JPH11186324A - バンプ付電子部品の実装方法 - Google Patents
バンプ付電子部品の実装方法Info
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Abstract
した低コストのバンプ付電子部品の実装方法を提供する
ことを目的とする。 【解決手段】 基板1の銅電極2a上にニッケルのバリ
ア層2b、金膜2cを形成し、金膜2c上に金バンプ3
を形成する。基板1へのバンプ付電子部品5の搭載に先
立って基板1上に半田の融点温度よりも高い硬化温度を
有する熱硬化性のボンド4を塗布し、バンプ付電子部品
5の搭載時には、金バンプ3に半田バンプ8を押圧する
ことにより半田バンプ8の表面の酸化膜8aを破壊す
る。これにより、フラックスを使用せずにバンプ付電子
部品5を基板1に半田付けすることができ、またアンダ
ーフィル樹脂としてのボンド4を基板1と電子部品5の
隙間に安定して充填することができる。
Description
どのバンプ付電子部品を基板に実装するバンプ付電子部
品の実装方法に関するものである。
半田付けして実装する方法として、予め電子部品の電極
上に半田バンプを形成してバンプ付電子部品とし、この
半田バンプを基板の電極に半田接合する方法が知られて
いる。半田接合に際しては、予め半田バンプまたは基板
の電極上にフラックスを塗布した後、半田バンプを電極
上に搭載し、半田を加熱溶融させることによって半田バ
ンプと電極とを接合することが行われる。そして半田接
合後には、実装後の信頼性を確保するためフラックスの
残さを除去する洗浄が行われ、その後電子部品と基板と
の隙間には、接合部を補強する目的でアンダーフィル樹
脂が充填され、このアンダーフィル樹脂を熱処理によっ
て硬化させて実装が完了する。
ンプ付電子部品の実装工程では、電子部品の小型化に伴
って以下に述べるような問題点が生じてきている。ま
ず、半田接合後の洗浄工程は、従来多用されていたフロ
ンなどの溶剤による洗浄方法が規制されたことから複雑
化、高コスト化し、電子部品の小型化と相まって、技術
的にも困難なものとなっている。また、アンダーフィル
樹脂については、電子部品の小型化により電子部品と基
板の隙間が小さくなって電子部品搭載後の樹脂充填が困
難となり、実装後の品質が安定しないという品質上の問
題点とともに、同一部品の実装に半田接合と樹脂の硬化
のための熱処理の2つの加熱工程を必要とし、工程を複
雑化する要因となっていた。
方法は、フラックスの使用とアンダーフィル樹脂の充填
のために工程が複雑化し、品質の安定した実装を低コス
トで行うことが困難であるという問題点があった。
とせず、品質の安定した低コストのバンプ付電子部品の
実装方法を提供することを目的とする。
品の実装方法は、基板の銅電極上にニッケルのバリア層
を形成し、このバリア層上に金膜を形成する工程と、こ
の金膜上に半田より硬質の金属の突出部を形成する工程
と、前記基板への電子部品の搭載に先立って前記突出部
上に熱硬化性の接着材を塗布する工程と、半田バンプ付
の電子部品を前記基板に搭載し前記突出部に半田バンプ
を当接させる工程と、前記半田バンプを前記突出部に押
圧することにより半田バンプ表面の酸化膜を破壊する工
程と、前記接着材が熱硬化する前に半田バンプを溶融さ
せて前記突出部と接合する工程とを含む。
のバリア層を形成しこのバリア層の上に金膜を形成した
後、この金膜上に半田より硬質の金属の突起部を形成
し、この突起部を電子部品の半田バンプに押圧して半田
バンプの酸化膜を破壊することにより、フラックスを使
用せずに電子部品を基板に半田付けすることができる。
参照して説明する。図1(a),(b),(c)は本発
明の一実施の形態のバンプ付電子部品の実装方法の工程
説明図、図2、図3、図4は同バンプ付電子部品および
基板の部分断面図である。なお、各図はバンプ付電子部
品の実装方法を工程順に示すものである。
には電極2が形成されている。電極2は銅電極2a上に
バリア層としてのニッケル膜2bを形成し、ニッケル膜
2b上に金膜2cを金めっきにより形成したものである
(図2参照)。金膜2c上には半田より硬質の金属の突
出部である金バンプ3が形成されている。金バンプ3は
ワイヤボンディングにより形成され、テール部3aを有
した形状となっている。
金バンプ3を覆ってボンド4が塗布される。ボンド4
は、半田の融点温度よりも高い硬化温度を有する熱硬化
性の接着材である(特開平6−177523号公報参
照)。次に、図1(c)に示すように、基板1の電極2
上に圧着ツール9によりバンプ付き電子部品5が搭載さ
れる。バンプ付き電子部品5は、図1(c)に示すよう
に電子部品5の電極6の表面にバリア層7を形成し、バ
リア層7上に半田バンプ8を形成したものである。この
バンプ付き電子部品5の半田バンプ8を基板1の電極2
に位置合わせして圧着ツール9を下降させ、半田バンプ
8の先端部を金バンプ3に対して押圧する。すると図2
に示すように、半田より硬い金属である金よりなる金バ
ンプ3のテール部3aが半田バンプ8の先端部に埋入
し、このとき半田バンプ8の表面に生成した酸化膜8a
を部分的に破壊する。
て半田バンプ8を加熱する。加熱温度が半田の融点を超
えると、図3に示すように半田バンプ8は溶融して溶融
半田8’となる。ここでボンド4の硬化温度は半田の融
点温度よりも高いため、この時点ではボンド4は未硬化
であり、電子部品5を加熱しながら所定高さhまで押圧
することを妨げない。これにより溶融半田8’は金バン
プ3の周囲を包み込み、金バンプ3との半田接合面を形
