WO2019092894A1 - 焼成用セッターおよびその製造方法 - Google Patents

焼成用セッターおよびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2019092894A1
WO2019092894A1 PCT/JP2018/007457 JP2018007457W WO2019092894A1 WO 2019092894 A1 WO2019092894 A1 WO 2019092894A1 JP 2018007457 W JP2018007457 W JP 2018007457W WO 2019092894 A1 WO2019092894 A1 WO 2019092894A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
pore
setter
firing
thermal spray
particles
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/007457
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
原嗣 小山
雅弘 倉瀬
敏夫 堀田
房俊 西田
英輔 山本
彰浩 篠崎
Original Assignee
新和工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 新和工業株式会社 filed Critical 新和工業株式会社
Publication of WO2019092894A1 publication Critical patent/WO2019092894A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/04Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
    • C23C4/06Metallic material
    • C23C4/067Metallic material containing free particles of non-metal elements, e.g. carbon, silicon, boron, phosphorus or arsenic

Definitions

  • the present invention relates to a setter for firing used when firing various materials such as ceramics, and a method of manufacturing the same.
  • ceramics such as alumina and aluminum nitride, which are previously formed into product shapes, are placed on a setter for firing, and are at a high temperature of 1500 to 1700 ° C. and neutral or weak reduction Manufactured by firing in an atmosphere or vacuum atmosphere.
  • Such a method of laying the covering powder on the baking setter can be relatively easily applied and the desired reaction preventing effect can be obtained if the material and the particle size of the covering powder are appropriately selected.
  • part of the spreading powder may adhere to the product ceramic side or the setter side for firing, which may require time and effort to remove them, and in some cases, may cause defects in the ceramic product or the setter for firing.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and it is possible to prevent the generation of defective products by causing a reaction with a material to be sintered or giving a defect to the material to be sintered, and its manufacture It is an object to provide a method.
  • a setter for firing according to the present invention according to claim 1 comprises molybdenum (Mo) or tungsten (W) on the surface of a base composed of molybdenum (Mo) or tungsten (W).
  • h-BN hexagonal boron nitride
  • VN vanadium nitride
  • VC vanadium carbide
  • the pore product area ratio in the thermal spray coating is blended so as to be in the range of 7.5 to 35%.
  • the invention according to claim 2 is characterized in that in the invention according to claim 1, the thickness dimension of the thermal sprayed coating is 30 to 500 ⁇ m.
  • the above-mentioned pore product area ratio in the thermal spray coating is the percentage (%) of the ratio of "the area of what is considered to be a void after heat treatment" to "the total area of the observation area of the thermal spray coating”.
  • the above-mentioned “area of those considered to become pores after heat treatment” is due to the area of the pore-forming particles present in the thermal spray coating, the lamination defects of the matrix material at the time of thermal spray coating formation, and residual gas components. It is the sum with the area of pores formed.
  • the method for producing a setter for firing according to the third aspect of the present invention comprises matrix particles made of molybdenum (Mo) or tungsten (W) on the surface of a substrate made of molybdenum (Mo) or tungsten (W). Pore-forming particles in the matrix material by thermally spraying a thermal spray material mixed with pore-forming particles composed of hexagonal boron nitride (h-BN), vanadium nitride (VN), vanadium carbide (VC) or polyester
  • the pore-forming particles are mixed with the above-mentioned thermal spray material in a ratio of 10 to 70 vol%.
  • the invention according to a fourth aspect is characterized in that, in the invention according to the third aspect, as the pore-forming particles, those having a larger particle size than the matrix material particles are used.
  • a firing setter for firing ceramics and the like is subjected to an open firing under a high temperature atmosphere at the start of use.
  • This blanking is generally performed under the same conditions as the firing conditions in a state where no ceramic product or the like is placed, and the firing conditions also include degreasing performed before main firing to remove the binder.
  • the pore-forming particles in the thermal spray coating are oxidized at the time of the above-mentioned blanking to lower the melting start temperature and volatilize, thereby forming the pores in the thermal spray coating. Voids of a volume corresponding to the type and blending ratio of particles are formed.
  • hole can be formed in a sprayed-coating by performing similar heat processing with respect to the said setter for baking separately before using regardless of the blanking at the time of the said start of use. And when carrying out baking things, such as ceramics, these glass ingredients are trapped by trapping liquid phases and gas components, such as a glass ingredient discharged from the above-mentioned baking things by these pores. It is possible to prevent adhesion of the like to the surface of the sintering setter, and as a result, it is possible to prevent the ceramic product from being damaged during cooling.
  • the pore-forming particles are a refractory metal which is a material that can be sprayed onto the surface of the substrate by being combined with Mo or W as a matrix material, and before spraying in a sprayed coating formed by spraying. It is necessary to be able to remain while generally maintaining the size and crystal structure of.
  • almost all of the pore-forming particles can be volatilized and converted to pores by heat treatment such as baking after thermal spraying, specifically, the oxidation initiation temperature at the time of the heat treatment is low, and the melting point of the oxide, It is important that the volatilization temperature be low.
  • h-BN hexagonal boron nitride
  • VN vanadium nitride
  • VC vanadium carbide
