JP2003515584A - スルホニルフルオリドからのイミドの製造方法 - Google Patents
スルホニルフルオリドからのイミドの製造方法Info
- Publication number
- JP2003515584A JP2003515584A JP2001541861A JP2001541861A JP2003515584A JP 2003515584 A JP2003515584 A JP 2003515584A JP 2001541861 A JP2001541861 A JP 2001541861A JP 2001541861 A JP2001541861 A JP 2001541861A JP 2003515584 A JP2003515584 A JP 2003515584A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluorinated
- group
- formula
- reaction mixture
- hours
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- OBTWBSRJZRCYQV-UHFFFAOYSA-N sulfuryl difluoride Chemical compound FS(F)(=O)=O OBTWBSRJZRCYQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 129
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 66
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 48
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 34
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 29
- QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N N=S(=O)=O Chemical class N=S(=O)=O QECVIPBZOPUTRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 25
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 24
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 24
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 23
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 22
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 20
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 18
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 17
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- -1 perfluoroalkyl vinyl ether Chemical compound 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000004407 fluoroaryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 8
- HWJPWWYTGBZDEG-AWEZNQCLSA-N (R)-iclaprim Chemical compound O([C@@H](C=CC1=2)C3CC3)C1=C(OC)C(OC)=CC=2CC1=CN=C(N)N=C1N HWJPWWYTGBZDEG-AWEZNQCLSA-N 0.000 claims description 7
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RRZIJNVZMJUGTK-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(1,2,2-trifluoroethenoxy)ethene Chemical group FC(F)=C(F)OC(F)=C(F)F RRZIJNVZMJUGTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 6
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims description 2
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003289 ascorbyl group Chemical group [H]O[C@@]([H])(C([H])([H])O*)[C@@]1([H])OC(=O)C(O*)=C1O* 0.000 claims 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 2
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 168
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 98
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 79
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 41
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 41
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 21
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 18
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 12
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 11
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 8
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LGCMKPRGGJRYGM-UHFFFAOYSA-N Osalmid Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1O LGCMKPRGGJRYGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 6
- FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N sulfanilamide Chemical compound NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 FDDDEECHVMSUSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 241000894007 species Species 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclohexen-1-yl)cyclohexan-1-one Chemical compound O=C1CCCCC1C1=CCCCC1 GVNVAWHJIKLAGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 4
- 229910016855 F9SO2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910003844 NSO2 Inorganic materials 0.000 description 4
- 102100038239 Protein Churchill Human genes 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 4
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 4
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000001543 Corylus americana Nutrition 0.000 description 3
- 240000007582 Corylus avellana Species 0.000 description 3
- 235000007466 Corylus avellana Nutrition 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 229910000095 alkaline earth hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical group FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 2
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N O-demethyl-aloesaponarin I Natural products O=C1C2=CC=CC(O)=C2C(=O)C2=C1C=C(O)C(C(O)=O)=C2C MHABMANUFPZXEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N acetone d6 Chemical compound [2H]C([2H])([2H])C(=O)C([2H])([2H])[2H] CSCPPACGZOOCGX-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 1
- BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N adiponitrile Chemical compound N#CCCCCC#N BTGRAWJCKBQKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000009614 chemical analysis method Methods 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical class FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003701 inert diluent Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000005463 sulfonylimide group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003930 superacid Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
- C07C303/38—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reaction of ammonia or amines with sulfonic acids, or with esters, anhydrides, or halides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/334—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing sulfur
- C08G65/3344—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing sulfur containing oxygen in addition to sulfur
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
方法に関する。このように製造されたイミドは種々の触媒及び電気化学の用途に
有用である。
にフルオロスルホニルフルオリド基を有するビニルエーテル及びオレフィンは、
テトラフルオロエチレン、エチレン、フッ化ビニリデン及び他のオレフィン性及
びフルオロオレフィン性モノマ−と共重合させて、加水分解時に非常に有用なイ
オノマ−へ転化できるポリマ−生成用モノマ−として特に有用であることが分か
っている。このように製造されるイオノマ−の重要な用途分野の1つはリチウム
バッテリ−の分野である。参照、例えばコンノリ−(Connolly)らの米
国特許第3282875号及び共通に譲渡された米国特許願第09/02324
4号及び第09/061132号。
公知であり、特にフッ素化有機スルホニルイミドは技術的に知られている。例え
