JPH11207721A - 化粧陶板 - Google Patents
化粧陶板Info
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- JPH11207721A JPH11207721A JP970998A JP970998A JPH11207721A JP H11207721 A JPH11207721 A JP H11207721A JP 970998 A JP970998 A JP 970998A JP 970998 A JP970998 A JP 970998A JP H11207721 A JPH11207721 A JP H11207721A
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- decorative
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は粘土を主成分とする原料を成形し、
その後、乾燥、焼成等して製造する、外壁材、屋根材等
の外装材、内装材、床材、天井材、間仕切り壁、等に使
用する化粧陶板に関するものである。 【構成】 粉体を成形した粘土において、乾燥後にサン
ドブラスト加工を施した化粧陶板Ａである
その後、乾燥、焼成等して製造する、外壁材、屋根材等
の外装材、内装材、床材、天井材、間仕切り壁、等に使
用する化粧陶板に関するものである。 【構成】 粉体を成形した粘土において、乾燥後にサン
ドブラスト加工を施した化粧陶板Ａである
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は粘土を主成分とする原料
を成形し、その後、乾燥、焼成等して製造する、外壁
材、屋根材等の外装材、内装材、床材、天井材、間仕切
り壁、等に使用する化粧陶板に関するものである。
を成形し、その後、乾燥、焼成等して製造する、外壁
材、屋根材等の外装材、内装材、床材、天井材、間仕切
り壁、等に使用する化粧陶板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種化粧陶板を製造する装置と
しては、押出機あるいはプレス成形機、等により所定形
状に成形し、その後、乾燥−施釉−焼成する装置、等に
よって製造していた。
しては、押出機あるいはプレス成形機、等により所定形
状に成形し、その後、乾燥−施釉−焼成する装置、等に
よって製造していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
装置により製造した化粧陶板は釉薬により意匠性は向上
したものの、化粧面は平滑で自然の景観を出すことはで
きないものであった。また、機械的に化粧面に模様を形
成する方法、乾燥前の粘土が柔らかい内に化粧面に模様
を形成する方法、等も行われているが、製品の流れ方向
の模様しか形成できず、自然の景観を出すことができな
かった。
装置により製造した化粧陶板は釉薬により意匠性は向上
したものの、化粧面は平滑で自然の景観を出すことはで
きないものであった。また、機械的に化粧面に模様を形
成する方法、乾燥前の粘土が柔らかい内に化粧面に模様
を形成する方法、等も行われているが、製品の流れ方向
の模様しか形成できず、自然の景観を出すことができな
かった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような欠点
を除去するため、粉体を成形した粘土において、乾燥後
にサンドブラスト加工を施して形成することにより、自
然なデザインを形成できる化粧陶板を提供するものであ
る。
を除去するため、粉体を成形した粘土において、乾燥後
にサンドブラスト加工を施して形成することにより、自
然なデザインを形成できる化粧陶板を提供するものであ
る。
【０００５】
【実施例】以下に、図面を用いて本発明に係る化粧陶板
の一実施例について詳細に説明する。図１（ａ）、
（ｂ）は本発明に係る化粧陶板を製造する工程の代表的
な例を示す説明図であり、原料供給工程ａ−成形工程ｂ
−乾燥工程ｃ−サンドブラスト加工工程ｄ−焼成工程ｅ
よりなるものであり、図２（ａ）に示すように成形した
粘土成形体Ｂを図２（ｂ）に示すような化粧陶板Ａとす
るものである。
の一実施例について詳細に説明する。図１（ａ）、
（ｂ）は本発明に係る化粧陶板を製造する工程の代表的
な例を示す説明図であり、原料供給工程ａ−成形工程ｂ
−乾燥工程ｃ−サンドブラスト加工工程ｄ−焼成工程ｅ
よりなるものであり、図２（ａ）に示すように成形した
粘土成形体Ｂを図２（ｂ）に示すような化粧陶板Ａとす
るものである。
【０００６】さらに詳説すると、原料供給工程ａでは数
