以上の温度では使用する化合物、溶媒、生成
物の分解が生じる。最適には１０℃から９０℃の温度範
囲が好ましい。
fSO2)2N- +(R1)3NH+Cl- +NH4Cl この反応は、約−２０℃から２００℃の温度範囲で可能
であり、それ以下の温度であれば反応速度は著しく遅く
なり、それ以上の温度では使用する化合物、溶媒、生成
物の分解が生じる。最適には１０℃から９０℃の温度範
囲が好ましい。
【００１３】用いる溶媒は、反応物質に対し不活性なも
のであれば特に限定することなく使用できる。例えば、
ハロゲン化炭化水素（ジクロロメタン、塩化エチレン、
ペルフルオロカーボン等）、炭化水素（ベンゼン、ヘプ
タン、シクロヘキサン等）、アセタール（ジオキサン
等）、エーテル（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル等）、ニトリル類（アセトニトリル等）がある。
のであれば特に限定することなく使用できる。例えば、
ハロゲン化炭化水素（ジクロロメタン、塩化エチレン、
ペルフルオロカーボン等）、炭化水素（ベンゼン、ヘプ
タン、シクロヘキサン等）、アセタール（ジオキサン
等）、エーテル（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル等）、ニトリル類（アセトニトリル等）がある。
【００１４】これらの混合物にアルカリ金属またはアル
カリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩の中から選ば
れた化合物を水溶液中で反応させることによって対応す
る塩を製造することができる。
カリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩の中から選ば
れた化合物を水溶液中で反応させることによって対応す
る塩を製造することができる。
【００１５】すなわち、アルカリ金属、アルカリ土類金
属のカチオンは混合物のカチオンと置換し、アミンを遊
離させる。その後、そのアミンおよび水を留出させるこ
とにより、そのカチオンと対応するスルホンイミド塩
（Ｍ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］n ）と金属塩化物が
得られる。その混合物にエーテル、アルコール等を加
え、金属塩化物をろ別し、溶媒を留出させることで純度
の高い金属スルホンイミド塩が得られる。例えば、Ｌｉ
ＯＨを用いた場合の反応式を示す。
属のカチオンは混合物のカチオンと置換し、アミンを遊
離させる。その後、そのアミンおよび水を留出させるこ
とにより、そのカチオンと対応するスルホンイミド塩
（Ｍ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］n ）と金属塩化物が
得られる。その混合物にエーテル、アルコール等を加
え、金属塩化物をろ別し、溶媒を留出させることで純度
の高い金属スルホンイミド塩が得られる。例えば、Ｌｉ
ＯＨを用いた場合の反応式を示す。
【００１６】(R1)3NH+(Rf1SO2NSO2Rf2)- + (R1)3NH+Cl
- + 2LiOH →Li+(Rf1SO2NSO2Rf2)- + 2(R1)3N
+ LiCl + 2H2O 本発明で用いるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の
水酸化物、酸化物、炭酸塩としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、
Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａなどの水酸化物、酸化物、炭酸塩であ
る。
- + 2LiOH →Li+(Rf1SO2NSO2Rf2)- + 2(R1)3N
+ LiCl + 2H2O 本発明で用いるアルカリ金属またはアルカリ土類金属の
水酸化物、酸化物、炭酸塩としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、
Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａなどの水酸化物、酸化物、炭酸塩であ
る。
【００１７】また実施態様の２として、スルホンイミド
酸（Ｈ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］）とアミンとの塩
は、一般式（II）のスルホニルクロリド、一般式（IV）
のスルホンアミド、前記のアミンとを不活性な溶媒に導
入し反応させることによって製造できる。
酸（Ｈ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］）とアミンとの塩
は、一般式（II）のスルホニルクロリド、一般式（IV）
のスルホンアミド、前記のアミンとを不活性な溶媒に導
入し反応させることによって製造できる。
【００１８】スルホンアミドは、例えば〔ＩＮＯＲＧＡ
ＮＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ ＶＯＬ．２３，Ｎｏ２
３，３７２０〜３７２３（１９８４）〕に記載された合
成法で製造することができる。また、ＲfＳＯ2Ｃｌとア
ンモニアとを反応させることで製造することができる。
ＮＩＣ ＣＨＥＭＩＳＴＲＹ ＶＯＬ．２３，Ｎｏ２
３，３７２０〜３７２３（１９８４）〕に記載された合
成法で製造することができる。また、ＲfＳＯ2Ｃｌとア
ンモニアとを反応させることで製造することができる。
【００１９】スルホニルクロリドとスルホンアミドのＲ
fは、同じであっても異なってもよい。高収率を得るた