ばデスマ−トウ(DesMarteau)の米国特許第5463005号は、式
年)は、アセトニトリル中Na2 CO3 の存在下におけるCF2=CF−OCF2 CF2SO2ClのCF3SO2NHNaとの反応によるモノマ− CF2=CF−OCF2CF2SO2N(Na)SO2CF3 の合成を開示している。しかしながらシュエの方法は、最初に二重結合を保護し
ないとスルホニルフルオリド種には適用できない。
時間反応させることによって作られるCF3 SO2 NNa2 も開示している。本
発明者は、シュエの製造法がCF3SO2NHNaからCF3SO2NNa2 への転
化率が10%以下であることを決定した。その上分離法も、CF3SO2NNa2
をより高い収率で得る方策も示されていない。即ちCF3 SO2 NNa2 を非常
に純粋な状態で製造する手段は示されていない。シュエはCF3 SO2 NNa2
が式
F2 SO2 N(Na)SO2 CF3 を生成することを示唆している。またシュエ
は、CF2 =CF−OCF2 CF2 SO2 FとCF3 SO2 NHNaの反応が有
用でない複雑な生成物混合物を与えることも開示している。シュエはCF3 SO 2 NNa2 がスルホニルフルオリド含有化合物をイミドへ転化するのに有効であ
ることを示唆していない。
グ(Chemikee Zeitung)、96(10)、582−583(1
972)は、Rがパ−フルオロアルキルであるRSO2 NH2 の合成法を開示し
ている。
ルホニルフルオリド基を含むフッ素化ビニルエーテルモノマ−を、最初に二重結
合を保護し、次いでスルホニルフルオリドをイミドに転化することによりイミド
化する方法を提供している。
を含むスルホニルフルオリド及びクロリド種をイミド化する方法を開示している
。
接触させ、これらを反応せしめて、式
とを含んでなる方法を提供する。
分を反応させるまたは反応させて少なくとも1つの生成物を生成させることを意
味する。「反応」は随時撹拌及び/または加熱もしくは冷却を含んでいてよい。
質、及び電解用に有用なイオノマ−を与えることのできる非常に広範なイミドを
提供する簡単な方法を提供する。
の二重結合を最初に保護する必要はない。イミド化は二重結合を攻撃することな
く進行しよう。
ようなフッ素化ビニリデンのモノマ−単位及びスルホニルフルオリド官能基を有
するペンダント基を含んでなるモノマ−単位、特にパ−フルオロビニルエ−テル
パ−フルオロアルコキシスルホニルフルオリドを含んでなるポリマ−のイミド化
も同様に有用である。スルホニルフルオリドをイミドへ転化するための技術的方
法は、WO第9941292(A1)号のコポリマ−及びフッ素化ビニリデンの
モノマ−単位を含む他の具体例に対しては、フッ素化ビニリデン残基が塩基に不
安定であるために適用することができない。この技術的方法の適用は、フッ素化
ビニリデン含有ポリマ−のポリマ−主鎖をひどく且つ許容できないほど劣化させ
る。本発明の方法は、フッ素化ビニリデン含有ポリマ−におけるスルホニルフル
オリドのイミドへの転化を、ポリマ−主鎖の劣化なしに進行させる。
するために使用される。「ヒドロカルビル」には、アルキル、シクロアルキル、
アリ−ル、アリ−ルアルキルなどが含まれる。同様に「ヒドロカルベニル」は炭
素と水素からなる2価の基を意味するために使用される。本明細書で用いるよう
なヒドロカルビル及びヒドロカルベニルの両方は、1つまたはそれ以上の不飽和
炭素−炭素結合、1つまたはそれ以上のエーテル酸素を含んでいてよく、また一
部または完全にフッ素化されていてもよい。本質的にいずれのヒドロカルビルま
たはヒドロカルベニル基も、パ−フルオロオレフィン官能基を含む基が本発明の
実施に適当でないことを除いて、本発明の実施に対して適当である。しかしなが
らパ−フルオロビニルエ−テル官能基は好適である。即ち、官能基CF2 =CF
−CF2 −は適当でないが、官能基CF2 =CF−O−は適当であるばかりか好
適でもある。
金属スルホニルアミド塩は、スルホニルフルオリド官能基を有する広範な化合物
からイミドを製造するために、それがポリマ−及び非ポリマ−種に関係なく非常
に有効な試剤であることが発見された。本発明の方法に適当な二金属スルホニル
アミド塩において、R2 はアリ−ル、フルオロ−アリ−ル、またはXCF2−で
あり、但しXはH、ハロゲン、炭素数1−10の、随時1つまたはそれ以上のエ
ーテル酸素で置換されたフッ素化または非フッ素化線状または環式アルキル基で
あり、M´はアルカリ土類金属であり、b=1または2、c=0または1、Mは
bが1の場合アルカリ土類またはbが2でc=0の場合アルカリ金属であり、そ
してMはb=1でc=1の時アルカリ金属であり、なおb=2の時cは1に等し
くない。
あり、そしてb=2である。
される非ポリマ−スルホニルフルオリド組成物を、二金属スルホニルアミド(II
I)と接触させて反応混合物を生成させる。この時m=1または2であり、但し
m=1の時R1 は炭素数1−12の、随時1つもしくはそれ以上のエーテル酸素
、または第三級アミノで置換されたパ−フルオロオレフィンを除くフッ素化また
は非フッ素化飽和または不飽和ヒドロカルビル基であり、或いはm=2の時R1
は炭素数1−12の、随時1つもしくはそれ以上のエーテル酸素で置換されたフ
ッ素化または非フッ素化飽和または不飽和ヒドロカルベニル基である。更に好ま
しくはm=1で、R1 が式 CF2=CF−O−[CF2CF(R4)−Oz]n−CF2CF2− [式中、R4 はFまたは炭素数1−4のパ−フルオロアルキルであり、z=0
は1、及びa=0〜3] で表されるパ−フルオロビニルエ−テルである。最も好ましくはm=1、R4 が
トリフルオロメチル、z=1及びn=0または1である。
量の液体R1 (SO2F)m を用いるならば、不活性な液体希釈剤の不在下に行
ってもよい。しかしながら不活性な希釈剤の不在下においては、反応は不均一に
進行することがあり、急激な分解に至る可能性がある。それゆえに本発明の方法
を不活性な液体希釈剤の存在下に行うことは好適である。本発明の方法に対する
不活性な液体希釈剤として使用するには、多くの中性有機液体が適当である。そ
の必要条件は、その液体性と不活性以外は厳密でない。モノマ−を溶解するが、
NaF副生物を溶解しない溶媒を使用して、それが容易に濾別できることは好適
である。好適な液体はTHFを含むエーテル、ニトリル、DMSO、アミド、お
よびスルホランである。エーテルはより好適で、THFは最も好適である。
室温は本発明の好適な具体例において満足できることが発見された。室温から8
0℃の温度は適当であり、室温から60℃の温度はより適当である。
さもなければかき混ぜる。
a)SO2CF3 (VIII) [式中、n=1] で表せる。−SO2 F基の転化が二重結合の保護を必要としないで行えることは
本発明の特に驚くべき観点である。このように生成する生成物(VIII)は、有利
にはフッ素化オレフィン、非フッ素化オレフィン、フッ素化ビニルエーテル、非
フッ素化ビニルエーテル、およびこれらの組合わせとのコモノマ−として使用し
うる。好適なコモノマ−は、エチレン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオ
ロプロピレン、パ−フルオロアルキルビニルエ−テル、フッ素化ビニリデン、お
よびフッ素化ビニルを含む。モノマ−(VIII)の種々のコモノマ−との共重合は
、例えば上述のデスマ−トウまたは上述のフェイリングの教示に従って行うこと
ができ、或いは更に大まかには上述のコンノリ−の方法で行うことができる。こ
のようにして生成したイオノマ−は種々の電気化学的用途に有用である。
ノマ−(VIII)は、モノマ−(VIII)をTHF中LiClの希釈溶液と接触させ
ることにより、リチウム形にイオン交換し、次いで上に示した重合を行ってもよ
い。別に先ず重合を行い、次いでTHF中LiClでイオン交換してもよい。別
の具体例では、本発明の好適なナトリウムイミドを水性酸と反応させて酸とし、
次いで水性リチウム塩で処理してリチウムイオン組成物を生成させてもよい。
液または溶液中において二金属スルホニルアミド塩(III)と接触させて反応混
合物を形成せしめる。このポリマ−は、式 −[CZ2CZ(R3(SO2F)]− (V) [式中、R3 はオキシアルケニルまたはフルオロオキシアルケニルを含むフッ 素化または非フッ素化アルケニルからなる群から選択される2価の基であり 、そして各Zは独立に水素またはハロゲンであり且つ同一である必要がない ] で表されるモノマ−単位を含んでなる。好ましくはR3 はオキシアルケニルであ
る。第2の好適な具体例では、(V)は式
または1である。
ル%まで含んでいてもよい。それと一緒に導入されるコモノマ−は、技術的に知
られているエチレン、フッ素化ビニリデン(VF2)、フッ素化ビニル、および
これらの組合わせ物を含む多くのオレフィン性不飽和種に由来して、タ−ポリマ
−を生成させてもよい。更なるタ−モノマ−はテトラフルオロエチレン、ヘキサ
フルオロプロピレン、パ−フルオロアルキルビニルエ−テル、および技術的に公
知の他のエチレン性不飽和種を含む。
よびVF2 に由来するコモノマ−単位、最も好ましくはVF2 に由来するモノマ
−単位を少なくとも50モル%含んでなるコポリマ−は本発明の実施に対して特
に好適である。VF2 に由来する単位を少なくとも50モル%有する(IX)のコ
ポリマ−を本発明の方法にしたがって成功裏に反応させることにより対応するイ
ミドにしうることは、本発明の驚くべき観点である。VF2 含有ポリマ−はがよ
く知られているように塩基に不安定であるから、スルホニルフルオリドからイミ
ドを生成させる技術的方法は、その技術のイミド化剤がポリマ−の主鎖を攻撃し
て過度な劣化をもたらすがゆえに、痕跡量以上のVF2 に由来するモノマ−単位
を有するポリマ−には適用できない。
−はそれ自体室温またはその付近で液体であれば、工程の液体分散媒体として働
きうる。しかしながら、不活性な溶媒、好ましくはポリマ−に対する溶媒を使用
することが一般的に好適である。ポリマ−の分子量が増大するにつれて、溶解度
および溶液粘度はますます困難な問題を呈し、均一な反応を困難ならしめる。V
F2 およびコモノマ−(IX)の好適なコポリマ−は、VF2 含有ポリマ−の非フ
ッ素化溶媒への溶解度が他のフルオロポリマ−より比較的高いがゆえに、本発明
の実施に対して特に適当である。
て使用するには、多くの中性有機液体が適当である。上述したようにポリマ−反
応物の溶解度は溶媒を限定する因子である。好適な溶媒はTHFを含むエーテル
、ニトリル、DMSO、アミド、およびスルホランである。エーテルはより好適
で、THFは最も好適である。高分子量と関連した溶解度の制限があるために、
低分子量のポリマ−は好適である。
有する(II)中のアルカリ土類金属がそれぞれ示される組成の異なる重合体鎖2
つに結合して、金属架橋として役立つことを示す意味がある。また鎖の立体配置
に依存してアルカリ土類金属Mは同一のポリマ−鎖の2つのセグメントに結合し
ていてもよい。
いて好適に行われる。上述したシュエは、非常に汚れた(III)を非常に少量で
与える方法だけを教示している。本発明の発明者は、通常の化学分析法によって
、シュエの方法がCF3 SO2 NNa2 を10%以下の転化率で生成させ、反応
生成物の残りのほとんどが未転化の出発物質であることをつき止めた。それには
(III)を純粋な形で製造する方法は示されていない。
)3-bM´c (III)は第1にそれ自体高収率で製造されるべきである。式(III
)において、R2 はアリ−ル、フルオロ−アリ−ル、またはXCF2 −であり、
但しXはH、ハロゲン、炭素数1−10の、随時1つまたはそれ以上のエーテル
酸素で置換されたフッ素化または非フッ素化線状または環式アルキル基であり、
M´はアルカリ土類金属であり、b=1または2、c=0または1、Mはb=1
の場合アルカリ土類またはb=2でc=0の場合アルカリ金属であり、そしてM
はb=1でc=1の時アルカリ金属であり、なおb=2の時cは1に等しくない
。
オロアルキル基である。最も好ましくはMはナトリウム、R2 はトリフルオロメ
チル基である。
ルアミドまたは式(R2SO2NH)3-aM〃 (VII)を有するその一金属スルホ
ニルアミド塩を、少なくとも1つのアルカリまたはアルカリ土類金属ヒドリドお
よび非プロトン性液体と接触させて、好適には100%までの所望のいずれかの
転化率まで反応せしめる反応混合物を生成させることにより、シュエの方法にお
けるより非常に高純度で、即ち50%以上、好ましくは90%以上、最も好まし
くは95%以上の純度で製造できることを発見した。スルホニルアミドまたはそ
の一金属塩(VII)において、a=1または2、M〃 はa=1の時アルカリ土類
金属、M〃 はa=2の時アルカリ金属または水素、およびR2 はアリ−ル、フ
ルオロ−アリ−ル、またはXCF2 −であり、但しXはH、ハロゲン、炭素数1
−10の、随時1つまたはそれ以上のエーテル酸素で置換されたフッ素化または
非フッ素化線状または環式アルキル基である。ヒドリドに関して、1つより多い
アルカリまたはアルカリ土類ヒドリドの混合物、或いはアルカリおよびアルカリ
土類ヒドリドの混合物であってよい。好適ならば反応は、異なるヒドリドを異な
る時間で反応に供することにより段階的に進行させてもよい。
であり、またM〃 はナトリウムである。CF3 SO2 NH2 は本発明の方法に
対して好適なCF3 SO2 NNa2 を製造するのに好適な出発物質である。好適
な中性液体はアセトニトリルである。好ましくはCF3 SO2 NNa2 を製造す
る反応は、1つまたは他の出発物質が完全に消費され、反応が停止するまで続け
られる。より好適には、反応が完結した時、いずれかの出発物質が痕跡量でしか
残っていないように化学量論量を調節する。最も好ましくはヒドリドは僅かに化