種の原料と必要に応じて添加するシャモット等を混練機
（図示せず）を介して混合した粘土を、ベルトコンベア
等の供給機を介して真空押出成形機、あるいは真空土練
押出成形機の一種からなる押出成形機等、あるいは図示
しないがプレス成形機、等よりなる成形工程ｂに供給す
るものである。
種の原料と必要に応じて添加するシャモット等を混練機
（図示せず）を介して混合した粘土を、ベルトコンベア
等の供給機を介して真空押出成形機、あるいは真空土練
押出成形機の一種からなる押出成形機等、あるいは図示
しないがプレス成形機、等よりなる成形工程ｂに供給す
るものである。
【０００７】その粘土の一例としては陶石、長石、カオ
リナイト、ハロイサイト、メタハロイサイト、木節粘
土、蛙目粘土、信楽粘土、等を打ち砕いて粉体とし、こ
れに水を加えて練り上げたものである。また、この粘土
は必要によりマグネットによって除鉄されることもあ
る。勿論、粘土は特に限定されるものではない。
リナイト、ハロイサイト、メタハロイサイト、木節粘
土、蛙目粘土、信楽粘土、等を打ち砕いて粉体とし、こ
れに水を加えて練り上げたものである。また、この粘土
は必要によりマグネットによって除鉄されることもあ
る。勿論、粘土は特に限定されるものではない。
【０００８】乾燥工程ｃは、後記する焼成工程ｅにおい
て水分を多く含んだ粘土成形体Ｂが急激な加熱により爆
裂しないように、事前に乾燥させるための工程であり、
赤外線ヒータ、遠赤外線ヒータ、マイクロ波加熱機、後
述する焼成工程ｄの廃熱等の熱源の一種以上を用い、熱
源によって粘土成形体Ｂの水分を例えば１８〜２０％の
ものを０％（粘土の素材内に存在する水分は残る）〜５
％位までに低減し、保形性を強化するのと、その後の切
断、焼成可能な性状にするためのものである。なお、乾
燥工程ｃは赤外線ヒータ、マイクロ波のみ、あるいは交
互に、もしくは前段と後段のゾーンに分けて配設し、雰
囲気を１８０〜５００℃位に生地がクラックや変形を生
じないような加熱曲線に対応して加熱するものである。
て水分を多く含んだ粘土成形体Ｂが急激な加熱により爆
裂しないように、事前に乾燥させるための工程であり、
赤外線ヒータ、遠赤外線ヒータ、マイクロ波加熱機、後
述する焼成工程ｄの廃熱等の熱源の一種以上を用い、熱
源によって粘土成形体Ｂの水分を例えば１８〜２０％の
ものを０％（粘土の素材内に存在する水分は残る）〜５
％位までに低減し、保形性を強化するのと、その後の切
断、焼成可能な性状にするためのものである。なお、乾
燥工程ｃは赤外線ヒータ、マイクロ波のみ、あるいは交
互に、もしくは前段と後段のゾーンに分けて配設し、雰
囲気を１８０〜５００℃位に生地がクラックや変形を生
じないような加熱曲線に対応して加熱するものである。
【０００９】サンドブラスト加工工程ｄは、その一例と
して示した図２（ａ）に示す粘土成形体Ｂの化粧面１に
対し、図２（ｂ）に示すように表面加工を施すためのも
のである。
して示した図２（ａ）に示す粘土成形体Ｂの化粧面１に
対し、図２（ｂ）に示すように表面加工を施すためのも
のである。
【００１０】さらに詳説すると、サンドブラスト加工工
程ｄは細かい砂を圧縮空気と共に、高速で被加工面（化
粧面１）に衝突させて、被加工面（化粧面１）を削るも
のであり、砂の粗さ、吹き付ける速度を変えることによ
ってガラス、大理石、金属、等の表面を、荒らしたり、
磨いたり、または部分的に覆ってブラストを行うことに
よって文字形成あるいは錆を除去したり、艶消し模様を
付けたり、模様の浮き彫りをしたりするものである。ま
た、砂と水を吹き付ける湿式方式と、乾いた砂を吹き付
ける乾式方式があるものである。なお、「サンドブラス
ト」は「砂吹き機」ともいう。
程ｄは細かい砂を圧縮空気と共に、高速で被加工面（化
粧面１）に衝突させて、被加工面（化粧面１）を削るも
のであり、砂の粗さ、吹き付ける速度を変えることによ
ってガラス、大理石、金属、等の表面を、荒らしたり、
磨いたり、または部分的に覆ってブラストを行うことに
よって文字形成あるいは錆を除去したり、艶消し模様を
付けたり、模様の浮き彫りをしたりするものである。ま
た、砂と水を吹き付ける湿式方式と、乾いた砂を吹き付
ける乾式方式があるものである。なお、「サンドブラス
ト」は「砂吹き機」ともいう。
【００１１】その形成は、一例として図３（ａ）〜
（ｃ）に示すような順序で加工が施されるものである。
図３（ａ）では、サンドブラスト２で化粧面１に艶消し
加工を施し、図３（ｂ）では化粧面１上に残った砂を除
去機３（図ではブロア）にて吹き払い、図３（ｃ）に示
すような断面に加工するものである。また、除去機３と
してエアの他に、回転ブラシ、移動ブラシ、吸引機（掃