  • polyester has an extremely low thermal conductivity and a large specific heat, so that the composite thermal spraying with a high melting point material such as Mo is a coating film. It has also been found that it remains firmly in the inside and the volatilization temperature is sufficiently low, which is effective for the above-mentioned pore formation.
  • the desired effect can be obtained by blending the pore-forming particles so that the pore generation area ratio in the thermal spray coating is in the range of 7.5 to 35%. did. Also, at the time of production, by setting the compounding ratio of the pore-forming particles in the thermal spray material in which the matrix material particles and the pore-forming particles are mixed to 10 to 70 Vol%, such a thermal spray coating can be stably used as a substrate. It turned out that it can form on the surface.
  • the content ratio is less than 10 vol%, pores of a volume that can exhibit the reaction preventing effect can not be formed in the thermal spray coating, and conversely, if the content ratio exceeds 70 vol%, the relative content is relatively large. The amount of the matrix material is too small, the film strength is lowered, and problems such as coming off, abrasion or peeling occur, which is unsuitable.
  • the thickness dimension of the thermal spray coating is preferably 30 to 500 ⁇ m. If the thickness dimension is less than 30 ⁇ m, there is also a possibility that pores of a volume capable of exerting the reaction preventing effect can not be formed, and if it exceeds 500 ⁇ m, the above effect remains unchanged, resulting in only cost increase. That's why.
  • the pore formation is performed.
  • the pore-generating particles those having a particle diameter larger than that of the matrix material particles so that the particles can retain their shape as much as possible.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view of an essential part showing one embodiment of a setter for firing according to the present invention.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view of an essential part showing another embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a flow chart showing an embodiment of a method for producing a setter for firing according to the present invention.
  • FIG. 3 is a scanning electron micrograph showing a cross section of the sprayed coating of FIG. 1A.
  • FIG. 4 is a scanning electron micrograph showing a cross section of the thermal sprayed coating of FIG. 3 after heat treatment. It is a scanning electron micrograph which shows the cross section of the sprayed coating which thermally sprayed only the matrix material particle
  • FIG. 1A shows one embodiment of a setter for firing according to the present invention, and in this setter for firing, the thermal spray coating 2 is placed on the surface on which the material to be fired of the substrate 1 consisting of Mo or W is placed. It is formed. Further, FIG. 1B shows another embodiment, in which the thermal spray coating 2 is formed on both sides of the base material 1.
  • the thermal spray coating 2 is a matrix material made of Mo or W in which pore-forming particles made of h-BN, VN, VC or polyester are dispersed, and the pore-forming particles are made of the thermal spray coating 2 described above.
  • the pore product area ratio is formulated to be in the range of 7.5 to 35%.
  • the thermal spray coating 2 is formed to have a thickness of 30 to 500 ⁇ m.
  • a flat substrate 1 made of Mo or W having a thickness dimension of several mm to several tens to several hundreds of mm is prepared, and a thermal spray coating 2 is formed on the surface of the substrate 1
  • the surface is roughened as a pretreatment for the treatment.
  • blast treatment, water jet treatment, acid treatment or the like can be used.
  • Mo powder or W powder is prepared as matrix material particles to be a raw material of the thermal spray coating 2
  • h-BN powder, VN powder, VC powder or polyester powder is prepared as pore-forming particles.
  • the pore-forming particles particles having an average particle diameter of several ⁇ m to several tens of ⁇ m and having a particle diameter larger than that of the Mo powder or W powder.
  • the mixing ratio of the matrix material particles and the pore-forming particles is adjusted so that the pore-forming particles are in the range of 10 to 70 vol% in the thermal spray material described later.
  • the matrix material particles and the pore-forming particles are granulated so as to disperse them uniformly as much as possible without segregation of components as much as possible and to provide a shape and a size that can be stably supplied to the thermal spraying apparatus.
  • the secondary particles in which the matrix material particles and the pore-forming particles are complexed are granulated so as to be nearly spherical and to have a particle diameter of several tens of ⁇ m.
  • various granulation methods can be used for this granulation, the spray granulation method which is excellent in economical efficiency and mass productivity is suitable.
  • thermal spray material composed of secondary particles in which the matrix material particles and the pore-forming particles are compounded uniformly and uniformly is supplied to the thermal spraying apparatus, and one side or both sides of the substrate 1 to be the mounting surface of the object to be fired.
  • the thermal spray coating 2 is formed to complete the firing setter shown in FIG. 1A or 1B.
  • Mo and W serving as a matrix material in the sprayed coating 2 and h-BN, VN and VC serving as pore-forming particles are all high melting point materials exceeding 2000 ° C., and pore-forming particles It is preferable to use a plasma type thermal spraying device which is excellent in heat flow controllability with a high temperature heat source, since polyester having the high specific heat and low thermal conductivity is difficult to melt.
  • FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the thermal spray coating 2 in the firing setter in which the thermal spray coating 2 is formed on the surface of the substrate 1 by the plasma spraying apparatus, and the reference numeral 3 denotes a matrix material; Is a pore-forming particle, and reference numeral 5 is a pore formed due to a lamination defect of a matrix material which generally occurs during the formation of the thermal spray coating 2 or a residual gas component.