学量論量以下で添加される。
溶解しない中性溶媒に溶解する。この溶解度の差は、反応生成物を反応混合物か
ら分離し、塩が上に定義した式(R2SO2NMb)3-bM´c (III)で表される
スルホニルアミド塩を少なくとも50モル%、好ましくは少なくとも90モル%
、最も好ましくは少なくとも95モル%で含んでなる組成物を得るのに利用でき
る。固体を液体から分離するための技術的に公知の簡便法、即ち濾過、遠心分離
、および蒸留を含む方法が使用できる。
媒に依存してこれは常に実際的ではない。ニ−トなアセトニトリル中において、
室温下に約4時間で100%の転化が達成される。しかしながら、ニ−トなTH
F中では、100%の転化に6日の反応が必要である。後者の場合、反応物が完
全に反応する前に反応混合物を分離することが望ましい。上述した今まで知られ
なかった溶解度の差に基づく分離法は、転化率が低い場合に二金属スルホニルア
ミド塩(III)を高純度で分離するための実際的な方法を提供する。
残存ヒドリドは本発明の方法の効率に対して非常に有害ではないことが発見され
た。厳密ではないけれど、本発明の方法に好適なCF3SO2NNa2は実質的に
NaHで汚れていない。これはその製造中に僅かに化学量論量以下のNaHを使
用し、これによって反応が完全転化率を達成した時NaHが消費されていること
を保証することによって達成される。いずれか過剰の可溶性中間体CF3SO2N
HNaは、好ましくは新しい溶媒を用いる洗浄/濾過によって容易に分離される
。
れかの順序で一緒にできるが、最初にスルホニルアミドまたはその一金属塩(II
)を中性液体と混合して溶液を生成させ、次いで溶液が生成した後ヒドリドを添
加すことが好適であることが発見された。ヒドリドの中性溶媒との最初の混合は
予期する転化率よりも貧弱で遅い反応をもたらす。
性液体の融点と沸点の間にあろう。本発明の実施においては、本発明の方法を室
温で行うことで満足できることが発見された。しかしながら、いくらか高温はよ
り速い反応をもたらす。本発明の最も好適な具体例において、アセトニトリルは
0〜80℃、好ましくは室温−80℃、最も好ましくは室温−60℃の温度にお
ける溶媒として使用される。
に水を含むべきでない。水は反応を悪い方向に進ませ、例えばCF3SO2NHN
aおよびNaOHを生成し、アミドの代わりにスルホネ−トを製造する経路を提
供する。好適な具体例において、含水量が約500ppm以下またはそれに等し
いアセトニトリルを用いることが満足できることが発見された。含水量が約50
ppm以下またはそれに等しいことはより好適である。アセトニトリルは全く吸
湿性であり、大気からの水の汚れを避けるために取扱いに注意すべきである。
トリルを含んでなる。アセトニトリルは他の中性溶媒よりかなりの程度に転化を
促進することが分かった。ニ−トなアセトニトリル中で、本質的に定量的な転化
率は約4時間で達成される。上述したシュエの教示するTHF中5%程度の少量
のアセトニトリルでは、本質的に定量的な転化には約25時間かかる。これらの
結果はシュエの教示する条件下で必要とされる6日間と全く対比される。
転化速度に恐ろしく影響することが発見された。アセトニトリルは非常に好適で
ある。他の脂肪族および芳香族ニトリルは、適当であるけれど、シュエの使用し
たTHFよりも特に良好であるように見えない。しかしこれはTHFの代替物と
して使用してもよい。適当なニトリルは、高級アルキルニトリル、ジニトリル、
例えばアジポニトリル、ベンゾニトリル、などを含む。他の適当な溶媒はエーテ
ル、DMF、DMSO、DMAC、およびアミドを含む。適当な溶媒の組合わせ
も適当である。
異なって、スルホニルアミド塩(III)を非常に純粋な形で与える。本明細書に
記述する方法で容易に達成される純度が純度95%以上の高純度形(R2SO2N
Mb)3-bM´c (III)は、純度が(III)の純度に直接依存する純粋なイミド(
I)または(II)を高収率で製造する本発明の方法に使用するのに適当である。
本明細書に記述する製造法のいずれもが(III)を95以上の純度で与えうる。
きである。約25ppmの水蒸気濃度は非常に適当であることが分かった。これ
より高濃度の水蒸気も許容できるが、雰囲気の水蒸気含量が高ければ高いほど、
続く反応での汚染の程度は大きくなるということを理解すべきである。概して、
いずれの場合にも水が少なければ良好である。
気濃度を有する無水の雰囲気に関するものである。これは非酸化雰囲気を暗示す
るものではない。即ち反応は乾燥空気並びに乾燥窒素または他の非化学的活性気
体中で達成しうる。しかしながら乾燥窒素は好適である。
H2 を窒素のような不活性な雰囲気下にアセトニトリル中5〜10重量%の範囲
の濃度で溶解する。より高い濃度において、不溶性のCF3SO2NNa2 生成物
が生成し始めるにつれて、分散液を形成維持するのはより困難となる。それゆえ
に約10重量%より高濃度において、簡単な撹拌以外の撹拌法、例えば超音波撹
拌或いはミクロフル−ディックス社(Microfluidics,Inc.,
Newton,MA)製のミクロフル−ダイザ−TMを用いて達成されるようなミ
クロ流動か好適である。
連続撹拌しつつ添加する。技術的に公知の簡便法で決定される水素ガス発生速度
は、反応の効果的指数であることが分かった。水素ガス流の停止は反応の完結の
信号である。
、化学量論量より僅かな過剰量の添加は、CF3SO2NH2 またはCF3SO2N
HNaのCF3SO2NNa2 への完全な転化を保証する。しかしながら、これは
このように製造されたCF3SO2NNa2 を、分離するのが困難である不溶性の
NaHで汚れた状態にする。しかし残存NaHは本発明においてかつその生成物
に対して非常に不活性であることが発見された。一方目的が最も純粋な可能なC
F3SO2NNa2 を達成することであるならば、化学量論量より僅かに少ないN
aHを用いてNaHが完全に消費されることを保証してもよい。不足量のNaH
の使用は、CF3SO2NH2 またはCF3SO2NHNaのCF3SO2NNa2 へ
の完全に満たない転化をもたらすであろう。可溶性の残存中間体CF3SO2NH
Naは不溶性のCF3SO2NNa2 から容易に洗い除ける。
は材料の自発的および激しい分解の可能性を気にしなければならない。この物質
を完全な乾燥状態で決して取り扱わないことを強く推奨する。物質を常時湿らせ
ておくことを強く推奨する。小さい組成物CF3SO2NNa2 はC4F9SO2N
Na2 のようなより分子量の高い組成物よりも安定でないようにみえる。適当な
温度は特別な組成物に依存する。好適なCF3SO2NNa2 は好ましくは80℃
より高くない、最も好ましくは65℃より高くない温度で乾燥すべきである。好
適なCF3SO2NNa2 を含む本発明の組成物のあるものは、分解閾値まで加熱
した時活発に分解することがみられたが、ある場合には好適なCF3SO2NNa 2 は室温において自発的分解を受けることも見出された。本化合物は、湿気に敏
感であり、無水条件下に加熱すべきである。生成物はいくらか不安定で、潜在的
に爆発的分解に至りうる。
から購入し、水冷(約20℃)した冷フィンガーおよび80℃の油浴を用いて、
約10-3トールの真空下における2回の昇華サイクルにより乾燥・精製した。無
水アセトニトリルはEMサイエンス(Science)(Gibbstown,
NJ)から購入し、P2 O5 と共に撹拌し、蒸留して乾燥し、使用するまでモレ
キュラ−シ−ブ上、ドライボックス内に貯蔵した。水素化ナトリウム(95%)
はアルドリッチ・ケミカル(Aldrich Chemical)から購入した
。
モスフェア社(Vacuum Atmosphere Co.,Hawthor
ne,CA)]内において、丸底フラスコに昇華したCF3SO2NH2 30.0
03gおよび乾燥アセトニトリル750mlを仕込んだ。この反応混合物を磁気
撹拌子で撹拌しながら、水素化ナトリウム9.003gを60分間にわたりゆっ
くりと添加した。反応混合物の温度はこの添加中に21.6℃から50.5℃ま
で上昇した。混合物を室温で20時間撹拌した。約4〜5時間後、反応媒体は不
透明な「クリーム状」の外観を呈し、水素の発生を示す泡立ちが更にみられなか
った。
通して濾過した。白色の固体を無水のアセトニトリル100mlで3回洗浄し、
フィルターからシュレンクフラスコに移し、依然ドライボックス内において室温
で5時間、真空(10-2トール)下に乾燥した。フィルターからシュレンクフラ
スコヘ移す際に、約10%の濾液が失われた。このシュレンクフラスコを密閉し
、ドライボックスから取り出し、室温で15時間、油ポンプの真空(10-3トー
ル)下に更に脱気した。次いでシュレンクフラスコを50℃に設定した油浴に浸
し、浴を65℃に加熱しつつ4時間保ち、そして依然油ポンプの真空(10-3ト
ール)下に脱気しつつ更に20時間保持した。その後、CF3SO2NNa2 はド
ライボックス内だけで取り扱った。
した。
観察され、それゆえにこの物質は乾燥せずに、その代わりにすべての時間懸濁液
として保つことが勧められる。
りC4F9SO2FとNH3から作ったC4F9SO2NH2 5.142g、および実
施例1のように調製したアセトニトリル100mlを仕込んだ。NaH0.78
4gを5分間にわたってゆっくりと添加した。混合物を観察せずに24時間室温
で撹拌した。不溶性のC4F9SO2NNa2 はフラスコの底に沈殿した。反応混
合物をガラスフィルター(細かい孔性)を通して濾過し、白色の残渣を無水アセ
トニトリル50mlで3回洗浄した。残渣をフィルターから集め、シュレンクフ
ラスコ中に入れた。その後、物質をドライボックスの外へ持ち出し、65℃の油
浴温度で24時間、油ポンプの真空(10-3トール)下に乾燥した。C4F9SO 2 NNa2 はドライボックス内だけで取り扱った。生成物4.37gを単離した
。
、それゆえにこの物質は乾燥せずに、その代わりにすべての時間懸濁液として保
つことが勧められる。
F3SO2NH2 3.123gを丸底フラスコ中の無水アセトニトリル100ml
に溶解した。水素化ナトリウム1.127gをゆっくりと添加して第1の反応混
合物を生成させた。NaHの添加は10分間にわたり、その間最初の反応混合物
を室温で磁気撹拌子で撹拌した。3時間後、溶液での19F NMRによりフッ素
は検知出来なかった。これはCF3SO2NH2 のCF3SO2NNa2 への完全な
転化を示し、これによっていくらか残存するNaHを含むCF3SO2NNa2 と
アセトニトリルの混合物を得た。
CF2CF(CF3)OCF2CF2SO2F(PSEPVE)をP2O5とスラリ−
にし、蒸留した。このように処理したPSEPVEを、上述のように調製したC
F3SO2NNa2 およびアセトニトリルの混合物に添加し、第2の反応混合物を
得た。この第2の反応混合物を室温で撹拌した。10分後、混合物は、CF3S
O2NNa2 の完全な反応を示す透明になり、次いでNaF副生物の沈殿を示す
僅かな濁りを示した。30分後、フッ素NMRはPSEPVEの実質的な濃度の
イミド化された形を確認した。この反応した混合物を遠心分離し、次いでガラス
フィルター(中程度の孔性)を通して濾過した。残渣を無水アセトニトリル10
0mlで洗浄した。すべての揮発物を10-3トールの真空下に室温で除去し、僅
かに鳶色の残渣を10-3トールで16時間、110℃に加熱した。収量は9.4
94gであった。
)OCF2CF2SO2N(Na)SO2CF3 を確認した。19 F NMR(CD3CN/フレオン−11中)(CF2 A,A´=CFBOCF2 CC
FD(CF3 E)OCF2 FCF2 GSO2N(Na)SO2CF3 H:−112.6,−
120.9ppm(A,1F、A´,1F),−135.7ppm(B,1F)
,−78.0ppm(CF2,C,2F),−144.2ppm(CF,D,1
F),−79.1ppm(CF3,E,3F),−83.7ppm(CF2,F,
2F),−116.0ppm(CF2,G,2F),−78.9ppm(CF3,
H,3F)。 MS:負の電子スプレー:574.14,M−Na。
りC4F9SO2FとNH3 から作ったC4F9SO2NH2 5.027g、および実
施例1のように調製した無水アセトニトリル100mlを丸底フラスコに仕込ん
だ。水素化ナトリウム(アルドリッチ)0.890gをゆっくりと添加して、第
1の反応混合物を得た。このNaHの添加は10分間かかり、この間反応混合物
を磁気撹拌子で室温下に撹拌した。撹拌22時間後、溶液中の19F NMRでは
、フッ素が検出出来ず、完全な転化を示し、この結果いくらかの残存NaHで汚
れたアセトニトリル中C4F9SO2NNa2 の混合物を得た。
よびアセトニトリルの混合物に添加して、第2の反応混合物を調製した。この第
2の反応混合物を室温で撹拌した。10分後、混合物はCF3SO2NNa2 の完
全な反応を示す透明になり、次いでNaF副生物の沈殿を示す僅かな濁りを示し
た。30分後にとった反応混合物のNMRはPSEPVEのイミド化された形の
実質的な存在を確認した。この反応混合物を遠心分離し、次いでガラスフィルタ
ー(中程度の孔性)を通して濾過した。残渣を無水アセトニトリル100mlで
洗浄した。すべての揮発物を10-3トールの真空下に室温で除去し、僅かに鳶色
の残渣を10-3トールで16時間、110℃に加熱した。収量は8.385gで
あった。
)OCF2CF2SO2N(Na)SO2(CF2)3CF3 を確認した。19 F NMR(CD3 CN/フレオン−11中)(CF2 A,A´=CFBOCF2 C
CFD(CF3 E)OCF2 FCF2 GSO2N(Na)SO2CF2 HCF2 ICF2 JCF3 K :−112.6,−120.7ppm(A,1F、A´,1F),−135.