めには、１モルのスルホニルクロリドに対し約１モルの
スルホンアミド、および約２モルのアミンを反応させる
ことが必要である。
fは、同じであっても異なってもよい。高収率を得るた
めには、１モルのスルホニルクロリドに対し約１モルの
スルホンアミド、および約２モルのアミンを反応させる
ことが必要である。
【００２０】以下に第３アミンを使用した場合の反応式
を示す。 Rf1SO2Cl + Rf2SO2NH2 + 2(R1)3N →(R1)3NH
+(Rf1SO2NSO2Rf2)- + (R1)3NH+Cl- この反応は、溶媒中で１モルのスルホニルクロリドに対
し約１モルのスルホンアミドを混合し、その後、約２モ
ルのアミンをゆっくり滴下させ反応させることが必要で
ある。
を示す。 Rf1SO2Cl + Rf2SO2NH2 + 2(R1)3N →(R1)3NH
+(Rf1SO2NSO2Rf2)- + (R1)3NH+Cl- この反応は、溶媒中で１モルのスルホニルクロリドに対
し約１モルのスルホンアミドを混合し、その後、約２モ
ルのアミンをゆっくり滴下させ反応させることが必要で
ある。
【００２１】また、この反応は、約−２０℃から２００
℃の温度範囲で可能であり、それ以下の温度であれば反
応速度は著しく遅くなり、それ以上の温度では使用する
化合物、溶媒、生成物の分解が生じる。最適には１０℃
から９０℃の温度範囲が好ましい。使用できる溶媒は、
反応物質に対し不活性なものであれば前記と同様のもの
を使用できる。反応終了後、溶媒を留出させ、スルホン
イミド置換アンモニウム塩および塩化水素酸とアミンと
の塩の混合物が得られる。
℃の温度範囲で可能であり、それ以下の温度であれば反
応速度は著しく遅くなり、それ以上の温度では使用する
化合物、溶媒、生成物の分解が生じる。最適には１０℃
から９０℃の温度範囲が好ましい。使用できる溶媒は、
反応物質に対し不活性なものであれば前記と同様のもの
を使用できる。反応終了後、溶媒を留出させ、スルホン
イミド置換アンモニウム塩および塩化水素酸とアミンと
の塩の混合物が得られる。
【００２２】次に得られたこれらの混合物とアルカリ金
属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩
の中から選ばれる化合物とを水溶液中で反応させ、実施
態様の１に記述した同様の手法により、金属と対応する
純度の高いスルホンイミド塩を製造することができる。
属またはアルカリ土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩
の中から選ばれる化合物とを水溶液中で反応させ、実施
態様の１に記述した同様の手法により、金属と対応する
純度の高いスルホンイミド塩を製造することができる。
【００２３】本発明において使用できるアミンは、一般
式（III)（Ｒ1)3Ｎ［Ｒ1は、炭素原子数が１から５のア
ルキル基を表す］で示される第３アミンまたは複素環式
アミンであるが、特にトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジンは反応系から低温度
で容易に留出できるため好ましい。
式（III)（Ｒ1)3Ｎ［Ｒ1は、炭素原子数が１から５のア
ルキル基を表す］で示される第３アミンまたは複素環式
アミンであるが、特にトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、ピリジンは反応系から低温度
で容易に留出できるため好ましい。
【００２４】これらの製造法で得られるアミンや金属の
スルホンイミド塩よりスルホンイミド酸（Ｈ［Ｒf1ＳＯ
2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］）を合成するには、これらの塩を濃
硫酸のような強酸で酸性化し蒸留することにより得るこ
とができる。
スルホンイミド塩よりスルホンイミド酸（Ｈ［Ｒf1ＳＯ
2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］）を合成するには、これらの塩を濃
硫酸のような強酸で酸性化し蒸留することにより得るこ
とができる。
【００２５】さらにこの酸に適当な金属の水酸化物、酸
化物、炭酸塩、酢酸塩やアンモニア、置換アンモニウム
等を反応させれば、種々のスルホンイミド塩が得られ
る。
化物、炭酸塩、酢酸塩やアンモニア、置換アンモニウム
等を反応させれば、種々のスルホンイミド塩が得られ
る。
【００２６】
【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明は、かかる実施例に限定されるものではな
い。
【００２７】実施例１ 硝子フラスコにアセトニトリルを４０ｍｌ、トリフルオ
ロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3ＳＯ2Ｃｌ）を２
２．1ｇ加え、無水アンモニアを２．２３ｇ導入し、反
応温度２０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍｌ
で希釈したトリエチルアミン１９．９ｇを１時間かけ滴
下させた。その後３時間撹伴し、反応させた。
ロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3ＳＯ2Ｃｌ）を２
２．1ｇ加え、無水アンモニアを２．２３ｇ導入し、反
応温度２０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍｌ
で希釈したトリエチルアミン１９．９ｇを１時間かけ滴
下させた。その後３時間撹伴し、反応させた。
【００２８】反応生成物溶液からろ過により塩化アンモ