  • Mo or W which hardly react with the above-mentioned ceramics etc. is used as the matrix material 3 of the thermal spray coating on which the material to be fired such as ceramics is placed. It is possible to prevent the generation of defective products due to the reaction with the above-mentioned material to be fired.
  • the adhesion of the matrix material 3 of the thermal spray coating 2 to the base material 1 can be enhanced by using the same material as the base material 1 as the matrix material particles in particular, and the thermal expansion coefficients of both are Because they are the same, the effect of alleviating thermal stress can also be obtained.
  • the pore-forming particles 4 in the thermal spray coating 2 are oxidized when the firing is performed in a high temperature atmosphere at the start of use, and the melting start temperature is lowered.
  • the melting start temperature is lowered.
  • FIG. 4 it is possible to form in the sprayed coating 2 a pore 4 ′ having a volume equal to the pore in which the pore-generating particles 4 are converted and the pore 5.
  • the thermal spray coatings 2 are formed on both sides of the base material 1, the surface of the thermal spray coatings 2 is alternately used as the mounting surface of the material to be fired. As a result, the thermal spray coating 2 of the surface that is not always placed can be in the same state as the unbaked. As a result, the service life can be extended by sequentially regenerating the pores 4 'in which the liquid phase and the gas component are trapped to prevent deterioration.
  • the material to be fired which is the target of the setter for firing according to the present invention, is not limited to ceramic products such as the above-described ceramic package, but can be used similarly for cemented carbide, sintered metal parts, and the like.
  • Table 1 is a chart showing the results of the examples of the present invention.
  • Table 2 is a chart showing the results of the comparative example of the present invention.
  • the baking setters of Examples 1 to 8 according to the present invention shown in Table 1 and the baking setters of Comparative Examples 1 to 6 shown in Table 2 were produced.
  • As a base material in these setters for firing a flat plate having a size of 120 mm in length, 80 mm in width, and 2 mm in thickness, which is the material shown in Table 1 and Table 2, was used.
  • the thermal spray material obtained by granulating the matrix material particles and the pore-forming particles in the compounding ratio shown in the thermal spraying treatment column of Table 1 on both sides of the substrate The thermal spray coating was formed.
  • Mo powder having an average particle diameter of 2 ⁇ m is used as matrix material particles
  • BN powder, VN powder, VC powder, or polyester having an average particle diameter of 20 ⁇ m is used as pore-forming particles. Powder was used.
  • the matrix material particles and the pore-forming particles are granulated by a spray granulation method, and the granulated powder having a secondary particle diameter of 10 ⁇ m to 63 ⁇ m obtained thereby is supplied to a thermal spraying device (METCO F4 plasma spraying device) Then, a thermal spray coating having a thickness of 100 ⁇ m was formed on both sides of the above base material.
  • a thermal spraying device METCO F4 plasma spraying device
  • Comparative Examples 1 and 2 do not form a thermal spray coating
  • Comparative Example 3 uses only pure Mo powder (average particle diameter 10 ⁇ m) on both sides of the substrate.
  • the thermal spray coating is formed by thermal spraying using the same thermal spraying device as in the example.
  • Comparative Examples 4, 5 and 6 respectively spray the matrix material particles and the pore-forming particles at the mixing ratio shown in the column of the thermal spray treatment in the same table on the surface of the base material.
  • Mo powder having an average particle diameter of 2 ⁇ m is used as matrix material particles
  • BN powder, SiC powder, or TiC powder having an average particle diameter of 5 ⁇ m is used as pore forming particles.
  • the above-mentioned matrix material particles and pore-forming particles are granulated by a spray granulation method, and the obtained granulated powder having a secondary particle diameter of 10 ⁇ m to 63 ⁇ m is sprayed by a thermal spraying device (METCO F4 plasma spraying device And the above substrate surface was sprayed.
  • METCO F4 plasma spraying device METCO F4 plasma spraying device
  • Comparative Examples 4 and 5 the sprayed coating to be evaluated could not be formed. Moreover, in Comparative Example 6, a thermal spray coating having a thickness of 100 ⁇ m was formed on both sides of the substrate.
  • the pore product area ratio in the thermal spray coating formed was measured for each of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 3 and 5.
  • the above-mentioned pore product area ratio can be determined by using a cross-sectional structure of the thermal spray coating observed with a scanning microscope (JSM IT100, manufactured by Nippon Denshi Co., Ltd.) in five views It measured and made the average value the measured value.
  • An alumina ceramic package (glass component (CaO-SiO2-MgO) was obtained using the setters for firing of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 3 and 5 and the setters for firing of Comparative Examples 1 and 2 which were thus fired. + ⁇ -based) 3% added) was fired at 1600 ° C. in a non-oxidizing atmosphere (N 2 -H 2 atmosphere) as a material to be fired (ceramic product). And this baking process was implemented in multiple times and the presence or absence of reaction with the generation
  • a non-oxidizing atmosphere N 2 -H 2 atmosphere
  • the pore-forming particles of h-BN, VN, VC or polyester in the thermal spray material on the substrate surface are made to have a pore product area ratio in the thermal spray coating in the range of 7.5 to 35%. Since the particles are dispersed at a rate of 70 vol% and sprayed onto the surface of the substrate, it is possible to form pores of a desired volume in the sprayed coating by heat treatment such as baking at the start of use, By trapping liquid phases and gas components such as glass components discharged from the material to be fired (products) through holes, the product ceramics at the time of cooling due to adhesion of these gas components and the like to the surface of the sintering setter Scratches can also be prevented.
  • heat treatment such as baking at the start of use