6ppm(B,1F),−78.0ppm(CF2,C,2F),−144.1
ppm(CF,D,1F),−79.1ppm(CF3,E,3F),−83.
7ppm(CF2,F,2F),−115.9ppm(CF2,G,2F),−1
12.6ppm(CF2,H,2F),−120.6ppm (CF2,I,2F
),−125.8ppm(CF2,J,2F),−79.1ppm(CF3,K,
3F)。 MS:負の電子スプレー:573.98,M−Na。
より乾燥した。ドライボックス内において、実施例1の試剤および装置を用いる
ことにより、昇華したCF3SO2NH2 3.008gを丸底フラスコ中の乾燥ベ
ンゾニトリル90mlに溶解した。第1の反応混合物を生成させるために、反応
混合物を室温下に磁気撹拌子で撹拌しつつ水素化ナトリウム1.018gをゆっ
くり添加した。反応混合物は10分後に外観が変化した。白色の沈殿が生成し、
スラリ−の増粘化が起こった。短時間後に、反応混合物は黄色に変色した。60
分後、反応混合物は赤色になった。6時間後、溶液中に依然フッ素が19F NM
Rで検知出来た。室温において全24時間後に、実施例3のPSEPVE8.5
11gを添加し、これによって第2の反応混合物を生成させた。この第2の反応
混合物を室温で撹拌した。色は赤から黄色に変化した。2時間後の19F NMR
(CD3CN中)は構造CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2SO2N
(Na)SO2CF3 の生成を確認した。
めにある装置を用いた。この装置を図1に示す。磁気撹拌子2を保持する3つ口
丸底フラスコの1つの口に、固体をフラスコに供給するために使用する角度75
°の固体反応物添加具SRAD3を装備した。第2の口に熱電対4を設置し、第
3の口にストップコック5を装備した。このストップコック5を、4cmのタイ
ゴン(TygonR)管片を介して、鉱油を含むアルドリッチの安全パージ(T
M)バルブ7に連結した。この安全パ−ジバルブ7を、ゴムホース8で、水を満
たした600mlのビーカー10中に上下においた水を満たした250mlのメ
スシリンダ−9に連結した。操作中、液体の反応物をいずれかの口を通してフラ
スコに仕込み、SRAD3を所望の量の固体反応物と共に添加し、図面に示され
る下方に向く位置でフラスコ1に取り付けた。ビーカー10に水約50%の容量
までみたし、一方メスシリンダ−9に水を完全に満たした。ストップコック5を
開き、アダプタ−3を、固体反応物がフラスコ中の反応物に添加出来るようにひ
っくり返し、反応を開始させた。水素が反応から発生するにつれて、それはメス
シリンダ−の水に置換し、水素発生の速度および全量を決定する定量手段となっ
た。
昇華したCF3SO2NH2 0.546gを、図1の3つ口丸底フラスコ中の無水
アセトニトリル100mlに溶解した。水素化ナトリウム0.213gをSRA
Dに注意深く入れた。フラスコを周囲深くドライボックスの外に置き、図1の装
置の残りに連結した。すべてを連結した後、反応フラスコへのストップコックを
開いた。反応混合物を室温で撹拌し、SRADを反転して、NaHをフラスコ中
の溶液に供給した。すぐに反応が見られた。5分間にわたって気体50mlを集
めた。反応混合物の温度は23℃から26℃へ上昇した。次の120分間にわた
って、気体の生成は低下し、気体74mlをメスシリンダ−に集めた。この期間
中、反応混合物の外観は変化した。反応混合物中の細かい残渣は濃密な沈殿に変
化し、これが撹拌を停止した時フラスコの底に容易に沈降した。この反応混合物
を室温で更に1時間撹拌し、この期間中に更に10mlの気体を集めた。フラス
コをドライボックスに入れ、溶液試料をNMRに供した。フッ素は検出されず、
CF3SO2NHNaが不溶性のCF3SO2NNa2 へ完全に添加したことを示し
た。
aを製造した。水と過剰のCF3SO2NH2 を真空(10-3トール)下に70℃
で除去した。残渣を10-3トール下に70℃で16時間乾燥した。実施例1の方
法に従い、ドライボックス内部で、磁気撹拌子を有する250mlの2つ口丸底
フラスコにCF3SO2NHNa1.034gを仕込んだ。この物質を実施例1の
無水アセトニトリル100mlに溶解した。次いで3つ口フラスコを2つ口フラ
スコに置き換え、熱電対を省略する以外実施例10の方法に従った。反応混合物
を室温で撹拌し、SRADをひっくり返してフラスコ中の溶液にNaHを供給し
た。すぐに反応は起こらなかった。最初の150分にわたっては、全量で10m
lの発生気体を集めるに過ぎなかった。150分後、気体の発生が始まった。次
の105分にわたって、更に135mlの気体をメスシリンダ−に集めた。この
期間中、反応混合物の外観が変化した。反応混合物の細かい残渣は濃密な沈殿に
変化し、これが撹拌を停止した時フラスコの底に容易に沈降した。この反応混合
物を室温で更に1時間撹拌した。この期間中に更に10mlの気体を集めた。フ
ラスコをドライボックスに入れ、溶液試料をNMRに供した。フッ素は検出され
ず、CF3SO2NHNaが不溶性のCF3SO2NNa2 へ完全に転化したことを
示した。
底フラスコに実施例1におけるように調製した無水アセトニトリル75mlを仕
込んだ。NaH0.189gをSRADに入れた。実施例10のCF3 SO2 N
HNa0.879gを実施例1におけるように調製した無水アセトニトリル25
mlに溶解し、実施例10の熱電対に代わって取り付けられた滴下ロ−トに入れ
た。必要な連結を行った後、反応混合物を室温で撹拌し、NaHを溶媒にすぐに
添加した。3時間にわたり、気体6mlを集めた。CF3SO2NHNa溶液を添
加し、反応混合物を室温で撹拌し続けた。CF3SO2NHNaの添加から1時間
45分間後に、更に気体4mlを集めた。反応混合物は僅かに黄色に変化した。
CF3SO2NHNaの添加から4時間後、反応が始まったようにみえた。モノナ
トリウム塩の添加から6時間40分後に、添加以来全量で80mlの気体を集め
た。反応混合物を更に14時間30分撹拌した。全量で116mlの気体を集め
た。103mlが予想量であった。フラスコをドライボックスに入れ、溶液から
NMR試料を集めた。−80.6ppmに痕跡量に過ぎないフッ素のシグナルが
見られ、CF3SO2NHNaの不溶性のCF3SO2NNa2 への転化が分かった
。
加した。反応混合物はオレンジ色に代わり、室温で15分後に反応混合物は透明
になった。細かい沈殿が生成した。1時間後にNMR試料を集めた。これは生成
物CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2SO2N(Na)SO2CF3の
生成と過剰のPSEPVEを示した。
Na0.93g、NaH(アルドリッチ)0.135gおよび無水THF(アル
ドリッチ、Na金属から蒸留)20mlを仕込んだ。反応混合物を室温で4時間
撹拌し次いでガラスフィルタ−(細かい孔性)を通して濾過した。濾液をフラス
コに集め、ドライボックスから取り出した。すべての溶媒を真空(10-3トール
)下に除去し、残渣を10-3トール下に24時間65℃に加熱した。CF3SO2 NHNaを、出発物質の92.6%に相当する0.862g(5.04モル)を
回収した。乾燥した物質をドライボックスに入れ、CF3SO2NNa2が僅かに
THFに溶解する疑いがあるから無水アセトニトリル50mlを添加した。物質
の大部分はアセトニトリルに溶解し、僅かに痕跡量の固体だけが溶液中に観察さ
れた。この残渣を分離する試みはしなかった。10%以下のCF3SO2NHNa
が室温で4時間後にCF3SO2NNa2 へ転化されたと推定することは信頼性が
あるはずである。
11のCF3SO2NHNa0.866gを仕込んだ。この物質を無水THF(ア
ルドリッチ、Na金属から蒸留、モレキュラ−シ−ブを入れてドライボックス内
に貯蔵)100mlに溶解した。NaH0.171gをSRADに入れた。実施
例10にしたがって必要とされる連結をした後、反応混合物を室温で撹拌し、N
