JPH111757A - 非酸化性雰囲気焼成用治具 - Google Patents
非酸化性雰囲気焼成用治具Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 積層セラミックコンデンサのような被焼成部
品をその材料と反応を生じることなく良好に焼成でき、
かつ薄肉化が可能で、さらに再利用が可能な非酸化性雰
囲気焼成用治具を提供する。 【解決手段】 モリブデン基材の表面にジルコニア溶射
層を形成してなることを特徴とする。
品をその材料と反応を生じることなく良好に焼成でき、
かつ薄肉化が可能で、さらに再利用が可能な非酸化性雰
囲気焼成用治具を提供する。 【解決手段】 モリブデン基材の表面にジルコニア溶射
層を形成してなることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層セラミックコ
ンデンサ等の電子部品を非酸化性雰囲気で焼成する際に
用いるこう鉢、棚板、セッタなどの治具に関する。
ンデンサ等の電子部品を非酸化性雰囲気で焼成する際に
用いるこう鉢、棚板、セッタなどの治具に関する。
【０００２】
【従来の技術】積層セラミックコンデンサ等の電子部品
の焼成には、前記コンデンサとの接触部分での反応が最
も少ないジルコニア（ＺｒＯ2 ）質の熱処理用治具が用
いられている。実際の焼成には、アルミナ・シリカ系基
体、ジルコニア系基体が使用されている。このような焼
成において、アルミナ・シリカ系基体を用いる場合には
被焼成部品と基体との反応を防ぐためにジルコニアセッ
タを載置したり、ジルコニア粉末の焼成層やアルミナ、
スピネル、ジルコニア等の溶射層で表面を被覆すること
が行われている。
の焼成には、前記コンデンサとの接触部分での反応が最
も少ないジルコニア（ＺｒＯ2 ）質の熱処理用治具が用
いられている。実際の焼成には、アルミナ・シリカ系基
体、ジルコニア系基体が使用されている。このような焼
成において、アルミナ・シリカ系基体を用いる場合には
被焼成部品と基体との反応を防ぐためにジルコニアセッ
タを載置したり、ジルコニア粉末の焼成層やアルミナ、
スピネル、ジルコニア等の溶射層で表面を被覆すること
が行われている。
【０００３】ところで、積層セラミックコンデンサの高
容量化により電極材料の占める割合が高くなり、内部電
極のコスト低減を目的としてニッケル、銅等の卑金属を
電極材料として使用したものが普及し始めている。この
ような積層セラミックコンデンサは今までの積層セラミ
ックコンデンサの製法と異なり酸素分圧が１０-13 〜１
０-6Ｐａの強い還元性雰囲気で焼成される。この焼成に
際し、治具の基材が１０％以上の開気孔率を有するた
め、内部に水分が存在し易くなり、基材からの酸素の放
出により低酸素分圧の制御に支障となる。したがって、
より緻密な治具が望まれている。
容量化により電極材料の占める割合が高くなり、内部電
極のコスト低減を目的としてニッケル、銅等の卑金属を
電極材料として使用したものが普及し始めている。この
ような積層セラミックコンデンサは今までの積層セラミ
ックコンデンサの製法と異なり酸素分圧が１０-13 〜１
０-6Ｐａの強い還元性雰囲気で焼成される。この焼成に
際し、治具の基材が１０％以上の開気孔率を有するた
め、内部に水分が存在し易くなり、基材からの酸素の放
出により低酸素分圧の制御に支障となる。したがって、
より緻密な治具が望まれている。
【０００４】また、従来の治具の肉厚は、４ｍｍ以上で
あるが、より薄肉化することにより生産コストの低減化
を図ることが必要である。このため、高強度の治具が望
まれている。
あるが、より薄肉化することにより生産コストの低減化
を図ることが必要である。このため、高強度の治具が望
まれている。
【０００５】さらに、従来の焼成用治具はある期間使用
して寿命になる産業廃棄物として処理されていた。この
ため、寿命になっても補修して再利用できる治具が望ま
れている。
して寿命になる産業廃棄物として処理されていた。この
ため、寿命になっても補修して再利用できる治具が望ま
れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、積層セラミ
ックコンデンサのような被焼成部品をその材料と反応を