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • Furnace Charging Or Discharging (AREA)

Abstract

被焼成物と反応を生じたり当該被焼成物にキズを与えたりすることによる不良品の発生を防止することができる焼成用セッターおよびその製造方法を提供する。本発明によれば、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなる基材(1)の被焼成物が載置される表面に、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなるマトリックス材(3)中に気孔生成粒子が分散された溶射皮膜(2)が形成されてなり、かつ上記気孔生成粒子は、六方晶窒化ホウ素(h-BN)、窒化バナジウム(VN)、炭化バナジウム(VC)またはポリエステルであるとともに、当該溶射皮膜(2)における気孔生成物面積率が7.5~35%の範囲になるように配合されている。

Description

焼成用セッターおよびその製造方法
 本発明は、セラミックス等の各種素材を焼成する際に用いられる焼成用セッターおよびその製造方法に関するものである。
 一般に、セラミックパッケージ等のセラミックス製品は、予め製品形状に成形されたアルミナや窒化アルミなどのセラミックスを、焼成用セッター上に載置して、1500~1700℃の高温であって中性あるいは弱還元性または真空雰囲気下において焼成することによって製造されている。
 この際に、上記焼成用セッターとしては、製品セラミックスと反応し難い酸化物セラミックス、窒化物セラミックスあるいはモリブデン(Mo)やタングステン(W)等の耐火金属を平板状に形成したものが用いられている。
 ところが、上述したような過酷な焼成条件下においては、上記焼成用セッターと製品セラミックスとの反応による不具合の発生を確実に回避することが困難であった。また、焼成過程で上記セラミックスから排出されるガラス成分等の液相やガス成分が焼成用セッターの表面に付着して凹凸が形成され、冷却時における上記セラミックス製品の収縮時に、その表面にキズを付けてしまうという問題点もあった。
 そこで、例えば下記特許文献1~3に見られるように、実際には焼成用セッターの上に敷き粉と呼ばれる数十~数百μmの炭化物(TiC、SiC等)、窒化物(BN、AlN等)、耐火金属(Mo、W等)の粉末を敷き詰めて、当該敷き粉上に上記セラミックスを載置して焼成する方法が多く採用されていた。
 このような焼成用セッター上に敷き粉を敷き詰める方法は、当該敷き粉の材質や粒度を適切に選定すれば、比較的に容易に適用でき、所望の反応防止効果を得ることができる。
特開平7-97270号公報 特開平5-725号公報 特開2005-239462号公報
 しかしながら、上記敷き粉は、基本的に1回ごとの焼成で新しいものに敷き替える必要が有り、その手間や敷き粉のコストが嵩んで経済性に劣るという問題点があった。加えて、敷き粉の一部が製品セラミックス側や焼成用セッター側に固着することがあり、これらの除去にも手間を要するとともに、場合によってはセラミックス製品や焼成用セッターに不良を引き起こすこともあった。
 本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、被焼成物と反応を生じたり当該被焼成物にキズを与えたりすることによる不良品の発生を防止することができる焼成用セッターおよびその製造方法を提供することを課題とするものである。
 上記課題を解決するため、請求項1に記載の本発明に係る焼成用セッターは、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなる基材の表面に、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなるマトリックス材中に気孔生成粒子が分散された溶射皮膜が形成されてなり、かつ上記気孔生成粒子は、六方晶窒化ホウ素(h-BN)、窒化バナジウム(VN)、炭化バナジウム(VC)またはポリエステルであるとともに、当該溶射皮膜における気孔生成物面積率が7.5~35%の範囲になるように配合されていることを特徴とするものである。
 また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の発明において、上記溶射皮膜の厚さ寸法は、30~500μmであることを特徴とするものである。
 ここで、溶射皮膜における上記気孔生成物面積率とは、「溶射皮膜の観測エリアの全面積」に対する「熱処理後に空孔になると考えられるものの面積」の割合を百分率(%)で表したものであり、上記「熱処理後に空孔になると考えられるものの面積」とは、溶射皮膜中に存在する気孔生成粒子の面積と、溶射皮膜形成時にマトリックス材の積層欠陥やガス分の残留などに起因して形成される気孔の面積との和である。
 請求項3に記載の本発明に係る焼成用セッターの製造方法は、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなる基材の表面に、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなるマトリックス材粒子と、六方晶窒化ホウ素(h-BN)、窒化バナジウム(VN)、炭化バナジウム(VC)またはポリエステルからなる気孔生成粒子とを混合した溶射材を溶射することにより、上記マトリックス材中に上記気孔生成粒子が分散した溶射皮膜を形成してなり、かつ上記気孔生成粒子を、上記溶射材中に10~70Vol%の割合で配合したことを特徴とするものである。
