JPH11200595A - 化粧パネル - Google Patents

化粧パネル

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Publication number
JPH11200595A
JPH11200595A JP311898A JP311898A JPH11200595A JP H11200595 A JPH11200595 A JP H11200595A JP 311898 A JP311898 A JP 311898A JP 311898 A JP311898 A JP 311898A JP H11200595 A JPH11200595 A JP H11200595A
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JP
Japan
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film
molding
heating
decorative
curing
Prior art date
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Pending
Application number
JP311898A
Other languages
English (en)
Inventor
Tatsuhisa Matsuoka
竜央 松岡
Shigeru Akashi
繁 明石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IG Technical Research Inc
Original Assignee
IG Technical Research Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は石灰質系素材を主成分とする原料を
成形し、その後、養生、乾燥、等して製造する、外壁
材、屋根材等の外装材、内装材、床材、天井材、間仕切
り壁、等に使用する化粧パネルに関するものである。 【構成】 粉体を成形した石灰質系素材を急速加熱する
と共に、塗膜2により化粧被膜を形成した化粧パネルA
である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は石灰質系素材を主成分と
する原料を成形し、その後、養生、乾燥、等して製造す
る、外壁材、屋根材等の外装材、内装材、床材、天井
材、間仕切り壁、等に使用する化粧パネルに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来、この種化粧パネルを製造する装置
としては、押出機あるいはプレス成形機、等により所定
形状に成形し、その後、養生−乾燥する方法、等によっ
て製造していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
装置により製造した化粧パネルは釉薬により意匠性は向
上したものの、化粧面は平滑で自然の景観を出すことは
できないものであった。また、機械的に化粧面に模様を
形成する方法、乾燥前の石灰質系素材が柔らかい内に化
粧面に模様を形成する方法、等も行われているが、製品
の流れ方向の模様しか形成できず、自然の景観を出すこ
とが難しかった。また、石灰質系パネルは含水し易く、
凍結融解によりひび割れ、剥離が生じる大きな欠点があ
った。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような欠点
を除去するため、粉体を成形した石灰質系素材を急速加
熱すると共に、塗膜により化粧被膜を形成することによ
り、自然なデザインを形成できる化粧パネルを提供する
ものである。
【0005】
【実施例】以下に、図面を用いて本発明に係る化粧パネ
ルの一実施例について詳細に説明する。図1(a)〜
(c)は本発明に係る化粧パネルを製造する装置の代表
的な例を示す説明図であり、原料供給工程a−成形工程
b−養生工程c−加熱兼加工工程d−乾燥工程e−化粧
被膜形成工程f−硬化工程gよりなるものであり、図2
(a)に示すように成形した無機成形体Bを図2(b)
に示すような化粧パネルAとするものである。
【0006】なお、化粧パネルAとしては、材質・製法