生じることなく良好に焼成でき、かつ薄肉化が可能で、
さらに再利用が可能な非酸化性雰囲気焼成用治具を提供
しようとするものである。
ックコンデンサのような被焼成部品をその材料と反応を
生じることなく良好に焼成でき、かつ薄肉化が可能で、
さらに再利用が可能な非酸化性雰囲気焼成用治具を提供
しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる非酸化性
雰囲気焼成用治具は、モリブデン基材の表面にジルコニ
ア溶射層を形成してなることを特徴とするものである。
雰囲気焼成用治具は、モリブデン基材の表面にジルコニ
ア溶射層を形成してなることを特徴とするものである。
【０００８】
【発明の実施の態様】以下、本発明に係わる非酸化性雰
囲気焼成用治具を詳細に説明する。この非酸化性雰囲気
焼成用治具は、こう鉢、板状、皿状等をなすモリブデン
基材の表面にジルコニア溶射層を形成した構造を有す
る。
囲気焼成用治具を詳細に説明する。この非酸化性雰囲気
焼成用治具は、こう鉢、板状、皿状等をなすモリブデン
基材の表面にジルコニア溶射層を形成した構造を有す
る。
【０００９】前記ジルコニア溶射層は、前記モリブデン
基材を外界から保護する観点から、気孔率６％以下であ
ることが好ましい。前記ジルコニア溶射層は、大気中で
の溶射により形成してもよいが、１００〜５００ｔｏｒ
ｒの減圧雰囲気下で行う方が緻密な溶射層を形成するこ
とができる。溶射手段としては、例えばガスプラズマ溶
射法、水プラズマ溶射法を採用することができる。
基材を外界から保護する観点から、気孔率６％以下であ
ることが好ましい。前記ジルコニア溶射層は、大気中で
の溶射により形成してもよいが、１００〜５００ｔｏｒ
ｒの減圧雰囲気下で行う方が緻密な溶射層を形成するこ
とができる。溶射手段としては、例えばガスプラズマ溶
射法、水プラズマ溶射法を採用することができる。
【００１０】前記ジルコニアは、カルシア（ＣａＯ）お
よびイットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）から選ばれる少なくとも１
つの安定化材で安定化された安定化ジルコニアであるこ
とが好ましい。
よびイットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）から選ばれる少なくとも１
つの安定化材で安定化された安定化ジルコニアであるこ
とが好ましい。
【００１１】前記ジルコニアは、カルシア（ＣａＯ）お
よびイットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）で安定化された安定化ジル
コニアと未安定化ジルコニアの混合物からなることを許
容する。前記安定化ジルコニアと未安定化ジルコニアと
の混合割合は、安定化度により異なるが、安定化ジルコ
ニア５０〜９５重量％、未安定化ジルコニア５〜５０重
量％にすることが好ましい。
よびイットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）で安定化された安定化ジル
コニアと未安定化ジルコニアの混合物からなることを許
容する。前記安定化ジルコニアと未安定化ジルコニアと
の混合割合は、安定化度により異なるが、安定化ジルコ
ニア５０〜９５重量％、未安定化ジルコニア５〜５０重
量％にすることが好ましい。
【００１２】前記モリブデン基材と前記ジルコニア溶射
層との間には、モリブデンとジルコニアの中間の熱膨張
率を有するセラミック溶射層を介在することを許容す
る。前記セラミックスは、アルミナ、スピネル、チタニ
ア、クロミアから選ばれる少なくとも１つを用いること
ができる。
層との間には、モリブデンとジルコニアの中間の熱膨張
率を有するセラミック溶射層を介在することを許容す
る。前記セラミックスは、アルミナ、スピネル、チタニ
ア、クロミアから選ばれる少なくとも１つを用いること
ができる。
【００１３】前記セラミック溶射層を前記基材表面に形
成するに先立って、前記基材表面を粗面化することが密
着性を高める点で有効である。この粗面化手段として
は、例えばエッチング等の化学的方法、アルミナ粉末ま
たは炭化珪素粉末を用いたブラスト処理法を採用するこ