除機等）、等を使用したり、これらを併用することもで
きるものである。
（ｃ）に示すような順序で加工が施されるものである。
図３（ａ）では、サンドブラスト２で化粧面１に艶消し
加工を施し、図３（ｂ）では化粧面１上に残った砂を除
去機３（図ではブロア）にて吹き払い、図３（ｃ）に示
すような断面に加工するものである。また、除去機３と
してエアの他に、回転ブラシ、移動ブラシ、吸引機（掃
除機等）、等を使用したり、これらを併用することもで
きるものである。
【００１２】焼成工程ｅは、乾燥した粘土成形体Ｂを焼
成してセラミック化するものであり、ローラハースキル
ン、トンネル型焼成炉の一種、あるいはこれらの組み合
わせからなり、その構成は入口から出口に亘って、常温
−高温（１３００℃位）−常温というように、山状の温
度分布となり、予熱領域、焼成領域、冷却領域の順に一
応区分して構成し、予熱領域の温度は３０〜７００℃、
焼成領域は３００〜１３００℃、冷却領域は６００〜３
０℃位までとしたものである。
成してセラミック化するものであり、ローラハースキル
ン、トンネル型焼成炉の一種、あるいはこれらの組み合
わせからなり、その構成は入口から出口に亘って、常温
−高温（１３００℃位）−常温というように、山状の温
度分布となり、予熱領域、焼成領域、冷却領域の順に一
応区分して構成し、予熱領域の温度は３０〜７００℃、
焼成領域は３００〜１３００℃、冷却領域は６００〜３
０℃位までとしたものである。
【００１３】勿論、粘土の種類、組成によっては各領域
間の温度設定が異なるものであり、かつ、各領域間の温
度も明確に区分するものではなく連続焼成の中での一応
の区分である。さらに焼成工程ｅについて詳細に説明す
ると、焼成工程ｅは可燃ガス、例えばＬＰガスを燃焼さ
せて粘土成形体Ｂを焼成するものであり、そのためのバ
ーナ（図示せず）の配列は前記各領域に対応して設ける
ものである。
間の温度設定が異なるものであり、かつ、各領域間の温
度も明確に区分するものではなく連続焼成の中での一応
の区分である。さらに焼成工程ｅについて詳細に説明す
ると、焼成工程ｅは可燃ガス、例えばＬＰガスを燃焼さ
せて粘土成形体Ｂを焼成するものであり、そのためのバ
ーナ（図示せず）の配列は前記各領域に対応して設ける
ものである。
【００１４】また、焼成工程ｅ内の粘土成形体Ｂの搬送
手段としてはメッシュベルト、金属ローラ、セラミック
ローラ、アルミナローラ等を使用するが、特に焼成領域
の範囲は１３００℃位まで温度が上昇するので、２本の
金属主軸間にアルミナローラを載置して熱が駆動源に伝
達しないようにして搬送するものである。
手段としてはメッシュベルト、金属ローラ、セラミック
ローラ、アルミナローラ等を使用するが、特に焼成領域
の範囲は１３００℃位まで温度が上昇するので、２本の
金属主軸間にアルミナローラを載置して熱が駆動源に伝
達しないようにして搬送するものである。
【００１５】なお、焼成工程ｅの焼成領域は耐火レンガ
等で炉を形成し、その中を直線的に連続して通過させる
ものであり、各機器、領域間には排気ダンパー（図示せ
ず）を配設しておくものである。以上のように、各工程
を通過して粘土成形体Ｂをセラミック化し、化粧陶板Ａ
とするものである。勿論、焼成工程ｅの前後には、施釉
工程（焼成工程ｅの後に形成する場合には焼成工程を含
む）、研磨工程、等を形成でき、焼成工程ｅの後には梱
包工程、等の工程を形成できるものである。
等で炉を形成し、その中を直線的に連続して通過させる
ものであり、各機器、領域間には排気ダンパー（図示せ
ず）を配設しておくものである。以上のように、各工程
を通過して粘土成形体Ｂをセラミック化し、化粧陶板Ａ
とするものである。勿論、焼成工程ｅの前後には、施釉
工程（焼成工程ｅの後に形成する場合には焼成工程を含
む）、研磨工程、等を形成でき、焼成工程ｅの後には梱
包工程、等の工程を形成できるものである。
【００１６】なお、各工程間の一ヶ所、あるいは複数箇
所には図１（ａ）、（ｂ）に点線で示すように、切断工
程ｆを形成し、所定の寸法に切断することができるもの
である。
所には図１（ａ）、（ｂ）に点線で示すように、切断工
程ｆを形成し、所定の寸法に切断することができるもの
である。
【００１７】切断工程ｆで使用する切断機としては、回
転刃（ダイヤモンドソー）、レーザー、水圧（ウォータ
ージェット）、放電加工、刃物、ピアノ線、等により切
断し、定尺の粘土成形体Ｂ（化粧陶板Ａ）とするもので
ある。勿論、成形工程ｂとしてプレス成形機を用いた場
合には、切断工程ｆは使用しないものである。
転刃（ダイヤモンドソー）、レーザー、水圧（ウォータ
ージェット）、放電加工、刃物、ピアノ線、等により切