ニウムを除去し、さらにろ液の溶媒を留出させて、ビス
トリフルオロメタンスルホンイミドトリエチルアンモニ
ウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］および
塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ
-］を得た。
ニウムを除去し、さらにろ液の溶媒を留出させて、ビス
トリフルオロメタンスルホンイミドトリエチルアンモニ
ウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］および
塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ
-］を得た。
【００２９】この混合物と水酸化リチウム（ＬｉＯＨ）
を３．５０ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反応させ
た。反応混合物をろ過により未溶解分を除去し、ろ液の
トリエチルアミンおよび水は留出させた。得られた固形
分に、エーテルを加え、未溶解成分を濾別除去しエーテ
ルを留出させて、ビストリフルオロメタンスルホンイミ
ドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ］を１７．１ｇ得
た。
を３．５０ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反応させ
た。反応混合物をろ過により未溶解分を除去し、ろ液の
トリエチルアミンおよび水は留出させた。得られた固形
分に、エーテルを加え、未溶解成分を濾別除去しエーテ
ルを留出させて、ビストリフルオロメタンスルホンイミ
ドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ］を１７．１ｇ得
た。
【００３０】実施例２ 硝子フラスコにアセトニトリルを４０ｍｌ、トリフルオ
ロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3ＳＯ2Ｃｌ）を２
２．１ｇ加え、無水アンモニアを２．２３ｇ導入し、反
応温度２０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍｌ
で希釈したトリエチルアミン１９．９ｇを１時間かけ滴
下させた。その後３時間撹伴し、反応させた。
ロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3ＳＯ2Ｃｌ）を２
２．１ｇ加え、無水アンモニアを２．２３ｇ導入し、反
応温度２０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍｌ
で希釈したトリエチルアミン１９．９ｇを１時間かけ滴
下させた。その後３時間撹伴し、反応させた。
【００３１】反応生成物溶液からろ過により塩化アンモ
ニウムを除去し、さらにろ液の溶媒を留出させて、ビス
トリフルオロメタンスルホンイミドトリエチルアンモニ
ウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］および
塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ
-］を得た。
ニウムを除去し、さらにろ液の溶媒を留出させて、ビス
トリフルオロメタンスルホンイミドトリエチルアンモニ
ウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］および
塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ
-］を得た。
【００３２】この混合物と水酸化カリウム（ＫＯＨ）を
８．１ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反応させた。
反応混合物をろ過して未溶解分を除去し、ろ液のトリエ
チルアミンおよび水は留出させた。得られた固形分にエ
ーテルを加え、未溶解成分を濾別除去し、エーテルを留
出させて、ビストリフルオロメタンスルホンイミドカリ
ウム［Ｋ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ］を１８．７ｇ得た。
８．１ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反応させた。
反応混合物をろ過して未溶解分を除去し、ろ液のトリエ
チルアミンおよび水は留出させた。得られた固形分にエ
ーテルを加え、未溶解成分を濾別除去し、エーテルを留
出させて、ビストリフルオロメタンスルホンイミドカリ
ウム［Ｋ（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ］を１８．７ｇ得た。
【００３３】実施例３ 硝子フラスコにアセトニトリルを７０ｍｌ、ペルフルオ
ロブタンスルホンクロリド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｃｌ）を４
０．０ｇを加え、無水アンモニアを２．１４ｇ導入し、
反応温度４０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍ
ｌで希釈したトリエチルアミン２０．０ｇを２時間かけ
滴下させた。その後５時間撹伴し、反応させた。
ロブタンスルホンクロリド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｃｌ）を４
０．０ｇを加え、無水アンモニアを２．１４ｇ導入し、