とができる。溶射時の雰囲気は、前述したように大気中
で行ってもよいが、１００〜５００ｔｏｒｒの減圧雰囲
気下で行う方が緻密なセラミック溶射層を形成すること
ができる。溶射手段としては、例えばガスプラズマ溶射
法、水プラズマ溶射法を採用することができるが、特に
緻密なセラミック層を形成する観点からガスプラズマ法
が好ましい。
成するに先立って、前記基材表面を粗面化することが密
着性を高める点で有効である。この粗面化手段として
は、例えばエッチング等の化学的方法、アルミナ粉末ま
たは炭化珪素粉末を用いたブラスト処理法を採用するこ
とができる。溶射時の雰囲気は、前述したように大気中
で行ってもよいが、１００〜５００ｔｏｒｒの減圧雰囲
気下で行う方が緻密なセラミック溶射層を形成すること
ができる。溶射手段としては、例えばガスプラズマ溶射
法、水プラズマ溶射法を採用することができるが、特に
緻密なセラミック層を形成する観点からガスプラズマ法
が好ましい。
【００１４】前記セラミック層は、１００〜５００μｍ
厚さを有することが好ましい。前記モリブデン基材と前
記ジルコニア溶射層（またはセラミック溶射層）の間に
金属コーティング層を形成することを許容する。この金
属層の金属としては、例えばＣｒ、Ｃｒ−Ｍｏ系合金、
Ｃｒ−Ｆｅ系合金、Ｃｒ−Ｎｉ系合金、Ｃｒ−Ｔｉ系合
金、Ｃｒ−Ａｌ系合金、Ｃｒ−Ｎｂ系合金等を挙げるこ
とができ、特にＣｒが好適である。
厚さを有することが好ましい。前記モリブデン基材と前
記ジルコニア溶射層（またはセラミック溶射層）の間に
金属コーティング層を形成することを許容する。この金
属層の金属としては、例えばＣｒ、Ｃｒ−Ｍｏ系合金、
Ｃｒ−Ｆｅ系合金、Ｃｒ−Ｎｉ系合金、Ｃｒ−Ｔｉ系合
金、Ｃｒ−Ａｌ系合金、Ｃｒ−Ｎｂ系合金等を挙げるこ
とができ、特にＣｒが好適である。
【００１５】前記金属のコーティング手段としては、例
えば前記金属をスプレーもしくは溶射により行うか、ま
たはスプレーもしくは溶射の後にアルゴンまたは水素雰
囲気中、１３００℃以上で焼成する方法が採用される。
えば前記金属をスプレーもしくは溶射により行うか、ま
たはスプレーもしくは溶射の後にアルゴンまたは水素雰
囲気中、１３００℃以上で焼成する方法が採用される。
【００１６】前記金属コーティング層は、１０〜５０μ
ｍの厚さを有することが好ましい。この理由は、前記金
属コーティング層の厚さを１０μｍ未満にすると、モリ
ブデン基材を外界から遮断するバリア作用が十分に達成
されず、かつジルコニア溶射層（またはセラミック溶射
層）の密着性の向上が十分に達成されず、さらに耐衝撃
性の向上を図ることが困難になる。一方、前記金属コー
ティング層の厚さが５０μｍを越えると熱歪みによる剥
離が生じる恐れがある。
ｍの厚さを有することが好ましい。この理由は、前記金
属コーティング層の厚さを１０μｍ未満にすると、モリ
ブデン基材を外界から遮断するバリア作用が十分に達成
されず、かつジルコニア溶射層（またはセラミック溶射
層）の密着性の向上が十分に達成されず、さらに耐衝撃
性の向上を図ることが困難になる。一方、前記金属コー
ティング層の厚さが５０μｍを越えると熱歪みによる剥
離が生じる恐れがある。
【００１７】以上説明した本発明に係わる非酸化性雰囲
気焼成用治具は、モリブデン基材の表面にジルコニア溶
射層を被覆した構造を有するため、積層セラミックコン
デンサのような被焼成部品をその材料と反応を生じるこ
となく良好に焼成でき、かつ薄肉化が可能で、さらに再
利用できる。
気焼成用治具は、モリブデン基材の表面にジルコニア溶
射層を被覆した構造を有するため、積層セラミックコン
デンサのような被焼成部品をその材料と反応を生じるこ
となく良好に焼成でき、かつ薄肉化が可能で、さらに再
利用できる。
【００１８】すなわち、前記基材の材料であるモリブデ
ンは融点が高く、低熱膨張率、高熱伝導率、高強度であ
るという特性を有し、薄肉で使用できることから、従来
のセラミック系電子部品の焼成治具として既に使用され
ている。しかしながら、モリブデンは３００℃の温度以
上の酸素が存在する雰囲気で酸化され、６００℃以上の
窒素雰囲気（例えば積層セラミックコンデンサの焼成時
に用いられる窒素と水素の混合ガス雰囲気）で窒化され
て脆化される。このため、前記基材表面を気孔率の低い
