JPH11189568A - ４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法 - Google Patents
４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法Info
- Publication number
- JPH11189568A JPH11189568A JP9357008A JP35700897A JPH11189568A JP H11189568 A JPH11189568 A JP H11189568A JP 9357008 A JP9357008 A JP 9357008A JP 35700897 A JP35700897 A JP 35700897A JP H11189568 A JPH11189568 A JP H11189568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- pts
- solvent
- producing
- hydrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 副生成物の生成が少ない４，４’−ジシクロ
ヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルを温和な条件で
製造する方法を提供すること。 【解決手段】 ルテニウム触媒および溶媒の存在下で
４，４’−ジフェニルジカルボン酸ジメチルエステルに
水素を作用させることを特徴とする、４，４’−ジシク
ロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法。
ヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルを温和な条件で
製造する方法を提供すること。 【解決手段】 ルテニウム触媒および溶媒の存在下で
４，４’−ジフェニルジカルボン酸ジメチルエステルに
水素を作用させることを特徴とする、４，４’−ジシク
ロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、４，４’−ジフェ
ニルジカルボン酸ジメチルエステル（以下、４，４’−
Ｄと略記する）の水素添加により、４，４’−ジシクロ
ヘキシルジカルボン酸ジメチルエステル（以下、４，
４’−ＨＤと略記する）を温和な条件下、高転化率で、
かつ選択的に製造する方法に関する。
ニルジカルボン酸ジメチルエステル（以下、４，４’−
Ｄと略記する）の水素添加により、４，４’−ジシクロ
ヘキシルジカルボン酸ジメチルエステル（以下、４，
４’−ＨＤと略記する）を温和な条件下、高転化率で、
かつ選択的に製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】４，４’−Ｄの２つの芳香環の一方の芳
香環をシクロヘキサン環とした４−（４’−シクロヘキ
サンカルボン酸メチル）ベンゼンカルボン酸メチル（以
下、４，４’−ＣＢＭＥと略記する）を用いた共重合ポ
リマーは、高分子鎖構造中に屈曲性・伸縮性と剛性とを
併せ持ち、結晶性でかつ染色性の良い高機能ポリマーと
なることが知られている（特公昭47-31715号公報、特公
昭47-317953号公報、特公昭47-31954号公報参照）。ま
た４，４’−ＨＤは高分子鎖構造中に屈曲性・伸縮性を
持ち、染色性の良い高機能ポリマーとなることがが期待
できるが、これまで、その工業的な製造方法については
知られていない。
香環をシクロヘキサン環とした４−（４’−シクロヘキ
サンカルボン酸メチル）ベンゼンカルボン酸メチル（以
下、４，４’−ＣＢＭＥと略記する）を用いた共重合ポ
リマーは、高分子鎖構造中に屈曲性・伸縮性と剛性とを
併せ持ち、結晶性でかつ染色性の良い高機能ポリマーと
なることが知られている（特公昭47-31715号公報、特公
昭47-317953号公報、特公昭47-31954号公報参照）。ま
た４，４’−ＨＤは高分子鎖構造中に屈曲性・伸縮性を
持ち、染色性の良い高機能ポリマーとなることがが期待
できるが、これまで、その工業的な製造方法については
知られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】４，４’−Ｄから４，
４’−ＣＢＭＥを製造する方法に関しては、ニッケル系
触媒を用いる方法（特公昭47-31715号公報、特公昭47-3
17953号公報、特公昭47-31954号公報参照）が知られて
いるが、水素圧９．８ＭＰａという高圧条件が必要とな
る。この方法と同様な方法を用いて、４，４’−ＨＤを
製造する限りは、更なる高圧が必要となり、工業的に好
ましくない。そこで、本発明が解決しようとする課題
は、より温和な条件下で、４，４’−Ｄから４，４’−
ＨＤを製造する方法を見出すことである。
４’−ＣＢＭＥを製造する方法に関しては、ニッケル系
触媒を用いる方法（特公昭47-31715号公報、特公昭47-3
17953号公報、特公昭47-31954号公報参照）が知られて