断し、定尺の粘土成形体Ｂ（化粧陶板Ａ）とするもので
ある。勿論、成形工程ｂとしてプレス成形機を用いた場
合には、切断工程ｆは使用しないものである。
【００１８】以上説明したのは、本発明に係る化粧陶板
の一実施例にすぎず、図４（ａ）〜（ｄ）〜図６（ａ）
〜（ｄ）に示すように形成することができる。
の一実施例にすぎず、図４（ａ）〜（ｄ）〜図６（ａ）
〜（ｄ）に示すように形成することができる。
【００１９】図４（ａ）〜（ｄ）〜図５（ａ）〜（ｅ）
は粘土成形体Ｂ（化粧陶板Ａ）のその他の実施例を示す
断面図である。
は粘土成形体Ｂ（化粧陶板Ａ）のその他の実施例を示す
断面図である。
【００２０】勿論、各工程は必要により金属板、耐火レ
ンガ、等の遮蔽板で囲まれているが、特にサンドブラス
ト加工工程ｄ（サンドブラスト２、除去機３、等）では
粉塵が舞い上がるために、遮蔽板で囲み、吸引機等によ
り粉塵を吸引し、外部に粉塵が飛散しないようにするも
のである。
ンガ、等の遮蔽板で囲まれているが、特にサンドブラス
ト加工工程ｄ（サンドブラスト２、除去機３、等）では
粉塵が舞い上がるために、遮蔽板で囲み、吸引機等によ
り粉塵を吸引し、外部に粉塵が飛散しないようにするも
のである。
【００２１】図６（ａ）〜（ｄ）は化粧面１の平面図で
あり、化粧面１に部分的にサンドブラスト加工を施した
化粧陶板Ａである。
あり、化粧面１に部分的にサンドブラスト加工を施した
化粧陶板Ａである。
【００２２】図７（ａ）、（ｂ）は施釉工程ｇ、研磨工
程ｈを形成した概略工程図を示すものである。
程ｈを形成した概略工程図を示すものである。
【００２３】釉薬としては、例えば、鉛釉、無鉛釉、錫
釉、磁器釉、マジョリカ釉、炉器釉、ブリストル釉、ロ
ッキンガム釉、ゼーゲル磁器釉、生釉、土釉、フリット
釉、揮発釉、光沢釉、マット釉、アベンチュリン釉、結
晶釉、ラスター釉、透明釉、不透明釉等よりなり、化粧
面１上に施釉するものであり、化粧面１の保護（コーテ
ィング）材、化粧材、耐水材、耐久材等として機能する
ものである。
釉、磁器釉、マジョリカ釉、炉器釉、ブリストル釉、ロ
ッキンガム釉、ゼーゲル磁器釉、生釉、土釉、フリット
釉、揮発釉、光沢釉、マット釉、アベンチュリン釉、結
晶釉、ラスター釉、透明釉、不透明釉等よりなり、化粧
面１上に施釉するものであり、化粧面１の保護（コーテ
ィング）材、化粧材、耐水材、耐久材等として機能する
ものである。
【００２４】また、施釉の方法としては、スプレーガ
ン、フローコーター等の一種よりなる施釉機で上記釉薬
を化粧面１上に一定厚さで塗布し、ガス、電気、石油、
赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーター、マイクロ波加熱機
等の乾燥機（図では焼成工程ｅ）により主体の焼成温度
の最高加熱温度よりも低い温度で焼成し釉薬をガラス状
に硬化、定着させるものである。
ン、フローコーター等の一種よりなる施釉機で上記釉薬
を化粧面１上に一定厚さで塗布し、ガス、電気、石油、
赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーター、マイクロ波加熱機
等の乾燥機（図では焼成工程ｅ）により主体の焼成温度
の最高加熱温度よりも低い温度で焼成し釉薬をガラス状
に硬化、定着させるものである。
【００２５】研磨工程ｈは焼成工程ｅにより焼成されて
焼き締まった化粧陶板Ａの化粧面１を先端にダイヤモン
ド研磨ホイルを装着した前後、左右、上下と立体的に移
動可能なポリッシングマシンにより研磨し、化粧面１を
平坦化するものである。
焼き締まった化粧陶板Ａの化粧面１を先端にダイヤモン
ド研磨ホイルを装着した前後、左右、上下と立体的に移
動可能なポリッシングマシンにより研磨し、化粧面１を
平坦化するものである。
【００２６】
【発明の効果】上述したように、本発明に係る化粧陶板
によれば、化粧面が荒れた、石が割れたような模様
（割石調、石積調、割肌調、等）で自然な化粧面を簡単
に形成できる。化粧面が荒れた、石が割れたような
（割石調、石積調、割肌調、等）自然な化粧面を人為的
に形成できる。従来の装置に組み入れるだけで形成で
きる。連続生産が可能である。製造する装置が簡単
で、メンテナンスが容易である。等の特徴、効果があ
る。
によれば、化粧面が荒れた、石が割れたような模様
（割石調、石積調、割肌調、等）で自然な化粧面を簡単
に形成できる。化粧面が荒れた、石が割れたような
（割石調、石積調、割肌調、等）自然な化粧面を人為的
に形成できる。従来の装置に組み入れるだけで形成で
きる。連続生産が可能である。製造する装置が簡単
で、メンテナンスが容易である。等の特徴、効果があ