反応温度４０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍ
ｌで希釈したトリエチルアミン２０．０ｇを２時間かけ
滴下させた。その後５時間撹伴し、反応させた。
【００３４】反応生成物溶液からろ過により塩化アンモ
ニウムを除去し、さらにろ液の溶媒を蒸留で除去してビ
スペルフルオロブタンスルホンイミドトリエチルアミン
塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎ-］および塩
化トリエチルアミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得
た。
ニウムを除去し、さらにろ液の溶媒を蒸留で除去してビ
スペルフルオロブタンスルホンイミドトリエチルアミン
塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎ-］および塩
化トリエチルアミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得
た。
【００３５】次にこれらの化合物と水酸化リチウム（Ｌ
ｉＯＨ）を３．２ｇ含む水溶液とを混合し８５℃で反応
させた後、以下実施例１と同様の手法によりビスペルフ
ルオロブタンスルホンイミドリチウム［Ｌｉ（Ｃ4Ｆ9Ｓ
Ｏ2）2Ｎ］を３１．３ｇ得た。
ｉＯＨ）を３．２ｇ含む水溶液とを混合し８５℃で反応
させた後、以下実施例１と同様の手法によりビスペルフ
ルオロブタンスルホンイミドリチウム［Ｌｉ（Ｃ4Ｆ9Ｓ
Ｏ2）2Ｎ］を３１．３ｇ得た。
【００３６】実施例４ 硝子フラスコにアセトニトリルを７０ｍｌ、ペルフルオ
ロブタンスルホンクロリド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｃｌ）を４
０．０ｇを加え、無水アンモニアを２．３５ｇ導入し、
反応温度４０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍ
ｌで希釈したトリエチルアミン２０．０ｇを２時間かけ
滴下させた。その後５時間撹伴し、反応させた。
ロブタンスルホンクロリド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｃｌ）を４
０．０ｇを加え、無水アンモニアを２．３５ｇ導入し、
反応温度４０℃で撹拌しながらアセトニトリル１００ｍ
ｌで希釈したトリエチルアミン２０．０ｇを２時間かけ
滴下させた。その後５時間撹伴し、反応させた。
【００３７】反応生成物溶液をろ過して塩化アンモニウ
ムを除去し、さらにろ液の溶媒を蒸留で除去してビスペ
ルフルオロブタンスルホンイミドトリエチルアミン塩
［（Ｃ 2Ｈ5）3ＮＨ+（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎ-］および塩化
トリエチルアミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得
た。
ムを除去し、さらにろ液の溶媒を蒸留で除去してビスペ
ルフルオロブタンスルホンイミドトリエチルアミン塩
［（Ｃ 2Ｈ5）3ＮＨ+（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）2Ｎ-］および塩化
トリエチルアミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得
た。
【００３８】次にこれらの化合物と水酸化カリウム（Ｋ
ＯＨ）を７．７４ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反
応させた後、以下実施例１と同様の手法によりビスペル
フルオロブタンスルホンイミドカリウム［Ｋ（Ｃ4Ｆ9Ｓ
Ｏ2）2Ｎ］を３６．１ｇ得た。
ＯＨ）を７．７４ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反
応させた後、以下実施例１と同様の手法によりビスペル
フルオロブタンスルホンイミドカリウム［Ｋ（Ｃ4Ｆ9Ｓ
Ｏ2）2Ｎ］を３６．１ｇ得た。
【００３９】実施例５ 硝子フラスコにアセトニトリルを５０ｍｌ、トリフルオ
ロメタンスルホンアミド（ＣＦ3ＳＯ2ＮＨ2）を２０．
０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3
ＳＯ2Ｃｌ）を２２．６導入した。その後撹拌しながら
２０℃の温度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈したト
リエチルアミン４０．０ｇを２時間かけ滴下させた。そ
の後３時間撹伴し、反応させた。
ロメタンスルホンアミド（ＣＦ3ＳＯ2ＮＨ2）を２０．
０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3
ＳＯ2Ｃｌ）を２２．６導入した。その後撹拌しながら
２０℃の温度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈したト
リエチルアミン４０．０ｇを２時間かけ滴下させた。そ
の後３時間撹伴し、反応させた。
【００４０】さらに溶媒を蒸留で除去してビストリフル
オロメタンスルホンイミドトリエチルアンモニウム塩
［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］および塩化ト
リエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を
得た。
オロメタンスルホンイミドトリエチルアンモニウム塩
［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］および塩化ト
リエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を
得た。
【００４１】次にこれらの化合物と水酸化リチウム（Ｌ
ｉＯＨ）を６．８０ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で
反応させた。以下実施例１と同様の手法を用いてビスト
リフルオロメタンスルホンイミドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ
3ＳＯ2）2Ｎ］を３６．５ｇ得た。
ｉＯＨ）を６．８０ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で
反応させた。以下実施例１と同様の手法を用いてビスト
リフルオロメタンスルホンイミドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ
3ＳＯ2）2Ｎ］を３６．５ｇ得た。
【００４２】実施例６ 硝子フラスコにアセトニトリル８０ｍｌ、ペルフルオロ
ブタンスルホンアミド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨ2）を４０．０
ｇ、トリフルオロメタンスルホンアミド（ＣＦ 3ＳＯ2Ｃ
ｌ）を２２．５ｇ加え、その後撹拌しながら４０℃の温
度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈したトリエチルア
ミン４０．０ｇを２時間かけ滴下させた。その後、５時
間反応させた。
ブタンスルホンアミド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨ2）を４０．０
ｇ、トリフルオロメタンスルホンアミド（ＣＦ 3ＳＯ2Ｃ
ｌ）を２２．５ｇ加え、その後撹拌しながら４０℃の温
度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈したトリエチルア
ミン４０．０ｇを２時間かけ滴下させた。その後、５時
間反応させた。
【００４３】さらに溶媒を蒸留で除去してペルフルオロ
ブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドトリ
エチルアミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ
2Ｃ4Ｆ9）-］および塩化トリエチルアンモニウム塩
［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得た。
ブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドトリ
エチルアミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ
2Ｃ4Ｆ9）-］および塩化トリエチルアンモニウム塩
［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得た。
【００４４】次にこれらの化合物と水酸化リチウム（Ｌ
ｉＯＨ）を６．７４ｇ含む水溶液とを混合した。以下実
施例１と同様の手法を用いてペルフルオロブタンスルホ
ントリフルオロメタンスルホンイミドリチウム［Ｌｉ
（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）］を５２．３ｇ得た。
ｉＯＨ）を６．７４ｇ含む水溶液とを混合した。以下実
施例１と同様の手法を用いてペルフルオロブタンスルホ
ントリフルオロメタンスルホンイミドリチウム［Ｌｉ
（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）］を５２．３ｇ得た。
【００４５】実施例７ 硝子フラスコにアセトニトリル８０ｍｌ、ペルフルオロ
ブタンスルホンアミド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨ2）を４０ｇ、
トリフルオロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ 3ＳＯ2Ｃ
ｌ）を２２．５ｇ加え、撹拌しながら４０℃の温度でア
セトニトリル２００ｍｌで希釈したトリエチルアミン４
０．０ｇを２時間かけ滴下させた。その後、５時間反応
させた。
ブタンスルホンアミド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2ＮＨ2）を４０ｇ、
トリフルオロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ 3ＳＯ2Ｃ
ｌ）を２２．５ｇ加え、撹拌しながら４０℃の温度でア
セトニトリル２００ｍｌで希釈したトリエチルアミン４
０．０ｇを２時間かけ滴下させた。その後、５時間反応
させた。
【００４６】溶媒を蒸留で除去してペルフルオロブタン
スルホントリフルオロメタンスルホンイミドトリエチル
アミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ
9）-］および塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ
2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得た。
スルホントリフルオロメタンスルホンイミドトリエチル
アミン塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ
9）-］および塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ
2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃｌ-］を得た。
【００４７】次にこれらの化合物と水酸化カリウム（Ｋ
ＯＨ）を１５．７ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反
応させた。以下実施例１と同様の手法を用いてペルフル
オロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド
カリウム［Ｋ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）］を５７．
７ｇ得た。
ＯＨ）を１５．７ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反
応させた。以下実施例１と同様の手法を用いてペルフル
オロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド
カリウム［Ｋ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）］を５７．
７ｇ得た。
【００４８】実施例８ 硝子フラスコにアセトニトリル８０ｍｌ、ペルフルオロ
ブタンスルホンクロリド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｃｌ）を４０．
０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルアミド（ＣＦ3Ｓ
Ｏ2ＮＨ2）を１８．７ｇ加え、撹拌しながら５０℃の温
度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈したトリエチルア
ミン３８．０ｇを２時間かけ滴下させた。その後、５時
間反応させた。
ブタンスルホンクロリド（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2Ｃｌ）を４０．
０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルアミド（ＣＦ3Ｓ
Ｏ2ＮＨ2）を１８．７ｇ加え、撹拌しながら５０℃の温
度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈したトリエチルア
ミン３８．０ｇを２時間かけ滴下させた。その後、５時
間反応させた。
【００４９】溶媒は蒸留で除去してペルフルオロブタン
スルホントリフルオロメタンスルホンイミド塩［（Ｃ2
Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）-］および塩
化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃ
ｌ-］を得た。
スルホントリフルオロメタンスルホンイミド塩［（Ｃ2
Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）-］および塩
化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+Ｃ
ｌ-］を得た。
【００５０】次にこれらの化合物と水酸化カリウム（Ｋ
ＯＨ）を１４．７ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反
応させた。以下実施例１と同様の手法を用いてペルフル
オロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド
カリウム［Ｋ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）］を５１．
３ｇ得た。
ＯＨ）を１４．７ｇ含む水溶液とを混合し、８５℃で反
応させた。以下実施例１と同様の手法を用いてペルフル
オロブタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミド
カリウム［Ｋ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ4Ｆ9）］を５１．
３ｇ得た。
【００５１】実施例９ 硝子フラスコにアセトニトリル８０ｍｌ、ペルフルオロ
オクタンスルホンアミド（Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨ2）を４
０．０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（Ｃ
Ｆ3ＳＯ2Ｃｌ）を１３．５ｇ加え、撹拌しながら５０℃
の温度でアセトニトリル１００ｍｌで希釈したピリジン
１８．０ｇを３時間かけ滴下させた。その後、５０℃で
７時間反応させた。
オクタンスルホンアミド（Ｃ8Ｆ17ＳＯ2ＮＨ2）を４
０．０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（Ｃ
Ｆ3ＳＯ2Ｃｌ）を１３．５ｇ加え、撹拌しながら５０℃
の温度でアセトニトリル１００ｍｌで希釈したピリジン
１８．０ｇを３時間かけ滴下させた。その後、５０℃で
７時間反応させた。
【００５２】その後溶媒を蒸留で除去してペルフルオロ
オクタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドピ
リジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ
8Ｆ17）-］および塩化ピリジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+Ｃ