 また、請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の発明において、上記気孔生成粒子として、上記マトリックス材粒子よりも大きい粒径のものを用いることを特徴とするものである。
 請求項1または2に記載の焼成用セッターおよび請求項3または4に記載の発明によって得られた焼成用セッターによれば、セラミックス等の被焼成物が載置される溶射皮膜のマトリックス材として、上記セラミックス等と反応し難いMoまたはWを用いているために、上記被焼成物との反応による不良品の発生を未然に防止することができる。
 また、一般的に、セラミックス等を焼成するための焼成用セッターは、使用開始時に高温雰囲気下において空焼きが行われる。この空焼きは、通常セラミックス製品等を載置しない状態で焼成条件と同様の条件で行われ、当該焼成条件には、バインダーを除去するために本焼成の前に行う脱脂も含まれる。そして、本発明に係る焼成用セッターにおいては、上記空焼き時に、溶射皮膜中の気孔生成粒子が酸化されることにより溶融開始温度が低下して揮散し、これにより上記溶射皮膜中に上記気孔生成粒子の種類と配合率に対応した容積の空孔が形成される。
 また、上記使用開始時における空焼きによらず、別途使用前に当該焼成用セッターに対して同様の熱処理を施すことにより、溶射皮膜中に同様の空孔を形成することができる。
 そして、セラミックス等の被焼成物を載置して焼成を行う際に、これらの空孔によって上記被焼成物から排出されるガラス成分等の液相やガス成分をトラップすることにより、これらガラス成分等が焼成用セッターの表面へ付着することを回避することができ、この結果冷却時のセラミックス製品にキズを付けることも防止することができる。
 この際に、上記気孔生成粒子としては、耐火金属であってマトリックス材となるMoまたはWと複合して基材表面に溶射できる材料であること、また溶射によって形成された溶射皮膜中に溶射前のサイズおよび結晶構造を概ね維持したまま残留できるものであることが必要である。加えて、溶射後の空焼き等の熱処理によって、当該気孔生成粒子のほぼ全量が揮散して気孔に変換できるもの、具体的には上記熱処理時における酸化開始温度が低く、その酸化物の融点、揮発温度が低いものであることが重要である。
 本発明者等は、様々な検証実験の結果、後述する実施例において示すように、このような条件に合致する気孔生成粒子として、六方晶窒化ホウ素(h-BN)、窒化バナジウム(VN)および炭化バナジウム(VC)を見出した。
 また、同様に、他の気孔生成粒子として、上記材料とは異質であるものの、ポリエステルが、熱伝導率が極端に低く、比熱も大きいことからMoのような高融点材料との複合溶射でも皮膜中にしっかりと残留し、揮発温度も充分低いために上述した気孔生成に有効であるとの知見も得た。
 そして、本発明によれば、これらのh-BN、VN、VCまたはポリエステルからなる気孔生成粒子を用いているために、上述した空焼き等の熱処理によって、溶射皮膜中のほとんどの粒子が離脱して、基本的に溶射前の粒子サイズの気孔を形成することにより、焼成用セッターの機能および性能に必要な気孔率および気孔サイズを得ることができる。
 ここで、上記検証実験においては、上記気孔生成粒子を、溶射皮膜における気孔生成物面積率が7.5~35%の範囲になるように配合することにより、所望の効果が得られることが判明した。また、製造時においては、マトリックス材粒子と気孔生成粒子とを混合した溶射材中の上記気孔生成粒子の配合率を10~70Vol%とすることにより、このような溶射皮膜を安定的に基材表面に形成し得ることが判明した。
 すなわち、上記配合率が10Vol%に満たないと、上記溶射皮膜中に上記反応防止効果を奏し得る容積の気孔を形成させることができず、逆に上記配合率が70Vol%を超えると相対的にマトリックス材の量が少なすぎて皮膜強度が低下し、脱落、摩滅あるいは剥離等の不具合を生じてしまい不適当であった。
 さらに、上記溶射皮膜の厚さ寸法は、請求項2に記載の発明のように、30~500μmとすることが好ましい。上記厚さ寸法が30μmに満たないと、同様に上記反応防止効果を奏し得る容積の気孔が形成できないおそれがあり、500μmを超えても上記効果に変わりが無く、コストアップのみを生じて不経済だからである。
 また、請求項3に記載の発明において、マトリックス材粒子と気孔生成粒子を複合させて溶射することにより、マトリックス材粒子を溶融させて上記基材の表面にマトリックス材を形成させる際に、気孔生成粒子が極力その形状を保持し得るように、請求項4に記載の発明のように、上記気孔生成粒子として、上記マトリックス材粒子よりも大きい粒径のものを用いることが好ましい。
図1Aは本発明に係る焼成用セッターの一実施形態を示す要部の断面図である。 図1Bは、本発明の他の実施形態を示す要部の断面図である。 図2は本発明に係る焼成用セッターの製造方法の一実施形態を示すフロー図である。 図3は図1Aの溶射皮膜の断面を示す走査電子顕微鏡写真である。 図4は図3の溶射皮膜を熱処理した後の断面を示す走査電子顕微鏡写真である。 本発明の比較例を示すもので基材にマトリックス材粒子のみを溶射した溶射皮膜の断面を示す走査電子顕微鏡写真である。 本発明の実施例および比較例の結果を示すグラフである。