区分では、セメントスラグ抄造板、セメントスラグ系成
形板、硬質木片セメント板、押出成形セメント板、コン
クリートパネル、等がある。
【0007】さらに詳説すると、原料供給工程aでは原
料(例えば、セメント、珪酸質系原料、骨材、水、等)
を混練機(図示せず)を介して混合した石灰質系素材
を、ベルトコンベア等の供給機を介して真空押出成形
機、あるいは真空土練押出成形機の一種からなる押出成
形機等、あるいは図示しないがプレス成形機、等よりな
る成形工程bに供給するものである。
【0008】その石灰質系素材を主成分とする原料の一
例としては、セメント(石灰)、珪酸、珪酸カルシウ
ム、補強繊維(ガラス繊維、ロックウール、石綿、木
片、パルプ、スラグ、シリカ、ビニロン、等)、骨材、
水、充填剤、等を用いるものであり、これらを各種割合
で混練したものである。
【0009】養生工程cは一次養生−オートクレーブ養
生、あるいはオートクレーブ養生、等であり、一次養生
は成形した無機成形体Bを倉庫等で養生し、次工程のオ
ートクレーブ養生できる性状にするためのものである。
【0010】オートクレーブ養生(高圧蒸気養生)は、
高温(約180℃)、高圧(約10気圧)を加えて行う
ものであり、無機成形体Bの石灰と珪酸の化学反応を促
進し、無機成形体Bを短時間(約24時間以内)で堅固
に硬化させるためのものである。セメント製品、コンク
リート製品を生産するためのものである。
【0011】加熱兼加工工程dは、その一例として示し
た図2(a)に示す無機成形体Bに対し、図2(b)に
示すように表面加工を施すためのものであり、図3
(a)〜(c)に示すような順序で加工が施されるもの
である。その方法としては、各種熱源Cにより、無機成
形体Bの化粧面1を急速加熱することにより、加工を施
すものである。
【0012】さらに詳細に説明すると、図3(a)に示
すように、熱源Cを無機成形体Bの化粧面1にあて、化
粧面1を急速に加熱すると、無機成形体Bの化粧面1部
分が0.1〜10mm位の深さ、幅が0.1mmから数
十mm位の大きさで弾けて剥がれるものである。また、
その弾けて剥がれたかけら1a(厚さが0.1mmから
10mm位の大きさ、幅が0.1mmから数十mm位の
大きさ)が図3(b)に示すように化粧面1上に残るた
めに、かけら1aを、図示しないがエア、ブラシ等の除
粉機(送風機、回転ブラシ、移動ブラシ、吸引機(掃除
機等)、等)を介して吹き飛ばし、図3(c)、図2
(b)に示すように化粧面1に不規則な凹凸模様(石が
割れたような模様、割石調、石積調、割肌調、等)を形
成するものである。
【0013】勿論、凹凸の深さ、大きさは熱源Cの種
類、温度、熱の噴射速度、無機成形体Bの素材、無機成
形体Bの含水%(石灰質系素材の吸着水、加熱兼加工工
程d前に化粧面1に散布する水等、等)等により左右さ
れるものであり、これらを調整することにより、化粧面
1に所望の凹凸模様を形成するものである。
【0014】熱源Cとしては、マイクロ波、遠赤外線、
レーザー、電磁波、LPガスバーナ、アセチレンバー
ナ、等の一種、あるいは二種以上を組み合わせて使用す
るものである。勿論、これら熱源Cは化粧面1を弾けて
剥がれさせる能力に設定し、使用するものである。な
お、温度、噴射速度の関係でLPガスバーナ、アセチレ
ンバーナが良好であり、先端の温度は1800〜230
0℃位の高温である。
【0015】乾燥工程eは、赤外線ヒータ、遠赤外線ヒ
ータ、マイクロ波加熱機、等の熱源によって無機成形体
Bの水分を0%(石灰質系素材の素材内に存在する水分
は残る)〜5%位までに低減し、保形性を強化するため
のものである。なお、乾燥工程eは赤外線ヒータ、マイ
クロ波のみ、あるいは交互に、もしくは前段と後段のゾ
ーンに分けて配設し、雰囲気を200〜500℃位に生
地がクラックや変形を生じないような加熱曲線に対応し
て加熱するものである。
【0016】化粧被膜形成工程fは、図4(a)〜
(c)に示すように乾燥された無機成形体Bの化粧面1
に塗膜2を形成する工程であり、塗膜2はスプレーガ
ン、フローコータ等の一種よりなる塗布機により塗布す
るものである。塗膜2の原料としては、例えば、合成樹
脂分としてフッ素樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、
ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アル
キッド樹脂、メラミンアルキッド樹脂、ポリエステル樹
脂、ポリエーテル樹脂、フラン樹脂、ビニル樹脂、尿素
樹脂、マイレン酸樹脂、スチレン樹脂、ポリスチレン樹
脂、フェノール樹脂、オイルフリーポリエステル、スチ
レン化アルキッド樹脂、アルミニウムペイント、チリメ
ンエナメル、ビニル共重合体、ポリビニルブチラル、エ
チルセルロース等を用い、これに各種顔料、溶剤を加え
た常温硬化型、加温硬化型、加熱硬化型、紫外線硬化型
の塗料、もしくは釉薬等であり、化粧面1の保護(コー
ティング)材、化粧材、耐水材、耐久材等として機能す
るものである。
【0017】釉薬としては鉛釉、無鉛釉、錫釉、磁器
釉、マジョリカ釉、炉器釉、ブリストル釉、ロッキンガ
ム釉、ゼーゲル磁器釉、生釉、土釉、フリット釉、揮発
釉、光沢釉、マット釉、アベンチュリン釉、結晶釉、ラ
スター釉、透明釉、不透明釉等よりなり、化粧面1の保
護(コーティング)材、化粧材、耐水材、耐久材等とし
て機能するものである。
【0018】勿論、塗膜2として耐火塗料を形成するこ
ともでき、耐火塗料としては、例えば、有機系耐熱塗料
(ポリイミド系、ポリイミドアミド系、ポリフェニレン
スフィド系、ポリエーテルサルフォン系、各種フッ素樹
脂系)、無機変換有機系耐熱塗料(シリコーン樹脂系、
変性シリコーン樹脂系、ポリボロシロキサン系、チラノ
ポリマー・金属アルコキシド系、有機シリケート系、有
機チタネート系)、無機系耐熱塗料(アルカリシリケー
ト系、コロイダルシリカ系、酸性金属リン酸塩系、重ク
ロム酸リン酸系、鉄ほうろう系、アルミほうろう系)等
よりなるものである。
【0019】また、塗膜2として、合成樹脂製のフィル
ムを熱融着したもの等も使用できるものである。この場
合には、次工程の硬化工程gは削除されるものである。
【0020】図4(a)〜(c)において、(a)図は
化粧面1に一定厚さで塗膜2を形成したもの、(b)図
は頂面部分にのみ塗膜2を形成し、無機成形体Bの化粧
面1と、塗膜2による化粧面1が島状に存在するように
形成したもの、(c)図は化粧パネルAの化粧面1が平
面(平面に近い)状態に塗膜2を形成し、塗膜2の厚さ
を変化させることにより、無機成形体Bの化粧面1が浮
き出る部分と浮き出ない部分との相乗効果により化粧面
1に濃淡を形成したものである。
【0021】硬化工程gは、化粧面1に塗布した塗膜2
を硬化させるためのものであり、バーナ(LPガス
等)、赤外線ヒータ、遠赤外線ヒータ、マイクロ波加熱
機、等の熱源によって塗膜2が釉薬の場合には30〜1
300℃位のある加熱曲線で加熱し、塗膜2が合成樹脂
系の場合には30〜300℃位のある加熱曲線に沿って
加熱し、塗膜2を乾燥−硬化させるものである。
【0022】勿論、乾燥工程eの後には梱包工程、等の
工程を形成できるものである。
【0023】なお、各工程間の一ヶ所、あるいは複数箇
所には図1(a)〜(c)に点線で示すように、切断工
程hを形成し、所定の寸法に切断することができるもの
である。
【0024】切断工程hで使用する切断機としては、回
転刃(ダイヤモンドソー)、レーザー、水圧(ウォータ
ージェット)、放電加工、刃物、ピアノ線、等により切
断し、定尺の無機成形体B(化粧パネルA)とするもの
である。勿論、成形工程bとしてプレス成形機を用いた
場合には、切断工程hは使用しないものである。
【0025】また、かけら1aを化粧面1から取り除く
除粉機としては、送風機、回転ブラシ、移動ブラシ、吸
引機(掃除機等)、等である。
【0026】以上説明したのは、本発明に係る化粧パネ
ルの一実施例にすぎず、図5(a)〜(d)〜図6
(a)〜(e)に示すように形成することができる。
【0027】図5(a)〜(e)〜図6(a)〜(d)
は無機成形体B(化粧パネルA)のその他の実施例を示
す断面図である。
【0028】また、成形工程b後、養生工程c後、ある
いは乾燥工程e後、つまり加熱兼加工工程d直前に、化
粧面1に水、湯等(H2 Oを含むもの)を散布し、それ
が乾燥する前に加熱兼加工工程dにより加工をすると、
より弾けて剥がれ易くなり、加工精度が向上し、深い凹
凸、幅広い凹凸、等も形成できるものである。
【0029】さらに、化粧面1に釉薬、有機物(塗料
等)、石油、シンナー、ワックス、等を散布した後に、