ｌ-］を得た。
オクタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミドピ
リジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ
8Ｆ17）-］および塩化ピリジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+Ｃ
ｌ-］を得た。
【００５３】次にこれらの化合物と水酸化リチウム（Ｌ
ｉＯＨ ）を４．１ｇ含む水溶液とを混合した。その後
反応混合物を実施例１と同様の手法を用いて、ペルフル
オロオクタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミ
ドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ8Ｆ17）］を４
３．４ｇ得た。
ｉＯＨ ）を４．１ｇ含む水溶液とを混合した。その後
反応混合物を実施例１と同様の手法を用いて、ペルフル
オロオクタンスルホントリフルオロメタンスルホンイミ
ドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ8Ｆ17）］を４
３．４ｇ得た。
【００５４】実施例１０ 硝子フラスコにアセトニトリル８０ｍｌ、ペンタフルオ
ロベンゼンスルホンアミド（Ｃ6Ｆ5ＳＯ2ＮＨ2）を４
０．０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（Ｃ
Ｆ3ＳＯ2Ｃｌ）を２７．３ｇ加え、撹拌しながら４０℃
の温度でピリジン３８．４ｇをアセトニトリル２００ｍ
ｌで希釈した液を２時間かけ滴下させた。その後、５０
℃で７時間反応させた。
ロベンゼンスルホンアミド（Ｃ6Ｆ5ＳＯ2ＮＨ2）を４
０．０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（Ｃ
Ｆ3ＳＯ2Ｃｌ）を２７．３ｇ加え、撹拌しながら４０℃
の温度でピリジン３８．４ｇをアセトニトリル２００ｍ
ｌで希釈した液を２時間かけ滴下させた。その後、５０
℃で７時間反応させた。
【００５５】その後溶媒を蒸留で除去して、ペンタフル
オロベンゼンスルホントリフルオロメタンスルホンイミ
ドピリジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ6
Ｆ5） -］および塩化ピリジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+Ｃｌ-］
を得た。
オロベンゼンスルホントリフルオロメタンスルホンイミ
ドピリジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ6
Ｆ5） -］および塩化ピリジウム塩［Ｃ5Ｈ5ＮＨ+Ｃｌ-］
を得た。
【００５６】次にこれらの化合物と水酸化リチウム（Ｌ
ｉＯＨ）を８．１ｇ含む水溶液とを混合した。その後反
応混合物を実施例１と同様の手法を用いて、ペンタフル
オロベンゼンスルホントリフルオロメタンスルホンイミ
ドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ6Ｆ5）］を５
１．１ｇ得た。
ｉＯＨ）を８．１ｇ含む水溶液とを混合した。その後反
応混合物を実施例１と同様の手法を用いて、ペンタフル
オロベンゼンスルホントリフルオロメタンスルホンイミ
ドリチウム［Ｌｉ（ＣＦ3ＳＯ2ＮＳＯ2Ｃ6Ｆ5）］を５
１．１ｇ得た。
【００５７】実施例１１ 硝子フラスコにアセトニトリルを５０ｍｌ、トリフルオ
ロメタンスルホンアミド（ＣＦ3ＳＯ2ＮＨ2）を２０．
０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3
ＳＯ2Ｃｌ）を２２．６ｇ導入した。その後撹拌しなが
ら２０℃の温度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈した
トリエチルアミンを４０．０ｇを２時間かけ滴下させ
た。その後３時間撹伴した。さらに溶媒を蒸留で除去し
てビストリフルオロメタンスルホンイミドトリエチルア
ンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］
および塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ
Ｈ+Ｃｌ-］を得た。
ロメタンスルホンアミド（ＣＦ3ＳＯ2ＮＨ2）を２０．
０ｇ、トリフルオロメタンスルホニルクロリド（ＣＦ3
ＳＯ2Ｃｌ）を２２．６ｇ導入した。その後撹拌しなが
ら２０℃の温度でアセトニトリル２００ｍｌで希釈した
トリエチルアミンを４０．０ｇを２時間かけ滴下させ
た。その後３時間撹伴した。さらに溶媒を蒸留で除去し
てビストリフルオロメタンスルホンイミドトリエチルア
ンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3ＮＨ+（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-］
および塩化トリエチルアンモニウム塩［（Ｃ2Ｈ5）3Ｎ
Ｈ+Ｃｌ-］を得た。
【００５８】次にこれらの化合物と水酸化カルシウム
（Ｃａ（ＯＨ）2）を１０．４ｇ含む水溶液とを混合
し、８５℃で反応させた。以下実施例１と同様の手法を
用いてビストリフルオロメタンスルホンイミドカルシウ
ム［Ｃａ（（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ）2］を３４．２ｇ得た。