いるが、水素圧９．８ＭＰａという高圧条件が必要とな
る。この方法と同様な方法を用いて、４，４’−ＨＤを
製造する限りは、更なる高圧が必要となり、工業的に好
ましくない。そこで、本発明が解決しようとする課題
は、より温和な条件下で、４，４’−Ｄから４，４’−
ＨＤを製造する方法を見出すことである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かかる現状において、本
発明者らは、４，４’−Ｄの水素添加により４，４’−
ＨＤを得る方法について検討した結果、ルテニウム触媒
および溶媒の存在下、４，４’−Ｄに水素を作用させる
ことにより、かかる課題を解決できることを見出し、さ
らに研究を続けて本発明を完成した。すなわち、本発明
は、ルテニウム触媒および溶媒の存在下で４，４’−ジ
フェニルジカルボン酸ジメチルエステルに水素を作用さ
せることを特徴とする、４，４’−ジシクロヘキシルジ
カルボン酸ジメチルエステルの製造方法である。
発明者らは、４，４’−Ｄの水素添加により４，４’−
ＨＤを得る方法について検討した結果、ルテニウム触媒
および溶媒の存在下、４，４’−Ｄに水素を作用させる
ことにより、かかる課題を解決できることを見出し、さ
らに研究を続けて本発明を完成した。すなわち、本発明
は、ルテニウム触媒および溶媒の存在下で４，４’−ジ
フェニルジカルボン酸ジメチルエステルに水素を作用さ
せることを特徴とする、４，４’−ジシクロヘキシルジ
カルボン酸ジメチルエステルの製造方法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明に用いられる触媒はルテニ
ウムである。この触媒は、担体に支持されていることが
好ましい。触媒を支持する担体は、活性炭、ケイソウ
土、アルミナまたはゼオライトが好ましく、特に活性炭
がその表面積の大きさゆえに好ましい。
ウムである。この触媒は、担体に支持されていることが
好ましい。触媒を支持する担体は、活性炭、ケイソウ
土、アルミナまたはゼオライトが好ましく、特に活性炭
がその表面積の大きさゆえに好ましい。
【０００６】本発明で用いられる触媒の量は、４，４'
−Ｄの量１００重量部に対して、担体を含めた触媒の合
計重量（乾燥状態）が、０．０１〜１０重量部であるこ
とが好ましい。
−Ｄの量１００重量部に対して、担体を含めた触媒の合
計重量（乾燥状態）が、０．０１〜１０重量部であるこ
とが好ましい。
【０００７】本発明において、４，４'−Ｄに水素を作
用させる際の反応温度は好ましくは５０〜２００℃であ
り、より好ましくは６０〜１５０℃である。２００℃を
越えると副生成物が多く生成し、５０℃未満では反応速
度が遅くなる点で望ましくない。
用させる際の反応温度は好ましくは５０〜２００℃であ
り、より好ましくは６０〜１５０℃である。２００℃を
越えると副生成物が多く生成し、５０℃未満では反応速
度が遅くなる点で望ましくない。
【０００８】本発明において４，４'−Ｄに水素を作用
させる際の反応系内の水素の分圧は０．１〜６ＭＰａで
あり、好ましくは１〜５ＭＰａである。
させる際の反応系内の水素の分圧は０．１〜６ＭＰａで
あり、好ましくは１〜５ＭＰａである。
【０００９】本発明を実施する際、反応方法や反応方
式、水素の導入方法などは効率良く行える方法であれば
特に限定はされない。また、水素は不活性の気体と共に
用いられてもよい。
式、水素の導入方法などは効率良く行える方法であれば
特に限定はされない。また、水素は不活性の気体と共に
用いられてもよい。
【００１０】本発明において、作用させる水素の量は
４，４'−Ｄを完全に４，４’−ＨＤに変換させるだけ
の理論量以上であることが望ましい。しかし、あまり過
剰に水素が存在する場合には、副反応生成物が増加する
ので好ましくない。
４，４'−Ｄを完全に４，４’−ＨＤに変換させるだけ
の理論量以上であることが望ましい。しかし、あまり過
剰に水素が存在する場合には、副反応生成物が増加する
ので好ましくない。
【００１１】本発明において用いることのできる溶媒は
原料の４，４'−Ｄおよび水素と、本条件下で反応を起
こさない溶媒であれば特に限定はされないが、反応溶媒
として極性溶媒を用いる場合には反応温度を１６０℃以
下にすることが好ましい。また、２種以上の溶媒を混合
使用してもよい。好ましい溶媒としては、メタノールや
シクロヘキサンなどが挙げられる。
原料の４，４'−Ｄおよび水素と、本条件下で反応を起
こさない溶媒であれば特に限定はされないが、反応溶媒
として極性溶媒を用いる場合には反応温度を１６０℃以
下にすることが好ましい。また、２種以上の溶媒を混合
使用してもよい。好ましい溶媒としては、メタノールや
シクロヘキサンなどが挙げられる。
【００１２】本発明において４，４'−Ｄに水素を作用
させる際に反応系内に存在する溶媒の量は、反応系内の
４，４'−Ｄの量１００重量部に対して１００〜１００
００重量部であることが好ましい。
させる際に反応系内に存在する溶媒の量は、反応系内の
４，４'−Ｄの量１００重量部に対して１００〜１００