aHを溶液に添加した。明確な反応は観察されなかった。集められた全水素量1
13.3mlは、標準状態での完全な転化に相当した。集められた気体を時間の
関数として表1に示す。 表 1 経過時間 捕集気体 推定 (NaHの添加後) (ml) 転化率% 45分 4 3.5 2時間50分 10 8.8 5時間45分 10 8.8 21時間45分 18 15.9 26時間15分 25 22.1 32時間45分 28 24.7 47時間 38 33.6 49時間15分 43 38.0 53時間30分 47 41.6 84時間45分 53 46.9 86時間45分 55 48.6 97時間15分 65 57.6 118時間 78 69.0 122時間15分 85 75.2 139時間45分 110 97.3 142時間 114 100.5 室温で6日後に反応は完結した。この反応フラスコをドライボックスに入れた
。
で10分間撹拌した後、反応混合物は透明になった。細かい沈殿が生成した。1
時間後にNMR試料を集めた。これは生成物CF2=CFOCF2CF(CF3)
OCF2CF2SO2N(Na)SO2CF3 の生成と過剰のPSEPVEを示した
。
11のCF3SO2NHNa0.633gを仕込んだ。この物質を実施例1におけ
るように調製した無水アセトニトリル100mlに溶解した。NaH0.103
gをSRADに入れた。必要とされる連結をした後、フラスコを50℃の油浴に
浸すことにより反応混合物を加熱・撹拌した。反応混合物を2時間加熱し、フラ
スコ内の圧力を平衡化させた。バブラ−を通して30分間圧力を放出しなかった
。加熱2時間後、NaHを溶液に添加した。明確な反応は20分間観察されなか
った。20分後反応混合物から気体が遊離した。気体約83mlの発生は完全な
反応に相当すると計算出来た。 表 2 経過時間 捕集気体 (NaH添加後) (ml) 20分 0 25分 25 30分 71 35分 85 1時間 0分 91 1時間後に気体の発生は止まった。捕集された気体の記録を表2に示す。反応
混合物を50℃の油浴温度で更に1時間撹拌したが、気体はもはや蓄積しなかっ
た。反応フラスコをドライボックス内に入れ、白色残渣上の透明な溶液からNM
R試料を採取した。−80.6ppmに痕跡量に過ぎないフッ素のシグナルがN
MRスペクトルのノイズ中に検出された。この結果は、CF3SO2NHNaの不
溶性のCF3SO2NNa2 への転化を示した。
応混合物は黄色に代わり、室温で10分の撹拌後に反応混合物は透明になった。
細かい沈殿が生成した。1時間後にNMR試料を集めた。これは生成物CF2=
CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2SO2N(Na)SO2CF3 の生成と過
剰のPSEPVEを示した。
混合物に溶解したCF3SO2NHNa1.195gをフラスコに仕込んだ。Na
H0.195gをSRADに入れた。実施例10の残りの部分を連結した後、フ
ラスコ中の反応物にNaHを添加した。中間体の反応は観察されなかった。最初
の1時間後、全量で4mlにすぎない気体が発生した。次の5時間にわたって、
予想される157mlの内、全量で7mlであった。水素気体を集めた。この反
応混合物を更に観察せずに室温で全25時間撹拌した。この期間中160mlの
気体を集めた。
応混合物は色を変えなかったが、10分間の撹拌後に反応混合物は透明になった
。細かい沈殿が生成した。1時間後にNMR試料を集めた。これは生成物CF2
=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2SO2N(Na)SO2CF3 の生成と
過剰のPSEPVEを示した。
F3SO2NH2 3.033gを丸底フラスコに入れ、無水アセトニトリル500
mlに溶解した。CaH2 (アルドリッチ、90−92%)1.511gを添加
した。この反応反応混合物を、室温で48時間、磁気撹拌子で撹拌した。この期
間の後、反応混合物にはフッ素が検知出来なかった。これはCF3SO2NH2 の
CF3SO2NNa2 への完全な転化を示す。
4時間後、生成物への転化は観察されなかった。
おいてガラスフィルター(中程度の孔性)を通して濾過し、集めた溶液を含むフ
ラスコをドライボックスの外へ取り出した。すべての揮発物を真空(10-3トー
ル)下に除去し、ベージュ色の残渣を10-3トール下に16時間100℃に加熱
した。CDCl3 中19F NMRは構造式(CF2=CFOCF2CF(CF3)
OCF2CF2SO2NSO2CF3)Caを確認した。19 F NMR(CD3CN) (CF2 A,A´=CFBOCF2 CCFD(CF3 E)OCF2 FCF2 GSO2NSO2CF 3 H )2Ca:−114.3,−122.7ppm(A,1F、A´,1F),−
137.3ppm(B,1F),−79.5ppm(CF2,C,2F),−1
45.9ppm(CF,D,1F),−80.9ppm(CF3,E,3F),
−85.5ppm(CF2,F,2F),−117.6ppm(CF2,G,2F
),−80.6ppm(CF3,H,3F)。 MS:負の電子スプレー:573.89,(M−Ca)/2。
51gおよび実施例1のように調製した無水アセトニトリル100mlを仕込ん
だ。水素化ナトリウム(アルドリッチ)1.068gを5分間にわたってゆっく
りと添加した。この混合物をドライボックス内で室温下に26時間撹拌し、フッ
素が検出されなくなるまでフッ素NMRで周期的にチェックした。アルドリッチ
から入手したまま使用したC6 H5 SO2 F3,27gをフラスコに添加した。
このように生成した反応混合物を室温で144時間撹拌した。反応混合物を遠心
分離し、すべての揮発物を反応溶液から除去した。残渣を10-3ト−ル下に24
時間110℃で乾燥した。残渣を無水アセトニトリル100mlに溶解し、濾紙
を通して濾過した。すべての揮発物を溶液から除去した。この残渣を10-3ト−
ル下に16時間110℃で乾燥した。
確認した。
CD3 CN):7.90ppm(2H)、7.54ppm(3H). MS:負の電子スプレー:288.09,M−Na。
2gおよび実施例1のように調製した無水アセトニトリル100mlを仕込んだ
。水素化ナトリウム(アルドリッチ)1.134gを5分間にわたってゆっくり
と添加した。この混合物をドライボックス内で室温下に16時間撹拌した。NM
Rによるとフッ素は検出されなかった。C6H5SO2F(アルドリッチから入手
したまま)2.025gをフラスコに添加した。このように生成した反応混合物
を室温で2時間撹拌した。反応混合物を遠心分離し、すべての揮発物を反応溶液
から除去した。残渣を10-3ト−ル下に24時間110℃で乾燥した。残渣を無
水アセトニトリル100mlに溶解し、濾紙を通して濾過した。すべての揮発物
を溶液から除去した。この残渣を10-3ト−ル下に16時間110℃で乾燥した
。収量は4.20gであった。
を確認した。
D3CN):2.966ppm(3H)。MS:負の電子スプレー:226.0
6,M−Na。
VE(150g)および0.17Mヘキサフルオロプロピレンオキシドダイマ−
ペルオキシド15mlを仕込んだ。容器を密閉し、脱気し、次いで更にフッ素化
ビニリデン(64g)およびCO2 (150g)を仕込み、室温で18時間振盪
した。過剰な圧を放出し、粘稠な残渣を19F NMR(アセトンd6)で分析し
た。これは明らかに残存モノマ−を示した。PSEPVEの推定転化率は約60
%であった。全試料を100℃(0.5mm)で数時間揮発物の除去をした。試
料はむしろ強靭なゴムであり、力をかけると変形した。それはそれ自体の重量下
に室温で顕著に流動しなかった。
5〜−79.8(m,a=7.00)、−91〜−95.5(m,a=4.03
8)、−108〜−115.9(m,a=4.680)、−121.8、−12
2.3、および−122.8(一連のブロードなm,a=1.651)、−12
4〜−127(ブロードなm,a=0.766)、−129.5(a,a=0.