（Ｃａ（ＯＨ）2）を１０．４ｇ含む水溶液とを混合
し、８５℃で反応させた。以下実施例１と同様の手法を
用いてビストリフルオロメタンスルホンイミドカルシウ
ム［Ｃａ（（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ）2］を３４．２ｇ得た。
【００５９】以上の実施例１〜１１で得られたアミン塩
あるいはピリジウム塩は核磁気共鳴により同定した。
あるいはピリジウム塩は核磁気共鳴により同定した。
【００６０】
【発明の効果】本発明の方法により、有機合成や電解質
として有用なスルホンイミド化合物を容易に高収率で製
造することが可能となる。
として有用なスルホンイミド化合物を容易に高収率で製
造することが可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｆ 3/04 Ｃ０７Ｆ 3/04
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） Ｍ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］n （Ｉ） ［式中、Ｒf1及びＲf2は、同じかまたは異なり、炭素原
子数１から１２までの直鎖状または分岐状のペルフルオ
ロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルケニ
ル基、またはフルオロアリル基のいずれかで、Ｍはアル
カリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを表し、
ｎは該当する金属イオンの価数と同数の整数を表す］で
示されるスルホンイミドの製造法における中間体の製造
方法において、 一般式（II） ＲfＳＯ2Ｃｌ （II） ［式中、Ｒfは、一般式（Ｉ）のＲf1またはＲf2と同様
の基を表す］で示されるスルホニルクロリドと無水アン
モニアと、 一般式（III) （Ｒ1）3Ｎ （III) ［式中、Ｒ1は、炭素原子数が１から５のアルキル基を
表す］で示される第３アミンまたは複素環式アミンとを
反応させることを特徴とするスルホンイミド酸とアミン
との塩の製造方法。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ） Ｍ［Ｒf1ＳＯ2−Ｎ−ＳＯ2Ｒf2］n （Ｉ） ［式中、Ｒf1及びＲf2は、同じかまたは異なり、炭素原
子数１から１２までの直鎖状または分岐状のペルフルオ
ロアルキル基、フルオロアルキル基、フルオロアルケニ
ル基、またはフルオロアリル基のいずれかで、Ｍはアル
カリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンを表し、
ｎは該当する金属イオンの価数と同数の整数を表す］で
示されるスルホンイミドの製造法における中間体の製造
方法において、 一般式（II） ＲfＳＯ2Ｃｌ （II） ［式中、Ｒfは、一般式（Ｉ）のＲf1またはＲf2と同様
の基を表す］で示されるスルホニルクロリドと、 一般式（IV） ＲfＳＯ2ＮＨ2 （IV） ［式中、Ｒfは、一般式（Ｉ）のＲf1またはＲf2と同様
の基を表す］で示されるスルホンアミドと、 一般式（III) （Ｒ1）3Ｎ （III) ［式中、Ｒ1は、炭素原子数が１から５のアルキル基を
表す］で示される第３アミンまたは複素環式アミンとを
反応させることを特徴とするスルホンイミド酸とアミン
との塩の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２記載の方法で製
造されたスルホンイミド酸とアミンとの塩であるスルホ
ンイミド置換アンモニウム塩またはスルホンイミド酸と
複素環式アミンとの塩と、アルカリ金属またはアルカリ
土類金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩の中から選ばれる
化合物を水溶液中で反応させ、アミンを遊離させた後、
そのアミンを留出させることを特徴とする一般式（Ｉ）
で示されるスルホンイミドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10008141A JPH11209338A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | スルホンイミドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10008141A JPH11209338A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | スルホンイミドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11209338A true JPH11209338A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11685034
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10008141A Pending JPH11209338A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | スルホンイミドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11209338A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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