ジルコニア溶射層とセラミック溶射層または金属コーテ
ィング層とで覆うことによって、前記モリブデン基材の
特性を生かしつつ、酸素や窒素による脆化を防ぐことが
できる。前記ジルコニア溶射層は、前記基材の外界から
の遮断のみならず、前記治具に設置する積層セラミック
コンデンサのような被焼成部品の材料との反応を防止し
て前記被焼成部品を良好に焼成する作用を有する。
ンは融点が高く、低熱膨張率、高熱伝導率、高強度であ
るという特性を有し、薄肉で使用できることから、従来
のセラミック系電子部品の焼成治具として既に使用され
ている。しかしながら、モリブデンは３００℃の温度以
上の酸素が存在する雰囲気で酸化され、６００℃以上の
窒素雰囲気（例えば積層セラミックコンデンサの焼成時
に用いられる窒素と水素の混合ガス雰囲気）で窒化され
て脆化される。このため、前記基材表面を気孔率の低い
ジルコニア溶射層とセラミック溶射層または金属コーテ
ィング層とで覆うことによって、前記モリブデン基材の
特性を生かしつつ、酸素や窒素による脆化を防ぐことが
できる。前記ジルコニア溶射層は、前記基材の外界から
の遮断のみならず、前記治具に設置する積層セラミック
コンデンサのような被焼成部品の材料との反応を防止し
て前記被焼成部品を良好に焼成する作用を有する。
【００１９】また、モリブデンは機械的強度がアルミナ
・シリカ系セラミックやジルコニアに比べて常温、高温
共に優れている。具体的には、治具として使用されるア
ルミナ９８％、シリカ２％のセラミックスの引張り強度
は常温で７〜９ＭＰａ、１０００℃で６〜８ＭＰａであ
る。同様にジルコニア９５％、カルシア５％の安定化ジ
ルコニアの引張り強度は常温で９〜１４ＭＰａ、１００
０℃で８〜１３ＭＰａである。一方、モリブデンの引張
り強度は常温で４４０ＭＰａ、１０００℃で２４５ＭＰ
ａである。このようにモリブデンは常温、高温共に優れ
た機械的強度を有するため、肉厚を０．５〜１ｍｍと薄
くしても十分な強度を有する治具を実現できる。その結
果、この非酸化性雰囲気用治具を用いることによって、
電子部品の生産コストを低減することが可能になる。
・シリカ系セラミックやジルコニアに比べて常温、高温
共に優れている。具体的には、治具として使用されるア
ルミナ９８％、シリカ２％のセラミックスの引張り強度
は常温で７〜９ＭＰａ、１０００℃で６〜８ＭＰａであ
る。同様にジルコニア９５％、カルシア５％の安定化ジ
ルコニアの引張り強度は常温で９〜１４ＭＰａ、１００
０℃で８〜１３ＭＰａである。一方、モリブデンの引張
り強度は常温で４４０ＭＰａ、１０００℃で２４５ＭＰ
ａである。このようにモリブデンは常温、高温共に優れ
た機械的強度を有するため、肉厚を０．５〜１ｍｍと薄
くしても十分な強度を有する治具を実現できる。その結
果、この非酸化性雰囲気用治具を用いることによって、
電子部品の生産コストを低減することが可能になる。
【００２０】さらに、前記基材表面の溶射層が剥離して
使用に耐えられなくなった場合には、研削により溶射層
を除去し、新たな溶射層を形成することにより再使用で
きる。しかも、多数回の治具の使用により基材が変形し
てもモリブデンは延性に富み、変形加工により容易に修
復できる。例えば、基材に反りが発生しても、加熱して
プレスすることにより再利用できる。また、溶射層の損
傷により基材のモリブデン表面が酸化されたり、窒化さ
れた場合には基材表面の酸化層または窒化層を研削する
ことにより再利用できる。
使用に耐えられなくなった場合には、研削により溶射層
を除去し、新たな溶射層を形成することにより再使用で
きる。しかも、多数回の治具の使用により基材が変形し
てもモリブデンは延性に富み、変形加工により容易に修
復できる。例えば、基材に反りが発生しても、加熱して
プレスすることにより再利用できる。また、溶射層の損
傷により基材のモリブデン表面が酸化されたり、窒化さ
れた場合には基材表面の酸化層または窒化層を研削する
ことにより再利用できる。
【００２１】さらに、前記基材であるモリブデンとジル
コニア（例えば安定化ジルコニア）は熱膨張係数の差が
大きいために、加熱・冷却の熱履歴を繰り返し受ける
と、前記ジルコニア溶射層が剥離する恐れがある。この
ようなことから前記モリブデン基材と前記ジルコニア溶