0244,CF3CF2CF2OCF(CF3)フラグメント(末端基)の内部CF 2 )、−144(ブロードなm,PSEPVE側鎖のCF)。積分値はPSEP
VE24.4モル%に一致した。ダイマ−ペルオキシドフラグメントからの末端
基は、すべての末端がこの種であると仮定して、コポリマ−の推定Mn 1060
00を与える。1H NMRは3.2〜2.7のブロードなシグナルだけを示し
た。
℃で乾燥した。このポリマ−に無水THF100mlを添加し、反応混合物を1
6時間還流させて、ポリマ−を溶解させた。実施例1に調製したCF3 SO2 N
Na2 1.344gを室温で2時間にわたって添加した。反応混合物を室温で撹
拌した。反応混合物は3時間後に濁りを生じた。続く6日間にわたって更にCF 3 SO2NNa2 0.418gを添加した。すべてのCF3SO2NNa2 を添加し
た後、生成した反応混合物を50℃に加熱した。50℃で3日後、19F NMR
は反応の完結を示した。
液が暗褐色の残渣から分離出来た。この残渣の分析は、それがほとんどNaFと
過剰のCF3SO2NHNa出発物質であることを示した。すべての揮発物を一緒
にした溶液から除去し、ベージュ色の残渣を10-3ト−ル下に16時間110℃
に加熱した。収量は3.8gであった。19F NMR(d8−THF)は、ポリ
マ−のスルホニルフルオリド基のイミドへの完全な転化を示した。19F NMR
(d8−THF):179〜−85ppm(CF3SO2、CF3(CF)、2xC
F2O、10F)、−90〜−135ppm(CF2SO2、VF2 フッ素)、−
146.0ppm(CF(CF3)、1F);積分値はポリマ−におけるPSE
PVE−イミドが24%であることを示した。1H NMR(d8−THF):2
〜3.8ppm(VF2 プロトン)。
アシュエ・シュエバオ(Huaxue Xuebao)、42(6)、592−
5(1984)の教示に従って合成した。
lを仕込んだ。CH2=CHCH2CF2CF2OCF2CF2SO2 F3.73gを
5分間にわたって滴下した。20−25分後、混合物は透明になり、次いで沈殿
を生じた。この混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物をドライボックスの
中で濾紙により濾過した。すべての揮発物を除去し、白色の残渣を10-3トール
下に16時間100℃まで加熱した。収量は3.635gであった。19F NM
R(CD3CN)は構造CH2=CHCH2CF2CF2OCF2CF2SO2N(Na
)SO2CF3 の生成を確認した。19 F NMR(CD3CN): CH2=CHCH2CF2ACF2BOCF2CF2DSO2N(Na)SO2CF3E
:−80.60ppm(CF3、E、3F),−82.77(CF2、C、2F)
、−88.90ppm(CF2、B、2F)、−118.31ppm(2xCF2 、A+D、4F)。1 H NMR(CD3CN):CH2A=CHBCH2CCF2CF2OCF2−:2
.87ppm(CH2、C、tdt、2H)、5.26ppm(CH2、A、2F
)および5.74ppm(CH、B、1F)。
るために用いる装置を示す。
とを含んでなる方法。
で表される非ポリマ−のスルホニルフルオリド組成物と、または式 −[CZ2CZ(R3(SO2F)]− (V) [式中、R3 はオキシアルキレンまたはフルオロオキシアルキレンを含むフッ 素化または非フッ素化アルキレンからなる群から選択される2価の基であり 、そして各Zは独立に水素またはハロゲンであり且つ同一である必要がない ] で表されるモノマ−単位を含んでなるポリマ−のスルホニルフルオリド組成物と
接触させ、これらを反応せしめて、式
とを含んでなる方法を提供する。
するために使用される。「ヒドロカルビル」には、アルキル、シクロアルキル、
アリ−ル、アリ−ルアルキルなどが含まれる。同様に「ヒドロカルビレン」は炭
素と水素からなる2価の基を意味するために使用される。本明細書で用いるよう
なヒドロカルビル及びヒドロカルビレンの両方は、1つまたはそれ以上の不飽和
炭素−炭素結合、1つまたはそれ以上のエーテル酸素を含んでいてよく、また一
部または完全にフッ素化されていてもよい。本質的にいずれのヒドロカルビルま
たはヒドロカルビレン基も、パ−フルオロオレフィン官能基を含む基が本発明の
実施に適当でないことを除いて、本発明の実施に対して適当である。しかしなが
らパ−フルオロビニルエ−テル官能基は好適である。即ち、官能基CF2 =CF
−CF2 −は適当でないが、官能基CF2 =CF−O−は適当であるばかりか好
適でもある。
される非ポリマ−スルホニルフルオリド組成物を、二金属スルホニルアミド(II
I)と接触させて反応混合物を生成させる。この時m=1または2であり、但し
m=1の時R1 は炭素数1−12の、随時1つもしくはそれ以上のエーテル酸素
、または第三級アミノで置換されたパ−フルオロオレフィンを除くフッ素化また
は非フッ素化飽和または不飽和ヒドロカルビル基であり、或いはm=2の時R1
は炭素数1−12の、随時1つもしくはそれ以上のエーテル酸素で置換されたフ
ッ素化または非フッ素化飽和または不飽和のパ−フルオロアルキレンを除くヒド
ロカルビレン基である。更に好ましくはm=1で、R1 が式 CF2=CF−O−[CF2CF(R4)−Oz]n−CF2CF2− [式中、R4 はFまたは炭素数1−4のパ−フルオロアルキルであり、z=0
は1、及びa=0〜3] で表されるパ−フルオロビニルエ−テルである。最も好ましくはm=1、R4 が
トリフルオロメチル、z=1及びn=0または1である。
液または溶液中において二金属スルホニルアミド塩(III)と接触させて反応混
合物を形成せしめる。このポリマ−は、式 −[CZ2CZ(R3(SO2F)]− (V) [式中、R3 はオキシアルキレンまたはフルオロオキシアルキレンを含むフッ 素化または非フッ素化アルキレンからなる群から選択される2価の基であり 、そして各Zは独立に水素またはハロゲンであり且つ同一である必要がない ] で表されるモノマ−単位を含んでなる。好ましくはR3 はオキシアルキレンであ
る。第2の好適な具体例では、(V)は式
有する(II)中のアルカリ土類金属がそれぞれ示される組成の異なる重合体鎖2
つに結合して、金属架橋として役立つことを示す意味がある。また鎖の立体配置
に依存してアルカリ土類金属Mは同一のポリマ−鎖の2つのセグメントに結合し
ていてもよい。
から購入し、水冷(約20℃)した冷フィンガーおよび80℃の油浴を用いて、
約10-3トール(0.1Pa)の真空下における2回の昇華サイクルにより乾燥
・精製した。無水アセトニトリルはEMサイエンス(Science)(Gib
bstown,NJ)から購入し、P2O5 と共に撹拌し、蒸留して乾燥し、使
用するまでモレキュラ−シ−ブ上、ドライボックス内に貯蔵した。水素化ナトリ
ウム(95%)はアルドリッチ・ケミカル(Aldrich Chemical
)から購入した。
通して濾過した。白色の固体を無水のアセトニトリル100mlで3回洗浄し、
フィルターからシュレンクフラスコに移し、依然ドライボックス内において室温
で5時間、真空(10-2トール,1Pa)下に乾燥した。フィルターからシュレ
ンクフラスコヘ移す際に、約10%の濾液が失われた。このシュレンクフラスコ
を密閉し、ドライボックスから取り出し、室温で15時間、油ポンプの真空(1
0-3トール,0.1Pa)下に更に脱気した。次いでシュレンクフラスコを50
℃に設定した油浴に浸し、浴を65℃に加熱しつつ4時間保ち、そして依然油ポ
ンプの真空(10-3トール,0.1Pa)下に脱気しつつ更に20時間保持した
。その後、CF3SO2NNa2 はドライボックス内だけで取り扱った。
りC4F9SO2FとNH3 から作ったC4F9SO2NH2 5.142g、および実
施例1のように調製したアセトニトリル100mlを仕込んだ。NaH0.78
4gを5分間にわたってゆっくりと添加した。混合物を観察せずに24時間室温
で撹拌した。不溶性のC4F9SO2NNa2 はフラスコの底に沈殿した。反応混
合物をガラスフィルター(細かい孔性)を通して濾過し、白色の残渣を無水アセ
トニトリル50mlで3回洗浄した。残渣をフィルターから集め、シュレンクフ
ラスコ中に入れた。その後、物質をドライボックスの外へ持ち出し、65℃の油
浴温度で24時間、油ポンプの真空(10-3トール,0.1Pa)下に乾燥した
。C4F9SO2NNa2 はドライボックス内だけで取り扱った。生成物4.37
gを単離した。
CF2CF(CF3)OCF2CF2SO2F(PSEPVE)をP2O5とスラリ−
にし、蒸留した。このように処理したPSEPVEを、上述のように調製したC
F3SO2NNa2 およびアセトニトリルの混合物に添加し、第2の反応混合物を
得た。この第2の反応混合物を室温で撹拌した。10分後、混合物は、CF3S
O2NNa2 の完全な反応を示す透明になり、次いでNaF副生物の沈殿を示す
僅かな濁りを示した。30分後、フッ素NMRはPSEPVEの実質的な濃度の
イミド化された形を確認した。この反応した混合物を遠心分離し、次いでガラス
フィルター(中程度の孔性)を通して濾過した。残渣を無水アセトニトリル10
0mlで洗浄した。すべての揮発物を10-3トール(0.1Pa)の真空下に室
温で除去し、僅かに鳶色の残渣を10-3トール(0.1Pa)で16時間、11
0℃に加熱した。収量は9.494gであった。
およびアセトニトリルの混合物に添加して、第2の反応混合物を調製した。この
第2の反応混合物を室温で撹拌した。10分後、混合物はCF3SO2NNa2 の
完全な反応を示す透明になり、次いでNaF副生物の沈殿を示す僅かな濁りを示
した。30分後にとった反応混合物のNMRはPSEPVEのイミド化された形
の実質的な存在を確認した。この反応混合物を遠心分離し、次いでガラスフィル
ター(中程度の孔性)を通して濾過した。残渣を無水アセトニトリル100ml
で洗浄した。すべての揮発物を10-3トール(0.1Pa)の真空下に室温で除
去し、僅かに鳶色の残渣を10-3トール(0.1Pa)で16時間、110℃に
加熱した。収量は8.385gであった。
aを製造した。水と過剰のCF3SO2NH2 を真空(10-3トール、0.1Pa )下に70℃で除去した。残渣を10-3トール(0.1Pa)下に70℃で16
時間乾燥した。実施例1の方法に従い、ドライボックス内部で、磁気撹拌子を有
する250mlの2つ口丸底フラスコにCF3SO2NHNa1.034gを仕込
んだ。この物質を実施例1の無水アセトニトリル100mlに溶解した。次いで
3つ口フラスコを2つ口フラスコに置き換え、熱電対を省略する以外実施例10
の方法に従った。反応混合物を室温で撹拌し、SRADをひっくり返してフラス
コ中の溶液にNaHを供給した。すぐに反応は起こらなかった。最初の150分
にわたっては、全量で10mlの発生気体を集めるに過ぎなかった。150分後
、気体の発生が始まった。次の105分にわたって、更に135mlの気体をメ
スシリンダ−に集めた。この期間中、反応混合物の外観が変化した。反応混合物
の細かい残渣は濃密な沈殿に変化し、これが撹拌を停止した時フラスコの底に容
易に沈降した。この反応混合物を室温で更に1時間撹拌した。この期間中に更に
10mlの気体を集めた。フラスコをドライボックスに入れ、溶液試料をNMR
に供した。フッ素は検出されず、CF3SO2NHNaが不溶性のCF3SO2NN
a2 へ完全に転化したことを示した。
Na0.93g、NaH(アルドリッチ)0.135gおよび無水THF(アル
ドリッチ、Na金属から蒸留)20mlを仕込んだ。反応混合物を室温で4時間
撹拌し次いでガラスフィルタ−(細かい孔性)を通して濾過した。濾液をフラス
コに集め、ドライボックスから取り出した。すべての溶媒を真空(10-3トール ,0.1Pa )下に除去し、残渣を10-3トール(0.1Pa)下に24時間6
5℃に加熱した。CF3SO2NHNaを、出発物質の92.6%に相当する0.