成する。
8の酸化膜8aを部分的に破壊して半田の露出面が形成
されており、半田バンプ8の半田接合部はボンド4に完
全に包み込まれて大気から遮断され無酸素状態となって
いるため、フラックスを用いることなく金バンプ3との
半田接合を良好に行うことができる。また溶融半田8’
はフラックス無しでも酸化膜のない金バンプ8の表面や
電極2の表面の半田ぬれ性のよい金膜2c上を伝わって
容易に拡がるため、強度上に優れた形状である鼓状の接
合部を形成することができる。
板1の電極2の表面と接触することにより形成される接
合面では、表面の薄い金膜2cは半田中に拡散し、強度
に優れたニッケルと半田の合金より成る接合面が形成さ
れる。この接合面は金バンプ3と半田との接合部を効果
的に補強し、全体としてより信頼性の高い接合部を得る
ことができる。
更に上昇し、図4に示すようにボンド4の硬化温度に到
達するとボンド4の熱硬化が開始する。そして所定の硬
化時間が経過することにより、電子部品5の基板1への
実装が完了する。
品5が実装される基板1に半田より硬い金属の突起部を
形成し、実装時には突起部で電子部品の半田バンプ8の
表面の酸化膜7aを破壊することにより、フラックスを
使用することなく電子部品5を基板1に良好に半田付け
して実装することができる。また、アンダーフィル樹脂
としてのボンド4を電子部品5の搭載前に塗布すること
により、電子部品5と基板1の隙間は完全にボンド4に
よって充填され、接合部を確実に補強して実装後の品質
を安定させることができる。
りも硬化温度が高いボンドを使用しているが、半田の融
点温度よりも硬化温度が低いボンドを使用してもよい。
この場合、ボンドが完全硬化する前に半田を融点温度以
上に加熱して溶融させ、溶融した半田のぬれ広がりを妨
げないようにするとよい。
リア層を形成し、このバリア層に金膜を形成した後この
金膜上に半田より硬質の金属の突起部を形成し、この突
起部を電子部品の半田バンプに押圧して半田バンプの酸
化膜を破壊するようにしているので、フラックスを使用
することなく電子部品を基板に実装することができ、実
装後の洗浄を必要としない。また熱硬化性樹脂の接着材
を使用して電子部品を実装する以前に接着材を基板に塗
布するようにしているので、半田付けと接着材の熱硬化
を同一の加熱工程で行って工程を簡略化し低コストを実
現できるとともに、電子部品と基板の隙間が狭い場合で
もアンダーフィル樹脂としての接着材が完全に充填さ
れ、実装後の安定した品質を確保することができる。
品の実装方法の工程説明図 (b)本発明の一実施の形態のバンプ付電子部品の実装
方法の工程説明図 (c)本発明の一実施の形態のバンプ付電子部品の実装
方法の工程説明図
び基板の部分断面図
び基板の部分断面図
び基板の部分断面図
Claims (1)
- 【請求項1】基板の銅電極上にニッケルのバリア層を形
成し、このバリア層上に金膜を形成する工程と、この金
膜上に半田より硬質の金属の突出部を形成する工程と、
前記基板への電子部品の搭載に先立って前記突出部上に
熱硬化性の接着材を塗布する工程と、半田バンプ付の電
子部品を前記基板に搭載し前記突出部に半田バンプを当
接させる工程と、前記半田バンプを前記突出部に押圧す
ることにより半田バンプ表面の酸化膜を破壊する工程
と、前記接着材が熱硬化する前に半田バンプを溶融させ
て前記突出部と接合する工程とを含むことを特徴とする
バンプ付電子部品の実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35262397A JP3381593B2 (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | バンプ付電子部品の実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP35262397A JP3381593B2 (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | バンプ付電子部品の実装方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH11186324A true JPH11186324A (ja) | 1999-07-09 |
JP3381593B2 JP3381593B2 (ja) | 2003-03-04 |
Family
ID=18425316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35262397A Expired - Lifetime JP3381593B2 (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | バンプ付電子部品の実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG87930A1 (en) * | 2000-05-26 | 2002-04-16 | Nec Corp | Flip chip type semiconductor and method of manufacturing the same |
KR100345035B1 (ko) * | 1999-11-06 | 2002-07-24 | 한국과학기술원 | 무전해 도금법을 이용한 고속구리배선 칩 접속용 범프 및 ubm 형성방법 |
JP2003526937A (ja) * | 2000-03-10 | 2003-09-09 | チップパック,インク. | フリップチップ接合構造 |