加熱兼加工工程dにより加工を施すこともできる。
【0030】勿論、各工程は必要により金属板、耐火レ
ンガ、等の遮蔽板で囲まれているが、特に加熱兼加工工
程dと除粉工程はかけら1aによる粉塵が舞い上がるた
めに、吸引機等により粉塵を吸引し、外部に粉塵が飛散
しないようにするものである。
【0031】また、石灰質系パネル(タイルを除く窯業
系サイディング)の他に、一般的な名称として、押出成
形セメント板、ALC(軽量気泡コンクリート)パネ
ル、コンクリートパネル、等に加熱兼加工工程dにより
加工を施すこともできるものである。勿論、内部に中空
を形成して軽量化を図ることもできるものである。
【0032】
【発明の効果】上述したように、本発明に係る化粧パネ
ルによれば、石が割れたような模様(割石調、石積
調、割肌調、等)で自然な化粧面を簡単に形成できる。
石が割れたような(割石調、石積調、割肌調、等)化
粧面を人為的に形成できる。塗膜を形成したために、
石が割れたような模様との相乗効果により、今までにな
い化粧面を形成できる。塗膜の形成により、含水し易
く凍結融解によりひび割れ、剥離が生じない石灰質系パ
ネルを形成できる。従来の装置に組み入れるだけで形
成できる。連続生産が可能である。装置が簡単で、
メンテナンスが容易である。石灰質系パネルで石のよ
うな外観を形成できる。等の特徴、効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る化粧パネルを製造する工程の概略
を示す概略説明図である。
【図2】無機成形体の一例を示す説明図である。
【図3】加熱兼加工工程を示す説明図である。
【図4】化粧被膜形成工程後の無機成形体を示す説明図
である。
【図5】無機成形体と化粧パネルのその他の実施例を示
す断面図である。
【図6】無機成形体と化粧パネルのその他の実施例を示
す断面図である。
【符号の説明】
a 原料供給工程 b 成形工程 c 養生工程 d 加熱兼加工工程 e 乾燥工程 f 化粧被膜形成工程 g 硬化工程 h 切断工程 A 化粧パネル B 無機成形体 C 熱源 1 化粧面 2 塗膜 1a かけら

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉体を成形した石灰質系素材を急速加熱
    すると共に、塗膜により化粧被膜を形成したことを特徴
    とする化粧パネル。
JP311898A 1998-01-09 1998-01-09 化粧パネル Pending JPH11200595A (ja)

Priority Applications (1)

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JP311898A JPH11200595A (ja) 1998-01-09 1998-01-09 化粧パネル

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JP311898A JPH11200595A (ja) 1998-01-09 1998-01-09 化粧パネル

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JPH11200595A true JPH11200595A (ja) 1999-07-27

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JP (1) JPH11200595A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020096208A (ko) * 2001-06-19 2002-12-31 고동석 현무암을 이용한 건축자재 및 그의 제조방법.
WO2006095430A1 (ja) * 2005-03-10 2006-09-14 Yugenkaisha Japan Tsusyo 組立式ハウス及びその構築方法

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JP4513032B2 (ja) * 2005-03-10 2010-07-28 有限会社ジャパン通商 組立式ハウス及びその構築方法
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