る。
【図１】本発明に係る化粧陶板を製造する工程の概略を
示す概略説明図である。
示す概略説明図である。
【図２】粘土成形体の一例を示す説明図である。
【図３】サンドブラスト加工工程を示す説明図である。
【図４】粘土成形体と化粧陶板のその他の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図５】粘土成形体と化粧陶板のその他の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図６】粘土成形体と化粧陶板のその他の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図７】本発明に係る化粧陶板を製造する工程のその他
の実施例の概略を示す概略説明図である。
の実施例の概略を示す概略説明図である。
ａ 原料供給工程 ｂ 成形工程 ｃ 乾燥工程 ｄ サンドブラスト加工工程 ｅ 焼成工程 ｆ 切断工程 ｇ 施釉工程 ｈ 研磨工程 Ａ 化粧陶板 Ｂ 粘土成形体 １ 化粧面 ２ サンドブラスト ３ 除去機
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年１月２７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正内容】
【図６】
Claims (1)
- 【請求項１】 粉体を成形した粘土において、乾燥後に
サンドブラスト加工を施すことを特徴とする化粧陶板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP970998A JPH11207721A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 化粧陶板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP970998A JPH11207721A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 化粧陶板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11207721A true JPH11207721A (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=11727788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP970998A Pending JPH11207721A (ja) | 1998-01-21 | 1998-01-21 | 化粧陶板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11207721A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103011797A (zh) * | 2012-12-21 | 2013-04-03 | 蔡锐坤 | 一种高透光度陶瓷精细浮雕板画的制作工艺 |
| CN104760133A (zh) * | 2015-04-04 | 2015-07-08 | 朱国家 | 一种建筑装饰构件的生产设备及其制备工艺 |
-
1998
- 1998-01-21 JP JP970998A patent/JPH11207721A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103011797A (zh) * | 2012-12-21 | 2013-04-03 | 蔡锐坤 | 一种高透光度陶瓷精细浮雕板画的制作工艺 |
| CN103011797B (zh) * | 2012-12-21 | 2014-01-22 | 蔡锐坤 | 一种高透光度陶瓷精细浮雕板画的制作工艺 |
| CN104760133A (zh) * | 2015-04-04 | 2015-07-08 | 朱国家 | 一种建筑装饰构件的生产设备及其制备工艺 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041215 |
|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080219 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20080415 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080624 |