862g(5.04モル)を回収した。乾燥した物質をドライボックスに入れ、
CF3SO2NNa2 が僅かにTHFに溶解する疑いがあるから無水アセトニトリ
ル50mlを添加した。物質の大部分はアセトニトリルに溶解し、僅かに痕跡量
の固体だけが溶液中に観察された。この残渣を分離する試みはしなかった。10
%以下のCF3SO2NHNaが室温で4時間後にCF3SO2NNa2 へ転化され
たと推定することは信頼性があるはずである。
おいてガラスフィルター(中程度の孔性)を通して濾過し、集めた溶液を含むフ
ラスコをドライボックスの外へ取り出した。すべての揮発物を真空(10-3トー
ル,0.1Pa)下に除去し、ベージュ色の残渣を10-3トール(0.1Pa) 下に16時間100℃に加熱した。CDCl3 中19F NMRは構造式(CF2
=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2SO2NSO2CF3)Caを確認した
。19 F NMR(CD3CN) (CF2 A,A´=CFBOCF2 CCFD(CF3 E)OCF2 FCF2 GSO2NSO2CF 3 H )2Ca:−114.3,−122.7ppm(A,1F、A´,1F),−
137.3ppm(B,1F),−79.5ppm(CF2,C,2F),−1
45.9ppm(CF,D,1F),−80.9ppm(CF3,E,3F),
−85.5ppm(CF2,F,2F),−117.6ppm(CF2,G,2F
),−80.6ppm(CF3,H,3F)。 MS:負の電子スプレー:573.89,(M−Ca)/2。
51gおよび実施例1のように調製した無水アセトニトリル100mlを仕込ん
だ。水素化ナトリウム(アルドリッチ)1.068gを5分間にわたってゆっく
りと添加した。この混合物をドライボックス内で室温下に26時間撹拌し、フッ
素が検出されなくなるまでフッ素NMRで周期的にチェックした。アルドリッチ
から入手したまま使用したC6H5SO2F3,27gをフラスコに添加した。こ
のように生成した反応混合物を室温で144時間撹拌した。反応混合物を遠心分
離し、すべての揮発物を反応溶液から除去した。残渣を10-3トール(0.1P a )下に24時間110℃で乾燥した。残渣を無水アセトニトリル100mlに
溶解し、濾紙を通して濾過した。すべての揮発物を溶液から除去した。この残渣
を10-3トール(0.1Pa)下に16時間110℃で乾燥した。
2gおよび実施例1のように調製した無水アセトニトリル100mlを仕込んだ
。水素化ナトリウム(アルドリッチ)1.134gを5分間にわたってゆっくり
と添加した。この混合物をドライボックス内で室温下に16時間撹拌した。NM
Rによるとフッ素は検出されなかった。C6H5SO2F(アルドリッチから入手
したまま)2.025gをフラスコに添加した。このように生成した反応混合物
を室温で2時間撹拌した。反応混合物を遠心分離し、すべての揮発物を反応溶液
から除去した。残渣を10-3ト−ル(0.1Pa)下に24時間110℃で乾燥
した。残渣を無水アセトニトリル100mlに溶解し、濾紙を通して濾過した。
すべての揮発物を溶液から除去した。この残渣を10-3ト−ル(0.1Pa)下
に16時間110℃で乾燥した。収量は4.20gであった。
24時間100℃で乾燥した。このポリマ−に無水THF100mlを添加し、
反応混合物を16時間還流させて、ポリマ−を溶解させた。実施例1に調製した
CF3SO2NNa2 1.344gを室温で2時間にわたって添加した。反応混合
物を室温で撹拌した。反応混合物は3時間後に濁りを生じた。続く6日間にわた
って更にCF3SO2NNa2 0.418gを添加した。すべてのCF3SO2NN
a2 を添加した後、生成した反応混合物を50℃に加熱した。50℃で3日後、 19 F NMRは反応の完結を示した。
液が暗褐色の残渣から分離出来た。この残渣の分析は、それがほとんどNaFと
過剰のCF3SO2NHNa出発物質であることを示した。すべての揮発物を一緒
にした溶液から除去し、ベージュ色の残渣を10-3ト−ル(0.1Pa)下に1
6時間110℃に加熱した。収量は3.8gであった。19F NMR(d8−T
HF)は、ポリマ−のスルホニルフルオリド基のイミドへの完全な転化を示した
。19F NMR(d8−THF):179〜−85ppm(CF3SO2、CF3(
CF)、2xCF2O、10F)、−90〜−135ppm(CF2SO2、VF2 フッ素)、−146.0ppm(CF(CF3)、1F);積分値はポリマ−に
おけるPSEPVE−イミドが24%であることを示した。1H NMR(d8−
THF):2〜3.8ppm(VF2 プロトン)。
lを仕込んだ。CH2=CHCH2CF2CF2OCF2CF2SO2 F3.73gを
5分間にわたって滴下した。20−25分後、混合物は透明になり、次いで沈殿
を生じた。この混合物を室温で3時間撹拌した。反応混合物をドライボックスの
中で濾紙により濾過した。すべての揮発物を除去し、白色の残渣を10-3トール (0.1Pa) 下に16時間100℃まで加熱した。収量は3.635gであっ
た。19F NMR(CD3CN)は構造CH2=CHCH2CF2CF2OCF2CF 2 SO2N(Na)SO2CF3 の生成を確認した。19 F NMR(CD3CN): CH2=CHCH2CF2ACF2BOCF2CF2DSO2N(Na)SO2CF3E
:−80.60ppm(CF3、E、3F),−82.77(CF2、C、2F)
、−88.90ppm(CF2、B、2F)、−118.31ppm(2xCF2 、A+D、4F)。1 H NMR(CD3CN):CH2A=CHBCH2CCF2CF2OCF2−:2
.87ppm(CH2、C、tdt、2H)、5.26ppm(CH2、A、2F
)および5.74ppm(CH、B、1F)。
Claims (30)
- 【請求項1】 液体分散液または溶液中において、 式 (R2SO2NMb)3-bM´c [式中、R2 はアリ−ル、フルオロ−アリ−ル、またはXCF2 −であり、但 しXはH、ハロゲン、炭素数1−10の、随時1つまたはそれ以上のエーテ ル酸素で置換されたフッ素化または非フッ素化線状または環式アルキル基で あり、M´はアルカリ土類金属であり、b=1または2、c=0または1、 Mはbが1の場合アルカリ土類またはbが2でc=0の場合アルカリ金属で あり、そしてMはb=1でc=1の時アルカリ金属であり、なおb=2の時 cは1に等しくない] で表される二金属スルホニルアミド塩を含んでなる組成物を、 式 R1(SO2F)m [式中、m=1または2、但しm=1の時R1 は随時1つもしくはそれ以上の エーテル酸素、または第三級アミノで置換された炭素数1−12のパ−フル オロオレフィンを除くフッ素化または非フッ素化飽和または不飽和ヒドロカ ルビル基であり、或いはm=2の時R1 は炭素数1−12の、随時1つもし くはそれ以上のエーテル酸素で置換されたフッ素化または非フッ素化飽和ま たは不飽和ヒドロカルベニル基である] で表される非ポリマ−のスルホニルフルオリド組成物と、または式 −[CZ2CZ(R3(SO2F)]− [式中、R3 はオキシアルケニルまたはフルオロオキシアルケニルを含むフッ 素化または非フッ素化アルケニルからなる群から選択される2価の基であり 、そしてZは独立に水素またはハロゲンであり且つ同一である必要がない]
で表されるモノマ−単位を含んでなるポリマ−のスルホニルフルオリド組成物と
接触させ、これらを反応せしめて、式 【化1】 [式中、y=1または2、Mはyがそれぞれ1または2の時アルカリまたはア ルカリ土類金属であり、m=1または2、但しm=1の時R1 は随時1つも しくはそれ以上のエーテル酸素、または第三級アミノで置換された炭素数1 −12のパ−フルオロオレフィンを除くフッ素化または非フッ素化飽和また は不飽和ヒドロカルビル基であり、或いはm=2の時R1 は炭素数1−12 の、随時1つもしくはそれ以上のエーテル酸素で置換されたフッ素化または 非フッ素化飽和または不飽和ヒドロカルベニル基であり、なおy=2及びm =2の時Mはアルカリ及びアルカリ土類金属の組合わせを表してよい] で表される非ポリマ−のイミド組成物、または択一的に式 【化2】 [式中、y=1または2、R3はオキシアルケニルまたはフルオロオキシアル ケニルを含むフッ素化または非フッ素化アルケニルからなる群から選択され る2価の基であり、各Zは独立に水素またはハロゲンであり、ここでZは同 一である必要がなく、R2はアリ−ル、フルオロ−アリ−ル、またはXCF2 −であり、但しXはH、ハロゲン、炭素数1−10の、随時1つまたはそれ 以上のエーテル酸素で置換されたフッ素化または非フッ素化線状または環式 アルキル基であり、Mはyが1の時アルカリまたはyが2の時アルカリ土類 金属である] で表されるモノマ−単位を含んでなるポリマ−のイミド組成物を生成させる、こ
とを含んでなる方法。 - 【請求項2】 m=1である、請求項1の方法。
- 【請求項3】 更に不活性な非プロトン性有機液体を含んでなる、請求項1
の方法。 - 【請求項4】 該有機液体がエーテルである、請求項3の方法。
- 【請求項5】 該エーテルがテトラヒドロフランである、請求項4の方法。
- 【請求項6】 R2 がパ−フルオロアルキル基である、請求項1の方法。
- 【請求項7】 R2 がトリフルオロメチル基である、請求項6の方法。
- 【請求項8】 Mがアルカリ金属であり、b=2及びc=0である、請求項
1の方法。 - 【請求項9】 Mがナトリウムである、請求項8の方法。
- 【請求項10】 R1 がパ−フルオロビニルエ−テル基である、請求項2の
方法。 - 【請求項11】 パ−フルオロビニルエ−テル基が式 CF2=CF−O−[CF2CF(R4)−Oz]a−CF2CF2− [式中、R4 はFまたは炭素数1−4のパ−フルオロアルキルであり、z=0 または1、及びa=0〜3] で表される、請求項10の方法。
- 【請求項12】 R4 がトリフルオロメチルであり、z=1、及びa=0ま
たは1である、請求項11の方法。 - 【請求項13】 ZがFである、請求項1の方法。
- 【請求項14】 R3 がパ−フルオロオキシアルケニル基である、請求項1
の方法。 - 【請求項15】 R3 が式 −O−[CF2CF(R4)−Oz]a−CF2CF2− [式中、R4 はFまたは炭素数1−4のパ−フルオロアルキルであり、z=0 または1、及びa=0〜3] で表される、パ−フルオロオキシアルケニル基である、請求項14の方法。
- 【請求項16】 R4 がトリフルオロメチルであり、z=1、及びa=0ま
たは1である、請求項15の方法。 - 【請求項17】 スルホニルフルオリドポリマ−組成物が更にフッ素化され
た、但しパ−フッ素化されてないオレフィン、非フッ素化オレフィン、フッ素化
ビニルエーテル、非フッ素化ビニルエーテル、及びこれらの混合物からなる群に
由来するコモノマ−単位を含んでなる、請求項1の方法。 - 【請求項18】 該コモノマ−単位がエチレン、パ−フルオロアルキルビニ
ルエ−テル、フッ素化ビニリデン、フッ素化ビニル、及びこれらの混合物からな
る群に由来する、請求項17の方法。 - 【請求項19】 コモノマ−単位がフッ素化ビニリデン含んでなる、請求項
18の方法。 - 【請求項20】 該フッ素化ビニリデンがスルホニルフルオリドポリマ−組
成物中に少なくとも50モル%の濃度で存在する、請求項19の方法。 - 【請求項21】 式−[CZ2CZ(R3(SO2F)]−で表されるモノマ
ー単位がスルホニルフルオリドポリマ−中に50モル%までの濃度で存在する、
請求項1の方法。 - 【請求項22】 式−[CZ2CZ(R3(SO2F)]−で表されるモノマ
ー単位がスルホニルフルオリドポリマ−中に20モル%までの濃度で存在する、
請求項21の方法。 - 【請求項23】 更にイオン交換を行ってリチウムイミドを形成させる工程
を含んでなる、請求項9の方法。 - 【請求項24】 ナトリウムイミドを有機塩化リチウム溶液と接触させるこ
とによりイオン交換を行う、請求項23の方法。 - 【請求項25】 二金属スルホニルアミド塩を含んでなる組成物が該二金属
スルホニルアミド塩を少なくとも50モル%含んでなる、請求項1の方法。 - 【請求項26】 組成物が該二金属スルホニルアミド塩を少なくとも90モ
ル%含んでなる、請求項25の方法。 - 【請求項27】 二金属スルホニルアミド塩を非ポリマ−のスルホニルフル
オリド組成物と接触させてそれらを反応させ、非ポリマ−のイミド組成物を形成
させる、請求項1の方法。 - 【請求項28】 二金属スルホニルアミド塩をポリマ−のスルホニルフルオ
リド組成物と接触させてそれらを反応させ、ポリマ−のイミド組成物を形成させ
る、請求項1の方法。 - 【請求項29】 スルホニルフルオリドポリマ−組成物が更にパ−フルオロ
オレフィンに由来するタ−モノマ−単位を含んでなる、請求項18の方法。 - 【請求項30】 該パ−フルオロオレフィンがテトラフルオロエチレン、ヘ
キサフルオロプロピレンまたはこれらの組合わせ物である、請求項29の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16853999P | 1999-12-02 | 1999-12-02 | |
US60/168,539 | 1999-12-02 | ||
PCT/US2000/032672 WO2001040174A1 (en) | 1999-12-02 | 2000-12-01 | Method for preparing imides from sulfonyl fluorides |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003515584A true JP2003515584A (ja) | 2003-05-07 |