 図1Aは、本発明に係る焼成用セッターの一実施形態を示すもので、この焼成用セッターは、MoまたはWからなる基材1の被焼成物が載置される表面に、溶射皮膜2が形成されたものである。また、図1Bは、他の実施形態を示すもので、上記基材1の両面に溶射皮膜2が形成されたものである。
 ここで、溶射皮膜2は、MoまたはWからなるマトリックス材中に、h-BN、VN、VCまたはポリエステルからなる気孔生成粒子が分散されたもので、気孔生成粒子は、上述した溶射皮膜2おける気孔生成物面積率が7.5~35%の範囲になるように配合されている。また、この溶射皮膜2は、厚さ寸法が30~500μmに形成されている。
 次に、図2に基づいて、本発明に係る焼成用セッターの製造方法の一実施形態について説明する。
 先ず、縦横寸法が数十~数百mmであって厚さ寸法が数mmのMo製またはW製の平板状の基材1を作成し、当該基材1の表面に溶射皮膜2を形成するための前処理としての粗面化処理を施す。この粗面化処理としては、ブラスト処理、ウオータージェット処理、酸処理などを用いることができる。
 他方、上記溶射皮膜2の原料となるマトリックス材粒子としてMo粉末またはW粉末を、また気孔生成粒子として、h-BN粉末、VN粉末、VC粉末またはポリエステル粉末を準備する。この際に、上記気孔生成粒子として、平均粒径が数μm~数十μmであって、かつMo粉末またはW粉末よりも粒径が大きいものを用いることが好ましい。
 また、上記マトリックス材粒子と気孔生成粒子との配合割合は、上記気孔生成粒子が後述する溶射材中に10~70Vol%の範囲となるように調整する。
 次いで、これらマトリックス材粒子および気孔生成粒子を、極力成分の偏析が無く、均一に分散させると共に溶射装置へ安定的に供給可能な形状およびサイズにするため造粒する。そして、この造粒においては、マトリックス材粒子と気孔生成粒子とが複合された2次粒子が、球状に近いものであって粒径が数十μmになるように造粒する。この造粒には、各種の造粒法を用いることができるが、経済性および量産性に優れるスプレー造粒法が好適である。
 このようにして、マトリックス材粒子および気孔生成粒子が均一に複合配合された2次粒子からなる溶射材を溶射装置に供給して、被焼成物の載置面となる基材1の片面または両面に溶射皮膜2を形成させることにより、図1Aまたは図1Bに示した焼成用セッターが完成する。
 なお、上記溶射装置としては、溶射皮膜2においてマトリックス材となるMo、Wおよび気孔生成粒子であるh-BN、VN、VCが、いずれも2000℃を超す高融点材料であり、また気孔生成粒子であるポリエステルも高比熱、低熱伝導率の難溶融性であるために、高温熱源で熱流制御性に優れたプラズマ方式の溶射装置を用いることが好ましい。
 図3は、上記プラズマ方式の溶射装置によって基材1の表面に溶射皮膜2が形成された焼成用セッターにおける上記溶射皮膜2の断面を拡大して示すもので、符号3がマトリックス材、符号4が気孔生成粒子であり、符号5は溶射皮膜2の形成時に、一般的に生じるマトリックス材の積層欠陥やガス分の残留などに起因して形成される気孔である。
 このようにして得られた焼成用セッターによれば、セラミックス等の被焼成物が載置される溶射皮膜のマトリックス材3として、上記セラミックス等と反応し難いMoまたはWを用いているために、上記被焼成物との反応による不良品の発生を未然に防止することができる。
 この際に、特に上記マトリックス材粒子として、基材1と同じ素材のものを用いれば、基材1に対する溶射皮膜2のマトリックス材3の密着性を高めることができるとともに、両者の熱膨張率が同じであるために、熱応力の緩和効果も得ることができる。
 しかも、上記構成からなる焼成用セッターによれば、使用開始時に高温雰囲気下において空焼きが行われた際等に、溶射皮膜2中の気孔生成粒子4が酸化されることにより溶融開始温度が低下して揮散し、これにより図4に示すように、溶射皮膜2中に上記気孔生成粒子4が変換された気孔と上記気孔5とを合わせた容積の空孔4´を形成することができる。
 そして、上記空孔4´において、上記被焼成物から排出されるガラス成分等の液相やガス成分をトラップすることにより、上記ガラス成分等が焼成用セッターの表面へ付着して、冷却時に製品セラミックスにキズを付けることも防止することができる。
 また、特に図1Bに示した焼成用セッターにおいては、基材1の両面に溶射皮膜2を形成しているために、上記溶射皮膜2の表面を被焼成物の載置面として交互に使用することにより、常に載置されていない面の溶射皮膜2を空焼きと同様の状態にすることができる。この結果、液相やガス成分をトラップした空孔4´を順次再生して、劣化を防止することにより使用寿命を延ばすことが可能になる。
 なお、上記実施形態や実施例においては、本発明に係る焼成用セッターの溶射皮膜に空孔4´を形成する方法として、主として使用開始時における空焼きを挙げたが、これによらず、別途使用前に当該焼成用セッターに対して同様の熱処理を施すことにより、溶射皮膜2中に同様の空孔4´を形成することができる。
 また、本発明に係る焼成用セッターの対象となる被焼成物としても、上述したセラミックパッケージ等のセラミックス製品に限らず、超硬合金や金属焼結部品等にも同様に用いることができる。
  表1は、本発明の実施例の結果を示す図表である。
  表2は、本発明の比較例の結果を示す図表である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001

Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002

 表1に示す本発明に係る実施例1~8の焼成用セッターと、表2に示す比較例1~6の焼成用セッターを作成した。
 これらの焼成用セッターにおける基材としては、表1および表2に示す材質であって、かつ寸法が各々縦120mm、横80mm、厚さ2mmの平板状のものを用いた。
 次いで、実施例1~8の焼成用セッターにおいては、基材の両面に表1の溶射処理の欄に示す配合比率のマトリックス材粒子と気孔生成粒子とを造粒して得られた溶射材を溶射して溶射皮膜を形成した。ここで、マトリックス材粒子としては、いずれも平均粒径が2μmのMo粉末を用い、気孔生成粒子としては平均粒径が5μmのBN粉末、VN粉末、VC粉末、または平均粒径が20μmのポリエステル粉末を用いた。
 そして、これらマトリックス材粒子および気孔生成粒子をスプレー造粒法によって造粒し、これによって得られた2次粒子径が10μm~63μmの造粒粉を、溶射装置(METCO F4プラズマ溶射装置)に供給して、上記基材の両面にいずれも厚さ寸法が100μmの溶射皮膜を形成した。
 これに対して、表2に示すように、比較例1、2は、溶射皮膜を形成しないものであり、比較例3は、基材の両面に純Mo粉末(平均粒径10μm)のみを上記実施例と同じ溶射装置によって溶射して溶射皮膜を形成したものである。また、比較例4、5、6は、それぞれ基材の表面に同表の溶射処理の欄に示す配合比率のマトリックス材粒子と気孔生成粒子とを溶射したものである。
 ここで、比較例4、5、6においては、マトリックス材粒子として平均粒径が2μmのMo粉末を用い、気孔生成粒子として平均粒径が5μmのBN粉末、SiC粉末またはTiC粉末を用い、上記実施例と同様に、上記マトリックス材粒子および気孔生成粒子をスプレー造粒法によって造粒して、得られた2次粒子径が10μm~63μmの造粒粉を、溶射装置(METCO F4プラズマ溶射装置)に供給して、上記基材表面に溶射した。
 この際に、比較例4、5においては、評価対象となる溶射皮膜を形成させることが出来なかった。また、比較例6においては、基材の両面に厚さ寸法が100μmの溶射皮膜を形成した。
 次いで、実施例1~8および比較例3、5について、形成された溶射皮膜における気孔生成物面積率を測定した。上記気孔生成物面積率は、走査顕微鏡(JSM IT100、日本電子株式会社製)によって観測した溶射皮膜の断面組織を、画像解析ソフト(A像くん、旭化成エンジニアリング株式会社製)を用いて5視野を測定し、その平均値を測定値とした。
 次いで、実施例1~8および比較例3、5の焼成用セッターを、被焼成物を積載しない状態で700℃の温度雰囲気下で脱脂した後、1600℃の温度雰囲気下で空焼きを行い、当該空焼き後の溶射皮膜における気孔率を、上記気孔生成物面積率の測定に用いたものと同じ走査顕微鏡および画像解析ソフト等によって測定した。
 このようにして空焼き処理した実施例1~8および比較例3、5の焼成用セッター並びに比較例1、2の焼成用セッターを用いて、アルミナ質セラミックパッケージ(ガラス成分(CaO-SiO2-MgO+α系)3%添加)を被焼成物(セラミックス製品)として、非酸化性雰囲気(N2-H2雰囲気)において1600℃で焼成した。そして、この焼成工程を複数回実施して、被焼成物(製品)におけるキズの発生や焼成用セッターとの反応の有無を観察した。
 上記観察の結果、表1に見られるように、実施例1~8の焼成用セッターにおいては、いずれも被焼成物(製品)との反応による不具合の発生は全く無く、特に実施例1~3、5~8の焼成用セッターにあっては50回の焼成を行っても被焼成物(製品)にキズを生じることがなかった。また、気孔生成粒子の配合率が本発明の下限の10Vol%である実施例4の焼成用セッターにおいても、35回の焼成までは被焼成物(製品)にキズを生じることがなかった。
 これに対して、表2に見られるように、比較例1のように基材としてセラミック等と反応し難いMoを用いた場合においても、そのままセラミックスの焼成に用いると、焼成過程で排出されるガラス成分やガス成分が焼成用セッターの表面に付着し、セッター表面に凹凸が生じることにより、数回の焼成で被焼成物(製品)の表面にキズを付けてしまうこと、および比較例2のように、基材としてアルミナを用いた場合には、1回の焼成で被焼成物(製品)と反応という不具合現象を生じることが判る。
 また、比較例3のように、基材の表面にマトリックス材となるMo粒子を溶射した場合には、図5に見られるように、溶射皮膜2の形成時に、一般的に生じるマトリックス材の積層欠陥やガス分の残留などに起因して気孔5が4.80%の面積率で形成されている。しかしながら、上記溶射皮膜2には、気孔生成粒子が含まれていないために、空焼きを行った後においても、溶射皮膜中の気孔率は5.40%と殆ど増加することが無く(図6参照)、この結果上記気孔5が充分な効果を発揮することができず、7回の焼成によって被焼成物(製品)にキズが発生してしまった。
 さらに、比較例4のように、マトリックス材粒子Moと気孔生成粒子BNとを造粒して溶射した場合においても、気孔生成粒子BNの配合率が80%と多すぎると、相対的にマトリックス材の量が少なすぎて皮膜強度が低下し、溶射皮膜を形成することができなかった。
 また、比較例5のように、気孔生成粒子としてSiC粉末を用いた場合には、配合率が本願発明において特定する範囲内であるものの、溶射中にマトリックス材粒子Moと反応を生じてSiCの残留量が少なくなり、この結果、所望の溶射皮膜を形成することができなかった。
 これに対して、比較例6のように、Moをマトリックス材粒子とし、TiCを添加して溶射した場合は、空焼きによって溶射皮膜中のTiCが十分に飛散せずに、表2および図6に見られるように、溶射皮膜中の気孔率が大きくならず、所望とする気孔が形成されない結果、早期に被焼成物(製品)にキズが発生したものと考えられる。
 以上のように、上記実施例からも明らかなように、本願発明に係る実施例1~8の焼成用セッターによれば、溶射皮膜のマトリックス材として、セラミックス等と反応し難いMoまたはWを用いているために、被焼成物(製品)との反応による不良品の発生を未然に防止することができる。
 加えて、溶射皮膜における気孔生成物面積率が7.5~35%の範囲となるように、基材表面への溶射材中にh-BN、VN、VCまたはポリエステルからなる気孔生成粒子を10~70Vol%の割合で分散させて基材表面に溶射しているために、使用開始時における空焼き等の熱処理によって溶射皮膜中に所望とする容積の空孔を形成することができ、当該空孔によって被焼成物(製品)から排出されるガラス成分等の液相やガス成分をトラップすることにより、これらガス成分等の焼成用セッターの表面への付着に起因して冷却時の製品セラミックスにキズを付けることも防止することができる。
 被焼成物(製品)との反応による不良品の発生を未然に防止することができる焼成用セッターおよびその製造方法の提供が可能である。
 1 基材
 2 溶射皮膜
 3 マトリックス材
 4 気孔生成粒子
 4´ 空孔
 5 気孔

Claims (4)