００重量部であることが好ましい。
【００１３】本発明の方法で水素化して得られた４，
４’−ＨＤの粗生成物は、触媒を濾過等により除去した
後、例えば減圧蒸留によって精製することができる。
４’−ＨＤの粗生成物は、触媒を濾過等により除去した
後、例えば減圧蒸留によって精製することができる。
【００１４】
【実施例】本明細書における転化率および選択率は下記
の式に基づいて算出したものである。
の式に基づいて算出したものである。
【００１５】
【数１】転化率（％）＝（４，４−Ｄの消費量（モ
ル））／（４，４−Ｄの仕込量（モル））×１００
ル））／（４，４−Ｄの仕込量（モル））×１００
【００１６】
【数２】選択率（％）＝（４，４−ＨＤの生成量（モ
ル））／（４，４−Ｄの消費量（モル））×１００ ［ただし、４，４−ＨＤの生成量は４，４−ＨＤの全異
性体の生成量の合計である。］
ル））／（４，４−Ｄの消費量（モル））×１００ ［ただし、４，４−ＨＤの生成量は４，４−ＨＤの全異
性体の生成量の合計である。］
【００１７】［実施例１］４，４'−Ｄ（４０ｇ）を内
容積５００ｍｌの撹拌機つきオートクレーブの中に、市
販のルテニウムを活性炭に担持させた触媒（５％Ｒｕ−
Ｃ）１．５ｇを８０ｇのメタノールと共に入れた。次
に、オートクレーブ内の空気を窒素置換し、さらに窒素
を水素と置き換えた後に、撹拌機の撹拌速度を１０００
ｒｐｍに調節し、約１時間かけて１００℃まで昇温した
後、オートクレーブ内の圧力を４ＭＰａにまで上げた。
反応系内での水素の消費に伴い、気体状態の水素をオー
トクレーブ内の圧力が４ＭＰａを保つように逐次充填
し、温度を一定に保ちながら５０分間反応を行った。反
応終了後、オートクレーブより取り出した粗生成物から
濾紙を用いて触媒を除いた。濾液を蒸留精製し、４０ｇ
の生成物を得た。ガスクロマトグラフィーを用いた分析
の結果、収率は９３％であった。
容積５００ｍｌの撹拌機つきオートクレーブの中に、市
販のルテニウムを活性炭に担持させた触媒（５％Ｒｕ−
Ｃ）１．５ｇを８０ｇのメタノールと共に入れた。次
に、オートクレーブ内の空気を窒素置換し、さらに窒素
を水素と置き換えた後に、撹拌機の撹拌速度を１０００
ｒｐｍに調節し、約１時間かけて１００℃まで昇温した
後、オートクレーブ内の圧力を４ＭＰａにまで上げた。
反応系内での水素の消費に伴い、気体状態の水素をオー
トクレーブ内の圧力が４ＭＰａを保つように逐次充填
し、温度を一定に保ちながら５０分間反応を行った。反
応終了後、オートクレーブより取り出した粗生成物から
濾紙を用いて触媒を除いた。濾液を蒸留精製し、４０ｇ
の生成物を得た。ガスクロマトグラフィーを用いた分析
の結果、収率は９３％であった。
【００１８】［実施例２］反応温度を１５０℃とするほ
かは、実施例１と同様に行った。結果を表１に示した。
かは、実施例１と同様に行った。結果を表１に示した。
【００１９】［実施例３］原料の４，４'−Ｄが５０
ｇ、触媒として５％Ｒｕ−Ｃが３．７５ｇ、溶媒のメタ
ノールが７５ｇ、とする以外は実施例１と同様に行っ
た。結果を表１に示した。
ｇ、触媒として５％Ｒｕ−Ｃが３．７５ｇ、溶媒のメタ
ノールが７５ｇ、とする以外は実施例１と同様に行っ
た。結果を表１に示した。
【００２０】［実施例４］反応溶媒にシクロヘキサンを
用い、反応温度を１８０℃、原料の４，４'−Ｄが３０
ｇ、触媒として５％Ｒｕ−Ｃが４．５ｇ、溶媒のシクロ
ヘキサンが９０ｇとする以外は実施例１と同様に行っ
た。結果を表１に示した。
用い、反応温度を１８０℃、原料の４，４'−Ｄが３０
ｇ、触媒として５％Ｒｕ−Ｃが４．５ｇ、溶媒のシクロ
ヘキサンが９０ｇとする以外は実施例１と同様に行っ
た。結果を表１に示した。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、水素分圧の低い条件で
４，４’−ＨＤを製造することができ、効率、安全性が
向上するとともに、４，４’−ＨＤを副生成物の少な
い、高い選択率で製造することができる。
４，４’−ＨＤを製造することができ、効率、安全性が
向上するとともに、４，４’−ＨＤを副生成物の少な
い、高い選択率で製造することができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 ルテニウム触媒および溶媒の存在下で
４，４’−ジフェニルジカルボン酸ジメチルエステルに
水素を作用させることを特徴とする、４，４’−ジシク
ロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法。 - 【請求項２】 ５０〜２００℃の温度範囲において０．
１〜６ＭＰａの水素分圧下で反応を行う、請求項１に記
載の４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチル
エステルの製造方法。 - 【請求項３】 ６０〜１５０℃の温度範囲において１〜
５ＭＰａの水素分圧下で反応を行う、請求項１に記載の
４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエス
テルの製造方法。 - 【請求項４】 溶媒が非極性溶媒である、請求項１から
請求項３のいずれかに記載の４，４’−ジシクロヘキシ
ルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9357008A JPH11189568A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | ４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9357008A JPH11189568A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | ４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11189568A true JPH11189568A (ja) | 1999-07-13 |
Family
ID=18451908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9357008A Pending JPH11189568A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | ４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11189568A (ja) |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP9357008A patent/JPH11189568A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| AU767319B2 (en) | Process for preparing sertraline from chiral tetralone | |
| JPH11189568A (ja) | ４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸ジメチルエステルの製造方法 | |
| JP4216563B2 (ja) | フルオレニリデンジアリルフェノールの精製方法 | |
| JP2002003474A (ja) | ピペリジンの製造方法 | |
| JPH1087548A (ja) | １，３−シクロヘキサンジオン化合物の新規製造法 | |
| CA2136885A1 (en) | Process for preparing imidazopyridine derivatives | |
| JPH0673007A (ja) | ２−クロロ−５−アミノメチルピリジンの製造法 | |
| JP2740828B2 (ja) | Ｎ，ｎ―ジイソプロピルエチルアミンの製造法 | |
| JPH11130733A (ja) | ４−（４’−シクロヘキサンカルボン酸メチル）ベンゼンカルボン酸メチルの製造方法 | |
| JPH04149160A (ja) | １―アミノ―４―アルコキシベンゼン類の製造方法 | |
| JP3154598B2 (ja) | Ｎ−（４’−ノニルシクロヘキシル）−４−ノニルアニリン及びその製造方法 | |
| JP2795492B2 (ja) | インドールまたはインドール誘導体の製造方法 | |
| JPS58194843A (ja) | Ｎ−アルキル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フェニレンジアミンの製造法 | |
| JP2851274B2 (ja) | Ｎ，ｎ−ジイソプロピルエチルアミンの製造法 | |
| JPH1129530A (ja) | ４−（４’−シクロヘキサンカルボン酸メチル）ベンゼンカルボン酸メチルの製造方法 | |
| JP3218102B2 (ja) | インドールまたはインドール誘導体の製造方法 | |
| US6121492A (en) | Method for preparing 2-trifluoro-methoxy-aniline | |
| JP4224144B2 (ja) | Ｎ−アルキルピリジンメタンアミン類の製造方法 | |
| JP2996713B2 (ja) | ２，３―シクロヘキセノピリジンの製造方法 | |
| JP2815636B2 (ja) | ２‐アミノメチルピラジン類および／または２‐アミノメチルピペラジン類の製造法 | |
| WO2006108910A1 (en) | Detomidine hydrochloride crystallization method | |
| JPH04257536A (ja) | シクロヘキサン環を有するジオール化合物及びシクロヘキサン環を有するジオール化合物の製造方法 | |
| JP3177350B2 (ja) | ジノニルジフェニルアミンの製造法 | |
| JP2001342166A (ja) | ３−アミノプロパノールの精製方法 | |
| JPH0528225B2 (ja) |