射層との間に、モリブデンとジルコニアの中間の熱膨張
率を有するアルミナのようなセラミック溶射層を介在す
ることによって、前記熱履歴を受けるてもジルコニア溶
射層が剥離することなく、繰り返し使用することができ
る。
コニア（例えば安定化ジルコニア）は熱膨張係数の差が
大きいために、加熱・冷却の熱履歴を繰り返し受ける
と、前記ジルコニア溶射層が剥離する恐れがある。この
ようなことから前記モリブデン基材と前記ジルコニア溶
射層との間に、モリブデンとジルコニアの中間の熱膨張
率を有するアルミナのようなセラミック溶射層を介在す
ることによって、前記熱履歴を受けるてもジルコニア溶
射層が剥離することなく、繰り返し使用することができ
る。
【００２２】さらに、前記ジルコニア溶射層が形成され
る前記基材表面にクロムのような金属コーティング層を
形成することによって、前記モリブデンからなる基材を
外界からより効果的に保護することができる。その結
果、積層セラミックコンデンサのような非焼成部品を窒
素と水素の混合ガスで焼成する際、前記金属コーティン
グ層がバリア層として機能して前記基材の窒化による脆
化を防止することができる。前記金属コーティング層を
ジルコニア溶射層（またはセラミックス溶射層）の下地
とすることによって、前記ジルコニア溶射層（またはセ
ラミックス溶射層）を前記基材に対して強固に密着する
ことができる。
る前記基材表面にクロムのような金属コーティング層を
形成することによって、前記モリブデンからなる基材を
外界からより効果的に保護することができる。その結
果、積層セラミックコンデンサのような非焼成部品を窒
素と水素の混合ガスで焼成する際、前記金属コーティン
グ層がバリア層として機能して前記基材の窒化による脆
化を防止することができる。前記金属コーティング層を
ジルコニア溶射層（またはセラミックス溶射層）の下地
とすることによって、前記ジルコニア溶射層（またはセ
ラミックス溶射層）を前記基材に対して強固に密着する
ことができる。
【００２３】さらに、前記金属コーティング層としてモ
リブデンとジルコニアの中間の熱膨張率を有するものを
選択すれば、前記金属コーティング層を有する治具が熱
履歴を受けてもジルコニア溶射層が剥離することなく、
繰り返し使用することができる。
リブデンとジルコニアの中間の熱膨張率を有するものを
選択すれば、前記金属コーティング層を有する治具が熱
履歴を受けてもジルコニア溶射層が剥離することなく、
繰り返し使用することができる。
【００２４】
【実施例】以下、本発明の好ましい実施例を説明する。 （実施例１−１〜１−４および比較例１）幅１００ｍ
ｍ、長さ１００ｍｍ、厚さ１ｍｍのモリブデン基材の表
面にガスプラズマ法により厚さ約１５０μｍの下記表１
に示すジルコニア層を溶射することにより５種の焼成用
治具を製造した。
ｍ、長さ１００ｍｍ、厚さ１ｍｍのモリブデン基材の表
面にガスプラズマ法により厚さ約１５０μｍの下記表１
に示すジルコニア層を溶射することにより５種の焼成用
治具を製造した。
【００２５】得られた実施例１−１〜１−４および比較
例１の焼成用治具について、窒素雰囲気中、１４００℃
に加熱した後、室温まで冷却する加熱冷却サイクルを複
数回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その
結果を下記表１に併記する。
例１の焼成用治具について、窒素雰囲気中、１４００℃
に加熱した後、室温まで冷却する加熱冷却サイクルを複
数回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その
結果を下記表１に併記する。
【００２６】
【表１】
【００２７】前記表１から明らかなように基材上に未安
定化のジルコニア層を形成した比較例１の焼成用治具で
は、３回の加熱冷却サイクルで前記ジルコニア層の剥離
が認められた。これに対し、基材上に安定化ジルコニア
層や安定化ジルコニアと未安定化ジルコニアの混合層を
形成した実施例１−１〜１−４の焼成用治具では比較例
１に比べて倍以上の加熱冷却サイクルで剥離が生じない
ことがわかる。
定化のジルコニア層を形成した比較例１の焼成用治具で
は、３回の加熱冷却サイクルで前記ジルコニア層の剥離
が認められた。これに対し、基材上に安定化ジルコニア
層や安定化ジルコニアと未安定化ジルコニアの混合層を
形成した実施例１−１〜１−４の焼成用治具では比較例
１に比べて倍以上の加熱冷却サイクルで剥離が生じない
ことがわかる。
【００２８】（実施例２−１〜２−４）実施例１と同様
のモリブデン基材の表面にガスプラズマ法により厚さ約
１５０μｍの下記表２に示すセラミック層を溶射した
後、ガスプラズマ法により厚さ約１５０μｍのカルシア
安定化ジルコニア層を形成することにより４種の焼成用
治具を製造した。
のモリブデン基材の表面にガスプラズマ法により厚さ約
１５０μｍの下記表２に示すセラミック層を溶射した
後、ガスプラズマ法により厚さ約１５０μｍのカルシア
安定化ジルコニア層を形成することにより４種の焼成用
治具を製造した。
【００２９】得られた実施例２−１〜２−４の焼成用治
具について、実施例１と同様な加熱冷却サイクルを複数
回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その結
果を下記表２に併記する。
具について、実施例１と同様な加熱冷却サイクルを複数
回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その結
果を下記表２に併記する。
【００３０】
【表２】
【００３１】前記表２から明らかなようにカルシア安定
化ジルコニア層の下地層としてセラミックス層を基材上
に形成した実施例２−１〜２−４の焼成用治具では前述
した安定化ジルコニア層のみの実施例１−１〜１−４に
比べて剥離が生じる加熱冷却サイクル数を延長できるこ
とがわかる。
化ジルコニア層の下地層としてセラミックス層を基材上
に形成した実施例２−１〜２−４の焼成用治具では前述
した安定化ジルコニア層のみの実施例１−１〜１−４に
比べて剥離が生じる加熱冷却サイクル数を延長できるこ
とがわかる。
【００３２】（実施例３−１〜３−７）実施例１と同様
のモリブデン基材の表面にガスプラズマ法により厚さ約
３０μｍの下記表３に示す７種のＣｒ系金属層を溶射し
た後、アルゴンガス雰囲気中、１４００℃で３時間加熱
処理した。つづいて、熱処理後の金属層上にガスプラズ
マ法により厚さ約１５０μｍのカルシア安定化ジルコニ
ア層をそれぞれ形成することにより７種の焼成用治具を
製造した。
のモリブデン基材の表面にガスプラズマ法により厚さ約
３０μｍの下記表３に示す７種のＣｒ系金属層を溶射し
た後、アルゴンガス雰囲気中、１４００℃で３時間加熱
処理した。つづいて、熱処理後の金属層上にガスプラズ
マ法により厚さ約１５０μｍのカルシア安定化ジルコニ
ア層をそれぞれ形成することにより７種の焼成用治具を
製造した。
【００３３】得られた実施例３−１〜３−７の焼成用治
具について、実施例１と同様な加熱冷却サイクルを複数
回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その結
果を下記表３に併記する。
具について、実施例１と同様な加熱冷却サイクルを複数
回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その結
果を下記表３に併記する。
【００３４】
【表３】
【００３５】前記表３から明らかなようにカルシア安定
化ジルコニア層の下地層としてＣｒ系の金属層を基材上
に形成した実施例３−１〜３−７の焼成用治具では前述
した安定化ジルコニア層のみの実施例１−１〜１−４に
比べて剥離が生じる加熱冷却サイクル数を延長できるこ
とがわかる。
化ジルコニア層の下地層としてＣｒ系の金属層を基材上
に形成した実施例３−１〜３−７の焼成用治具では前述
した安定化ジルコニア層のみの実施例１−１〜１−４に
比べて剥離が生じる加熱冷却サイクル数を延長できるこ
とがわかる。
【００３６】（実施例４−１〜４−７）実施例１と同様
のモリブデン基材の表面にガスプラズマ法により厚さ約
３０μｍの下記表４に示す７種のＣｒ系金属層を溶射し
た後、アルゴンガス雰囲気中、１４００℃で３時間加熱
処理した。つづいて、熱処理後の金属層上にガスプラズ
マ法により厚さ約１５０μｍのアルミナ層をそれぞれ溶
射し、さらにガスプラズマ法により厚さ約１５０μｍの
カルシア安定化ジルコニア層をそれぞれ形成することに