  1. モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなる基材の表面に、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなるマトリックス材中に気孔生成粒子が分散された溶射皮膜が形成されてなり、かつ上記気孔生成粒子は、六方晶窒化ホウ素(h-BN)、窒化バナジウム(VN)、炭化バナジウム(VC)またはポリエステルであるとともに、当該溶射皮膜における気孔生成物面積率が7.5~35%の範囲になるように配合されていることを特徴とする焼成用セッター。
  2. 上記溶射皮膜の厚さ寸法は、30~500μmであることを特徴とする請求項1に記載の焼成用セッター。
  3. モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなる基材の表面に、モリブデン(Mo)またはタングステン(W)からなるマトリックス材粒子と、六方晶窒化ホウ素(h-BN)、窒化バナジウム(VN)、炭化バナジウム(VC)またはポリエステルからなる気孔生成粒子とを混合した溶射材を溶射することにより、上記マトリックス材中に上記気孔生成粒子が分散した溶射皮膜を形成してなり、かつ上記気孔生成粒子を、上記溶射材中に10~70Vol%の割合で配合したことを特徴とする焼成用セッターの製造方法。
  4. 上記気孔生成粒子として、上記マトリックス材粒子よりも大きい粒径のものを用いることを特徴とする請求項3に記載の焼成用セッターの製造方法。
PCT/JP2018/007457 2017-11-08 2018-02-28 焼成用セッターおよびその製造方法 WO2019092894A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-215245 2017-11-08
JP2017215245A JP6360245B1 (ja) 2017-11-08 2017-11-08 焼成用セッターおよびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019092894A1 true WO2019092894A1 (ja) 2019-05-16

Family

ID=62904996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/007457 WO2019092894A1 (ja) 2017-11-08 2018-02-28 焼成用セッターおよびその製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6360245B1 (ja)
WO (1) WO2019092894A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021092339A (ja) * 2019-12-09 2021-06-17 Jfeスチール株式会社 不定形耐火物硬化体およびその製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02200766A (ja) * 1989-01-27 1990-08-09 Toho Kinzoku Kk モリブデントレイおよびその製法
JPH111757A (ja) * 1997-04-14 1999-01-06 Toshiba Ceramics Co Ltd 非酸化性雰囲気焼成用治具
JP2004281392A (ja) * 2003-02-25 2004-10-07 Allied Material Corp 酸化物皮膜層を備えた高融点金属材料とその製造方法とそれを用いた焼結用板
JP2005139554A (ja) * 2001-06-18 2005-06-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 耐熱性被覆部材

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02200766A (ja) * 1989-01-27 1990-08-09 Toho Kinzoku Kk モリブデントレイおよびその製法
JPH111757A (ja) * 1997-04-14 1999-01-06 Toshiba Ceramics Co Ltd 非酸化性雰囲気焼成用治具
JP2005139554A (ja) * 2001-06-18 2005-06-02 Shin Etsu Chem Co Ltd 耐熱性被覆部材
JP2004281392A (ja) * 2003-02-25 2004-10-07 Allied Material Corp 酸化物皮膜層を備えた高融点金属材料とその製造方法とそれを用いた焼結用板

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021092339A (ja) * 2019-12-09 2021-06-17 Jfeスチール株式会社 不定形耐火物硬化体およびその製造方法
JP7192754B2 (ja) 2019-12-09 2022-12-20 Jfeスチール株式会社 不定形耐火物硬化体およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6360245B1 (ja) 2018-07-18
JP2019085619A (ja) 2019-06-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI400358B (zh) 熱噴塗粉末及形成熱噴塗塗層之方法
CN109321803B (zh) 一种具有多孔陶瓷涂层的加热元件
TWI807631B (zh) 熔射皮膜及熔射用粉
TWI669282B (zh) 鑄鋼用耐火物、及滑動噴嘴裝置用平台
KR102266655B1 (ko) 이트륨계 과립 분말을 이용한 용사 피막의 제조 방법 및 이를 이용하여 제조된 이트륨계 용사 피막
KR102266656B1 (ko) 용사용 이트륨계 과립 분말 및 이를 이용한 용사 피막
WO2019092894A1 (ja) 焼成用セッターおよびその製造方法
JP2007015882A (ja) 電子部品用焼成治具
TW202222737A (zh) 熱噴塗用釔類顆粒粉末及利用其的熱噴塗皮膜
JP4832043B2 (ja) 表面被覆セラミック焼結体
JP2007081218A (ja) 真空装置用部材
TWI779071B (zh) 熱噴塗材料、其熱噴塗皮膜及其製造方法
JPWO2019082240A1 (ja) 溶融金属浴用部材の製造方法
JP3980262B2 (ja) SiC質熱処理用治具
JP6168518B2 (ja) 金属蒸着用るつぼ
JP7154912B2 (ja) アルミナ質焼結体及びその製造方法
JP4800990B2 (ja) 静電チャック
JP2005097722A (ja) 耐蝕性部材及びその製造方法
JPWO2020090832A1 (ja) 窒化ケイ素基板の製造方法および窒化ケイ素基板
JP7122206B2 (ja) 溶射膜
JP4081574B2 (ja) 耐熱性被覆部材の製造方法
JPH10253259A (ja) ローラハース炉用ローラ材及びその製造方法
JP2014006031A (ja) 電子部品焼成用治具及びその製造方法
JP5089204B2 (ja) 加熱装置
JP3043917B2 (ja) 耐剥離性、耐摩耗性、耐ビルドアップ性に優れた熱処理炉用ロール

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18876141

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18876141

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1