US7183655B2 (en) | 2002-10-17 | 2007-02-27 | Rohm Co., Ltd. | Packaged semiconductor device |
KR100750014B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2007-08-16 | 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 | 칩 실장 방법 |
US9142498B2 (en) | 2012-07-31 | 2015-09-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor devices having stacked solder bumps with intervening metal layers to provide electrical interconnections |
JP2016512929A (ja) * | 2013-03-22 | 2016-05-09 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | 相互接続部材をプレコーティングすることを含むフリップチップ組立方法 |
US10388626B2 (en) | 2000-03-10 | 2019-08-20 | STATS ChipPAC Pte. Ltd. | Semiconductor device and method of forming flipchip interconnect structure |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
JP5065657B2 (ja) * | 2006-11-27 | 2012-11-07 | パナソニック株式会社 | 電子装置およびその製造方法 |
-
1997
- 1997-12-22 JP JP35262397A patent/JP3381593B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100345035B1 (ko) * | 1999-11-06 | 2002-07-24 | 한국과학기술원 | 무전해 도금법을 이용한 고속구리배선 칩 접속용 범프 및 ubm 형성방법 |
JP2003526937A (ja) * | 2000-03-10 | 2003-09-09 | チップパック,インク. | フリップチップ接合構造 |
US7994636B2 (en) | 2000-03-10 | 2011-08-09 | Stats Chippac, Ltd. | Flip chip interconnection structure |
JP4903966B2 (ja) * | 2000-03-10 | 2012-03-28 | スタッツ・チップパック・インコーポレイテッド | フリップチップ接合構造及びフリップチップ接合構造を形成する方法 |
US8697490B2 (en) | 2000-03-10 | 2014-04-15 | Stats Chippac, Ltd. | Flip chip interconnection structure |
US10388626B2 (en) | 2000-03-10 | 2019-08-20 | STATS ChipPAC Pte. Ltd. | Semiconductor device and method of forming flipchip interconnect structure |
SG87930A1 (en) * | 2000-05-26 | 2002-04-16 | Nec Corp | Flip chip type semiconductor and method of manufacturing the same |
KR100750014B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2007-08-16 | 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 | 칩 실장 방법 |
US7183655B2 (en) | 2002-10-17 | 2007-02-27 | Rohm Co., Ltd. | Packaged semiconductor device |
CN100353546C (zh) * | 2002-10-17 | 2007-12-05 | 罗姆股份有限公司 | 封装半导体器件 |
US9142498B2 (en) | 2012-07-31 | 2015-09-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor devices having stacked solder bumps with intervening metal layers to provide electrical interconnections |
JP2016512929A (ja) * | 2013-03-22 | 2016-05-09 | コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ | 相互接続部材をプレコーティングすることを含むフリップチップ組立方法 |
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