より７種の焼成用治具を製造した。
のモリブデン基材の表面にガスプラズマ法により厚さ約
３０μｍの下記表４に示す７種のＣｒ系金属層を溶射し
た後、アルゴンガス雰囲気中、１４００℃で３時間加熱
処理した。つづいて、熱処理後の金属層上にガスプラズ
マ法により厚さ約１５０μｍのアルミナ層をそれぞれ溶
射し、さらにガスプラズマ法により厚さ約１５０μｍの
カルシア安定化ジルコニア層をそれぞれ形成することに
より７種の焼成用治具を製造した。
【００３７】得られた実施例４−１〜４−７の焼成用治
具について、実施例１と同様な加熱冷却サイクルを複数
回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その結
果を下記表４に併記する。
具について、実施例１と同様な加熱冷却サイクルを複数
回行い、ジルコニア層が剥離する回数を調べた。その結
果を下記表４に併記する。
【００３８】
【表４】
【００３９】前記表４から明らかなようにカルシア安定
化ジルコニア層の下地層としてＣｒ系の金属層およびア
ルミナ層を基材上にこの順序で形成した実施例４−１〜
４−７の焼成用治具では前述した安定化ジルコニア層の
みの実施例１−１〜１−４に比べて剥離が生じる加熱冷
却サイクル数を延長できることがわかる。
化ジルコニア層の下地層としてＣｒ系の金属層およびア
ルミナ層を基材上にこの順序で形成した実施例４−１〜
４−７の焼成用治具では前述した安定化ジルコニア層の
みの実施例１−１〜１−４に比べて剥離が生じる加熱冷
却サイクル数を延長できることがわかる。
【００４０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば積
層セラミックコンデンサのような被焼成部品をその材料
と反応を生じることなく良好に焼成でき、かつ薄肉化が
可能で、さらに再利用が可能な非酸化性雰囲気焼成用治
具を提供することができる。
層セラミックコンデンサのような被焼成部品をその材料
と反応を生じることなく良好に焼成でき、かつ薄肉化が
可能で、さらに再利用が可能な非酸化性雰囲気焼成用治
具を提供することができる。
【００４１】また本発明によれば、積層セラミックコン
デンサのような被焼成部品をその材料と反応を生じるこ
となく良好に焼成でき、かつ薄肉化が可能で、さらに再
利用が可能で、その上耐熱衝撃性の優れた非酸化性雰囲
気焼成用治具を提供することができる。
デンサのような被焼成部品をその材料と反応を生じるこ
となく良好に焼成でき、かつ薄肉化が可能で、さらに再
利用が可能で、その上耐熱衝撃性の優れた非酸化性雰囲
気焼成用治具を提供することができる。
Claims (7)
- 【請求項１】 モリブデン基材の表面にジルコニア溶射
層を形成してなることを特徴とする非酸化性雰囲気焼成
用治具。 - 【請求項２】 前記モリブデン基材と前記溶射層の間に
は、モリブデンとジルコニアの中間の熱膨張率を有する
セラミック溶射層が介在されることを特徴とする請求項
１記載の非酸化性雰囲気焼成用治具。 - 【請求項３】 前記セラミックスは、アルミナ、スピネ
ル、チタニア、クロミアから選ばれる少なくとも１つか
らなることを特徴とする請求項２記載の非酸化性雰囲気
焼成用治具。 - 【請求項４】 前記モリブデン基材は、前記ジルコニア
溶射層が形成される表面に金属層がコーティングされて
いることを特徴とする請求項１〜３いずれか記載の非酸
化性雰囲気焼成用治具。 - 【請求項５】 前記金属層の金属は、Ｃｒ、Ｃｒ−Ｍｏ
系合金、Ｃｒ−Ｆｅ系合金、Ｃｒ−Ｎｉ系合金、Ｃｒ−
Ｔｉ系合金、Ｃｒ−Ａｌ系合金およびＣｒ−Ｎｂ系合金
から選ばれることを特徴とする請求項４記載の非酸化性
雰囲気焼成用治具。 - 【請求項６】 前記ジルコニアは、カルシアおよびイッ
トリアから選ばれる少なくとも１つで安定化されている
安定化ジルコニアであることを特徴とする請求項１記載
の非酸化性雰囲気焼成用治具。 - 【請求項７】 前記ジルコニアは、カルシアおよびイッ
トリアから選ばれる少なくとも１つで安定化されている
安定化ジルコニアと未安定化ジルコニアの混合物からな
ることを特徴とする請求項１記載の非酸化性雰囲気焼成
用治具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10090027A JPH111757A (ja) | 1997-04-14 | 1998-04-02 | 非酸化性雰囲気焼成用治具 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9587197 | 1997-04-14 | ||
| JP9-95871 | 1997-04-14 | ||
| JP10090027A JPH111757A (ja) | 1997-04-14 | 1998-04-02 | 非酸化性雰囲気焼成用治具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH111757A true JPH111757A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=26431542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10090027A Pending JPH111757A (ja) | 1997-04-14 | 1998-04-02 | 非酸化性雰囲気焼成用治具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH111757A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7364798B2 (en) | 1999-12-10 | 2008-04-29 | Tocalo Co., Ltd. | Internal member for plasma-treating vessel and method of producing the same |
| US8877002B2 (en) | 2002-11-28 | 2014-11-04 | Tokyo Electron Limited | Internal member of a plasma processing vessel |
| JP6360245B1 (ja) * | 2017-11-08 | 2018-07-18 | 新和工業株式会社 | 焼成用セッターおよびその製造方法 |
| WO2020144880A1 (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-16 | 陽一朗 河合 | 転動体用冶具 |
-
1998
- 1998-04-02 JP JP10090027A patent/JPH111757A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7364798B2 (en) | 1999-12-10 | 2008-04-29 | Tocalo Co., Ltd. | Internal member for plasma-treating vessel and method of producing the same |
| US8877002B2 (en) | 2002-11-28 | 2014-11-04 | Tokyo Electron Limited | Internal member of a plasma processing vessel |
| JP6360245B1 (ja) * | 2017-11-08 | 2018-07-18 | 新和工業株式会社 | 焼成用セッターおよびその製造方法 |
| WO2019092894A1 (ja) * | 2017-11-08 | 2019-05-16 | 新和工業株式会社 | 焼成用セッターおよびその製造方法 |
| JP2019085619A (ja) * | 2017-11-08 | 2019-06-06 | 新和工業株式会社 | 焼成用セッターおよびその製造方法 |
| WO2020144880A1 (ja) * | 2019-01-10 | 2020-07-16 | 陽一朗 河合 | 転動体用冶具 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040601 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041012 |