JP2003515584A5 JP2003515584A5 (ja) | 2011-04-21 |
JP4723149B2 JP4723149B2 (ja) | 2011-07-13 |
Family
ID=22611911
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001541861A Expired - Fee Related JP4723149B2 (ja) | 1999-12-02 | 2000-12-01 | スルホニルフルオリドからのイミドの製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6759477B2 (ja) |
EP (1) | EP1237858B1 (ja) |
JP (1) | JP4723149B2 (ja) |
KR (1) | KR20020067534A (ja) |
CN (1) | CN1402705A (ja) |
AU (1) | AU1809901A (ja) |
CA (1) | CA2389385A1 (ja) |
DE (1) | DE60012225T2 (ja) |
WO (1) | WO2001040174A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004059533A (ja) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Asahi Kasei Corp | ビススルホニルイミド基含有モノマーの製造方法 |
JP2008266155A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Asahi Kasei Corp | スルホンイミドリチウム塩の製造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1273461C (zh) * | 2001-12-19 | 2006-09-06 | 财团法人野口研究所 | 路易斯酸催化剂组合物 |
CN100442051C (zh) * | 2005-11-28 | 2008-12-10 | 李寿椿 | 4-(n,n-二甲氨基)偶氮苯-4’-磺酰氟及其合成方法和用途 |
CN104447435A (zh) * | 2013-09-18 | 2015-03-25 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 全氟烯烃磺酰亚胺类化合物及其制备方法 |
KR101575439B1 (ko) * | 2013-12-27 | 2015-12-07 | 현대자동차주식회사 | 이종바인더가 적용된 리튬황 전지의 유황 양극 |
CN113845660B (zh) * | 2021-09-26 | 2023-06-09 | 安徽国风新材料股份有限公司 | 一种基于硫氟交换点击化学制备聚酰亚胺薄膜的方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03501860A (ja) * | 1988-10-05 | 1991-04-25 | ソシエテ・ナシオナル・エルフ・アキテーヌ | スルホニルイミドの合成方法 |
JPH0881436A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Central Glass Co Ltd | スルホンイミドの製造方法 |
JPH11209338A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-03 | Central Glass Co Ltd | スルホンイミドの製造方法 |
JP2003514891A (ja) * | 1999-11-23 | 2003-04-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 二金属スルホニルアミド塩の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3282875A (en) | 1964-07-22 | 1966-11-01 | Du Pont | Fluorocarbon vinyl ether polymers |
FR2645533B1 (fr) * | 1989-04-06 | 1991-07-12 | Centre Nat Rech Scient | Procede de synthese de sulfonylimidures |
US5463005A (en) * | 1992-01-03 | 1995-10-31 | Gas Research Institute | Copolymers of tetrafluoroethylene and perfluorinated sulfonyl monomers and membranes made therefrom |
EP0850932B1 (fr) * | 1996-12-30 | 2009-07-22 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Sels d'anions hétérocycliques, et leurs utilisations comme matéreiaux à conductin ionique |
DE69904919T2 (de) * | 1998-03-03 | 2003-11-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Co., Wilmington | Im wesentlichen fluorierte ionomere |
-
2000
- 2000-12-01 EP EP00980900A patent/EP1237858B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-01 CA CA002389385A patent/CA2389385A1/en not_active Abandoned
- 2000-12-01 DE DE60012225T patent/DE60012225T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-12-01 US US10/129,168 patent/US6759477B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-01 JP JP2001541861A patent/JP4723149B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-12-01 CN CN00816376A patent/CN1402705A/zh active Pending
- 2000-12-01 KR KR1020027006864A patent/KR20020067534A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-12-01 WO PCT/US2000/032672 patent/WO2001040174A1/en not_active Application Discontinuation
- 2000-12-31 AU AU18099/01A patent/AU1809901A/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03501860A (ja) * | 1988-10-05 | 1991-04-25 | ソシエテ・ナシオナル・エルフ・アキテーヌ | スルホニルイミドの合成方法 |
JPH0881436A (ja) * | 1994-09-12 | 1996-03-26 | Central Glass Co Ltd | スルホンイミドの製造方法 |
JPH11209338A (ja) * | 1998-01-20 | 1999-08-03 | Central Glass Co Ltd | スルホンイミドの製造方法 |
JP2003514891A (ja) * | 1999-11-23 | 2003-04-22 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 二金属スルホニルアミド塩の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004059533A (ja) * | 2002-07-31 | 2004-02-26 | Asahi Kasei Corp | ビススルホニルイミド基含有モノマーの製造方法 |
JP2008266155A (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Asahi Kasei Corp | スルホンイミドリチウム塩の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6759477B2 (en) | 2004-07-06 |
JP4723149B2 (ja) | 2011-07-13 |
WO2001040174A1 (en) | 2001-06-07 |
KR20020067534A (ko) | 2002-08-22 |
EP1237858A1 (en) | 2002-09-11 |
DE60012225D1 (de) | 2004-08-19 |
CA2389385A1 (en) | 2001-06-07 |
AU1809901A (en) | 2001-06-12 |
DE60012225T2 (de) | 2005-09-08 |
CN1402705A (zh) | 2003-03-12 |
EP1237858B1 (en) | 2004-07-14 |
US20020193499A1 (en) | 2002-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003515584A (ja) | スルホニルフルオリドからのイミドの製造方法 | |
JP2003518170A (ja) | フルオロオレフィンの重合における連鎖移動剤 | |
EP1189880B1 (en) | Fluorinated ionic polymers | |
JP4836352B2 (ja) | 非プロトン性溶媒中での過酸化ジアシルの合成 | |
EP1232143B1 (en) | Method for preparing dimetal sulfonyl amide salts | |
JPH0231086B2 (ja) | ||
EP2238123A1 (en) | Addition reaction to fluoroallylfluorosulfate | |
JP4658379B2 (ja) | 二酸化炭素中での過酸化ジアシルの合成 | |
JP2003515584A5 (ja) | ||
EP1240135B1 (en) | Method for preparing fluorosulfonyl imide monomer | |
US6765115B1 (en) | Method for preparing dimetal sulfonyl amide salts | |
JPH11130743A (ja) | ペルフルオロアルキルビニルエーテル誘導体の製造方法 | |
US20040039142A1 (en) | Fluorinated ionic polymers | |
JPS5911581B2 (ja) | フツ素化ビニルエ−テル化合物及びその製法 | |
RU2213730C1 (ru) | Способ получения перфтор-2-метил-3-оксагексаноилпероксида | |
JPS5887101A (ja) | エチレン系不飽和単量体の重合用組成物 | |
JPS58213749A (ja) | 新規なフツ素化カルボン酸誘導体及びその製造法 | |
JPS5912116B2 (ja) | 新規なフッ素化酸フッ化物及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071129 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080303 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081127 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20081127 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100823 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20101124 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20101201 |
|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524 Effective date: 20110223 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110404 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110407 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |